JPH07502504A - ケトン鏡像異性体の製法 - Google Patents

ケトン鏡像異性体の製法

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ノ、+P− 指皿 本発明は、ケトン鋺I@異ft、体の新規カリ有用な製法に関1°る。更に訂し くは、光学的に高度に純粋な形態で413.4−ジクロロフェニル)−3,4〜 ジヒl:o−1(2H)−ナフタレノンの(43i鏡像異性体を調製するll′ I規な多段法に関゛する。それ自体新規な(4S)−鏡像買性体である後者の化 合物は、公知の抗うつ薬である純粋なシス−(Is) (45)−N−メチル− 4−(3,4−ジクロロフェニルl−1,2,3,4−テトラヒトL7−1−す ゛ノタレンアミン(セルトラリン)の生産を最終的にもたらす主要な中間体とし ての有用である。また、本発明は、その範囲内に、全工程の神々の段階において 中間体として有用である他の特定の新規な化合物も含む。
背二技屯 W M、 Welch、 Jr等の米国特許第4.536,518号および第4 ,556,676号ならびにJournal of Me市cinal Che rnistry、 Vol、27. No、 II、 p、 +508 i19 &4)に掲載さ れているW、 M、 Welch、 Jr等のレポートに、容易し二大手可能な 3.4−ジクロロペンツフェノンから出発して公知のう七ミまたは(±1−4−  (3,4−ジクロロフェニル)−4−ブタン酸を経【1ル次いで(±1−4−  (3,4−ジクし10フエニル)−3゜4−ジヒドロ−12H)−ナフタレノ ン(これらの中間体に至る改良法についてはG、 J、 QuaJlich等の 米国特許第、i、777.288および4.839,104も参照のこと)にし 、次しこ後者のケトンを四塩化チタンの存在下メチルアミンで縮合してN−[= 1 (3,4−ジク[用フェニルl−3,4−ジヒドロ1 (2川−ナフタレニ リデン1メタンアミンを得る 純粋なラセミシス−(15) (4S)−N−メ チル−4−(3,4−ジクロロフエゴ、ルm1. 2. 3. 4−テトラ上1 ;ロー1−ナフタレンアミンの多段合成法が記載されている。全合成工程のR終 工程において、前記イミンを次に接触水素添ハUの方法によりまたは金属水素化 物錯体を用いることにより容易に還元して、う七ミ化合物の形態て実際にはシス −およびトランス−異性体の混合物であるN−メチル−4−(3,4−ジクロロ フェニル)−1,2,3,4−テトラヒドロ−1−ナフタレンアミンを?lる。
次に、従来法、例えば塩酸塩の分別結晶または相当1゛る遊離の塩基のシリカゲ ル上でのカラムクロマトグラフィーにより前記異性体混合物をその構成要素に分 離する。光学的に活性な選択性沈澱剤(prccipiuntacid) 、@ えばI)、 (−1−マンデル酸のような酸と共に古典的方法で溶液状態で1分 離したシス−ラセミ遊離塩基化合物を分割することにより最終的に所望のシス− +15) +45)−鏡像異性体(セルトラリン)を得る。
しかしながら、純粋なシス−(IsI (4Sl−N−メチル−4−(3,4− ジクロロフェニル)−1,2,3,4−テトラヒドロ−1−ナフタレンアミン( セルトラリン)の上記生産法は、同量の所望でないシス−(IR) (4R)− 鏡像異性体を同時に生産し、結局それを除去せねばならず、ひいては所望のシス −(is) (4S)−Ii像異性体の全収率を低下させ、全生産コストを増加 させるという点で不利である。
b′を来技術にifって、他の不斉誘導法(例えば不斉合成)が、有機−金属化 学の分野において過去成功例に変動がありつつも他の特定の基質を立体選択的に 変換(それにより分解(resolve) )するために用いられてきた0例え ば、Journal or theAmericlLrIChemical 5 ociety、 Vol、 91 、 No、 17. p、4871 (19 69)に掲載さ黷■v、M W石tesides等によるレボ−1・および5ynthesis、 p、75 2 (1982)に報告されたに、 Mori等による記事に、fl々の有機ハ ロゲン化物とトシレート類との桐が補助する特定のカップリング反応が記載され ている。そのカップリング反応は、基質分子中の第三位で銅酸塩による非ベンジ ル性5N2fft換を示している。更に、B、 H,Lipshutz等は、J ournal of oI−g@nic Chemi旬、 Vo監49.p、3 9邦(19鯛)において、合成および立体化学的見地の両方から、第二有機ハロ ゲン化物や高級エポキシド類と高次有機鋼酸塩類混合1勿との種々の置換反応に 言及している。詳しくは、一般式(φ)2Cu(CNILi2で表されるジフェ ニル(シアノ)銅酸!息試薬は1通常第二有機臭化物および沃化物をこの試薬の 1. 5当量で置換するが、一方、対応するメシレート類およびトシレート類は このような型の直換が非常に起こりにく(、反応にlO当量はどの多量の前記置 換試薬を用いない限り許容し得る収率の所望の生成物の形成に通常役立たないこ とを報告している。
しかしながら、従来技術のこの背景となる研究は、Journal of th e AmericanChemical 5ociety、 Vol、 104 . p、4696 (+982)においてB、 H,LipshuLz等が一般 式iφ)2 Cu (CN)Li2である高次銅酸塩が臭化物と反応する場合のキラリティ・ トランスフγ−に関して報告し、一方、Journal of the Ame rican Chemical 5ociety、 Vol、 X +、No、+7.p、4R71(1969)においてG、 M、 Whites ides等および、 Journal of the Am■窒奄モ≠■ Chemical 5ociety、 Vol、 95. No、23. p、  7783 (+973)においてC,R,Johnson凾■■■■A 一般式(φ)2CuLiの低次銅酸塩がそれぞれ臭化物およびトシレート類と反 応する場合のキラリティ・トランスファーに関して報告しているという出発点な しには完全なものにはならなかったであろう。これは、フェニルリチウム誘導銅 酸1gの変則的作用をも報告しているTetrahedron、 Vol、 4 0. No、 24. p、 5005 (+984)に掲載されているB H Lipshutz等による概説記事に最もうまくまとめられている。それでも尚 、 Journal or the Amerjcan ChemicaISo ciety、 Vol、 95. No、 23. 吹A7777 (1973 )にお いてC,R,、Iohnson等は、キラリティトランスファーに言及すること なく低次ジエヂル銅l!2塩によりベンジルトシレート類が置換されることを報 告しているが、低次または高次銅酸1のいずれかによる第二ベンジルシステム中 で起こる純粋なSN2反応の公知の例はない。l−1pshυ【Z等の概説記事 は、第二中心で起こる置換反応はn−アルキルまたはビニルが1駆物質から!l !I製する銅酸塩に限定されると結論づけている。
光叫の讐丞 本発明により、公知の4−+3.4−ジクロロフェニル)−4−ケトブタン酸か ら出発する新規な多段連続反応を用いることにより光学的に高度に純粋な形態で 4=(3,4−ジクロロフェニル)−3,4−ジヒドロ−1(2H)−ナフタレ ノンの(4S)−鏡像異性体を調製する新規かつ特に有用な方法が提供される。
更に詳しくは、本発明の新規な方法は: (alまず、酸触媒の存在下、反応に不活性な非プロトン性有機溶媒中で4−( 3,4−ジクロロフェニル)−4−ケトブタン酸をイソプロピレンまたはインブ チレンでエステル化して相当する4−(3,4−ジクロロフェニル)−4−ケト ブタン酸イソプロピルまたは【−ブチルを形成すること;(b)反応に不活性な 極性または非極性非プロトン性有機溶媒中で、約−15°Cから約40°Cまで の範囲の温度で、所望のキラル4−(3,4−ジクロロフェニル)−(4R)− ヒドロキシブタン酸イソプロピルまたは【−ブチル中間物質を形成する還元反応 が実質的に完了するまで、工程(a)で得た4−ケトブタン酸エステルを適切な 不斉カルボニル還元剤で還元すること;(ここで、Rはメタンスルホニル、ベン ゼンスルホニルまたはp斗ルエンスルポニルであり、Xは塩素または臭素である )を用い、工程(b)で形成した(4R)化トロキシブタン酸エステル化合物を スルホニル化して、相当する4、(3,4−ジクロロフェニル1−(4R)−ス ルホニロキシブタン酸イソプロピルまたはし、ブチルを得ること; (d)環式または低級ジアルキルエーテル中で、約−80−Cがら約20”Cま での範囲の温度で、工程(C)で得た(4R)−スルホニロキシブタン酸エステ ルを、一般式φ2Cu (CN)Li2のジリチウムジフェニル(シアノ)銅酸 塩を用いた銅−カップリング反応に供して、ジリチウムジフェニル銅酸1試薬の フェニル基による(4R)−スルホニロキシブタン酸エステルの有機(4R)− スルホニロキシ基の立体化学的置換を行い、相当する4−(3,4−ジクロロフ ェニル)−(4R)−フェニルブタン酸イソプロピルまたは【−ブチルを選択的 に形成すること:(e)次に、プロトン性またはルイス酸触媒の存在下1反応に 不活性な非プロトン性有機溶媒中で、約−20°Cから約180°Cまでの範囲 の温度で、工程(dlの生成物である立体特異的(4R)フェニル化n−ブタン 酸エステルを環化して(その場で最初に形成される4−(3,4−ジクロロフェ ニル)−(4R)−フェニルブタン酸中間↑勿質を経由して)、最終的に所望の (45)−4−(3,4−ジク特徴とする。
この方法は、413.4−ジクロロフェニル)−4−ケトブタン酸のような化合 物を、新規なキラルエステル中間1勿質を経てイソプロピルまたはt−ブチルエ ステルの形に容易に変換する。即ち、4− +3.4−ジクロロフェニル)i4 R)−ヒドロキシブタン酸イソプロピルまたは【−ブチルならびにその(4R) −メタンスルホニル、ベンゼンスルホニルおよび(4R)−p斗ルエンスルホニ ル誘導体を経て。
それぞれ対応する新規なキシル413,4−ジクロロフエニル)14R)−フェ ニルブタン酸イソプロピルまたはし一ブチルに変換し、R終的に新規な(43) −v111異性体最終生成物、即ち、 (43) −4−+3. 4−ジクロロ フェニル)−3,4−ジヒドロ−1(21()−ナフタレノンに最も容易な方法 で変換する。既に述べたように、(変の方で名前を挙げた最終生成物は、シス− (151(−1Sl−N−メチル−4−(3,4−ジクロロフェニル)−1,2 ,3,4−テトラヒドロ1−ナフタレンアミンであるセル]−ラリンとして知ら れている抗うっ薬の不斉合成における価値有る中間物質として有用である]約述 の米国特許第4.536.578号、第4゜777.288号およびM4.83 9.104号ならびにJournal of MedicinalChemis uy、 Vol 27. No、 l I、 p 1508 (+984)参照 、相当するラセミ化合物の全合成およびその後のセル[・フランへの変換用1゜ よって、本発明の範囲内には5本方法で用いる新規なキラルエステルおよび酸中 間物質ならびにこのようにして得た新規な最終生成物も含まれ、これには、前記 (4S1−4− (3,4−ジクロロフェニル)−3,4−ジヒ1;口1 (2 H)−ナフタレノン最終生成物に加え、その直接前駆物質、即ち、 4− (3 ,4−ジクロロフェニル)−(4R1−フェニルブタン酸として知られているベ ナルチメ−1・中間生成物および、上記酸次いで上記最終生成物に導<4−(3 ,4−ジクロロフェニル) −(4R)−フェニルブタン酸のイソプロピルまた は【、ブチルエステルのようなエステル類、ならびに4−(3,4−ジクロロフ ェニル)−(4R)−ヒドロキシブタン酸のイソプロピルまたは【−ブチルエス テルおよびその相当する(4R)−メタンスルホニル、ベンゼンスルボニルおよ び(4R)−p斗ルエンスルホニル誘導体が含まれる。エステル類の後者の群は 、当然、既に述べたように、相当する(4R)−フェニルプタノエートエステル 誘導体に直接誘導される。本目的にとって手近で好ましい基のエステル類は、明 かに【−ブチル基を有゛するエステル類であり、これには、詳しくは、上記で既 に考察したことを考慮して4−(3,4−ジクロ+1フエニル)−(4R)七ド ロ■シブタン酸し−ブチル、4−(3,4−ジクロロフェニル) −(4R)− メタンスルホニロキシブタン酸【−ブチルおよび4− (3,4−ジクロロフェ ニル)−(4R)−フェニルブタン酸ドブデルのような個々の好ましいもののエ ステルが含まれる。
詳坦な説咀 本発明の方法によれば、所望の(43) −4−(3,4−ジクロロフェニル) −3゜4−ジヒドU+−] (2H)−ナフタレノン化合物を生産するための多 段合成の最初の段it二は、工程(a> kこおいて、まず5反応に不活性な非 プロトン性有機溶媒中で公知の4−(3,4−ジクロロフェニル)−4−ケトブ タン酸をイソプロピレンまたはイソブチレンでニスデル化して相当する4−(3 ,4−ジクロロフェニル)−4−ケトブタン酸イソプロピルまたは【、ブチルを 形成することが含まれる。この工程は、まず1反応に不活性な適切な非プロトン 性有機溶媒に前記酸を溶解し、次に酸触媒の存在下1麦者の有機システムと、4 −(3,4−ジクロロフェニル)−4−ケトブタン酸出発物宵に対して過剰のモ ル数のイソプロピレンまたはインブチレンガスとを接触させて所望のニスデルを 形成することにより容易に達成される。既に述べた所望の分枝鎖エステル形成を 成し遂げるために好ましい反応条件は、通常1モルの有機酸出発物質につき少な くとも約20モルのイソプロピレンまたはイソブチレンの存在を必要とし、iも 好ましい範囲は約20:lから約30:lである。必要とする酸触媒は、好まし くは、触媒量、例えば用いる有機溶媒の全容量に対して少なくとも約0.58隈 %で通常用いる強酸である。Rも好ましくは、酸触媒は1反応に用いる有機溶媒 の全量に対して約0.5から約5.0容量%の範囲の水準で存在する1反応には 主な酸触媒として通常濃硫酸を用いることが好ましいが、この点については他の 強酸も用いることができ、これらとしては、フッ化水素酸、塩酸および臭化水素 酸のような強鉱酸、メタンスルホン酸およびp斗ルエンスルホン酸のような強有 機酸ならびに三フッ化硼素および塩化第−銅等のようなルイス酸でさえ好ましく 挙げられる0本明細書で用いた反応に不活性な有機溶媒とは5反応物を溶解する が上記反応条件下でそれらと反応しない有機溶媒を意味′1−る。この用途しこ 好ましい、反応に不活性な非プロトン性有機溶媒どしては、ジエチルエーテル、 ジ−イソプロピルエーテルおよびジ−n−ブチルエーテルのような低級ジアルキ ルニーデル、テトラヒドロフランおよびジオキサンのような環式エーテル、ベン ゼン、トルエンおよびキシレンのような芳香族炭化水素およびブロモベンゼンお よび1. 2−ジクロロベンゼンのような前記化合物のハロゲン化誘導体、なら びに塩化メチレン、二塩化エチレン、クロロホルム、1−ジクロロエチレン、S −テトラクロロエタンおよび四塩化炭素等のような塩化低級炭化水素が挙げられ るにの特別の反応工程の一つの好ましい態様によれば、反応に不活性な非プロト ン性有機溶媒システムは、場合によっては、前述の非プロトン性有機溶媒システ ムにとっての″スパイクーとして没に立つ、所望のエステルR終生成物、対応す る小量の分枝鎖アルカノール、叩ちイソプロパツールまたはし一ブタノール、を 含有1−ることもできる。特にこの点に関して用いる分枝鎖アルカノール(C3 −C4)の少ないながら好ましい量は、用いる溶媒の全量の約05から約50容 量%までの範囲である。一般に、本発明のニスデル形成工程は、通常、前記で考 11−だ溶媒システム中で約O′Cから約50°Cまでの範囲の温度で少な(と も常圧で、所望の4−(3,4−ジクロロフェニル)−4−ケトブタン酸イソブ Uビルまた【よ[−ブチルを形成゛する縮合反遥、が実質的に終了するまで行う 。
これは、一方では、反LEがほぼ室温(約20°C)で最も都合良く行われた場 合好ましくはしばしば少なくとも約18時間の時間を必要どする。特にこの反応 工程の終了後、最も一股的方法、即ち、まず過剰のイソプロピレンまたはインブ チレンガスを適当な蒸発または蒸留技法により除去し、次いでその結果できた留 分を僅かに塩基性のp H価に調整するために飽和重炭酸すトリウム水溶液と共 にこね、続いて層分離させた後乾燥有機層を蒸発させて最終的に所望の分枝鎖エ ステル生成物を得ることにより5反1;を混合物から所望のイソプロピルまたは 【−ブチルエステル生成物を容易に生殖4゛る。次いで、後者の生成物は、当業 者等に周知の標4技法に従い、シリカゲル」二でカラムクロマ1−グラフィーの 方法により更に精製することができる。
次に、工程<alで得た中1’Jl物質4−ケ1〜ブタン酸エステル生成物を、 工程(b)で、カルボン酸エステル基の存在下ケトンを還元することのできる適 切な不斉カルボニル還元剤を用いることにより相当するキラル4− (3,4− ジクロロフェニル)i4R)−ヒドロキシブタノエートエステル化合物に還元す る。このカテゴリーには、好ましくは手近でこの目的にあう触媒としてのキラル 還元剤、即ち、ボランまたはボラン−ジメチルフルフィト錯体と共に用いる場合 、(S)−テトラヒドロ−1−メチル−3,3−ジフエニル−IH,3H−ピロ ロ[1゜2−cl [+、3. 2]オキサザボロル、 (S)−テトラヒドロ −1,3,3斗リフェニル−IH,3H−ピロロI1. 2−cl [1,3, 21オキサザボロルおよび(S)−子トラヒドロー1−n−ブナルー3.3−ジ フェニル−IH,3)1−ピロロ[1゜2−cl [1,3,21オキサザボロ ルとして知られる光学的に活性なオキサザボロリジンが含まれる[Journa l of Organic Chemistry、Vol、 53、p、286 1 (1988)のH,i Corey等およびJournal of Organic Chemisu7 . Vol 、 56. p、 751 (1991)のりA J、 Math re等を 参肚1.この点に間して用いる化学量論的不斉カルボニル還元剤には、光学的に 活性な化合物(R)−BINAL−Hおよび(→−)−ジイソピノカムフェニル クロロボラン(両方ともキラル還元剤として当業者に知られている)が含まれる 0通常、還元工程は1反応に不活性な極性または非極性非プロトン性有機溶媒中 で。
約−15°Cから約40゛Cまでの範囲の温度で、好ましくは約0°Cから約2 5℃で、所望の(4R)七ドロキシ化合物、即ち、所望のイソプロピルまたは【 −ブチル4−(3,4−ジクロ+1フエニル)−(4R)−ヒドロキシブタノエ ート中間1勿質を形成する還元反応が実質的に完了」゛るまで行う、この用途の 好ましい極性または非極性非プロトン性有機溶媒としては、ア七トニトリル、ベ ンゼン、トルエン、およびジエチルエーテル、ジ−イソプロピルエーテル、ジ− n−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンおよび1,2−ジメトキ シエタンのようなエーテル類が挙げられる。好ましい態様には、既に述べたよう に触媒としての(S)−テトラヒドロ−1−メチル−3,3−ジフエニル−IH ,3H−ピロロ[1,2−cl [1,3,21オキサザボロルと共に化学it 論的還元剤としてのボランの使用が含まれる(ここで、還元反応工程は、好まし くは、ジオキサンまたはテトラヒドロフランのような環式エーテルの存在下で行 う)。反応物および試薬のモル数は、ここでは過言重要ではないが、ボラン還元 剤およびキラルオキサザボロリジン触媒に対し過剰のケト出発化合物を用いるこ とが通常好ましく実際的である6例えば、約20:12:Iから約100:60 :]の範囲のケト基質/還元削/触媒のモル比が特にこの点に関して最も有用で あることを見い出した。反応終了後、所望の4−(3,4−ジクロロフェニル) −(4R)−ヒドロキシブタン酸イソプロピルまたはドブチル中間物質は、従来 の手法に従い反応混合物から容易に回収する、または実際に更なる精製を必要と することなく次の反応工程にそのまま(即ちその場で)用いる。
所望の(4S)−4−(3,4−ジクロロフェニル)−3,4−ジヒドロ−1( 2H)−ナフタレノン(ヒ金物を調製する全工程中の次の工程(C)は、一般式 RXで表される有機スルホニルハロゲン化物(ここで、Rはメタンスルホニル、 ベンゼンスルホニルまたはp斗ルエンスルホニルであり、Xは塩素または臭素で ある)を用い、工程(b)で得た(4R)七ドロキシブタン酸エステル化合物を スルホニル化(即ちエステル化)することを含む、特にこの反応は、過言1反応 に不活性な有機溶媒中で実質的に無水条件下で、適切な量、即ち少な(とも1当 量の適当な標準1基の存在下で、有機スルホニルハロゲン化物のモル数の少なく とも1等量でこの(4R)七ドロキシエステルを処理することにより行う6通常 、この反応は、約−20°Cから約40″Cまでの範囲の温度で、基質分子上の (4R)−ヒドロキシ基のスルホニル化が実質的に完了したことを保証するに足 りる時間行う、実際間眩として反応を約0−1H°Cで行うことが最も好都合で あるとしばしば見い出されているが、後者の点については1通常少なくとも約1 5分間、好ましくは約1時間半から約24時間を必要とする。いずれの不活性な 有機溶媒も反応に用いることができるが、通常、芳香族炭化水素、ハロゲン化低 級炭化水素、低級ジアルキルエーテル、ジオキサンおよびテトラヒドロフランの ような溶媒を用いることが最も望ましい。好ましい芳香族炭化水素としては、ベ ンゼン、トルエンおよびキシレンが挙げられ、好ましいハロゲン化低級炭化水素 としては、塩化メチレン、クロロホルム、二塩化エチレンおよびS−テトラクロ ロエタンが挙げられ、一方、好ましい低級ジアルキルエーテルとしては、ジエチ ルエーテル、ジイソプロピルエーテルおよびジ−n−ブチルエーテルが挙げられ る。この方法で用いる適当な標準塩基剤としては、酸化マグネシウム5重炭酸す トリウム、炭酸ナトリウム、および炭酸マグネシウムのようなアルカリ金属およ びアルカリ土類金属酸化物、重炭酸IMならびに炭酸塩、ならびにトリエチルア ミン、N、 N−ジメチルアニリン、とリジン、ピコリン、ルチジン、コリジン およびキノリンのような三級アミン類がイげられる。用いる標準塩基剤は1反応 で形成した遊離ハロゲン化水素を中和するのに充分な量で存在する必要があるこ とを特筆する。トリエチルアミンは、反応の副産物として形成する水溶性トリエ チルアミンハロゲン化水素塩の形態で反応混合物から容易に除去することができ ることがら、最も好ましい塩基である1Mうまでもないことであるが、反応の経 過は、薄層クロマトグラフィーにより容易に把握することができ、それにより完 全な反応を提供するのに充分な反応時間を決定すると同時に不必要な加熱コスト および所望でない副産物形成の程度をしばしば増加させそれにより所望の化合物 のll32率を低下させる余分な反応時間を回避することができる0反応完了後 、こうして調製した4−(3゜4−ジクロロフェニル) −(4R)−ヒドロギ シブタノエートエステルの(4R)−メタンスルホニル、 (4R)−ベンゼン スルホニルまたは(4R)−p斗ルエンスルホニル誘導体は、通常、まずこれを 水で反応停止させ1次いで分離した有機層をこれから集め、続いて減圧下で溶媒 を蒸発させて最終的に所望のスルボニル誘導体を実質的に純粋な形態で得ること により反応混合物から最も容易に回収する。
この生成物も、更なるマ^製を必要とすることなくそのままで次の工程に用いる こ試薬のフェニル基による(4R)−スルホニロキシブタン酸エステルの有機( 4R)−スルホニロキシ基の立体化学的i換を行い、それにより相当するイソプ ロピルまたは4−(3,4−ジクロロフェニル)−(4R)−フェニルブタン酸 り、−ブチルを選択的に形成するために、環式または低級ジアルキルエーテルの ような反応に不活性な非プロトン性有機溶媒中で、約−80℃から約20″Cま での範囲の温度で、工程(C)で得たイソプロピルまたは【4−ブチル(4R) −スルホニロキシブタン酸エステルを一般式φ2Cu (CN)Li2のジリチ ウムジフェニル(シアカ別酸塩との鋼−カッブリング反応に供することを含む、 ここで反応に不活性な非プロトン性有機溶媒として用いる好ましい環式エーテル としては、テトラヒドロフランおよびジオキ(ノーンが挙げられ、一方、同じ目 的に用いる好ましい低級ジアルキルエーテルとしては、メチルしブチルエーテル 、ジエチルエーテル、ジ−イソプロピルエーテルおよびジ−n−ブチルエーテル 等が挙げられる。好ましいIQ襟において、 (4R)−スルホニロキシブタン 酸エステルとジリチウムジフェニル(シア力銅酸塩試薬のモル比は1通常それぞ れ約l:lがら約1:3まで変化させることができ、この目的のために手近で最 も好ましいモル比は、約1:2近辺である0通常、この立体特異的反応は、前記 のように約−80″Cから20″Cの範囲内の温度で、好ましくは通常約−70 ″Cがら約−10″Cの範囲内で、最も好ましくは一55°Cがら一1O°Cの 範囲内で、少な(とも立体特異的反応が実質的に完了するまで行う、実際には、 後者の工程は1通常、好ましくは少なくとも約2時間、更に好ましくは約5時間 がら18時間の時間内で達成する。立体特異的フェニル化反応完了後、所望の4 −(3,4−ジクロロフェニル)−(4R)−フェニルブタン酸イソプロピルま たは【−ブチル化合物は、まずこれを、飽和塩化アンモニウム水のような弱酸を 含有する氷/水混合液で反応停止させてその結果できた反応複合体(compl ex)の加水分解を成し遂げ、続いて更に撹拌して二相の明瞭な分離を達成し、 次いで所望の生成物をエーテル性有機相がら単離し、この1麦者の工程は好まし くは溶媒をそこから蒸発させる方法により達成し1次いで残留油分をシリカゲル 上でカラムクロマトグラフィーにかけ続いて5%酵酸エチル/n−ヘギザンで溶 出することにより更に精製して純粋なエステル中間生成物、即ち前述の4− ( 3,4−ジクロロフェニル) −(4R)−フェニルブタン酸イソプロピルまた は【−ブチル(ヒ合物を得ることにより前記反応混合物から容易に回収する。
本発明の多段法の第5カリ最終行程(e)は、プロトン性またはルイス酸触媒の 存在下1反応に不活性な非プロトン性有機溶媒中で、約−2o″Cがら約180 °Cまでの範囲の温度で、工程((1)で得た立体特異的(4R)フェニル化n 、ブタン酸エステル、即ち4−(3,4−ジクロロフェニル)−(4R)−フェ ニルブタン酸イソプロピルまたは【−ブチルを、 (その場で最初に形成される )中間物質4−(3,4−ジクロロフェニル) −(4R)−フェニルブタン酸 の分子内閉環が実質的に完了するまで環1ピして、このように所望のR終生酸物 、即ち(43) −4−(3,4−ジクロロフェニル)−3,4−ジヒドロ−1 (2H)−ナフタレノンを光学的に高度に純粋な形態で(且つ高収率で)得るこ とを含む。ここで用いる反応に不活性な好ましい非プロトン性有機溶媒としては 、二硫比炭素、ニトロベンゼン、ニトロメタンおよびニトロエタンのような種々 のニトロアルヵン類、ベンゼン、トルエンおよびキシレンのような芳香族炭化水 素溶媒、ならびに。−ジクロロベンゼンおよびブロモベンゼンのようなハロゲン 化ベンゼン化合物、更には塩化メチレン、二塩化エチレン、トリクロロエチレン 、S−テトラクロロエタンおよび四tl化炭素等のような種々のハロゲン化低級 炭化水素が挙げられる。閉環反応に用いる好ましいプロトン性またはルイス酸触 媒としては、硫酸、トリフルオロメタンスルホン酸、フッ化水素酸、メタンスル ホン酸、ポリ燐酸、五酸化燗、塩化アルミニウム、五塩化燐、四塩1ヒチクンお よび種々の酸性イオン交換樹脂が挙げられ。
最も好ましいものは最初に挙げた4種のプロトン性酸である。特にこの工程の好 ましい!l!!様において、出発物質として用いた立体特異的フェニル化11− ブタン酸エステルの酸触媒に対するモル比は、約10:1.0がら約1.0:9 0.0までの範囲であり、最も好ましいフェニルn−ブタン酸エステル/酸触媒 比は、約1゜0°1.0から約1.0:50.0の範囲である。実際には、反応 は、好ましくは約15゛Cから約145°Cまでの範囲の温度で行い、最も好ま しい温度範囲は約15100°Cである。用いる酸触媒が硫酸、トリフルオロメ タンスルポン酸またはメタンスルホン酸のようなプロトン性酸である場合、好ま しい温度範囲は前述したように通常約15−100°Cであり、最も好ましくは 約20−100″Cである。用いるプロトン性酸がフッ化水素酸である場合、本 目的に合う手近で好ましい温度範囲は前述したように通常約15−100″Cで あり、最も好ましくは約15−30°Cである。この反応工程終了後、所望の( 4S) −4−(3,4−ジクロロフェニル)−3,4−ジヒドロ−1(2H) −ナフタレノン化合物は、これらの型の反応f帆こ最も一般的である?f米の方 法で、即ち、まず反応混合物を氷で反応停止させ、続いてこのようにして得た水 性媒体を塩基化し、これを更に撹拌して二相分離を達成し、次に生成物を有機相 から単離し、この後者の工程は好ましくは溶媒をそこから蒸発させる方法により 達成し、次いでその結果できた油状留分を好ましくはシリカゲル上でカラムクロ マトグラフィー等により更に精製することにより反応混合物から容易に回収する 。このようにして、公知の4−(3,4−ジクロロフェニル)−4−ケトブタン 酸から新規カリ価値ある(43)−4−(3,4−ジクロロフェニル)−12H )−ナフタレノン化合物を調製する本発明の新規な5工程法は、実質的に完了す る。
本発明の全工程を含む5工程製造方法を実施するのに必要とする4−(3゜4− ジクロロフェニル)−4−ケトブタン酸の根源的出発材料は、一般的化学薬品か ら出発して従来の有機合成法を用い当業者等により容易に合成することが出来る 公知の化合物である。例えば、特にこの化合?帆よ、 Journal of  the American ChemicaJSociety、 Vol、 7 5. p、 +117 (+953)に記載されているようにE、 A、 5L eckの方法を用いることにより容易にrA製される。
既に述べたように1本発明の多工程法により得られる(4S)−4−(3,4− ジクロロフェニル11 (2H)−ナフタレノン最終生成物は、セルトラリンま たはシス−(Is) (4S)−N−メチル−4−(3,4−ジクロロフェニル )−1,2,3゜4、テトラヒドロ−I−ナフタレンアミンとして知られている 抗うっ薬を既に考察した従来技術において開示された方法により最終的にもたら す価値ある中間物質でJ5 ル+ # ’)ニ詳[7ヘハ、出5aH*iカ4−  (3,4−シクOdフz:ル)−1 (2I1) ,ナフタし・ム/”:”, ’−tぴ,形−で,“夕〉るU}当4′ろ−=一連の{ヒ合物についでは初めの ほうで述勺こようなW. M. Wclcl+, Jr等による米国特許!4, 536,518およびJournalof Medicinal Chemi宙 )F, Vatλ7,No.il, p.1508(+984)に記載されてい る従来技術の公知の方法にまり. (4S) (3.4ジクauフ:s−ニル) −3.4−ジヒ1:ロー1(21+1−ナフタ1−・ノンをまず(,ss)−N − L4− (3,4−ジクロ口フエニル)−3.4−ジし・ドロl (2用− サフタレニリデン1メタンアミンに,次いでR絆的に.3,4−テ斗ラヒl;ロ ー1−ナ゛ノタレンアミンに変喚する。この例では、光学的に活性なケ[・ン、 即ち(451 −4− <3.4−ジクロ口フエニル)−12川一ナフタレノン をまず還元によりアミン化してキラルシス−N−メチル−(3.4−ジクロ口フ ェニル) .4. 2. 3. 4−テトラヒド口−1−ナフタレンアミンを得 、次いで後者の生成物をクロでI・グラフイーの方法により分離して最終的に、 セルトラリンである所望のRI!医薬生成物を得る。
このように、本発明の新規な方法は,上記で考察したように(4 S) −4−  (3.4−ジクロ口フエニル)−3.4−ジヒドロ−1 (2H)一ナフタレ ノンとして知られている新規カリ価浦ある(4S)−鏡lgI異性体を独特の5 工程法により純粋な形態でかつ高収十で提供する,これは、更に、以前には開示 されていない不斉経路を用いることによりセルl・ラリン合成全体における主要 な改良を許し,それにより、前記で考察した公知の1iC来技法の不利性のいく つかを大きく回避する。
実旅凱上 1.0mlのし−ブタノールおよび1.0mlの濃硫酸も含有するLOOmlの 1. 2−ジクロ口ベンゼン(0−ジクロ口ベンゼン)に分散した5. 0g  <0. 02モル)の4− (3. 4−ジクロ口フエニル)−4−ケ1・ブタ ン酸[E. A. Steck等,Journal of the Amet− Ican Chemical Society,Vol. 75, p. +1 17 (195R)]から成る混合1勿をよ く撹拌しながら、1:ライアイスで冷却した指形冷却器を用いて混合物に凝縮し たイソプチレンガス3Lg <0.5モル)で処理した。次いで、その結果でき た反iS混合物を室温(約20゜C)で18時間撹拌した。この工程完了後,余 分なイソプチレンを蒸留により除去し,次に留分を構成1′る残液をlooml の飽和重炭酸ナl−リウム水溶液と混合し、この時点で30分間撹拌してpi{ 8. 0を有する?体を得た6次いで、二つの液層を分離[7,有機層をとって おぎ、次に熊本硫酸マグネシウム1−で乾燥させた。濾過手段による乾煙削の除 去および減圧丁蒸発1一段による溶媒の除去1化 8.31gの祖【−ブチルエ ステル生成物を残油の形懇.で得た。しかる後、後者の物質の精製を、溶出液と して10%酢酸コ゛チル/n−ヘキサン溶液を用いシリカゲル(90gl上でか ラムクロマl・グラノイーにより成し遂げ、5.64g (9γも)の純粋な4 − (3. 4−ジクロロフJ,ニル)−4一ケ1へブタン酸【−プチルを清澄 な無色油とレC得た.この純粋な生成物を元素分析に7111え核&F1気共鳴 分析により同定した。
NMRデータ: 13c−NMR (CDCI3) 196.3, 171.9 , L37.7、+363,133.4, l″SO.8,@130.1, 117.1,80.9,33.5,29.3.2R.IC,4H,6Cl■0、 から算定した埋論jI!t: C, 55.46; H, 5.32測定債:  C, 55 32,H, 5 29実施皿^ 0゜Cでよく撹拌しながら、テ1−ラしド口フラン6mlに溶解I7た137m g(0.0005モル)の(S)一テトラヒドローl−メチル−3.3−ジフエ ニルーl11. 38−ビロロ11. 2−cl 11, 3, 21オキ→J ザボロルiE. J. Corp)’等,Journal of Organi c Chemistry, Vol. 53,p. 2861 (198g)] から成る溶液に、3.Omlの テトラヒト口フランに溶解した3.0g (0.009モル)の4−(3.4− ジクロ口フエニル)−4−ケトプタン酸し.ブチル(実施例lの生成物)から成 る溶液およびテトラヒド口フランに分散したIMのポラン溶液5.94ml ( 0.00594モル)を、ダブルシリンジボンブを介して別々ではあるが同時に 40分間にわたり加えた。二つの同時に行う添力旺程終了後,その結果できた反 応混合物を室温(約20゜C)で30分間撹t↑し 次いで9.6mlのメタノ ールで反応停止させ、続いて後者の時点で更に30分間更なる撹拌をした。次い で,反応停止させた反応混合物から真空下で有機溶媒を除去し、続いてその結果 できた残留物に30mlの塩化メチレンを加えて新しい有機相を得た。,次いで ,これを新しいp}14の燐酸I!南液25mlで2回次に25mlの水で1回 洗浄した{変、無水硫酸マグネシウム上で乾燥させた。吸引湾過による乾煙削の 除去および減圧下蒸発による溶媒の除去後,最終的に3.17g (105%) の粗4−(3,4−ジクロロフエニル)〜(4R)−ヒドロキシブタン酸し−ブ チルを得た。この物質を、更なる精製を必要と−1ることなくそのままで次の反 応工程に用いた。
実五m O゜Cでよく撹拌しながら、2.02ml (帆 014モル)のトリゴナJレ アミンを含有するjW化メチレン48mlに溶解した2.96g (0.009 7モλレ)の粗4− (3. 4−ジクロ口フエニル)−(4R)七トロキシブ タン酸し−ブグーノレ(実施例2の生成物)から成る溶液に、1.04ml ( 0.0106モル)のメタンスルホニルクロリドを徐々に滴下した。この工程終 了後、その結果できた反応混合物を室温(約20’C)で20分間撹拌し、次い で25mlの氷冷水で反応f亭止させ、その結果できた相を分離させた。次に. 分離した有n層を25mlの3N16ツ水,次いで25mlの飽和重炭酸ナトリ ウム水および2 5 m lの食i1水で洗浄し、続いて無水Fa酸マグネシウ ム上で乾燥した。吸引濾過手段Gこよる乾燥距1の除去および減圧下蒸発手段に よる溶媒の除去+1. R終的に3.90g (97%)の咀(4R)−メシル エステル,即ち,t−プチル4−<3.4−ジクロ口フエニル) − (4 R )一メタンスルホニロキシプタノエ−1・を得、これを,更なる讐#I製を必要 とすることなくそのままで次の反応工程(即ち、銅−力・ソブリングエ+y.>  c二用いた. 夫施匪工 その曝でジリチウムジフエニル(シアノ)銅酸塩[φ2Cu (CN)Li1] を得るために、−20゜Cでよく撹拌しながら,3Qmlのジエチノレエーテノ レ(こ!!!濁した867mg (0.00968モル)のシアン化第一銅から 成る懸濁液Gこ、ジエチルエーテルに熔解した0 96Mのフエニルリチウム溶 液20ml (0.0192モル)をlO分間滴下することにより処理した.こ の工程1g−了1麦、反L3混合液を−20゜Cで30分間、次いで0゜Cで更 に30分間撹拌し、fi後一−45゜Cに冷却した。この時ウで次に、5mlの ジエチルエーテルに溶解した2,Og(0.00484モル)の4−(3.4− ジクロ口フエニル) − (4 R)−メタンスJレホニロキシブタン酸【−プ チル(実施例3の生成物)から成る溶液を、撹{牢しな力《らンリチウムジフエ ニル(シアノ)桐酸塩を含有する反I,チ混合物Gこ10分間Gこわたって加え ,次いでその結果できた混合物を−45゜Cで16時間撹拌した。次に このよ うにして得たR終反応混合物を、90mlの飽和塩化アンモニウム水溶液および 90gの氷で反応停止させた1変,1時間撹拌した。次に,この時点で形成した 二相を分離し、水層を新しいジエチルエーテルで再度抽出した.次に,二つの分 離したエーテル性抽出物を合わせた後,無水硫酸マグネシウム上で乾煉し,濾過 し,次いでその結果できた湾液を真空でfA縮して2.15gの淡黄色の油状物 質を得た。次いで、後者の物質のti製を、溶出液として5%酢酸エチル/n− ヘキサン溶液を用いシリカゲル(6 3 gl上でカラムクロマ1・グラフィー により成し遂げて最終的しこ1.25g (70%)の純粋な4−(3.4−ジ クロ口フェニル) − (4 R)一フエニルブタン酸【−プナルを[al D 25−4.00(C= l.l 5,ベンゼン)の無色油状物質の形態で得た。
C2(1}{2)(: 11Qiから算定した埋論1i : C,65.76;  H, 6 07測定情: C, 65 82, H, 5 92実旌凱1 室温で(約20’C)よく撹拌しながら、5.0mlのベンゼンに溶解した66 8mg (0.00183モル)の4−+3.4−ジクロ口フエニル)−(4R )一フエニルプタン酸t−プチル(実施例4の生成物)に5.0ml (0.0 56モル)のトリフルオロメタンスルホン酸をゆっくり加えた.次いで、その結 果できた反応混合液を撹拌し、70′Cに熱し、この温度で2時間維持した。こ の工程終了1組反応混合液を撹拌しながら室温に冷まし、次いで20gの氷上で 反応停止させ、続いてその結果できた水性媒体に4Nの水酸化ナトリウム水溶液 15mlを加えることによりそのp}{情を新しい情、pH13に調整した.こ の時点で、二層が分離し,次に水層を同容量の塩化メチレンで抽出した。次いで 、二つの有機層を合わせた後、無、水硫酸マグネシウム上で乾燥I一た.吸引湾 過による乾煉剤の除去および減圧下蒸発による溶媒の除去後、残渣として612 mgの淡黄色油状1勿質を得た。これを,溶出液として15%酢酸エヂル/n− ヘキサジ溶液を用いシリカゲルN 8g)上でカラムクロマトグラフィーにより 精製した1麦、93:7の鏡像異性体比または、鏡像異性過剰(%ee)のパー セント量の見地から表した場合光学的純度86%に達する[(II D25’  +55. 7゜ (c =1. 01,アセトン)の500mg (94%)の (45)−4− (3.4−ジクロロフ上ニル)−3,4−ジヒドロ−1 (2 H)一ナフタレノンを得た。
Cl6812Choから算定した理論値: C,66,00,f(,415、測 定値: C16597,H,415 ユ111[ 30m1の30%水性Fa酸および20m1の98%酢酸に懸濁した2、92g to、oosモル)のしプナル443.4−ジクロロフェニル)−(4R)−フ ェニルブタノエート(実施例4の生成物)を80°Cで15分間、次いで60° Cで5時間熱し、R後に室温(約20°C)で16時間保った。しかる後、その 結果できた酸性溶液を真空で油状′fj、清に濃縮し、次にこれを飽和重炭駿ナ トリウム水溶液に溶解した11.3Nの塩酸で処理して沈澱物を得た0次いで、 この固形生成物を活性炭で処理した(組吸引濾過の手段により回収し、エタノー ル/石油エーテルから再結晶させてR後に以下に述べる実施例7の生成物とあら ゆる点で同一である純粋な4−(3,4−ジクロロフェニル)−(4R)−ブタ ン酸を得た。
裏施匪1 室温でよく攪拌した。45m1のアセl−ンに溶解した690mg (0,00 234モル)の4−(3,4−ジクロロフェニル)−(4R)−フェニルブタノ ール<m判例Fの生成物)に、6.0mlのジジーンズ試薬を加えた6次に、そ の結果できた反応混合液を2時間撹拌した後、これに5.0mlのインプロパツ ールを加えることにより反応を停止さぜた。反応1ダ止した反応混合液を30分 間撹拌した後、既にそこに存在する溶媒を次に真空下で除去して残漬として緑色 固形生成物を得た5次いで、後者の生成物を水に溶解し、それぞれ25m1の塩 化メチレンで20抽出した6次に、二つの有機相を合わせた後、無水硫酸マグネ シウム上で乾燥した。吸引濾過による乾燥剤の除去および減圧下蒸発による溶媒 の除去後。
R終的に無色油状物質の形態で[al D25’ −12,75’ (c=1.  16.ペン、ゼン)の689mg (95%)の純粋な4− (3,4−ジク ロロフェニル)−(4R)−フェニルブタン酸を得た。純粋な生成物は更に核磁 気共鳴分析により同定した。
NMRデータ: IHNMR(CDCI、)δ7.36−7.06 (m、 8 H)、 3.92 (L、 J=7Hz、IH)、 2.4R− 2.22 (m、 4H) 実施広l 室温でよく撹拌しながら、5.0ml (0,056モル)のベンゼンに溶解し た689mg (0,00223モル)の413.4−ジクロロフェニル)−( 4R)−フェニルブタン酸(実施例7の生成物)溶液に、5.0mlのトリフル オロメタンスルホン酸を加えた。次に、その結果できた反応混合液を70°Cで 2時間熱し、次いで20gの氷で冷却および反応停止させた0次いで1反応を停 止した溶液に4Nの水酸化ナトリウム14.5mlを加えることによりそのpH をpH12に調整した。次に、その結果できた塩基性溶液をそれぞれ30m1の 塩化メチレンで2回抽出した陵、二つの有機相を合わせ、無水硫酸マグネシウム 上で乾燥1−だ、吸引濾過による乾燥剤の除去および減圧下蒸発による溶媒の除 去後、淡黄色油状物質の形態で692tr+gの粗生成物を得、まもな(これは 放潰により結晶し始めた。しかる後、吸引濾過の手段により固形生成物を集め、 次いで溶出液として酢酸エチル/ヘキサンを用いシリカゲルカラム上でクロマト グラフィーにかけて最終的に白色結晶固形物の形態でlαIo” +58.3°  (c=1.01、アセトン)の5’12mg(91%)の純粋な(43)−4 −(3,4−ジクロロフェニルl−3,4−ジヒドo−1(2H)−ナフタレノ ンを得た。これは、1!像異性過剰(enantiomericeXcess  ) (%ee)のパーセント量の見地から表した1合光学的純度88.6%に達 した。純粋な生成物は更に元素分析に加え核磁気共鳴分析、′R量分析および赤 外線吸収分析により同定し、あらゆる点で実施例8の生成物と同一であることが 判明した。
C,6M、、Cl2Oから算定した理論値: C,66,00,H,4,15測 定値: C,6620,H,391゜諷製広人 室温(約20’C)でよく撹拌した、610m1のINの水性水酸化ナトリウム に溶解した100g (0,40モル)のラセミまたは(±) −4−(3,4 −ジクロロフェニル)−4−ケトブタン酸[E、 A、 5teck等、 Jo +ynal of Lheんnerxcan ChemicalSociety 、 Vat、 75. p、 +117 (1953)]に、88.53g(0 ,225七ル)のi9末にした水素化[1ナトリウムを何回にも分けて加え、そ の間反応混合物の温度をずっと35°C以下に維持した。この工程終了後、その 結果できた水性塩基性反応混合物(pH>10)を次に室温でl88ff間撹拌 し1次いで更に5°C以下の温度に冷却1〜た(克 73m1の′a塩酸でpH 1,oに酸性化した。次に、酸性化した水溶液をそれぞれ500rnlの塩化メ チレンで2同抽出した1組合わせた有機抽出液をそれぞれ150m1の水で2回 、そA1ぞれ5 Q m 1の食塩水で2回連続的に洗浄し、続いて常法により 輿水硫酸マグイ・シウム」ニで乾燥した。吸引濾過により乾燥剤を除去した後、  け) −4−(3,4−ジクロロフェニル)−4七ドロキシブタン酸を含有す るこの塩化メ・トレン溶液を 室温でよ(撹拌した。1660m1の1くヒ、メ ■−レンに溶解した69.68g (0,422モル)のD−口→−エフェドリ ンから成る溶液に加えた後、神品を加え、この同じ温度で一晩約16時間撹拌し た。しかる後、このようにして得た白色固形のエフ1ドリン塩を吸引濾過により 前記反T、ご混合液から回収し、濾過MiF上で100m1の新しい塩化メチレ ンで洗浄して(まず一定の重量になるまで真空で乾燥した後)、 [alD25 ° +22゜6° (c=1.メタノール)の(±) −4−(3,4−ジクロ ロフェニル)−4七ドロキシブタン酸のジアステレオマーD−(−+−)−エフ ェドリン塩108.6gを得た6 上記の単離したジアステレオマー・ti (108,6glを次に4000m1 の111ニメ千レンにi8解し、その結果できた溶液を真空で全容Jit210 0mNこ濃縮した。白色固形生成物がまもなく沈澱し、このようにして得た懸濁 液をこの時点で約16時間撹拌した。次いで、沈澱した塩生成物を吸引濾過によ り集め、一定の重量になるまで乾燥して[aI Iy”’ +30. 2° ( c−1,メタノール)の464gの白色固形物を得た。この両分を前に調製した [al t#’ +30. 7゜(c=I、メタノール)の光学的旋光fiを有 する25.3gの塩生成物と合わせ1合わせた両分を9000m1の新しい塩化 メチレンに溶解した後、真空で全容量1450m1に濃縮した。まもなく白色固 形生成物が溶液から再度沈澱し、次いで、この時点て懸濁液として約16時間撹 拌した。次に、このように沈澱した塩生成物を前記のような吸引濾過により集め 濾過漏斗上で200m1の新しい塩1メチレンで洗浄して(まず一定の重量にな るまで真空で乾燥した後)最終的に、 (aI 015’ +49. 8’ ( c−1,メタノール)の4−(3,4−ジクロロフェニルl−4(4R)七ドロ キシブタン酸の純粋なり−(+)−エフェドリン塩である63gの白色固形生成 物を得た。
上記の単離した純粋なシアステ17才異性体塩(65g)を次にI 10m1の 1化メ千レンおよび91m1の濃塩酸をも含有する122m1の水に溶解し、そ の結果できた混合液を室温で1時間ft拌した後、l、75時間45°Cに熱し た。この工程終了後、その結果できた反応混合液を再度室温に冷ました後、これ に130m1の水および130mfの塩化メチレンを加え、続いてセライトを介 して最終混合液を濾過した。次に、その結果できた濾液の二相を分離し、水相を 新しい1豆化メチレンで抽出し、次いで抽出液をとっておいた有機相と合わせた 。しかる後、合わせた有機抽出液を130m1の飽和重炭酸J−1−リウム水お よび130m1の水で連続的に洗浄し、次に無水硫酸マグネシウム上で乾燥した 。濾過による乾燥剤の除去および減圧下蒸発による溶媒の除去後、R終的に白色 固形物の形態でm、p、54−55°C1lal o” +12. 3’ (c  =1.メタノール)の純粋なキラル5−<3.4−ジクロロフェニル)−ジヒ ドロ−2(3B)−フラノン30.1gを得た。
麗製阻1 16m1のデl−ラヒl;ロフランに懸濁した1、53g (0,04モル)の 水素化アルミニウムリナウムから成るよく撹拌した!V濁液を乾燥窒素雰囲気下 水浴中で冷却し、48m1の千トラヒVロフランに溶解したlog (0,04 03モル)の調製例Aのキラルラクトン生成物を前記懸濁液に滴下して加えるこ とにより処理した1次いで1反応混合物を水浴中で1時間撹拌し、続いて25゛ Cで1時間次に60°Cで1. 5時間撹拌した。この工程終了後1反応混合物 を冷まし、次いで1.53m1の水、1.53m1の15%水性水酸化ナトリウ ムおよびfil&に4.6mlの水で反応停止させた。この時点で、30m1の テトラヒドロフランを加え、撹拌を16時間続けた0次に、このようにして得た 最終反応混合物を真空下硫酸マグネシウムを介して濾過した後、混合物中に残存 する溶媒を減圧下蒸発手段により除去してR終的に白色固形物の形態で[alo ”° +36. 7゜(C−1,76、アセトン)の10.33gの4−+3. 4−ジクロロフェニル)−(4R1−ヒドロキシブタノールを得た。この純粋な 生FIi、物は、元素分析に加え核磁気共鳴分析および質量分析により更に同定 した。
Cl0HI2CI202から算定した理論ji : C,51,09,H,51 4測定値:C15日7; H,5,12 調l圧引; 93m1のジメチルホルムアミドに溶解した10.331iJ (0,0041 モル)の4−(3,4−ジクロロフェニル)−(4R)−ヒドロキシブタノール (!gl製例Bの生成物)および5.48g (0,0806モル)のイミダソ ールから成る溶液をよく撹拌しながら乾燥窒素雰囲気下水浴中で冷却し、6.  99g (0,046モル)のt−ブチルジメチルシリルクロリドを一度に加え ることにより処理した。攪拌を18時間続け、その間に水浴はそれ自身溶解させ た。しかる後、その結果できた反応混合液を逆に10100Oの水で反応停止さ せ、それぞれ100m1のヘキサンで4回抽出した6次に1合わせた有機相を各 200m1の水で2回洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。吸引濾過に よる乾燥剤の除去および減圧下蒸発による溶媒の除去1麦、無色油状物質の形態 で15.25gの粗生成物を得た。しかる後、後者の生成物を、溶出液として酢 酸エチル/ヘキサン(容量で1−3)を用いシリカゲルカラム上でクロマトグラ フィーにかけて最終的に無色油状物質の形態で1alo”’ +21.49’  (c=1. 24.アセトン)の13.85g (98%)の純粋なし一ブチル ジメチルシリル4−(3,4−ジクロロフェニル)−(4R)−ヒトし1キシプ ・y・ルエーテルを得た。この純粋な生成物は、核磁気共鳴分析、質量分析およ び赤外線吸収分析により更に同定した。
諷製医ユ 24m1の塩化メチレンに溶解した。調製例Cのモノシリル化ジオール生成物1 .74g (0,00498モル)から成る溶液を氷/塩浴で冷却しておき、よ く撹拌しながらこねに1.04m1 (0,00748モル)のトリエチルアミ ンを滴下のやり方で加え、続いて0.535m1 (0,00548モル)の塩 化メタンスルホニルを同じやり方で加えた。この工程終了後、その結果できた反 応混合液を氷/塩浴温度で15分間撹拌したf!、25m1の氷冷水で反応停止 させ。
次いでその結果できた相を分離させた。次に、分離した有機層を、12m1の冷 lO%水性塩酸、次いで12m1の飽和水性重炭酸ナトリウム、続いて25m1 の飽和水性塩化ナトリウム(食塩水)で洗浄した後、無水硫酸マグネシウム上で 乾燥させた。吸引濾過による乾燥剤の除去および減圧下蒸発による溶媒の除去後 、R終的に2.15g (97%)の所望の(4R)−メシルエステル、即ち、 ドブチルジメチルシリル4−(3,4−ジクロロフェニル)−(4R)−メタン スルホニロキシブタノエートを無色油状物質の形態で得、更なるマn製を必要と することなくそのまま次の反応工程に用いた。前記エステル生成物は、核磁気共 鳴分析および質量分析により同定した。
災製匪i その倉易でジリチウムジフェニル(ンアカlil酸1[(φ)2Cu (CNI  Liミスを得るために、−20”Cでよく撹拌しながら、25.5mlのジエ チルエーテルに懸濁した572mg (0,00639モル)のシアン化第−銅 から成る懸濁液に、ジエチルエーテルに溶解した1、56Mのフェニルリチウム 溶?lI8.19m1 (0,01278モル)を10分間の添加時間にわたっ て滴下することにより処理した。この工程終了後1反応混合液を一20℃で20 分間、次いで0℃で30分間撹拌しくこの時点で淡黄色性l19物を形成したl l後に一50″Cに冷却した。この時点で次に、3.2mlのジエチルエーテル に溶解した1、415g(0,00319モル)のりメチルシリル4.(3,4 −ジクロロフェニル)−(4R)−メタンスルホニロキシブタン酸し一ブチル( 調製例りの生成物)から成る溶液を、ジリチウムジフェニル(シアカ桐酸塩を含 有する反応混合液に撹拌しながら8分間にわたって滴下し、次いでその結果でき た混合液を一25℃で18時間撹拌し、続いて更に室温で5.5時間撹拌した0 次に、このようにして得た最終反応混合液を、60gの氷および60m1の飽和 塩化アンモニウム水溶液で反対に反応停止させた後、1時間撹拌した6次に、こ の時点で形成した二相を分離し、水層を各50m1の純粋なジエチルエーテルで 更に2回抽出した0次に、二つの分離したエーテル性抽出物を合わせた後、無水 硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、吹いてその結果できた濾液を真空で′a 給して1.92gの淡黄色の油状物質を得た6次いで、後者の物質の精製を、溶 出液として酢酸エチル/ヘキサン(容量で1:99)を用いシリカゲル上でカラ ムクロマトグラフィーにより行い、最終的に911mg(70%)の純粋なジメ チルシリル4−(3,4−ジクロロフェニル)−(4R)−フェニルブタン酸し 一ブチルを[Q] I)” −4,81°(c=1.06.CDC13)の無色 油状物質の形態で得た。純粋な生成物を更に核磁気共鳴分析および質量分析によ り同定した。
皿製皿L 12m1の氷酢酸に溶解した、yA製例Eのジアリールシリル化生成物911m g (0,00223モル)、4−0m1のテトラヒドロフランおよび4.0m lの水から成る溶液を室温で24時間撹拌した1次にこの工程終了後、真空で溶 媒を除去し1次いで残渣にlQmlの5%水性重炭酸ナトリウムおよび10m1 の塩化メチレンを加えた。しかる1麦、その結果できた水相を完全に抽出し、次 いで分離した有機相をとっておき、次に無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。
吸引濾過による乾燥剤の除去および減圧下蒸発による溶媒の除去後、@終的に8 38mgの残存生成物を無色油状物質の形態で得た6後者の物質を、溶出液とし て酢酸エチル/ヘキサン(容量で1;3)を用いシリカゲル上でクロマトグラフ ィーにかけて最終的にtal n25’ −2,71’ (c= 1. 36、 アセトン)の純粋な4−(3,4−ジクロロフェニル)−(4R)−フェニルブ タノール690mg(91%)を得た。純粋な生成物を更に核磁気共鳴分析およ び質量分析により同定した。
平成6年6月13日

Claims (26)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.4−(3,4ジクロロフェニル)−4−ケトブタン酸から出発し光学的に高 度に純粋な形態で4−(3,4ジクロロフェニル)−3,4ジヒドロ−1(2H )−ナフタレノンの(4S)鏡像異性体を調製する方法であって;(a)まず、 酸触媒の存在下、反応に不活性な非プロトン性有機溶媒中で4−(3,4ジクロ ロフェニル)−4−ケトブタン酸をイソプロピレンまたはイソブチレンでエステ ル化して相当する4−(3,4ジクロロフェニル)−4−ケトブタン酸イソプロ ピルまたはt−ブチルを形成すること;(b)反応に不活性な極性または非極性 非プロトン性有機溶媒中で、約−15℃から約40℃までの範囲の温度で、所望 のキラル4−(3,4ジクロロフェニル)−(4R)ヒドロキシブタン酸イソプ ロピルまたはtブチル中間物質を形成する還元反応が実質的に完了するまで、工 程(3)で得た4ケトプタン酸エステルを適切な不斉カルボニル還元剤で還元す ること;(c)反応に不活性な有機溶媒中で、約−20℃から約+40℃までの 範囲の温度で、標準塩基の存在下、一般式RXで表される有機スルホニルハロゲ ン化物にこで、Rはメタンスルホニル、ベンゼンスルホニルまたはp−トルエン スルホニルであり、Xは塩素または臭素である)を用い、工程(b)で形成した (4R)ヒドロキシブタン酸エステル化合物をスルホニル化して、相当する4− (34ジクロロフェニル)−(4R)−スルホニロキシブタン酸イソプロピルま たはt−ブチルを得ること; (d)環式または低級ジアルキルエーテル中で、約−80℃から約20℃までの 範囲の温度で、工程(c)で得た(4R)−スルホニロキシブタン酸エステルを 、一段式Ф2Cu(CN)Li2のジリチウムジフェニル(シアノ)銅酸塩を用 いた銅カップリング反応に供して、ジリチウムジフェニル銅酸塩試薬のフェニル 基による(4R)−スルホニロキシブタン酸エステルの有機(4R)−スルホニ ロキシ基の立体化学的置換を行い、相当する4−(3,4−ジクロロフェニル) −(4R)−フェニルブタン酸イソプロピルまたはt−ブチルエステルを選択的 に形成すること;および (e)次に、プロトン性またはルイス酸触媒の存在下、反応に不活性な非プロト ン性有機溶媒中で、約−20℃から約180℃までの範囲の温度で、工程(d) の立体特異的(4R)フェニル化n−ブタン酸エステル生成物を環化して、最終 的に所望の(4S)−4−(3,4−ジクロロフェニル)−3,4−ジヒドロ− 1(2H)−ナフタレノン化合物を光学的に高度に純粋な形態で得ることを含む 連続した−連の工程から成ることを特徴とする方法。
  2. 2.工程(a)で用いるエステル形成試薬がイソブチレンである、請求項1に記 載した方法。
  3. 3.工程(a)で用いる反応に不活性な非プロトン有機溶媒が塩素化芳香族炭化 水素溶媒である、請求項1に記載した方法。
  4. 4.塩素化芳香族炭化水素溶媒が1,2ジクロロベンゼンである、請求項3に記 載した方法。
  5. 5.工程(a)で用いる酸性触媒が濃硫酸である,請求項1に記載した方法。
  6. 6.工程(b)で用いる不斉カルボニル環元剤が(S)−テトラヒドロ−1−メ チル−3,3ジフェニル−IH,3H−ヒロロ[1,2−c][1,3,2]オ キサザポロルと混合したボランである、請求項1に記載した方法。
  7. 7.工程(b)で用いる非プロトン性有機溶媒がテトラヒドロフランである,請 求項1に記載した方法。
  8. 8.工程(b)における還元反応を約0℃から約25℃までの範囲の温度で行う 、請求項1に記載した方法。
  9. 9.工程(c)でスルホニル化剤として用いるスルホニルハロゲン化物が塩化メ タンスルホニルである、請求項1に記載した方法。
  10. 10.工程(c)で用いる反応に不活性な有機溶媒が塩化低級炭化水素溶媒であ る、請求項1に記載した方法。
  11. 11.塩化低級炭化水素溶媒が塩化メチレンである、請求項10に記載した方法 。
  12. 12.工程(c)で用いる標準塩基が有機三級アミンである、請求項1に記載し た方法。
  13. 13.有機三級アミンがトリエチルアミンである、請求項12に記載した方法。
  14. 14.工程(d)で用いるエーテル性溶媒がテトラヒドロフランである、請求項 1に記載した方法。
  15. 15.工程(d)で用いるエーテル性溶媒が低級ジアルキルエーテルである、請 求項1に記載した方法。
  16. 16.低級ジアルキルエーテルがジエチルエーテルである、請求項15に記載し た方法。
  17. 17.工程(e)で用いる反応に不活性な非プロトン性有機溶媒が芳香族炭化水 素溶媒である,請求項1に記載した方法。
  18. 18.芳香族炭化水素溶媒がベンセンである、請求項17に記載した方法。
  19. 19.芳香族炭化水素溶媒がトルエンであるところの、請求項17に記載した方 法。
  20. 20.工程(e)で用いる酸触媒がプロトン性酸であるところの、請求項1に記 載した方法。
  21. 21.プロトン性酸がトリフルオロメタンスルホン酸である、請求項20に記載 した方法。
  22. 22.(4Sょ−4−(3,4ジクロロフェニル)−3,4−ジヒドロ−1(2 H)−ナフタレノン。
  23. 23.4−(3,4−ジクロロフェニル)−(4R)−フェニルブタン酸ならび に当該酸のイソプロピルおよびt−ブチルエステルから成る群から選ばれる化合 物。
  24. 24.請求項23に記載した化合物であって当該酸のt−ブチルエステルである 化合物。
  25. 25.4−(3,4−ジクロロフェニル)−(4R)ヒドロキシブタン酸のイソ プロピルまたはt−ブチルエステルならびにその(4R)−メタンスルホニル, (4R)ぺンゼンスルホニルおよび(4R)−p−トルエンスルホニル誘導体。
  26. 26.請求項25に記載した化合物であって(4R)−メタンスルホニル誘導体 のL.−ブチルエステルである化合物。
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