JPH0738407B2 - 保管庫 - Google Patents
保管庫Info
- Publication number
- JPH0738407B2 JPH0738407B2 JP1343840A JP34384089A JPH0738407B2 JP H0738407 B2 JPH0738407 B2 JP H0738407B2 JP 1343840 A JP1343840 A JP 1343840A JP 34384089 A JP34384089 A JP 34384089A JP H0738407 B2 JPH0738407 B2 JP H0738407B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- storage
- carrier
- shaft
- magnetic bearing
- rotary shaft
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67763—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
- H01L21/67769—Storage means
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、クリーンな環境を維持し、半導体ウエハ、CD
等、汚れを嫌う製品を保管する保管庫に関するものであ
る。
等、汚れを嫌う製品を保管する保管庫に関するものであ
る。
従来この種の保管庫としては、第２図に示すような構造
のものがあった。同図において、41は保管庫ケースであ
り、該保管庫ケース41内には軸受45より回転自在に支持
された回転軸42が配置されている。回転軸42にはその外
周から所定の間隙を設けてストック棚47を載置する複数
段のキャリア受け台43が円周状に取り付けられている。
46はACサーボモータであり、該ACサーボモータ46を駆動
することにより、回転軸42が回転し、同時に複数段のキ
ャリア受け台43が水平方向に回転するようになってい
る。保管庫ケース41の上部に設けられた給気ダクト48に
はフィルタ49が設けられており、給気ダクト48により点
線の矢印に示すように吸気された空気はフィルタ49を通
って、清浄され保管庫ケース41に導かれる。また、保管
庫ケース41の底部には空気を循環させるブロワ50が設け
られており、ブロワ50から送られる空気はフィルタ51を
通って清浄され、点線の矢印に示すように保管庫ケース
41内を循環する。
のものがあった。同図において、41は保管庫ケースであ
り、該保管庫ケース41内には軸受45より回転自在に支持
された回転軸42が配置されている。回転軸42にはその外
周から所定の間隙を設けてストック棚47を載置する複数
段のキャリア受け台43が円周状に取り付けられている。
46はACサーボモータであり、該ACサーボモータ46を駆動
することにより、回転軸42が回転し、同時に複数段のキ
ャリア受け台43が水平方向に回転するようになってい
る。保管庫ケース41の上部に設けられた給気ダクト48に
はフィルタ49が設けられており、給気ダクト48により点
線の矢印に示すように吸気された空気はフィルタ49を通
って、清浄され保管庫ケース41に導かれる。また、保管
庫ケース41の底部には空気を循環させるブロワ50が設け
られており、ブロワ50から送られる空気はフィルタ51を
通って清浄され、点線の矢印に示すように保管庫ケース
41内を循環する。
また、ウエハ等を長期間保管する場合は、表面酸化防止
のためにの窒素ガス封入機構や温度調整機構等を設ける
こともできる場合もある。
のためにの窒素ガス封入機構や温度調整機構等を設ける
こともできる場合もある。
上記のような構成の保管庫においては、例えば軸受45が
接触式の軸受であるため、該軸受45から油粒子や塵が発
生し、長時間保管するうちに被保管物が汚染するという
問題があった。
接触式の軸受であるため、該軸受45から油粒子や塵が発
生し、長時間保管するうちに被保管物が汚染するという
問題があった。
本発明は上述の点に鑑みてなされたもので、上記問題点
を除去し、長時間保管しても半導体ウエハやCD等の被保
管物が汚染することのない保管庫を提供することにあ
る。
を除去し、長時間保管しても半導体ウエハやCD等の被保
管物が汚染することのない保管庫を提供することにあ
る。
上記課題を解決するため本発明は、保管庫ケース内に軸
受により回転自在に支持された回転軸に、キャリア又は
キャリア保管箱を載置する受台を複数段取り付け、駆動
手段により前記回転軸を回転させることにより、受台を
水平方向に回転させる構造の保管庫において、軸受を非
接触のスラスト磁気軸受及び非接触のラジアル磁気軸受
とし、駆動手段を前記回転軸にロータを固定し、該ロー
タに対向してステータを配置した構造のモータとし、ラ
ジアル磁気軸受は回転軸に取り付けたキャリア又はキャ
リア保管箱を載置する前記複数段の受台を挟む上下位置
の回転軸を回転自在に支持するように配置し、スラスト
磁気軸受は回転軸の上部を回転自在に支持するように配
置し、モータは下方のラジアル磁気軸受の下部に配置
し、保管庫ケース内を真空状態にする真空手段又は該保
管庫ケース内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給手
段を設けたことを特徴とする。
受により回転自在に支持された回転軸に、キャリア又は
キャリア保管箱を載置する受台を複数段取り付け、駆動
手段により前記回転軸を回転させることにより、受台を
水平方向に回転させる構造の保管庫において、軸受を非
接触のスラスト磁気軸受及び非接触のラジアル磁気軸受
とし、駆動手段を前記回転軸にロータを固定し、該ロー
タに対向してステータを配置した構造のモータとし、ラ
ジアル磁気軸受は回転軸に取り付けたキャリア又はキャ
リア保管箱を載置する前記複数段の受台を挟む上下位置
の回転軸を回転自在に支持するように配置し、スラスト
磁気軸受は回転軸の上部を回転自在に支持するように配
置し、モータは下方のラジアル磁気軸受の下部に配置
し、保管庫ケース内を真空状態にする真空手段又は該保
管庫ケース内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給手
段を設けたことを特徴とする。
保管庫を上記の如く、軸受を非接触のスラスト磁気軸受
及び非接触のラジアル磁気軸受とし、駆動手段を主軸に
ロータを固定し、該ロータに対向してステータを配置し
た構造とすることにより、軸受やモータから油粒子や塵
等が飛散することななく、被保管物を長期間クリーンの
状態に保管することが可能となる。
及び非接触のラジアル磁気軸受とし、駆動手段を主軸に
ロータを固定し、該ロータに対向してステータを配置し
た構造とすることにより、軸受やモータから油粒子や塵
等が飛散することななく、被保管物を長期間クリーンの
状態に保管することが可能となる。
また、保管庫ケース内を真空状態にする真空手段又は該
保管庫ケース内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給
手段を設けたことにより、保管物を長期間クリーンの状
態に保持するという作用が更に向上する。
保管庫ケース内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給
手段を設けたことにより、保管物を長期間クリーンの状
態に保持するという作用が更に向上する。
また、モータが高速回転する場合は磁気軸受はモータの
支持軸受としての機能を考えなければならないが、本発
明の保管庫のように低速ないし停止状態での磁気軸受を
使用する場合は、ラジアル磁気軸受は回転軸に取り付け
たキャリア又はキャリア保管箱を載置する複数段の受台
を挟む上下位置の回転軸を回転自在に支持するように配
置し、スラスト磁気軸受は回転軸の上部を回転自在に支
持するように配置し、モータは下方のラジアル磁気軸受
の下部に配置することにより、リジッドな軸受構造とな
り、駆動手段であるモータの振動の影響を最小限に抑え
ることができる。
支持軸受としての機能を考えなければならないが、本発
明の保管庫のように低速ないし停止状態での磁気軸受を
使用する場合は、ラジアル磁気軸受は回転軸に取り付け
たキャリア又はキャリア保管箱を載置する複数段の受台
を挟む上下位置の回転軸を回転自在に支持するように配
置し、スラスト磁気軸受は回転軸の上部を回転自在に支
持するように配置し、モータは下方のラジアル磁気軸受
の下部に配置することにより、リジッドな軸受構造とな
り、駆動手段であるモータの振動の影響を最小限に抑え
ることができる。
以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。
第１図は、本発明の保管庫の構造を示す図である。同図
において、１は保管庫ケースであり、該保管庫ケース内
には、複数段（図では３段）の受台６が固定された回転
軸８が非接触のスラスト磁気軸受２と上下ラジアル磁気
軸受3,4により回転自在に支持されている。また、スラ
スト磁気軸受２の下端部には回転軸８を駆動するモータ
５が配置されている。
において、１は保管庫ケースであり、該保管庫ケース内
には、複数段（図では３段）の受台６が固定された回転
軸８が非接触のスラスト磁気軸受２と上下ラジアル磁気
軸受3,4により回転自在に支持されている。また、スラ
スト磁気軸受２の下端部には回転軸８を駆動するモータ
５が配置されている。
スラスト磁気軸受２は、保管庫ケース１に固定された支
持板９に支持された磁石10と前記回転軸８の上端に固着
された磁石11とから構成される。磁石10と磁石11はその
対向面が同極の磁石であり、その反発力により回転軸８
のスラスト方向を非接触で支持するようになっている。
なお、磁石10と磁石11は永久磁石でも電磁石でもいずれ
であってもよい。電磁石の場合は回転軸８のスラスト方
向、即ち上下方向の変位を検出するセンサを設け、該電
磁石に供給する電流を制御する。
持板９に支持された磁石10と前記回転軸８の上端に固着
された磁石11とから構成される。磁石10と磁石11はその
対向面が同極の磁石であり、その反発力により回転軸８
のスラスト方向を非接触で支持するようになっている。
なお、磁石10と磁石11は永久磁石でも電磁石でもいずれ
であってもよい。電磁石の場合は回転軸８のスラスト方
向、即ち上下方向の変位を検出するセンサを設け、該電
磁石に供給する電流を制御する。
上ラジアル磁気軸受３は回転軸８に固定された磁極コア
12と励磁コイル13とからなり、励磁コイル13に励磁電流
を供給することにより、磁極コア12を吸引する磁力が発
生し、回転軸８のラジアル方向を非接触で支持する。な
お、励磁コイル13は支持部材14を介して支持板９に固定
されている。
12と励磁コイル13とからなり、励磁コイル13に励磁電流
を供給することにより、磁極コア12を吸引する磁力が発
生し、回転軸８のラジアル方向を非接触で支持する。な
お、励磁コイル13は支持部材14を介して支持板９に固定
されている。
下ラジアル磁気軸受４も前記上ラジウル磁気軸受３と同
様、回転軸８に固定された磁極コア15と励磁コイル16と
からなり、励磁コイル16に励磁電流を供給することによ
り、磁極コア15を吸引する磁力が発生し、回転軸８のラ
ジアル方向を非接触で支持する。なお、励磁コイル16は
支持部材17を介して保管庫ケース１に取り付けられた支
持板18固定されている。
様、回転軸８に固定された磁極コア15と励磁コイル16と
からなり、励磁コイル16に励磁電流を供給することによ
り、磁極コア15を吸引する磁力が発生し、回転軸８のラ
ジアル方向を非接触で支持する。なお、励磁コイル16は
支持部材17を介して保管庫ケース１に取り付けられた支
持板18固定されている。
モータ５は回転軸８に固定されたロータ19と該ロータ19
に対向した配置されたステータ20とからかり、ステータ
20に発生する回転磁界により、ロータ19、即ち回転軸８
が回転するようになっている。また、ステータ20は支持
部材21を介して保管庫ケース１に取り付けられた支持板
22に固定されている。
に対向した配置されたステータ20とからかり、ステータ
20に発生する回転磁界により、ロータ19、即ち回転軸８
が回転するようになっている。また、ステータ20は支持
部材21を介して保管庫ケース１に取り付けられた支持板
22に固定されている。
なお、23は回転軸８上部の保管庫ケース１に対するラジ
アル方向の変位を検出する上ラジアルセンサであり、24
は同じく回転軸８下部の保管庫ケース１に対するラジア
ル方向の変位を検出する下ラジアルセンサである。ま
た、26及び27はそれぞれ回転軸８に固定された上ラジア
ルセンサ23及び下ラジアルセンサ24のターゲットであ
る。上ラジアルセンサ23及び下ラジアルセンサ24で回転
軸８の上部及び下部の変位を検出し、励磁コイル13及び
励磁コイル16に供給する励磁電流を制御することによ
り、回転軸８を非接触で支持する。これにより、回転軸
８は常に中心位置に保持され、しかも外部の力に対して
復元力を有するから、被保管物が半導体ウエハであって
も外力が加わっても破損を防止することができる。
アル方向の変位を検出する上ラジアルセンサであり、24
は同じく回転軸８下部の保管庫ケース１に対するラジア
ル方向の変位を検出する下ラジアルセンサである。ま
た、26及び27はそれぞれ回転軸８に固定された上ラジア
ルセンサ23及び下ラジアルセンサ24のターゲットであ
る。上ラジアルセンサ23及び下ラジアルセンサ24で回転
軸８の上部及び下部の変位を検出し、励磁コイル13及び
励磁コイル16に供給する励磁電流を制御することによ
り、回転軸８を非接触で支持する。これにより、回転軸
８は常に中心位置に保持され、しかも外部の力に対して
復元力を有するから、被保管物が半導体ウエハであって
も外力が加わっても破損を防止することができる。
なお、30はドアであり、該ドアを開放することにより、
受台６に載置されたキャリア７等必要に応じて識別され
再び取り出すことができるようになっている。また、保
管庫内が真空化している場合は、ロードロック室31を設
けることで圧力調整をする。
受台６に載置されたキャリア７等必要に応じて識別され
再び取り出すことができるようになっている。また、保
管庫内が真空化している場合は、ロードロック室31を設
けることで圧力調整をする。
上記構成の保管庫において、保管庫ケース１内を真空化
及び真空維持のため真空ポンプ（図示せず）を設け、保
管庫ケース１を真空に維持し、受台６にキャリア７を載
置することにより、長時間クリーンな状態でキャリア７
内の被保管物を保管することが可能となる。
及び真空維持のため真空ポンプ（図示せず）を設け、保
管庫ケース１を真空に維持し、受台６にキャリア７を載
置することにより、長時間クリーンな状態でキャリア７
内の被保管物を保管することが可能となる。
また、前記受台６上には内部が真空化された、キャリア
ボックを載置し、保管庫ケース１内に窒素ガス等の不活
性ガスをガス充填手段（図示せず）で封入するか、或い
は清浄な空気を清浄空気送出手段（図示せず）で送るよ
うにしても、キャリアボックス内の被保管物を長時間ク
リーンな状態に保管できる。
ボックを載置し、保管庫ケース１内に窒素ガス等の不活
性ガスをガス充填手段（図示せず）で封入するか、或い
は清浄な空気を清浄空気送出手段（図示せず）で送るよ
うにしても、キャリアボックス内の被保管物を長時間ク
リーンな状態に保管できる。
以上説明したように本発明によれば下記のような優れた
効果が得られる。
効果が得られる。
軸受を非接触のスラスト磁気軸受及び非接触のラジア
ル磁気軸受とし、駆動手段を回転軸にロータを固定し、
該ロータに対向してステータを配置した構造とすること
により、軸受やモータからの油粒子や塵等が飛散するこ
となく、被保管物を長期間クリーンな状態に保管するこ
とができる。
ル磁気軸受とし、駆動手段を回転軸にロータを固定し、
該ロータに対向してステータを配置した構造とすること
により、軸受やモータからの油粒子や塵等が飛散するこ
となく、被保管物を長期間クリーンな状態に保管するこ
とができる。
また、保管庫ケース内を真空状態にする手段を設ける
ことにより、更に被保管物を長時間クリーンな状態に保
管することができる。
ことにより、更に被保管物を長時間クリーンな状態に保
管することができる。
また、保管庫ケース内に不活性ガスを充填する手段を
設けた場合、保管庫ケース内に不活性ガスを封入し、被
保管物を収納するボックスを真空化することにより、被
保管物を長期間クリーンな状態に保管することができ
る。
設けた場合、保管庫ケース内に不活性ガスを封入し、被
保管物を収納するボックスを真空化することにより、被
保管物を長期間クリーンな状態に保管することができ
る。
モータが高速回転する場合は磁気軸受はモータの支持
軸受としての機能を考えなければならないが、本発明の
保管庫のように低速ないし停止状態での磁気軸受を使用
する場合は、ラジアル磁気軸受は回転軸に取り付けたキ
ャリア又はキャリア保管箱を載置する複数段の受台を挟
む上下位置の回転軸を支持するように配置し、スラスト
磁気軸受は回転軸の上部を支持するように配置し、モー
タは下方のラジアル磁気軸受の下部に配置することによ
り、リジッドな軸受構造となり、駆動手段であるモータ
の振動の影響を最小限に抑えることができる。
軸受としての機能を考えなければならないが、本発明の
保管庫のように低速ないし停止状態での磁気軸受を使用
する場合は、ラジアル磁気軸受は回転軸に取り付けたキ
ャリア又はキャリア保管箱を載置する複数段の受台を挟
む上下位置の回転軸を支持するように配置し、スラスト
磁気軸受は回転軸の上部を支持するように配置し、モー
タは下方のラジアル磁気軸受の下部に配置することによ
り、リジッドな軸受構造となり、駆動手段であるモータ
の振動の影響を最小限に抑えることができる。
第１図は、本発明の保管庫の構造を示す図、第２図は従
来の保管庫の構造を示す図である。 図中、１……保管庫ケース、２……スラスト磁気軸受、
３……上ラジアル磁気軸受、４……下ラジアル磁気軸
受、５……モータ、６……受台。
来の保管庫の構造を示す図である。 図中、１……保管庫ケース、２……スラスト磁気軸受、
３……上ラジアル磁気軸受、４……下ラジアル磁気軸
受、５……モータ、６……受台。
Claims (1)
- 【請求項１】保管庫ケース内に軸受により回転自在に支
持された回転軸に、キャリア又はキャリア保管箱を載置
する受台を複数段取り付け、駆動手段により前記回転軸
を回転させることにより、前記受台を水平方向に回転さ
せる構造の保管庫において、 前記軸受を非接触のスラスト磁気軸受及び非接触のラジ
アル磁気軸受とし、 前記駆動手段を前記回転軸にロータを固定し、該ロータ
に対向してステータを配置した構造のモータとし、 前記ラジアル磁気軸受は前記回転軸に取り付けたキャリ
ア又はキャリア保管箱を載置する前記複数段の受台を挟
む上下位置の回転軸を回転自在に支持するように配置
し、前記スラスト磁気軸受は回転軸の上部を回転自在に
支持するように配置し、前記モータは前記下方のラジア
ル磁気軸受の下部に配置し、 前記保管庫ケース内を真空状態にする真空手段又は該保
管庫ケース内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給手
段を設けたことを特徴とする保管庫。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1343840A JPH0738407B2 (ja) | 1989-12-28 | 1989-12-28 | 保管庫 |
| US07/633,855 US5226713A (en) | 1989-12-28 | 1990-12-26 | Storage vessel |
| EP90125732A EP0435338B1 (en) | 1989-12-28 | 1990-12-28 | Storage vessel |
| DE69021531T DE69021531T2 (de) | 1989-12-28 | 1990-12-28 | Speicherbehälter. |
| AT90125732T ATE126394T1 (de) | 1989-12-28 | 1990-12-28 | Speicherbehälter. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1343840A JPH0738407B2 (ja) | 1989-12-28 | 1989-12-28 | 保管庫 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03203253A JPH03203253A (ja) | 1991-09-04 |
| JPH0738407B2 true JPH0738407B2 (ja) | 1995-04-26 |
Family
ID=18364643
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1343840A Expired - Lifetime JPH0738407B2 (ja) | 1989-12-28 | 1989-12-28 | 保管庫 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5226713A (ja) |
| EP (1) | EP0435338B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0738407B2 (ja) |
| AT (1) | ATE126394T1 (ja) |
| DE (1) | DE69021531T2 (ja) |
Families Citing this family (221)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0552756A1 (en) * | 1992-01-21 | 1993-07-28 | Shinko Electric Co. Ltd. | Article storage house in a clean room |
| DE19525515A1 (de) * | 1995-07-13 | 1997-01-16 | Stuertz Maschbau | Sortier- und Lagervorrichtung für plattenförmige Körper |
| JPH09236123A (ja) * | 1996-02-29 | 1997-09-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気軸受装置 |
| JP3672416B2 (ja) | 1997-06-27 | 2005-07-20 | 株式会社荏原製作所 | スピン処理装置 |
| NL1006461C2 (nl) * | 1997-07-03 | 1999-01-05 | Asm Int | Opslagsamenstel voor wafers. |
| US6485250B2 (en) * | 1998-12-30 | 2002-11-26 | Brooks Automation Inc. | Substrate transport apparatus with multiple arms on a common axis of rotation |
| US6622399B1 (en) * | 2000-03-31 | 2003-09-23 | L'air Liquide-Societe Anonyme A' Directoire Et Conseil De Sureveillance Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Apparatus and method for maintaining a dry atmosphere to prevent moisture absorption and allow demoisturization of electronic components |
| US6769788B1 (en) * | 2003-01-27 | 2004-08-03 | Jeffrey Keith Kellough | Flashlight sleeve |
| US20080178734A1 (en) * | 2007-01-26 | 2008-07-31 | Lincoln Global, Inc. | Inert gas method of environmental control for moisture sensitive solids during storage and processing |
| EP2445003A1 (en) | 2010-10-25 | 2012-04-25 | Applied Materials, Inc. | Apparatus for providing a rotation carrier magazine, and method of operating thereof |
| US20130023129A1 (en) | 2011-07-20 | 2013-01-24 | Asm America, Inc. | Pressure transmitter for a semiconductor processing environment |
| US10714315B2 (en) | 2012-10-12 | 2020-07-14 | Asm Ip Holdings B.V. | Semiconductor reaction chamber showerhead |
| US20160376700A1 (en) | 2013-02-01 | 2016-12-29 | Asm Ip Holding B.V. | System for treatment of deposition reactor |
| JP6217544B2 (ja) | 2013-10-22 | 2017-10-25 | 株式会社村田製作所 | 方向性結合器 |
| US11015245B2 (en) | 2014-03-19 | 2021-05-25 | Asm Ip Holding B.V. | Gas-phase reactor and system having exhaust plenum and components thereof |
| US10941490B2 (en) | 2014-10-07 | 2021-03-09 | Asm Ip Holding B.V. | Multiple temperature range susceptor, assembly, reactor and system including the susceptor, and methods of using the same |
| US10276355B2 (en) | 2015-03-12 | 2019-04-30 | Asm Ip Holding B.V. | Multi-zone reactor, system including the reactor, and method of using the same |
| US10458018B2 (en) | 2015-06-26 | 2019-10-29 | Asm Ip Holding B.V. | Structures including metal carbide material, devices including the structures, and methods of forming same |
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