JPH0762257B2 - 多色被覆表面物品及びその製造方法 - Google Patents
多色被覆表面物品及びその製造方法Info
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- JPH0762257B2 JPH0762257B2 JP2142160A JP14216090A JPH0762257B2 JP H0762257 B2 JPH0762257 B2 JP H0762257B2 JP 2142160 A JP2142160 A JP 2142160A JP 14216090 A JP14216090 A JP 14216090A JP H0762257 B2 JPH0762257 B2 JP H0762257B2
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Description
の異なる少なくとも2種類の被膜を形成してなる多色被
覆表面物品及びその製造方法に関し、具体的には、主と
して時計ケース,バンド,文字板,ブローチ,カフスボ
タン,ネクタイピン,ライター等の装飾部品、ゴルフク
ラブ等のスポーツ用品、メガネフレーム又は各種刻印入
り部品として用いられる装飾用もしくは表示刻印用とし
ての多色被覆表面物品及びその製造方法に関するもので
ある。
は、その表面を鏡面研磨して時計ケースに代表される装
飾部品に実用されているけれども、基材そのものの色彩
では単調で装飾的価値が低いという問題がある。この問
題を解決するものとして、基材の表面に化学蒸着法(CV
D法)や物理蒸着法(PVD法)等のドライプレーティング
法、又は陽極酸化処理,電解メッキ、無電解メッキ等の
ウェットプレーティング法でもって金色,銀色,黒色等
を呈する被膜を形成してなる装飾部品に関する提案が多
数行われており、これらの内、多色装飾部品に関する代
表的なものとして、特開昭58−100682号公報、特開昭61
−157673号公報及び特開昭64−75659号公報がある。
公報には、低炭素オーステナイト系ステンレス鋼上に、
Al2O3とTiO2の溶射材料を0.1〜1mmの厚みに溶射した
後、ラッピング加工により鏡面状態にし、残りのマスキ
ングを除去してなるステンレス鋼上に金メッキ又はTiN
コーテイングをする時計用外装部品の製造方法が開示さ
れている。この同公報に開示の方法により得られる時計
用外装部品は、溶射時の加熱及び冷却によりステンレス
鋼と溶射被覆との間に歪みが生じ、溶射被膜面に微小ク
ラックが入り美的効果が低下すること、また幅が1μm
以下もしくはサブミクロンでなる線模様をマスキングと
溶射で形成することができないために模様の形状が制限
されること、さらに金メッキの場合には金が容易に剥離
するという問題がある。
ンプレーテイング処理でもって硬質色層を形成した後、
この硬質色層の任意の表面をマスキングし、次いでイオ
ンプレーティング処理でもって硬質色層と異なった色層
を形成する多色硬質膜形成方法が開示されている。この
同公報に開示の方法により得られる多色硬質膜物品は微
細な模様を形成するのが困難であること、AuやPt等の貴
金属の被膜を形成しても容易に剥離し実用化できないと
ういう問題がある。
オンプレーテイングにより有色被膜を形成した後、レー
ザ加工により被膜の一部を除去し、下地金属を露出させ
る金属の多色化法が開示されている。この同公報には開
示の方法により得られる多色物品は、皮膜の材質及び色
彩が制限されること、特にAuやPt等の貴金属の被膜を形
成する場合、貴金属の使用量が多くなり高価になるこ
と、貴金属による繊細な図案や模様の形成が困難である
こと、及び密着性が悪く容易に剥離して実用化できない
という問題がある。
的には、基材の少なくとも一面の全部又は一部分にAuや
Ptの貴金属の被膜を密着性よく被覆してなる貴金属色の
線部と、この貴金属色と異なった色彩及び/又は色調で
なる被膜の面部とでもって複数色を形成して、微細な模
様を可能にすると共に被膜の密着力をも高めた実用性の
ある多色被覆表面物品及びその製造方法の提供を目的と
するものである。
を密着性よく被覆すること,この貴金属の被膜の色彩及
び/又は色調の異なる他の被膜とで多色にして貴金属の
被膜の微細模様を形成することについて検討していた
所、基材の表面を局部的にレーザ照射し、基材の表面部
を除去した後に、ウェットプレーティング法で貴金属の
被膜を形成すると基材と貴金属の皮膜との密着性が著し
くすぐれること、また貴金属以外の被膜上では貴金属の
皮膜が容易に剥離するという知見を得た。この知見に基
づいて、本発明を完成するに至ったものである。
とも一面が第1被膜の線部と該第1被膜の色彩及び/又
は色調と異なる第2被膜の面部、もしくは第1被膜の線
部と該第2被膜の面部と該基材の面とで構成された多色
な被膜表面を有する物品であって、該第1被膜がCu,Ag,
Au,Pt,Ir,Os,Pd,Rh,Ru及びこれらを含有する合金の中の
少なくとも1種の単層膜又は複層膜からなり、かつ該第
1被膜が該基材の表面に設けられた0.1μm〜1mm幅の凹
部状線に形成されており、該第2被膜が金属、合金、周
期律表4a,5a,6a族金属の炭化物,窒化物,炭酸化物,窒
酸化物,Al,Siの酸化物,窒化物,炭化物,及びこれら相
互固溶体または硬質カーボンの中の少なくとも1種の単
層膜もしくは複層膜からなることを特徴とするものであ
る。
限定されるものでなく、従来の時計ケース,時計バン
ド,文字板,ブローチ,カフスボタン,ネクタイピン,
ライター,ゴルフクラブ,メガネフレーム等に用いられ
る材料から工具部品等に用いられる材料、例えば金属,
合金,超硬合金,サーメット,セラミックス,サファイ
ア,ガラス,プラスチック等が相当し、これらの内、ス
テンレス鋼,耐熱合金,高速度鋼,超硬合金,Cr−Al−N
i合金,サーメット,黄銅,青銅,Al合金,真鍮,セラミ
ックスが特に好ましいものである。
る装飾又は表示のための図案もしくは図形により異なる
もので、具体的には,幅が少なくとも0.1μm、深さが
少なくとも0.5μmからなるもので、特に美麗な線形を
創製するためには、幅が少なくとも0.5μm、深さが少
なくとも1μmからなることが好ましいことである。こ
の凹部状線の形状は、基材の断面からの形状が例えば第
1図及び第2図の段付形状、第3図の円形状、第4図の
角形状又は第5図のV字形状があり、この内、美麗な線
形を創製と第1被膜の基材への密着強さを高めるため
に、特に段付形状が好ましく、この段付形状としては、
第1図のような1段付形状から凹部状線の幅によっては
第2図に例示したような複数段付形状からなるものであ
る。この凹部状線における深さは、基材の表面の面粗さ
により生ずる最小値(基材の表面の最大深さ)を基準値
とし、この基準値から少なくとも0.5μm深くなってい
る場合、好ましくは基準値から少なくとも1μm深くな
っている場合、さらに基準値から3〜100μm深くなっ
ている場合が第1被膜の基材への密着強さ及び第1被膜
の使用量の関係から特に好ましいことである。この凹部
状線を別の表現をすると、基材が熱でもって溶融及び除
去されてできた溶融状線になっていることである。
u,Ag,Au,Pt,Ir,Os,Pd,Rh,Ru及びこれらを含有する合
金、例えばCu−Zn,Cu−Sn,Cu−Zn−Sn,Ag−Au,Au−Al2,
Ag−Mg,Au−Cuを挙げることができる。この第1被膜の
膜厚は、第1被膜の有している色彩になる程度から第1
被膜内剥離の生じない範囲の厚さ、例えば0.01〜20μm
が好ましく、特に色調,光沢及び製造価格から0.1〜5
μmが好ましいことである。また、この第1皮膜は、断
面から観察した場合に、例えば第6図に示したように基
材の表面の凹部状線の中に形成されていることが好まし
く、別の表現をすると、断面から観察した場合に、後述
する第2被膜の面よりも低くなっていることが好ましい
ことである。
は、基材との密着強さ及び光沢の美麗さから具体的に
は、例えば金属,合金,周期律表4a,5a,6a族金属の炭化
物,窒化物,酸化物,ホウ化物,ケイ化物,Al,Si,Bの酸
化物,窒化物,炭化物及びこれら相互固溶体、又は硬質
カーボン(ダイヤモン状カーボンも含む)を挙げること
ができる。この第2被膜は、金属,合金,周期律表4a,5
a,6a族金属の炭化物,窒化物,炭酸化物,窒酸化物,Al,
Siの酸化物,炭化物,窒化物及びこれら相互固溶体又は
硬質カーボンが好ましく、この内、具体的には、例えば
Ti,Zr,Cr,Ti−Zr合金,Ti−Al合金,Ti−Ni合金,Ti−Cr合
金,Ti−V合金,Tic,ZrC,Cr3C2,TiN,ZrN,CrN, Ti(C,O),Ti(C,N),Ti(N,O),TI(C,N,O),(Ti,Z
r)C,(Ti,Zr)(C,O)など、Ti,Zr,Cr又はこれを含ん
だ合金もしくはその化合物が特に好ましいことである。
この第2被膜の膜厚は、被膜内剥離が生じなく、しかも
第2被膜の色彩が明確になる程度ならば、特に制限され
なく、具体的には0.05〜20μm、さらに、好ましくは0.
1〜5μmである。
らなるもので、この内、複層膜とは、基材の表面に平行
に形成される2種以上の積層、もしくは基材の表面に垂
直に形成される2種以上の層とすることができる。
るイオンプレーテイング,スパッタリング,電子ビーム
蒸着などの物理蒸着法又は化学蒸着法に代表されるドラ
イプレーティング法、もしくは電解メッキ、無電解メッ
キ、陽極酸化処理等に代表されるウェットプレーティン
グ法を応用することにより作製することができるけれど
も、美麗で繊細な模様の図案を形成するには、次の本発
明の製造方法で行うことが好ましいことである。
材の少なくとも一面の全部又は一部分に、(a)ドライ
プレーティング法又はウェットプレーティング法でもっ
て第2被膜を形成する工程、(b)該第2被膜の表面か
らレーザ照射して、該第2被膜を局部的に除去すると共
に、該第2被膜の除去された下地の該基材の表面をも微
細部除去して凹部状線を設ける工程、(c)ウェットプ
レーティング法でもって、Cu,Ag,Au,Pt,Ir,Os,Pd,Rh,Ru
及びこれらを含有する合金の中の少なくとも1種の単層
膜又は複層膜からなる第1被膜を形成し、該(b)工程
で設けた凹部状線に該第1被膜を残存させる工程を経
て、該(c)により形成する第1被膜の色彩及び/又は
色調と異なる該第2被膜の面部と第1線部とを形成させ
ることを特徴とする方法である。
程は、基材の材質と第2被膜の材質によって異なるが、
比較的低温で処理可能であり、そのために基材への影響
も少ないこと、基材と第2被膜との密着性のよいこと、
第2被膜の付きまわりの良好性及び膜厚の微量制御の容
易性であることからイオンプレーテイング,スパッタリ
ングもしくはプラズマCVD法で行うのが好ましいことで
ある。また、(b)工程におけるレーザは、YAG,ルビ
ー,ガラス等の固定レーザ,CO2,Ar等のガスレーザ及び
その他液体,金属蒸気等のレーザがあり、これらの内、
基材の表面の微細部の溶融及び除去が容易であることか
らYAG等の固体レーザが好ましく、特に、パルス幅の調
整及び低い照射エネルギーの制御の容易性からYAGが好
ましいことである。さらに、(c)工程における第1被
膜の形成は、電解メッキ,無電解メッキで処理できる
が、微細部を溶融及び除去した基材の凹部状線に緻密な
密着性よく付着させるために電解メッキが好ましいこと
である。この(c)工程の後処理として洗浄及び乾燥を
行うが、この洗浄時に第2被膜面上に付着した第1被膜
は、殆んど除去及び回収されるものである。もし、第2
被膜面上に第1被膜が残存している場合にはクロス,レ
ザー又はペーパー等で拭き取ることにより第1被膜を除
去することができる。
(b)及び(c)の工程をそれぞれ1回のみ経て行うこ
ともできるが、第1被膜又は第2被膜を複層膜にする場
合、特に第2被膜を複層膜にして基材の少なくとも一面
を3色以上の色彩及び/又は色調にしようとするときは
(a)(b)(c)の工程の全部又は一部を繰り返し経
て行うことも好ましいことである。また、基材の表面の
色彩を局部的に露出させて、多色化に用いる場合、もし
くは被膜の一部分には積層しないようにする場合等に、
必要に応じて部分的に従来から行われているマスキング
等を併用することも好ましいことである。
的に設けられた凹部状線へ第1被膜が形成されることに
より基材と第1被膜との密着強さが高められているこ
と、また、Au,白金族金属の第1被膜の場合、第1被膜
と第2被膜との剥離の容易性並びに第1被膜の基材表面
の凹部状線での耐剥離性の高さから美麗で繊細な模様が
鮮明に形成されているものである。
理が容易であること、特にAu,白金属金属の第1被膜の
場合には(c)工程処理時に第1被膜が第2被膜面上に
殆んど積層されないことから、後処理が容易になるもの
である。
来から行われているホローカソード放電法(HCD法)に
よるイオンプレーテイングで処理し、基材の表面に第2
被膜としてのTiの被膜を形成した。次いで、Tiの被膜面
上から東芝製YAGレーザ加工機LAY−603特型を用い、レ
ーザ照射し、0.5μm〜1mm幅で模様線を形成した。この
レーザ照射は、パワー密度200kw/cm2,パルス幅で0.7ms
で処理し、基材の表面が溶融及び/又は除去されている
ことを確認した。次に、この模様線の加工された基材を
水及び有機溶剤で洗浄した後、従来から行われているシ
アン化第1金カリウムによる金メッキ処理を行った。こ
の金メッキ処理後、洗浄及び乾燥して本発明品1を得
た。この本発明品1の断面を金属顕微鏡で調べた所、幅
0.5μm〜1mm,基材表面から基材内部へ向っての深さが1
0μmからなる基材の表面の凹部状線内に、第1被膜と
しての金の被膜が3μmの膜厚で形成されており、他の
基材の表面にはTiの被膜が0.3μm厚さで形成されてお
り、被膜面はTi被膜の金属光沢中に金の皮膜による黄金
色の模様線が鮮明に浮き上がり2色の美しい色彩を呈し
ていた。
グし、溶射法でもって、Al2O3−TiO2の混合被膜を形成
した。次いで、基材の表面のマスキングを除去した後、
上述と同様の金メッキ処理を施し、次に被膜面をラッピ
ング処理して比較品1を得た。この比較品1は、Al2O3
−TiO2被膜厚さが約500μm,金の被膜厚さが3μmから
なり、Al2O3−TiO2被膜面には微小クラックが入ってい
て、その面の光沢が悪く美的価値の低いものであった。
セロテープを接着させ、基材と金被膜との密着強さを調
べた所、比較品1の金の皮膜は、1回のセロテープ接着
で金の皮膜が殆んど全部剥離したのに対し、本発明品1
の金の皮膜は、5回繰り返してセロテープ接着を行って
も金の皮膜が剥離しなかった。
又はスパッタリングと、レーザ照射と、電解メッキとに
より表面処理を施し、SUS304基材の表面に第1表に示し
た第1線部と、第2被膜の面部とが形成された本発明品
2〜5を得た。こうして得た本発明品2〜5を実施例1
と同様に調べて、その結果を第1表に併記した。また、
本発明品2〜5のそれぞれの第1被膜をセロテープの接
着による耐剥離試験を行った所、本発明品2〜5全てが
5回繰り返しに耐えるものであった。さらに、基材の表
面の凹部状線を基材断面からの深さとして求め、その深
さを第1表に併記した。尚、本発明品5は、処理前に処
理面の外周部をマスキングして、基材の金属色と被膜の
色彩とで模様を作製したものである。
を鏡面ラップした後、この鏡面の半分をマスキングし、
次にイオンプレーテイングでもってTi(C,O)の被膜を
形成した。次いで、始めのマスキングを除去し、Ti(C,
O)の被膜面をマスキングした後イオンプレーテイング
でもってTiの被膜を形成した。その後、マスキングを除
去し、Ti(C,O)の被膜面及びTiの被膜面上からレーザ
で20μm〜1mm幅で模様線を作製した。次に、実施例1
と同様にして金メッキ処理,洗浄及び乾燥を行って、Ti
の金属光沢面とTi(C,O)の黒色面の中にAu色の模様線
を浮かび上がらせて本発明品6を得た。
所、3μm膜厚の金の被膜と1μm膜厚のTiの被膜と2
μm膜厚のTi(C,O)の被膜が形成されており、金の被
膜の下地になっている基材の表面は、5〜30μmの深さ
で基材内部へ凹部状になっていた。この本発明品6の金
被膜の密着強さをセロテープ接着による耐剥離試験で調
べた所、5回繰り返しに対しても剥離が生じなかった。
Au,Pt等の貴金属の被膜と基材との密着性が高いこと、
貴金属の被膜自体の人口汗等に対する耐食性が高いこ
と、色彩及び/又は色調の異なる他の被膜の中に貴金属
の被膜による繊細で美麗な文字や図形が形成されている
ことから、図案,模様が鮮明であること、長寿命である
こと、及び美的価値が高いという効果がある。このこと
から、本発明の多色被覆表面物品及びその製造方法は、
装飾用又は刻印表示用として利用する各種の材料もしく
は部品、例えば時計ケースに代表される装飾品,ゴルフ
クラブに代表されるスポーツ用品,切削工具,耐摩工具
に代表される工具材料,及び電気部品等への品質表示,
名称,トレードマーク,商標等を表示する装飾又は刻印
表示としての効果がある産業上有用な材料及びその製造
方法である。
状線の代表的な断面形状図である。第6図は、本発明品
の代表的な断面形状図である。 1……基材、2……凹部状面又は凹部状線 3……第1被膜、4……第2被膜
Claims (4)
- 【請求項1】基材の少なくとも一面が第1被膜の線部と
該第1被膜の色彩及び/又は色調と異なる第2被膜の面
部、もしくは第1被膜の線部と該第2被膜の面部と該基
材の面部とで構成された多色な被覆表面を有する物品で
あって、 該第1被膜がCu,Ag,Au,Pt,Ir,Os,Pd,Rh,Ru及びこれらを
含有する合金の中の少なくとも1種の単層膜又は複層膜
からなり、かつ該第1被膜が該基材の表面に設けられた
0.1μm〜1mm幅の凹部状線の上に形成されており、該第
2被膜が金属,合金,周期律表4a,5a,6a族金属の炭化
物,窒化物,炭酸化物,窒酸化物,Al,Siの酸化物,窒化
物,炭化物,及びこれら相互固溶体又は硬質カーボンの
中の少なくとも1種の単層膜もしくは複層膜からなるこ
とを特徴とする多色被覆表面物品。 - 【請求項2】上記第1被膜が0.05〜2.0μmの膜厚でな
ることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の多色被
覆表面物品。 - 【請求項3】上記凹部状線が少なくとも0.5μmの深さ
からなることを特徴とする特許請求の範囲第1項又は第
2項記載の多色被覆表面物品。 - 【請求項4】基材の少なくとも一面の全部は一部に、下
記(a),(b),及び(c)を経て、該(a)による
第2被膜の面部と該(c)による第1被膜の線部とを形
成させることを特徴とする多色被覆表面物品の製造方
法。 (a)ドライプレーティング法又はウェットプレーティ
ング法でもって、金属,合金,周期律表4a,5a,6a族金属
の炭化物,窒化物,炭酸化物,窒酸化物,Al,Siの酸化
物,窒化物,炭化物,及びこれらの相互固溶体又は硬質
カーボンの中の少なくとも1種の単層膜もしくは複層膜
でなる第2被膜を形成する工程、 (b)該第2被膜の表面からレーザ照射して、該第2被
膜を局部的に除去すると共に、該第2被膜の除去された
下地の該基材表面をも局部的に除去して凹部状線を設け
る工程、 (c)ウェットプレーティング法でもってCu,Ag,Au,Pt,
Ir,Os,Pd,Rh,Ru及びこれらを含有する合金の中の少なく
とも1種の単層膜又は複層膜からなる第1被膜を形成
し、該(b)工程で設けた凹部状線に該第1被膜を残存
させる工程、
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- 1990-05-31 JP JP2142160A patent/JPH0762257B2/ja not_active Expired - Lifetime
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