JPH03203253A - 保管庫 - Google Patents
保管庫Info
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- JPH03203253A JPH03203253A JP1343840A JP34384089A JPH03203253A JP H03203253 A JPH03203253 A JP H03203253A JP 1343840 A JP1343840 A JP 1343840A JP 34384089 A JP34384089 A JP 34384089A JP H03203253 A JPH03203253 A JP H03203253A
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- Japan
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- bearing
- stator
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- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 4
- 239000000969 carrier Substances 0.000 claims description 2
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67763—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
- H01L21/67769—Storage means
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Warehouses Or Storage Devices (AREA)
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
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- Supply Devices, Intensifiers, Converters, And Telemotors (AREA)
- Magnetic Bearings And Hydrostatic Bearings (AREA)
- Devices For Use In Laboratory Experiments (AREA)
- Valve Device For Special Equipments (AREA)
- Medicines Containing Material From Animals Or Micro-Organisms (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、クリーンな環境を維持し、半導体ウェハ、C
D等、汚れを嫌う製品を保管する保管庫に関するもので
ある。
D等、汚れを嫌う製品を保管する保管庫に関するもので
ある。
従来この種の保管庫としては、第2図に示すような構造
のものがあった。同図において、41は保管庫ケースで
あり、該保管庫ケース41内には軸受45より回転自在
に支持された回転@42が配置されている。回転軸42
にはその外周から所定の間隙を設けてストック棚47を
載置する複数段のキ勺すア受は台43が円周状に取り付
けられている。46はACサーボモータであり、該AC
サーボモータ46を駆動することにより、回転軸42が
回転し、同時に複数段のキ勺すア受は台43が水平方向
に回転するようになっている。保管庫ケース41の上部
に設けられた給気ダクト48にはフィルタ49が設けら
れており、給気ダクト48により点線の矢印に示すよう
に吸気された空気はフィルタ49を通って、清浄され保
管庫ケース41に導かれる。また、保管庫ケース41の
底部には空気を循環させるブロワ50が設けられており
、ブロワ50から送られる空気はフィルタ51を通って
清浄され、点線の矢印に示すように保管庫ケース41内
を循環する。
のものがあった。同図において、41は保管庫ケースで
あり、該保管庫ケース41内には軸受45より回転自在
に支持された回転@42が配置されている。回転軸42
にはその外周から所定の間隙を設けてストック棚47を
載置する複数段のキ勺すア受は台43が円周状に取り付
けられている。46はACサーボモータであり、該AC
サーボモータ46を駆動することにより、回転軸42が
回転し、同時に複数段のキ勺すア受は台43が水平方向
に回転するようになっている。保管庫ケース41の上部
に設けられた給気ダクト48にはフィルタ49が設けら
れており、給気ダクト48により点線の矢印に示すよう
に吸気された空気はフィルタ49を通って、清浄され保
管庫ケース41に導かれる。また、保管庫ケース41の
底部には空気を循環させるブロワ50が設けられており
、ブロワ50から送られる空気はフィルタ51を通って
清浄され、点線の矢印に示すように保管庫ケース41内
を循環する。
また、ウェハ等を長期間保管する場合は、表面酸化防止
のためにの窒素ガス封入機構や温度調整機構等を設ける
こともできる場合もある。
のためにの窒素ガス封入機構や温度調整機構等を設ける
こともできる場合もある。
上記のような構成の保管庫においては、例えば軸受45
が接触式の軸受であるため、該軸受45から油粒子や塵
が発生し、長時間保管するうちに被保管物が汚染すると
いう問題があった。
が接触式の軸受であるため、該軸受45から油粒子や塵
が発生し、長時間保管するうちに被保管物が汚染すると
いう問題があった。
本発明は上述の点に鑑みてなされたもので、上記問題点
を除去し、長時間保管しても半導体ウェハやCD等の被
保管物が汚染することのない保管庫を提供することにあ
る。
を除去し、長時間保管しても半導体ウェハやCD等の被
保管物が汚染することのない保管庫を提供することにあ
る。
上記課題を解決するため本発明は、保管庫ケース内に軸
受により回転自在に支持された回転軸に、キャリア又は
キャリア保存箱を載置する受台を複数段取り付け、駆動
手段により回転軸を回転させることにより、受台を水平
方向に回転させる構造の保管庫において、軸受を非接触
のスラスト磁気軸受及び非接触のラジアル磁気軸受とし
、駆動手段を主軸にロータを固定し、該ロータに対向し
てステータを配置した構造のモータを用いたことを特徴
とする。
受により回転自在に支持された回転軸に、キャリア又は
キャリア保存箱を載置する受台を複数段取り付け、駆動
手段により回転軸を回転させることにより、受台を水平
方向に回転させる構造の保管庫において、軸受を非接触
のスラスト磁気軸受及び非接触のラジアル磁気軸受とし
、駆動手段を主軸にロータを固定し、該ロータに対向し
てステータを配置した構造のモータを用いたことを特徴
とする。
また、保管庫ケース内を真空状態にする手段を設けたこ
とを特徴とする。
とを特徴とする。
保管庫を上記の如く、軸受を非接触のスラスト磁気軸受
及び非接触のラジアル磁気軸受とし、駆動手段を主軸に
ロータを固定し、該ロータに対向してステータを配置し
た構造とすることにより、軸受やモータから油粒子や塵
等が飛散することななく、被保管物を長期間クリーンの
状態に保管することが可能となる。
及び非接触のラジアル磁気軸受とし、駆動手段を主軸に
ロータを固定し、該ロータに対向してステータを配置し
た構造とすることにより、軸受やモータから油粒子や塵
等が飛散することななく、被保管物を長期間クリーンの
状態に保管することが可能となる。
−
また、保管庫ケース内を真空状態にする手段を設けるこ
とによりその作用効果はさらに向上する。
とによりその作用効果はさらに向上する。
以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。
第1図は、本発明の保管庫の構造を示す図である。同図
において、1は保管庫ケースであり、該保管庫ケース1
内には、複数段(図では3段)の受台6が固定された回
転軸8が非接触のスラスト磁気軸受2と上下ラジアル磁
気軸受3,4により回転自在に支持されている。また、
スラスト磁気軸受2の下端部には回転軸8を駆動するモ
ータ5が配置されている。
において、1は保管庫ケースであり、該保管庫ケース1
内には、複数段(図では3段)の受台6が固定された回
転軸8が非接触のスラスト磁気軸受2と上下ラジアル磁
気軸受3,4により回転自在に支持されている。また、
スラスト磁気軸受2の下端部には回転軸8を駆動するモ
ータ5が配置されている。
スラスト磁気軸受2は、保管庫ケース1に固定された支
持板9に支持された磁石10と前記回転軸8の上端に固
着された磁石11とから構成される。磁石10と磁石1
1はモの対向面が同極の磁石であり、その反発力により
回転軸8のスラスト方向を非接触で支持するようになっ
ている。な4− お、磁石10と磁石11は永久磁石でも電磁石でもいず
れであってもよい。電磁石の場合は回転軸8のスラスト
方向、即ち上下方向の変位を検出するセンサを設け、該
電磁石に供給する電流を制御する。
持板9に支持された磁石10と前記回転軸8の上端に固
着された磁石11とから構成される。磁石10と磁石1
1はモの対向面が同極の磁石であり、その反発力により
回転軸8のスラスト方向を非接触で支持するようになっ
ている。な4− お、磁石10と磁石11は永久磁石でも電磁石でもいず
れであってもよい。電磁石の場合は回転軸8のスラスト
方向、即ち上下方向の変位を検出するセンサを設け、該
電磁石に供給する電流を制御する。
上ラジアル磁気軸受3は回転軸8に固定された磁極コア
12と励磁コイル13とからなり、励磁コイル13に励
磁電流を供給することにより、磁極コア12を吸引する
磁力が発生し、回転軸8のラジアル方向を非接触で支持
する。なお、励磁コイル13は支持部材14を介して支
持板9に固定されている。
12と励磁コイル13とからなり、励磁コイル13に励
磁電流を供給することにより、磁極コア12を吸引する
磁力が発生し、回転軸8のラジアル方向を非接触で支持
する。なお、励磁コイル13は支持部材14を介して支
持板9に固定されている。
下ラジアル磁気軸受4も前記上ラジアル磁気軸受3と同
様、回転軸8に固定された磁極コア15と励磁コイル1
6とからなり、励磁コイル16に励磁電流を供給するこ
とにより、磁極コア15を吸引する磁力が発生し、回転
軸8のラジアル方向を非接触で支持する。なお、励磁コ
イル16は支持部材17を介して保管庫ケース1に取り
付けられた支持板18固定されている。
様、回転軸8に固定された磁極コア15と励磁コイル1
6とからなり、励磁コイル16に励磁電流を供給するこ
とにより、磁極コア15を吸引する磁力が発生し、回転
軸8のラジアル方向を非接触で支持する。なお、励磁コ
イル16は支持部材17を介して保管庫ケース1に取り
付けられた支持板18固定されている。
モータ5は回転軸8に固定されたロータ19ど該ロータ
19に対向した配置されたステータ20とからかり、ス
テータ20に発生する回転磁界により、ロータ19、即
ち回転軸8が回転するようになっている。また、ステー
タ20は支持部材21を介して保管庫ケース1に取り付
けられた支持板22に固定されている。
19に対向した配置されたステータ20とからかり、ス
テータ20に発生する回転磁界により、ロータ19、即
ち回転軸8が回転するようになっている。また、ステー
タ20は支持部材21を介して保管庫ケース1に取り付
けられた支持板22に固定されている。
なお、23は回転軸8上部の保管庫ケース1に対するラ
ジアル方向の変位を検出する上ラジアルセンサであり、
24は同じく回転軸8下部の保管庫ケース1に対するラ
ジアル方向の変位を検出する下ラジアルセンサである。
ジアル方向の変位を検出する上ラジアルセンサであり、
24は同じく回転軸8下部の保管庫ケース1に対するラ
ジアル方向の変位を検出する下ラジアルセンサである。
また、26及び27はそれぞれ回転軸8に固定された上
ラジアルセンサ23及び下ラジアルセンサ24のターゲ
ットである。上ラジアルセンサ23及び下ラジアルセン
サ24で回転軸8の上部及び下部の変位を検出し、励磁
コイル13及び励磁コイル16に供給する励磁電流を制
御することにより、回転軸8を非接触で支持する。これ
により、回転軸8は常に中心位置に保持され、しかも外
部の力に対して復元力を有するから、被保管物が半導体
ウェハであっても外力が加わっても破損を防止すること
ができる。
ラジアルセンサ23及び下ラジアルセンサ24のターゲ
ットである。上ラジアルセンサ23及び下ラジアルセン
サ24で回転軸8の上部及び下部の変位を検出し、励磁
コイル13及び励磁コイル16に供給する励磁電流を制
御することにより、回転軸8を非接触で支持する。これ
により、回転軸8は常に中心位置に保持され、しかも外
部の力に対して復元力を有するから、被保管物が半導体
ウェハであっても外力が加わっても破損を防止すること
ができる。
なお、30はドアであり、該ドアを開放することにより
、受台6に載置されたキャリア7等必要に応じて識別さ
れ再び取り出すことができるようになっている。また、
保管庫内が真空化している場合は、ロードロック室31
を設けることで圧力調整をする。
、受台6に載置されたキャリア7等必要に応じて識別さ
れ再び取り出すことができるようになっている。また、
保管庫内が真空化している場合は、ロードロック室31
を設けることで圧力調整をする。
上記構成の保管庫において、保管庫ケース1内を真空化
及び真空維持のため真空ポンプ(図示せず)を設け、保
管庫ケース1を真空に維持し、受台6にキャリア7を載
置することにより、長時間クリーンな状態でキャリア7
内の被保管物を保管することが可能となる。
及び真空維持のため真空ポンプ(図示せず)を設け、保
管庫ケース1を真空に維持し、受台6にキャリア7を載
置することにより、長時間クリーンな状態でキャリア7
内の被保管物を保管することが可能となる。
また、前記受台6上には内部が真空化された、キャリア
ポックを載置し、保管庫ケース1内に窒素ガス等の不活
性ガスをガス充填手段(図示せず)で封入するか、或い
は清浄な空気を清浄空気送出手段(図示せず)で送るよ
うにしても、キャ− リアボックス内の被保管物を長時間クリーンな状態に保
管できる。
ポックを載置し、保管庫ケース1内に窒素ガス等の不活
性ガスをガス充填手段(図示せず)で封入するか、或い
は清浄な空気を清浄空気送出手段(図示せず)で送るよ
うにしても、キャ− リアボックス内の被保管物を長時間クリーンな状態に保
管できる。
以上説明したように本発明によれば、軸受を非接触のス
ラスト磁気軸受及び非接触のラジアル磁気軸受とし、駆
動手段を主軸にロータを固定し、該ロータに対向してス
テータを配置した構造とすることにより、軸受やモータ
から油粒子や塵等が飛散することななく、被保管物を長
期間クリーンの状態に保管することができるという優れ
た効果が得られる。
ラスト磁気軸受及び非接触のラジアル磁気軸受とし、駆
動手段を主軸にロータを固定し、該ロータに対向してス
テータを配置した構造とすることにより、軸受やモータ
から油粒子や塵等が飛散することななく、被保管物を長
期間クリーンの状態に保管することができるという優れ
た効果が得られる。
また、保管庫ケース内を真空状態にする手段を設けるこ
とによりその作用効果はさらに向上する。
とによりその作用効果はさらに向上する。
また、保管庫ケース内に不活性ガスを充填する手段を設
けた場合は、保管庫ケースに不活性ガスを封入し、被保
管物を収納するボックスを真空化することにより、被保
管物を長期間クリーンの状態に保管することができる。
けた場合は、保管庫ケースに不活性ガスを封入し、被保
管物を収納するボックスを真空化することにより、被保
管物を長期間クリーンの状態に保管することができる。
B
Claims (3)
- (1)保管庫ケース内にスラスト軸受により回転自在い
に支持された回転軸に、キャリア又はキャリア保存箱を
載置する受台を複数段取り付け、駆動手段により前記回
転軸を回転させることにより、前記受台を水平方向に回
転させる構造の保管庫において、 前記軸受を非接触のスラスト磁気軸受及び非接触のラジ
アル磁気軸受とし、 駆動手段を前記主軸にロータを固定し、該ロータに対向
してステータを配置した構造のモータを用いたことを特
徴とする保管庫。 - (2)前記保管庫ケース内を真空状態にする手段を設け
たことを特徴とする請求項(1)記載の保管庫。 - (3)前記保管庫ケース内に不活性ガスを充填する手段
を設けたことを特徴とする請求項(1)記載の保管庫。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1343840A JPH0738407B2 (ja) | 1989-12-28 | 1989-12-28 | 保管庫 |
US07/633,855 US5226713A (en) | 1989-12-28 | 1990-12-26 | Storage vessel |
AT90125732T ATE126394T1 (de) | 1989-12-28 | 1990-12-28 | Speicherbehälter. |
EP90125732A EP0435338B1 (en) | 1989-12-28 | 1990-12-28 | Storage vessel |
DE69021531T DE69021531T2 (de) | 1989-12-28 | 1990-12-28 | Speicherbehälter. |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1343840A JPH0738407B2 (ja) | 1989-12-28 | 1989-12-28 | 保管庫 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03203253A true JPH03203253A (ja) | 1991-09-04 |
JPH0738407B2 JPH0738407B2 (ja) | 1995-04-26 |
Family
ID=18364643
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1343840A Expired - Lifetime JPH0738407B2 (ja) | 1989-12-28 | 1989-12-28 | 保管庫 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5226713A (ja) |
EP (1) | EP0435338B1 (ja) |
JP (1) | JPH0738407B2 (ja) |
AT (1) | ATE126394T1 (ja) |
DE (1) | DE69021531T2 (ja) |
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DE102014219579A1 (de) | 2013-10-22 | 2015-04-23 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Richtkoppler |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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DE19525515A1 (de) * | 1995-07-13 | 1997-01-16 | Stuertz Maschbau | Sortier- und Lagervorrichtung für plattenförmige Körper |
JPH09236123A (ja) * | 1996-02-29 | 1997-09-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気軸受装置 |
JP3672416B2 (ja) | 1997-06-27 | 2005-07-20 | 株式会社荏原製作所 | スピン処理装置 |
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US6622399B1 (en) * | 2000-03-31 | 2003-09-23 | L'air Liquide-Societe Anonyme A' Directoire Et Conseil De Sureveillance Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Apparatus and method for maintaining a dry atmosphere to prevent moisture absorption and allow demoisturization of electronic components |
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US11139308B2 (en) | 2015-12-29 | 2021-10-05 | Asm Ip Holding B.V. | Atomic layer deposition of III-V compounds to form V-NAND devices |
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