JPH1179391A - 薄型ワークの立直装置 - Google Patents

薄型ワークの立直装置

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JPH1179391A
JPH1179391A JP24892497A JP24892497A JPH1179391A JP H1179391 A JPH1179391 A JP H1179391A JP 24892497 A JP24892497 A JP 24892497A JP 24892497 A JP24892497 A JP 24892497A JP H1179391 A JPH1179391 A JP H1179391A
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JP
Japan
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wafer
work
support
gripping
cam
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JP24892497A
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English (en)
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Ryoichi Imai
亮一 今井
Kiyonori Nakano
清憲 中野
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Asyst Japan Inc
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ウェハやガラス基板等の薄型ワークを水平状
態から垂直状態に配置移動できる薄型ワークの立直装置
を提供すること。 【解決手段】 立直装置1は、機台3と機台3に対して
上下方向に回動可能な支持体10と支持体10を水平状
態から垂直状態に移動するシリンダ7とを有している。
機台3にはウェハWをガイド支持するガイド部が配置さ
れ、支持体10には、ベース板11と、回転テーブル1
2が配置され、回転テーブルにアーム固着された爪部が
配設されている。爪部はアームに固着されたコイルばね
によってウェハWを把持し、アームの下面側に配置され
たカム部と機台1に立設されたカムローラ部によって、
ウェハWを把持解除する。そして、支持体10が水平状
態に置かれた時に、爪部はワークの把持を解除し、垂直
状態に移動する際にウェハWを把持する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、ウェハやガラス
基板等の薄型状のワークを次工程に搬送する過程におい
て、ワークの表面を検査するために水平方向から垂直方
向に方向変換する立直装置に関する。
【0002】
【従来の技術】ウェハやガラス基板等の基板は集積回路
のチップとして幅広く使用され、多種の工程間を搬送さ
れる。また、これらの基板はゴミや塵埃を極度に嫌うた
め一般にクリーンルーム内で処理製造されている。ウェ
ハやガラス基板の搬送はクリーンルーム内に設置された
搬送ロボットにより行なわれ、搬送ロボットにより次工
程に搬送される際に、その表面の検査が行なわれる。こ
の検査は基板の表面にゴミが付着していたり、傷の有無
を確認するために行なわれ、従来においては、目視や光
学手段によって行なわれていた。光学手段で上記の基板
を検査する場合、基板搬送工程と別に、撮像手段で基板
を1枚ごと撮像し目視により検査するようにしていた。
しかし、ウェハやガラス基板の需要が大幅に増加し量産
化されるようになると、基板の検査も、ロボット搬送シ
ステム内で行なわれる必要が生じてきた。一般に基板を
光学的な手段で検査する場合、基板を顕微鏡等にセット
し光を照射して撮像するため、基板は顕微鏡内で水平状
態に配置される。しかし、基板を顕微鏡内にセットする
こと自体困難を伴ったり、検査作業の時間を大幅に増加
してしまう。
【0003】従って、搬送ロボットによる搬送装置内に
検査工程を配置するための新たな基板搬送システムが検
討されるようになってきた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、ロボットで搬
送される基板は、一般にカセット内で上下方向に複数段
に配置され、搬送される際においても水平状態で行なわ
れるため、その状態で検査を行なうと上下方向に撮像し
なければならず、検査工程を容易に行なうことができな
い。
【0005】この発明は、上述の課題を解決するもので
あり、基板を水平状態から垂直方向に方向変換すること
によって、容易な検査工程を行なうことのできる薄型ワ
ークの立直装置を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】この発明にかかわる薄型
ワークの立直装置では、上記の課題を解決するために以
下のように構成するものである。すなわち、水平状態に
配置された薄型のワークを立直して支持する薄型ワーク
の立直装置であって、機台と、前記機台に支承され前記
ワークを支持する支持体と、前記支持体を水平方向と垂
直方向に配置移動する駆動手段と、を有して構成され、
前記支持体が、前記ワークを把持可能に形成する把持手
段を有し、前記把持手段が、前記ワークを把持・把持解
除する駆動手段によって移動可能に構成されることを特
徴とするものである。
【0007】また好ましくは、前記把持手段が、前記支
持体が垂直方向に配置される際に前記ワークを把持し、
前記支持体が水平方向に配置される際に前記ワークを把
持解除する、ように構成されることを特徴とするもので
あればよい。
【0008】さらに好ましくは、前記把持手段を移動す
る駆動手段が、前記把持手段を前記ワークを把持方向に
付勢する付勢部と、前記把持手段をワーク把持解除する
方向に移動するとともに、前記支持体に配設されるカム
部と前記カム部に対向して前記機台に配設されるカム係
合部とを有して構成されることを特徴とするものであれ
ばよい。
【0009】また、前記支持体が、前記把持手段を接続
する回転体と前記回転体を回動する駆動手段とを有して
いることを特徴とするものであってもよい。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、この発明の一実施の形態を
図面に基づいて説明する。
【0011】図1〜4は、ワークが円板状のウェハWで
あり、ウェハWの表面を検査するために検査工程内に配
置された立直装置1を示すものである。
【0012】立直装置1は、図1に示すように、2個の
支柱4と1個の位置ストッパ5及びウェハWをガイドす
る4個のガイド体6(図2参照)とが取り付けられる機
台3と、支柱4に上下方向に回動するように支承される
ベース板11・ベース板11の上方に位置される回転テ
ーブル12・回転テーブル12に取着されウェハWを把
持するワーク把持部20を有する支持体10と、支持体
10を水平方向と垂直方向に配置移動する駆動手段とし
てのシリンダ7とを有して構成されている。
【0013】機台3は平面視矩形で板状に形成され、機
台3の先端側(図1中、左側)前後方向2か所に支持体
10を支承する支柱4が立設されている。支柱4は上端
部に先端側に向かって突起部4aが形成され、突起部4
aに支持体10のベース板11下面側に形成されたヒン
ジ部11aが軸支される。また、支柱4の中央部には前
方に向かうようにストッパボルト4bが取り付けられ、
ベース板11が垂直状態になる時にストッパとしての役
割を行なう。位置ストッパ5は、支持体10のベース板
11の後端部下面が当接されるように機台3の後部(図
1中、右側)に配置され、円柱状に形成された本体部5
aの上方に、高さ調整ができるようにストッパボルト5
bが取り付けられている。さらに、機台3上には、両側
(図2中、上下方向)にウェハWをガイドする4個のガ
イド体6が各2個づつ配置され、ガイド体6の内面側に
形成されたガイド部6aで水平状態で搬送されたウェハ
Wを支持するとともにウェハWの外周面をガイドする。
【0014】ベース板11は、図2に示すように、平面
視後部(図中、右側部)が先細りする矩形状に形成さ
れ、先端部下面には前述のヒンジ部11aが形成され、
後部には回転テーブル12に取り付けられるテーブル支
持軸14がモータ13に連結されて配置されている。モ
ータ13はベース板11の下面側に取り付けられ、モー
タ13の駆動によって回転テーブル12が回転する。さ
らにベース板11の下面にはヒンジ部11aとモータ1
3との間にシリンダ受け11bが形成され、機台3に揺
動可能に配置されたシリンダ7のピストン部が枢支され
ている。
【0015】ワーク把持部20は、図2〜3に示すよう
に、ウェハWを直接把持する爪部21と、爪部を固着し
て回転テーブル12にリニアモータ23を介して接続す
るアーム22とを有し、爪部21はそれぞれの側のガイ
ド体6・6間に挟まれるように配置され、アーム22は
回転テーブル12の下面側に配置されそれぞれ対向して
外方に向かうように2個配置され、回転テーブル21側
に固着された固定部23aに対して摺動する移動部23
bに取り付けられている。また、それぞれのアーム22
の下面には内側に傾斜面25aを有するカム25が配置
され、カム25の傾斜面25aが、ウェハWの水平状態
で機台3に立設されたカムローラ部26に当接可能に配
置されている。それぞれのカムローラ部26は支柱部2
6aとローラ部26bとからなり、ローラ部26bがカ
ム25の傾斜面25aと係合する。カム25の傾斜面2
5aは、下方に向かって、内側から外側に傾斜されてい
るので、カム25が下降(支持体10が下降)すると傾
斜面25aがローラ部26bより押圧されて外方に移動
し、そのためアーム22及び爪部21が外方に移動して
ウェハWを解放する。さらにアーム22には、図3〜4
に示すように、その側面にばね受け27が取り付けら
れ、回転テーブル12側のばね受け29に掛止されたコ
イルばね28がアーム22を内側に向かって付勢するよ
うに掛止されている。従って、カム25が上昇(支持体
10が上昇)すると、傾斜面25aがローラ部26bの
規制から解除され、コイルばね28の付勢力により内側
に移動する。そのため、爪部21がウェハWを把持する
ことができる。
【0016】次に、上記のように構成された立直装置1
の作用を図5〜8に基づいて説明する。
【0017】この立直装置1はウェハWの搬送システム
の中で、搬送されたウェハWを表面検査するための工程
内で使用されるものであり、ウェハWの表面検査は、ウ
ェハWを垂直状態に配置して、側面から光を照射するこ
とによって行なわれる。
【0018】まず、立直装置1はその支持体10が水平
状態に位置されている。この状態では、ベース板11の
下面が位置ストッパ5のストッパボルト5b上面に当接
し、回転テーブル12の上面は略水平に位置される。そ
してウェハWは図示しない搬送ロボットで水平状態に移
動され、図5に示すように4個のガイド体6のガイド部
6aにガイドされながら収納される。この際、カム25
はその傾斜面25aがカムローラ部26のローラ部26
bによって押圧されて図中左方向に移動している。その
ため、爪部21は左側に移動しウェハWの外周面を把持
しない。従って、ウェハWはガイド部6にガイドされな
がらその自重で支持体10に支持されていることにな
る。
【0019】ウェハWの支持体10への収納が確認され
ると、ベース板11に連結されたシリンダ7が駆動され
ピストンがゆっくりと伸張する。すると、ベース板11
がそのヒンジ部11aの軸心を中心に、図中反時計方向
に緩速に回転する(図1参照)。ベース板11が上昇す
ると、図6に示すように、カム25は、カムローラ26
のローラ部26bに当接された傾斜面25aに沿って上
昇する。この際、カム25が取り付けられたアーム22
は、コイルばね28によって内側(図中右側)に付勢さ
れているため、内側に移動し、それに伴って爪部21が
内側に移動する。さらに、図7に示すように、ベース板
11が上昇すると、カム25がカムロール部26から完
全に離れ、アーム22がさらに内側に移動して爪部21
がウェハWの外周面を把持する。
【0020】ベース板11がシリンダ7によって垂直状
態に位置すると、ベース板11の下端部裏面が支柱4の
ストッパボルト4bの頭部上面に当接することによっ
て、ベース板11(支持体10)の移動が停止して位置
決めがされる。この状態では、カム25はカムローラ部
26から離隔しているので、アーム22は内側に移動し
爪部21がウェハWを把持したままにある。そのため、
ウェハWは落下せずに図8に示す状態に保持されてい
る。そして、この状態で検査作業が行なわれる。
【0021】検査作業では、側部から光が照射すること
によって行なわれ、その際、モータ13を駆動して回転
テーブル12を一方の方向に回転する。回転テーブル1
2の回転に伴って、ウェハWを把持している爪部21・
アーム22が同時に回転するため、ウェハWが回転し傷
やゴミの付着を検査できる。
【0022】検査作業が終了すると、上記と逆の作用が
行なわれ、支持体10は水平状態に置かれる。そして、
カム25の傾斜面25aがカムローラ部26に当接して
外方に移動すると爪部21がウェハWを把持解除する。
ウェハWが水平状態に位置されることが確認されると、
図示しない搬送ロボットがウェハWを次工程に搬送す
る。
【0023】上述のように、本立直装置は、ウェハWを
水平状態から垂直状態に位置させることができ、上記形
態のように、垂直方向に配置されたウェハを光学手段に
よって表面検査を行なうことが可能となる。従って、上
記立直装置をウェハ搬送システム内の検査工程で装着す
れば、自動化システムとして有効になる。しかし、上記
の立直装置は、上述の検査装置に使用することに限ら
ず、他の用途にも使用できる。例えば、垂直状態に配置
したウェハを、ロボットハンドで吸着して搬送すれば、
垂直状態のまま搬送することが可能である。さらに、垂
直状態で各種の加工処理をすることができるので、各用
途の合わせてこの立直装置を採用することができる。ま
た、ワークはウェハに限らずガラス基板でもよく、他の
薄型状のワークであっても上記立直装置に使用すること
ができる。
【0024】また、上記装置における各部位の形状や構
成は、本発明の要旨に反するものでなければ、上記形態
に限るものではない。
【0025】
【発明の効果】本発明によれば、薄型ワークの立直装置
は、水平状態に配置された薄型のワークを立直して支持
するものであり、機台と、前記機台に支承され前記ワー
クを支持する支持体と、前記支持体を水平方向と垂直方
向に配置移動する駆動手段と、を有して構成され、前記
支持体が、前記ワークを把持可能に形成する把持手段を
有し、前記把持手段が、前記ワークを把持・把持解除す
る駆動手段によって移動可能に構成されている。そし
て、前記支持体に前記薄型ワークが水平状態に配置され
ると、前記支持体を駆動する駆動手段が作動するととも
に、前記把持手段が駆動手段によってワークを把持す
る。そして、ワークが把持された前記支持体を垂直方向
に移動させ、ワークを垂直状態にすることができる。従
って、通常、水平状態に配置された半導体チップ用のウ
ェハやガラス基板を縦置きに配置することができ、搬送
システム内での光学手段による表面検査作業や、縦置き
状態のまま搬送することが可能となる。
【0026】また、前記把持手段が、前記支持体が垂直
方向に配置される際に前記ワークを把持し、前記支持体
が水平方向に配置される際に前記ワークを把持解除す
る、ように構成されていれば、水平状態に配置されたワ
ークを容易に前記支持体に収納するとともに、垂直方向
に移動してもワークを確実に支持することができるの
で、ワークを落下することなく垂直状態での作業を行な
うことができる。
【0027】さらに、この立直装置は、前記把持手段を
移動する駆動手段が、前記把持手段を前記ワークを把持
方向に付勢する付勢部と、前記把持手段をワーク把持解
除する方向に移動するとともに、前記支持体に配設され
るカム部と前記カム部に対向して前記機台に配設される
カム係合部とを有して構成されている。そして、前記支
持体が水平状態にある時に、前記カム部が前記カム係合
部と係合して前記把持手段をワークから離隔するように
移動させ、前記支持体が垂直方向に移動する際に、前記
カム部が前記カム係合部と係合解除するとともに、前記
付勢部が前記把持手段をワーク把持方向に移動させる。
従って、水平状態に配置されたワークを容易に前記支持
体に収納するとともに、垂直方向に移動してもワークを
確実に支持することができるので、ワークを落下するこ
となく垂直状態での作業を行なうことができる。
【0028】またこの立直装置は、前記支持体が、前記
把持手段を接続する回転体と前記回転体を回動する駆動
手段とを有している。そして、前記支持体が垂直状態に
配置されるとワークとともに回転するように駆動され
る。そのため、垂直状態に配置されたワークの表面検査
する際に、ワークの全体を観測することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に一形態による立直装置の正面断面図
【図2】同平面図
【図3】同側面断面図
【図4】図2におけるA矢視図
【図5】支持体が水平状態にある時のカムとローラ部と
の作用を示す図
【図6】支持体が僅かに上昇した時のカムとローラ部と
の作用を示す図
【図7】支持体がさらに上昇した時のカムとローラ部と
の作用を示す図
【図8】ワークが垂直状態に配置された状態を示す正面
【符号の説明】
1…立直装置 3…機台 4…支持板 5…位置ストッパ 6…ガイド体 7…シリンダ 10…支持体 11…ベース板 12…回転テーブル(回転体) 13…モータ 20…把持部 21…爪部 22…アーム 25…カム(カム部) 25a…傾斜面 26…カムローラ部(カム係合部) W…ウェハ(ワーク)

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 水平状態に配置された薄型のワークを立
    直して支持する薄型ワークの立直装置であって、 機台と、前記機台に支承され前記ワークを支持する支持
    体と、前記支持体を水平方向と垂直方向に配置移動する
    駆動手段と、を有して構成され、 前記支持体が、前記ワークを把持可能に形成する把持手
    段を有し、 前記把持手段が、前記ワークを把持・把持解除する駆動
    手段によって移動可能に構成されることを特徴とする薄
    型ワークの立直装置。
  2. 【請求項2】 前記把持手段が、前記支持体が垂直方向
    に配置される際に前記ワークを把持し、前記支持体が水
    平方向に配置される際に前記ワークを把持解除する、よ
    うに構成されることを特徴とする請求項1記載の薄型ワ
    ークの立直装置。
  3. 【請求項3】 前記把持手段を移動する駆動手段が、前
    記把持手段を前記ワークを把持方向に付勢する付勢部
    と、前記把持手段をワーク把持解除する方向に移動する
    とともに、前記支持体に配設されるカム部と前記カム部
    に対向して前記機台に配設されるカム係合部とを有して
    構成されることを特徴とする請求項1記載の薄型ワーク
    の立直装置。
  4. 【請求項4】 前記支持体が、前記把持手段を接続する
    回転体と前記回転体を回動する駆動手段とを有している
    ことを特徴とする請求項1,2または3記載の薄型ワー
    クの立直装置。
JP24892497A 1997-09-12 1997-09-12 薄型ワークの立直装置 Withdrawn JPH1179391A (ja)

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