JPH07315833A - 平板状アルミナ粒子からなる粉末及びその製造方法 - Google Patents

平板状アルミナ粒子からなる粉末及びその製造方法

Info

Publication number
JPH07315833A
JPH07315833A JP6062140A JP6214094A JPH07315833A JP H07315833 A JPH07315833 A JP H07315833A JP 6062140 A JP6062140 A JP 6062140A JP 6214094 A JP6214094 A JP 6214094A JP H07315833 A JPH07315833 A JP H07315833A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
powder
particles
microns
alumina
less
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP6062140A
Other languages
English (en)
Inventor
Theresa R Thibault
アール.シボールト テレサ
Jr Edward L Glavin
エル.グラビン,ジュニア エドワード
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Saint Gobain Ceramics and Plastics Inc
Original Assignee
Saint Gobain Norton Industrial Ceramics Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Saint Gobain Norton Industrial Ceramics Corp filed Critical Saint Gobain Norton Industrial Ceramics Corp
Publication of JPH07315833A publication Critical patent/JPH07315833A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01FCOMPOUNDS OF THE METALS BERYLLIUM, MAGNESIUM, ALUMINIUM, CALCIUM, STRONTIUM, BARIUM, RADIUM, THORIUM, OR OF THE RARE-EARTH METALS
    • C01F7/00Compounds of aluminium
    • C01F7/02Aluminium oxide; Aluminium hydroxide; Aluminates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K3/00Materials not provided for elsewhere
    • C09K3/14Anti-slip materials; Abrasives
    • C09K3/1409Abrasive particles per se
    • C09K3/1418Abrasive particles per se obtained by division of a mass agglomerated by sintering
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01FCOMPOUNDS OF THE METALS BERYLLIUM, MAGNESIUM, ALUMINIUM, CALCIUM, STRONTIUM, BARIUM, RADIUM, THORIUM, OR OF THE RARE-EARTH METALS
    • C01F7/00Compounds of aluminium
    • C01F7/02Aluminium oxide; Aluminium hydroxide; Aluminates
    • C01F7/021After-treatment of oxides or hydroxides
    • C01F7/022Classification
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01FCOMPOUNDS OF THE METALS BERYLLIUM, MAGNESIUM, ALUMINIUM, CALCIUM, STRONTIUM, BARIUM, RADIUM, THORIUM, OR OF THE RARE-EARTH METALS
    • C01F7/00Compounds of aluminium
    • C01F7/02Aluminium oxide; Aluminium hydroxide; Aluminates
    • C01F7/021After-treatment of oxides or hydroxides
    • C01F7/023Grinding, deagglomeration or disintegration
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09CTREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK  ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
    • C09C1/00Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
    • C09C1/62Metallic pigments or fillers
    • C09C1/64Aluminium
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K3/00Materials not provided for elsewhere
    • C09K3/14Anti-slip materials; Abrasives
    • C09K3/1409Abrasive particles per se
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/01Particle morphology depicted by an image
    • C01P2004/03Particle morphology depicted by an image obtained by SEM
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/20Particle morphology extending in two dimensions, e.g. plate-like
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/51Particles with a specific particle size distribution
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/60Particles characterised by their size
    • C01P2004/61Micrometer sized, i.e. from 1-100 micrometer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/10Solid density

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Geology (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Compounds Of Alkaline-Earth Elements, Aluminum Or Rare-Earth Metals (AREA)
  • Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
  • Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 シリコンウェハーのラッピング等に好適な、
従来になく粒子径分布の狭い均質な平板状アルミナを提
供し、及びその製造に要する時間が極めて短く、収率が
高い製造方法を提供する。 【構成】 個々の粒子が実質的に自形の平板状アルミナ
粒子からなる粉末であって、粒子径は3〜20ミクロン
で、実質的に凝集体と微粒子を含まず、平板状アルミナ
粒子の破片の含有率は5%未満である平板状アルミナの
粉末であり、好ましくはD50/D94の比が1.4未満
で、D3 /D50の比が1.6未満であり、少なくとも9
0%の粒子が6〜12ミクロンの径を有する。製造方法
として、約10〜約30重量%の凝集体を含む平板状ア
ルミナ粉末を提供し、荒い画分と6ミクロン未満の粒子
を含む微細な画分に分級し、荒い画分を、粉末の粒子サ
イズが約6〜約12のD50に達するまで湿式で微粉砕
し、微粉末を分離・除去する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は平板状アルミナ、詳しく
は、ラッピング粉末として有用な平板状アルミナ(plate
y alumina)に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】ラッピ
ングは、一般にスラリー中に懸濁したバラバラの粒子の
形態で提供し、ラッピングする表面部分に運ばれる研磨
材を用いて片面又は両面ラッピング機で行う仕上技術で
ある。その部分はキャリヤーに支持するか又は通常は鋳
鉄性のラッピングプレートの間に支持する。
【0003】適切に実施するラッピングは4つの機能を
果たす。 1.正確で均一な厚さにする。 2.本質的に平らで平行な表面を形成する。 3.仕上操作前の例えばのこ引きや切断によって生じる
面や表面下の損傷を除去し、これらが深すぎないように
する。
【0004】4.表面仕上と表面下の損傷を最小限にし
ながら上記の機能を果たす。 ラッピングプロセスは、ラッピング面の引掻きを避ける
ように、粒子径について極めて均一な研磨材を必要とす
る。近年、この用途に平板状アルミナを用いることが一
般的になってきている。平板状アルミナは六角形タイル
に類似の粒子形状によって特徴づけられる。個々の粒子
は、最大寸法を最小寸法で割った値として定義されるア
スペクト比として少なくとも約10:1の値を有する。
粒子径は例えばCoulter Multisizerカウンターを使用し
て標準的測定法によって求める。
【0005】平板状アルミナは、例えばアルコア社(P-2
5 アルミナとして販売)、ロンザ社(MNYアルミナとして
販売)等においてアルミナ3水物の管理された焼成によ
って工業的に生産される。生成物は一般に「焼成アルミ
ナ」と称され、生成時には通常かなりの量(場合により
粉末の100重量%まで)の凝集体を含み、板状粒子が
互いに強く融合している。このような焼成時の板状アル
ミナをラッピング粉末として使用すると、凝集体が表面
を引掻く及び/又はかなりの表面損傷を生じるため、高
品質の表面を形成するには極めて不適切なことは当然で
ある。したがって、ラッピング粉末の製造業者は購入し
た平板状アルミナを非金属媒体を用いて長時間微粉砕に
供し、凝集を破壊する。この分野の基本特許として米国
特許第3121623 号があり、普遍的になった分離技術を記
している。この微粉砕プロセスは次いで水力分級に供
し、最終的なラッピング粉末を得る。
【0006】本発明の目的とする平板状アルミナはシリ
コンウェハーのようなラッピングに費用のかかる材料を
主に対象とする。周知のように、ラッピングはマイクロ
チップを生産する基材の生産の基本的工程であり、ラッ
ピングしたウェハーには、生産したチップが有用である
ためには引掻き傷や表面下の損傷が無いことが必要であ
る。引掻き傷は表面の長い溝状の傷と定義され、顕微鏡
によって、又は特に深い場合は肉眼でも比較的容易に検
出される。一般に表面のエッチング後に肉眼で見える引
掻き傷と定義される。表面下の損傷は検出が難しく、点
蝕又は他の表面クレーターを含むことがある。通常はラ
ッピングした表面をエッチングするまでは検出できな
い。研磨の目的は損傷の深さの下まで表面物質を除去す
ることによって表面下の損傷を除去することである。こ
こで研磨は作業時間が長く、その目的はさらに表面下の
損傷を生じることなく均一で平らな面を残すことである
から、最小限に抑える必要がある。また、一時期には一
表面のみを研磨するため、反対の面との平行性が減った
面を残す可能性がある。
【0007】米国特許第3121623 号に記載の微粉砕操作
は完了までに数時間(典型的に5〜8時間)を要し、本
質的に完全に分かれているが壊れた板状粒子がかなりの
量で存在する生成物が得られる。これらはラッピングに
使用したときに表面下の損傷につながることがあり、最
良の品質の平板状アルミナによってその発生を最小限に
しようとする。
【0008】表面下の損傷のもう1つの原因は微粒子の
存在であり、板状粒子を平坦でないように1つの端が上
がった状態にする傾向がある。このことはラッピング表
面に引掻きを生じさせることがある。上記の特許に記載
の水力分級は微粉砕プロセスの間に生成した微粒子の全
てではないがその多くを除去する。上記のかなりの努力
の結果として、最良品質のラッピング粉末中の微粒子の
量は少なくなる。壊れた板状粒子は制御が容易ではな
く、殆ど工業的プロセスにおける不可避的事象と受け止
められている。
【0009】典型的な工業プロセスにおいて、焼成後の
凝集した平板状アルミナは Sweco粉砕機中で所望のD50
径が得られるまで5〜8時間湿式粉砕され、次いで混合
物を繰り返しのデカントと沈降操作に供し、微粒子を取
り出す。得られたスラリーを次いで乾燥し、乾燥中に生
成した全ての弱い凝集を壊すためにピンミル処理に供
し、分級し、包装し、出荷する。操作に約20〜25時
間を要し、販売可能な収率は理論値の約55%になる。
【0010】このような実情は経済性の面からはあまり
好ましくないことは明らかである。収率が低く、販売可
能な製品品質を達成するに要する時間が長過ぎる。
【0011】
【課題を解決するための手段及び作用効果】本発明はプ
ロセス時間が極めて短く、収率が大きく向上した方法を
用いて、従来得られていた品質よりも優れた品質の平板
状アルミナラッピング粉末を得る方法を提供する。ま
た、新規な生成物はこれまでに入手可能な全ての平板状
アルミナラッピング粉末よりも均質であり、実質的に自
形の板状粒子からなり、シリコンウェハーのラッピング
に使用した場合、これまで知られていないレベルで引掻
き傷や表面下の損傷の発生が少ない。
【0012】本発明は、個々の平板状アルミナ粒子が3
〜20ミクロンの直径を有し、実質的に凝集体、微粒子
(fines) 、平板状アルミナ粒子の破片(断片)でない粒
子からなる平板状アルミナラッピング粉末を提供する。
本発明の概念において、走査型電子顕微鏡で少なくとも
100個の平板状アルミナ粒子を含む視野の中に凝集体
が見られず、全ての破片粒子が5%未満であれば、ラッ
ピング粉末には凝集体や破片が実質的に存在しないと考
えるものと理解すべきである。微粒子がないことは、本
発明においてその表現又は同等な表現が用いられた場
合、中央値のまわりの粒子径分布のつまり方(広狭)に
関係し、粒子径の百分位数の比について表現される。重
要な百分位数はD3 、D50、D94である。1番目は全母
集団の体積についての3の百分位数の粒子径であり、釣
鐘状曲線分布の大径粒子のすそ野(tail)の長さを表す。
2番目は百分位数が50の粒子径であり、それよりも大
きい粒子の体積と小さい粒子の体積が同じであることを
意味する。3番目の値は小径粒子のすそ野の長さを表
し、百分位数が体積で94の粒子径を示す。具体的に
は、百分位数3の粒子径に対する百分位数50の粒子径
の比が1.60未満であり、百分位数50の粒子径に対
する百分位数94の粒子径の比が1.45以下であれ
ば、ラッピング粉末は実質的に微粒子を含まないとみな
す。
【0013】また、本発明の生成物は従来技術での生成
物よりもかなり低い嵩密度を特徴とする。本発明の粉末
は、板状粒子間の隙間を満たす(このため嵩密度の測定
値を高める)微粒子の割合が少ないため、9ミクロンの
50を有する粉末の嵩密度は約1.35g/ccである
(Seshin嵩密度メーター、Model No. IH-2000 で測
定)。同じ中央値の粒子径を有する従来技術の良好な品
質の粉末の典型的な嵩密度は、対照的に約1.53g/
ccである。
【0014】また、本発明は平板状アルミナラッピング
粉末の製造方法を提供し、次の工程を含んでなる: a.約10〜約30重量%の凝集体を含む平板状アルミ
ナ生成物を提供し、 b.平板状アルミナ生成物を荒い画分と6ミクロン未満
の粒子を含む微細な画分に分級し、 c.粉末の粒子径が約7〜約15のD50に達するまで荒
い画分を湿式で微粉砕し、 d.3ミクロン未満の粒子径、好ましくは約6ミクロン
未満の粒子径の画分を分離・除去する。
【0015】出発物質の平板状アルミナ生成物は任意の
便利な方法で得ることができる。平板状アルミナの通常
の商業的供給(典型的に約90%の凝集体を含み、約5
0ミクロンのD50を有する)の使用を可能にする便利な
方法は、平板状アルミナを軽い乾式粉砕(時にはキスミ
リングと言われる)に供することである。この操作は顕
著な割合の平板状アルミナ粒子を破片にまで壊すことな
く凝集体の部分的破解を達成し、通常は約9ミクロンの
50が達成されるまで続ける。
【0016】分級操作は、平板状アルミナ原料に含まれ
る又は凝集体の含有率を下げるための軽い粉砕の際に発
生した全ての微粒子を除去する。このことは本発明の方
法の基本的な特徴であり、理由は微粒子の存在が以降の
湿式粉砕操作において凝集体の除去を達成するに必要な
時間を非常に長くさせ、粉末中の破片の高い割合に帰着
することが見出されているからである。微粒子はクッシ
ョンのように作用し、凝集体の破解における衝撃の粉砕
効率を下げるように思われる。したがって、これらの微
粒子の除去は粉砕を効率的にし、必要な粉砕時間を短く
し、破片の発生を低下する。
【0017】この段階における微粒子の分離の別な長所
は、分離した生成物が多くの用途に販売できることであ
る。微粒子の分離を最後のスクリーニングまで残した場
合、研磨を容易にするために使用する又は得られる製品
のラッピング特性を改良するための全ての添加剤によっ
て汚染される。得られるラッピング粉末をシリコンウェ
ハーのラッピングに使おうとする場合、例えばケイ酸ナ
トリウムを生成物に湿式粉砕の段階で添加することは通
例である。このケイ酸塩の添加は粒子の表面にシリカの
被膜を堆積させ、通常の研磨剤用途又は他のセラミック
用途には使用できなくさせることがある。
【0018】粉砕の後に除去する微粒子は湿式粉砕の間
に生成した微粒子である。上記のように、このことは、
上側面と下側面の平板状アルミナの最適ラッピング方向
がラッピングプレート及びラッピングする表面に本質的
に平行であると考えることを可能にするといったよう
に、ラッピング性能を向上させる。軽い乾式粉砕(キス
ミリング)による市販の材料からの凝集体含有率の低い
平板状アルミナの製造は、粉末を充填して適切な衝撃に
供するボールミル又は他の任意の便利な装置によって行
うことができる。このような装置は従来技術でよく知ら
れており、個々の平板状アルミナ粒子の破壊を生じさせ
ずに凝集体の量が、粉砕機への全充填量を基準に約30
重量%未満、好ましくは約20重量%未満の量まで低下
するのであればその設計は重要ではない。キスミリング
の終点は、しばしばプロセスに使用すべき生成物の所望
のD50(通常は約9ミクロン)によって定める。
【0019】分級操作は任意の適切な装置で行うことが
できるが、この段階では乾燥状態であるため、任意の適
切な設計の空気分級機を用いてキスミリングした生成物
から微粒子を除去することが一般に好都合である。この
段階で3ミクロン未満の径を有する全ての粒子を基本的
に除去する。特に好ましい態様において、6ミクロン未
満の径を有する全ての粒子を基本的に除去する。この操
作において使用可能な典型的な空気分級機にはProgress
ive Industries社(Sylacauga, Alabama)が販売の MS5
機、Georgia Marble社(Tate, Georgia) が販売の G25機
がある。分級機の内面は例えばポリウレタンコーティン
グで被覆し、生成物の金属汚染を防ぐようにすることが
一般に望ましい。
【0020】湿式粉砕はセラミック媒体を用いたSweco
粉砕機で便利に行う。終点は粉末の望ましいD50(又は
個数平均粒子径)によって定める。通常は約6〜約12
ミクロンのD50であり、より好ましくは約7〜約10ミ
クロンである。このレベルに達する時間は充填粉末の性
質に依存する。ここで、凝集体が少ない原料を使用する
ため(キスミリング又は同等な装置のため)、及び微粒
子の除去のため、湿式粉砕工程は微粒子を除去しなかっ
たときに要する時間よりも約10%以下まで短くするこ
とができる。
【0021】湿式粉砕の際には、ケイ酸ナトリウムのよ
うな可溶性ケイ酸塩を少量添加することが好都合であ
る。これは粉砕を容易にする作用をし、また、例えばシ
リコンウェハーをラッピングするために使用するラッピ
ング粉末製品には有益である。その量はアルミナ粒子の
表面にコーティングを提供するに充分な量であり、この
ために必要な量はごく少量である。例えば、固形分50
%の平板状アルミナのスラリー約200ガロンの充填
は、33%ケイ酸ナトリウム溶液の約11ポンドを必要
とする。なお、ケイ酸塩の殆どは溶液中に存在し、粉末
と分離したときに水と一緒に排出されると考えられる。
【0022】粉砕の後、好ましくは平板状アルミナのス
ラリーを粉砕機からデカント槽に移し、重い粒子を底に
沈降させ、微粒子は水中に懸濁して留まる。この他の分
離法も当然使用可能であるが、沈降は所望の結果を得る
において便利で、安価で、効率的である。一般にこの時
点でスラリーを篩分けし、全ての残りの凝集体と粉砕の
際に粉砕媒体から壊れ出た全てのかけらを除去すること
が好都合である。この操作は、粉砕したスラリーを最初
に沈積させる(deposite)デカント槽と以降の沈降(settl
ing)槽との間で行うことができる。沈降プロセスを促進
させるために沈降槽にミョウバンのような凝集剤を添加
することがしばしば好ましい。その量は通常pHを約6
以下に下げる量で足りる。水の層をデカントして水を除
去した後、好ましくは残存物を処理槽に移し、その中で
ケイ酸ナトリウムを添加して前の沈降槽での沈降の際に
ミョウバンによって除かれたケイ酸塩に再度置き換え、
約9のレベルにpHを戻す。
【0023】本発明の方法の好ましい態様において、固
形分約70%のスラリーを処理槽から取り出し、乾燥す
る。乾燥は任意の適切な方法で行うことができ、例えば
スプレードライ、空気ジェット乾燥、床を通過する高温
空気の循環、炉の中にスラリーのトレーを単に数時間入
れる等がある。乾燥によって弱い凝集が生成した場合
(例、炉の中での乾燥)、これらは最終的な篩分けの前
に壊しておく必要がある。この操作は任意の簡便な仕方
で行うことができるが、通常の手段はピンミルの使用を
含む。適切な機械がEntoleter and Alpine社で製作され
ている。
【0024】次いで凝集体を壊した粉末を分級して(好
ましくは気流分級機を使用)所望の粒子径範囲とする。
同時に微粒子画分を除き、最終的な生成物が非常に狭い
粒子径分布、即ち、典型的に約90%の粒子が約6〜1
2ミクロンの粒子径を有し、実質的に破片が存在しない
ようにする。多数の市販の製品の粒子径分布測定より、
この狭い粒子径分布が如何に並外れているかが分かる。
このことは以降の表に示してあり、本発明による本出願
人の製品Norton-9、12、15を競合他社の類似グレードの
ラッピング粉末A、B、Cと比較してある。重要な要点
は微粒子の含有率である。大きい粒子径で微粒子のカッ
トを設定することによって、大きい中央値粒子径におい
て比較的微粒子が少ない生成物を得ることはかなり容易
である。そのような粉末は良好な挙動もするが、微細な
中央値径の生成物と同じ仕上を与えない。しかしなが
ら、微細な目標中央値粒子径における微粒子の除去は、
従来の生成物の典型的な釣鐘型粒子径分布の幅のために
収率を著しく下げずに行うことが難しい。ここで、微粒
子のすそ野(尾)の長さを示す本発明の生成物のD50
94の比は従来得られていたものよりかなり小さいこと
が理解されるであろう(収率を上げながら!)。この生
成物中のかなり短い微粒子のすそ野は、小さい中央値粒
子径であっても基材損傷の無さについて高性能の可能性
を提供する。
【0025】 表1 比 NORTON A B C 9 12 15 9 12 15 9 12 15 9 12 15 ──────────────────────────────────── D3 /D50 1.57 1.51 1.48 2.00 2.02 1.95 1.61 1.74 1.65 - 1.75 - D50/D94 1.38 1.36 1.29 1.62 1.66 1.57 1.74 1.61 1.64 - 1.54 - ────────────────────────────────────
【0026】数値9、12、15は生成物の中央値粒子
径の増加を示す。各々の競合他社のこれらのグレードの
定義は同じではないが、本発明の生成物については、中
央値粒子径が大きくなると粒子径分布が狭くなる傾向が
見られる。測定は上記のコールターカウンターで行い、
他社品Aのみは製品カタログのデータである。従来技術
での方法と異なり、本発明の方法における有用なラッピ
ング粉末の収率は75%と高く、製品の必要粒子径規格
によってはそれ以上である。
【0027】次に本発明を例によって説明するが本発明
の範囲を限定するものではない。
【0028】
【実施例】例1 Lonza AGの MNY平板状アルミナ(凝集体含有率約20重
量%、D50は約9ミクロン)を軽く粉砕し、次いで気流
分級機(Progressive Industries MS5)で分級して粒子径
が3ミクロン以下の粒子を実質的に全て篩分けした。次
いで荒い画分の1100ポンドを、約200ガロンの水
と11ポンドの33重量%ケイ酸ナトリウム(SiO2
対Naが約3.2:1)を含むSweco 粉砕機に充填し
た。次いでα−アルミナ媒体を用いて充填物を約25分
間湿式微粉砕し、その時点でD50は約9ミクロンであっ
た。(微粒子の除去はキスミリングした原料の残りの画
分のD50を高い値にする。) 次いでSweco 粉砕機からスラリーを5%固形分のスラリ
ーとして取り出してデカント槽に入れ、4時間沈降させ
た。微粉砕の間に生じた微粒子の少なくとも一部を含む
水の層をデカントし、残りを325メッシュの篩に通し
て全ての残存凝集体及び微粉砕の間に媒体から壊れ出た
かけらを取り出し、1000ガロンの水を含む沈降槽に
入れた。ミョウバンを添加してスラリーのpHを約5.
6に調節し、スラリーを約6時間静置した。この凝集の
促進によって平板状アルミナ粒子は底に沈んだ。水の層
を除去し、残存スラリーを水を含む200ガロンの処理
槽に投入し、その中でケイ酸ナトリウムを添加してpH
を約9に調節した。これにより前の槽でミョウバンを含
む溶液中で除去されたケイ酸ナトリウムを置き換えた。
この槽にて6時間経過後、固形分70%のスラリーを取
り出して皿に入れ、実質的に全ての水が除去されるまで
強制通風炉の中に配置した。
【0029】次いで乾燥した粉末を Entoleterピンミル
に入れ、弱い凝集体を壊した。次いで得られた粉末を気
流分級機(Progressive Industries MS5)で分級し、6ミ
クロン未満の粒子径の粒子を全て除去した。得られた生
成物の量は、出発原料として使用した軽い粉砕の平板状
アルミナの量を基準に約80%の理論収率を示した。残
りの約10%は別な用途があり、わずか10%のみが使
用不能であった。シリコンウェハーのラッピングに使用
した場合、この粉末は実質的に引掻きや表面下の損傷を
発生させなかった。操作型電子顕微鏡での像を図2に示
す。壊れた平板状粒子は実質的に見られないことが分か
る。
【0030】比較として、湿式微粉砕の前に分級をしな
かったことを除いて実質的に同じ方法で製造した生成物
は同じ粒子径に達するのに5〜8時間を要し、約45%
の販売不能生成物を生じた(同じ基準で計算した理論収
率に基づく)。シリコンウェハーのラッピングの使用に
おいて、従来技術の生成物は実質的に引掻き傷が無かっ
たが、平板状粒子の破片の存在の結果として若干の表面
下の損傷を発生させる傾向が見られた。操作型電子顕微
鏡での像を図1に示す。本発明による粉末の粒子は、殆
どが壊れていない、自形の、非常に均一な径の平板状ア
ルミナ粒子である。Coulter 社のMultisize AccuComp(C
oulter社の商標)を用いて測定した粒子径分布を図4に
示す。図1に示した従来技術における優れた製品の、同
じ装置で測定した粒子径分布を図3Aに示す。
【0031】D50で区分した種々製品のラッピング性能
を測定した。本発明の生成物を上記の従来技術で得た高
品質の市販品と比較し、比較はウェハーの表面下の損傷
を除くために(引掻き傷も全く見られない)研磨しなけ
ればならなかった深さに基づく。
【0032】表2 ─────────────────────── D50 本発明 従来技術 ─────────────────────── 10.5 14/15 18/19 8.9 11/12 14/15 8.0 11 13/14 7.1 8 11/12 6.6 9/10 10 ───────────────────────
【0033】この実施において、3リットルの脱イオン
水と3.5%の HTSビヒクル(分散剤)中で作成した粉
末150g/リットルを含むスラリーを添加した。使用
したラッピング機は直径455mmの平らな鋳鉄プレー
トを有するPW AC500ラッピング機であった。ホイールを
67rpmで動かし、中央駆動装置を30rpmで改定
させた。ラッピング用混合物をラッピングする面に30
ml/分の速度で供給した。平面度を確かめるためにプ
レートをチェックし(13ミクロン未満の凹の平面度が
許される)、10分間スラリーの流れと共に形直しリン
グを走らせた。
【0034】厚さの違いが10ミクロン未満のラッピン
グする複数のウェハーを選んだ。各々のエッジを研磨し
(n100の向き)、直径は100mmであった。3種
の負荷で5枚のウェハーの各々を200g/cm2 でラ
ッピングし、少なくとも75ミクロンの厚さを除去し
た。次いで各々のウェハーを45%水酸化カリウムを含
む容器中で5分間エッチングし、約25ミクロンの厚さ
を除去した。エッチングしたウェハーを次いで冷水中で
急冷し、乾燥し、強い蛍光を当てて検査した。エッチン
グ後の全ての引掻き傷は不合格の根拠とした。
【0035】表面下の損傷は、SUBA 500パッドとpH1
0.5の水酸化カリウム改質希釈コロイドシリカ(Nalco
2530)を用いて改良Strasboughみがき皿で各々のウェハ
ーを個々に研磨して測定した。570g/cm2 の研磨
圧力を用いた。ウェハーは洗浄して研磨し、次いで最後
のピットが除去されるまで Namarsk装備の顕微鏡を用い
て観察した。研磨は最後のピット除去のポイントを記録
するために0.5ミクロン以内にコントロールした。表
面下の損傷は、表面下の損傷の除去するために除かなけ
ればならない厚さ(ミクロン単位)の範囲として測定し
た。選択のラッピング材料としては最大で16ミクロン
が可能であった。
【0036】このことは、本発明の生成物が短時間に高
収率で生産されながも、従来技術の製品よりも品質が優
れることを明確に示す。図1と図2はそれぞれ従来技
術、本発明のラッピング粉末の走査型電子顕微鏡像であ
る。図1から、粉末は多数の均一な粒子径の平板状粒子
を含むが、かなりの数の比較的微細な粒子と平板状粒子
の破片もまた含むことが認められるであろう。図2の粉
末は実質的に微粒子や破片が無く、非常に均一な粒子径
の自形の平板状粒子であることが観察される。
【0037】図3のA、B、Cは従来の方法で得られた
典型的な高品質品の粒子径分布のグラフである。図3の
A、B、Cのグラフの粉末は図1の顕微鏡像の粉末、前
記の表1の他社品A−15、B−15にそれぞれ対応す
る。図4は本発明による平板状アルミナのラッピング粉
末の典型的な粒子径分布を示す。これらのデータはMult
isizer AccuComp コールターカウンターを用いて得た。
【0038】本発明のラッピング粉末の用途は、ミクロ
電子工業品のエッチングと研磨の前のシリコンウェハー
のラッピング以外にもある。これらは他のセラミックや
光学望遠鏡のガラス表面のラッピングにも使用可能であ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来技術の平板状アルミナのラッピング粉末に
おける最も良質の粉末の図面に代わる粒子構造を示す走
査型電子顕微鏡像である。
【図2】本発明の生成物の粉末の図面に代わる粒子構造
を示す走査型電子顕微鏡像である。
【図3】従来技術の平板状アルミナのラッピング粉末の
粒子径分布を示すグラフである。
【図4】本発明の平板状アルミナのラッピング粉末の典
型的な粒子径分布を示すグラフである。
フロントページの続き (72)発明者 エドワード エル.グラビン,ジュニア アメリカ合衆国,マサチューセッツ 01522,ジェファーソン,ヒーサー サー クル 21

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 個々の粒子が実質的に自形の平板状アル
    ミナ粒子からなる粉末であって、粒子径は3〜20ミク
    ロンで、実質的に凝集体と微粒子(fines) を含まず、平
    板状アルミナ粒子の破片の含有率は5%未満である平板
    状アルミナの粉末。
  2. 【請求項2】 D50/D94の比が1.4未満である請求
    項1に記載の平板状アルミナ粉末。
  3. 【請求項3】 D3 /D50の比が1.6未満である請求
    項2に記載の平板状アルミナ粉末。
  4. 【請求項4】 少なくとも90%の粒子が6〜12ミク
    ロンの径を有する請求項1に記載の平板状アルミナ粉
    末。
  5. 【請求項5】 D50が約9ミクロンであり、12ミクロ
    ンより大きい粒子を実質的に含まず、嵩密度が1.35
    g/cc未満である平板状アルミナ。
  6. 【請求項6】 個々の粒子が実質的に自形の平板状アル
    ミナ粒子からなる粉末であって、6〜12ミクロンのD
    50を有し、D3 /D50は1.6未満でD50/D94は1.
    4未満であり、実質的に微粒子と凝集体を含まず、平板
    状アルミナ粒子の破片の含有率は5%未満である平板状
    アルミナの粉末。
  7. 【請求項7】 次の工程を含んでなる平板状アルミナラ
    ッピング粉末の製造方法: a.約10〜約30重量%の凝集体を含む平板状アルミ
    ナ粉末を提供し、 b.平板状アルミナ生成物を荒い画分と6ミクロン未満
    の粒子を含む微細な画分に分級し、 c.荒い画分を、粉末の粒子サイズが約6〜約12ミク
    ロンのD50に達するまで湿式で微粉砕し、 d.3ミクロン未満の粒子径、好ましくは約6ミクロン
    未満の粒子径の画分を分離・除去する。
  8. 【請求項8】 凝集体を含む平板状アルミナ粉末を、焼
    成して得た平板状アルミナ生成物を軽い乾式粉砕によっ
    て所望の含有率まで凝集体を低下させて得る請求項7に
    記載の方法。
  9. 【請求項9】 湿式微粉砕操作の後に6ミクロン未満の
    粒子を除去する請求項7に記載の方法。
  10. 【請求項10】 湿式微粉砕操作の後に、湿式微粉砕操
    作から取り出したアルミナの水スラリーを沈降させて水
    の層とスラリーの層を形成し、水の層と共に微粒子画分
    を除去する操作によって少なくとも一部の微粒子を分離
    する請求項7に記載の方法。
  11. 【請求項11】 湿式微粉砕操作の後に、微粉砕したス
    ラリーを分離し、乾燥し、乾燥の間に生成した全ての弱
    い凝集体を軽く粉砕して壊した後に、気流分級を行う請
    求項10に記載の方法。
JP6062140A 1993-03-08 1994-03-08 平板状アルミナ粒子からなる粉末及びその製造方法 Pending JPH07315833A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US028079 1993-03-08
US08/028,079 US5277702A (en) 1993-03-08 1993-03-08 Plately alumina

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH07315833A true JPH07315833A (ja) 1995-12-05

Family

ID=21841457

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6062140A Pending JPH07315833A (ja) 1993-03-08 1994-03-08 平板状アルミナ粒子からなる粉末及びその製造方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US5277702A (ja)
JP (1) JPH07315833A (ja)
KR (1) KR100278251B1 (ja)
CN (1) CN1092381A (ja)
DE (1) DE4407086C2 (ja)
MY (1) MY110409A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004155630A (ja) * 2002-11-08 2004-06-03 Showa Denko Kk アルミナ粒子及びその製造方法
JP2012512048A (ja) * 2008-12-17 2012-05-31 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 傾斜側壁を備える成形研磨粒子

Families Citing this family (53)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5587010A (en) * 1991-07-09 1996-12-24 Agency Of Industrial Science And Technology, Ministry Of International Trade And Industry Process for producing fine flaky alumina particles and alumina-based plastic material
US5403795A (en) * 1992-04-23 1995-04-04 Mitsubishi Materials Corporation Platelet α-Al2 O3 based ceramic composite
HU215748B (hu) * 1993-07-27 1999-02-01 Sumitomo Chemical Co. Alumínium-oxid kompozíció, öntött alumínium-oxid termék, alumínium-oxid kerámia, eljárás a kerámia előállítására és alumínium-oxid részecskék alkalmazása oxidkerámiákhoz
JP3416855B2 (ja) * 1994-04-15 2003-06-16 株式会社フジミインコーポレーテッド 研磨用組成物および研磨方法
AU699077B2 (en) * 1995-02-21 1998-11-19 Sumitomo Chemical Company, Limited Alpha-alumina and method for producing the same
US5964953A (en) * 1998-05-26 1999-10-12 Memc Electronics Materials, Inc. Post-etching alkaline treatment process
US20080141594A1 (en) * 2001-09-28 2008-06-19 Mikio Kishimoto Non-magnetic plate-form particles, method for producing the same, and abrasive, abrasive member and abrasive liquid comprising the same
US7560433B2 (en) * 2001-12-21 2009-07-14 Biotempt B.V. Treatment of multiple sclerosis (MS)
US7494728B2 (en) * 2002-04-25 2009-02-24 Hitachi Maxell, Ltd. Magnetic tape and magnetic tape cartridge
AU2003900030A0 (en) * 2003-01-07 2003-01-23 Advanced Nano Technologies Pty Ltd Process for the production of ultrafine plate-like alumina particles
US20060104895A1 (en) * 2004-11-18 2006-05-18 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Transitional alumina particulate materials having controlled morphology and processing for forming same
KR100679611B1 (ko) * 2005-07-20 2007-02-08 주식회사 코델 판상 알파알루미나의 제조방법
CN100378002C (zh) * 2006-01-13 2008-04-02 中国科学院上海硅酸盐研究所 板状氧化铝颗粒的制备方法
US8123828B2 (en) * 2007-12-27 2012-02-28 3M Innovative Properties Company Method of making abrasive shards, shaped abrasive particles with an opening, or dish-shaped abrasive particles
EP2658680B1 (en) 2010-12-31 2020-12-09 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Abrasive articles comprising abrasive particles having particular shapes and methods of forming such articles
EP2726248B1 (en) 2011-06-30 2019-06-19 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Liquid phase sintered silicon carbide abrasive particles
US8986409B2 (en) 2011-06-30 2015-03-24 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Abrasive articles including abrasive particles of silicon nitride
BR112014007089A2 (pt) 2011-09-26 2017-03-28 Saint-Gobain Ceram & Plastics Inc artigos abrasivos incluindo materiais de partículas abrasivas, abrasivos revestidos usando os materiais de partículas abrasivas e os métodos de formação
JP6033886B2 (ja) 2011-12-30 2016-11-30 サン−ゴバン セラミックス アンド プラスティクス,インコーポレイティド 成形研磨粒子および同粒子を形成する方法
JP5903502B2 (ja) 2011-12-30 2016-04-13 サン−ゴバン セラミックス アンド プラスティクス,インコーポレイティド 成形研磨粒子を備える粒子材料
RU2014130167A (ru) 2011-12-30 2016-02-27 Сэнт-Гобэйн Керамикс Энд Пластикс Инк. Получение формованных абразивных частиц
US8840696B2 (en) 2012-01-10 2014-09-23 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Abrasive particles having particular shapes and methods of forming such particles
RU2602581C2 (ru) 2012-01-10 2016-11-20 Сэнт - Гобэйн Керамикс Энд Пластик,Инк. Абразивные частицы, имеющие сложные формы, и способы их формования
WO2013149209A1 (en) 2012-03-30 2013-10-03 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Abrasive products having fibrillated fibers
KR101813466B1 (ko) 2012-05-23 2017-12-29 생-고뱅 세라믹스 앤드 플라스틱스, 인코포레이티드 형상화 연마입자들 및 이의 형성방법
KR20150023034A (ko) 2012-06-29 2015-03-04 생-고뱅 세라믹스 앤드 플라스틱스, 인코포레이티드 특정 형상을 가지는 연마입자들 및 이러한 입자들 형성방법
KR101736085B1 (ko) 2012-10-15 2017-05-16 생-고뱅 어브레이시브즈, 인코포레이티드 특정한 형태들을 가진 연마 입자들 및 이러한 입자들을 형성하는 방법들
US9074119B2 (en) 2012-12-31 2015-07-07 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Particulate materials and methods of forming same
MX2015013831A (es) 2013-03-29 2016-03-01 Saint Gobain Abrasives Inc Particulas abrasivas con formas particulares y metodos para elaborar las particulas.
TW201502263A (zh) 2013-06-28 2015-01-16 Saint Gobain Ceramics 包含成形研磨粒子之研磨物品
JP2016538149A (ja) 2013-09-30 2016-12-08 サン−ゴバン セラミックス アンド プラスティクス,インコーポレイティド 形状化研磨粒子及び形状化研磨粒子を形成する方法
WO2015102992A1 (en) 2013-12-31 2015-07-09 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Abrasive article including shaped abrasive particles
US9771507B2 (en) 2014-01-31 2017-09-26 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Shaped abrasive particle including dopant material and method of forming same
CA2945493C (en) 2014-04-14 2020-08-04 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Abrasive article including shaped abrasive particles
CN106457522B (zh) 2014-04-14 2020-03-24 圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司 包括成形磨粒的研磨制品
CN104017497B (zh) * 2014-05-07 2015-10-21 德米特(苏州)电子环保材料有限公司 一种钻石微粉蓝宝石抛光液的制备方法
US9902045B2 (en) 2014-05-30 2018-02-27 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Method of using an abrasive article including shaped abrasive particles
US9707529B2 (en) 2014-12-23 2017-07-18 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Composite shaped abrasive particles and method of forming same
US9914864B2 (en) 2014-12-23 2018-03-13 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Shaped abrasive particles and method of forming same
US9676981B2 (en) 2014-12-24 2017-06-13 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Shaped abrasive particle fractions and method of forming same
WO2016161157A1 (en) 2015-03-31 2016-10-06 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Fixed abrasive articles and methods of forming same
TWI634200B (zh) 2015-03-31 2018-09-01 聖高拜磨料有限公司 固定磨料物品及其形成方法
CA3118239A1 (en) 2015-06-11 2016-12-15 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Abrasive article including shaped abrasive particles
KR102313436B1 (ko) 2016-05-10 2021-10-19 생-고뱅 세라믹스 앤드 플라스틱스, 인코포레이티드 연마 입자들 및 그 형성 방법
SI3455321T1 (sl) 2016-05-10 2022-10-28 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Metode oblikovanja abrazivnih delcev
US11230653B2 (en) 2016-09-29 2022-01-25 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Fixed abrasive articles and methods of forming same
US10759024B2 (en) 2017-01-31 2020-09-01 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Abrasive article including shaped abrasive particles
US10563105B2 (en) 2017-01-31 2020-02-18 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Abrasive article including shaped abrasive particles
US10865148B2 (en) 2017-06-21 2020-12-15 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Particulate materials and methods of forming same
CN107529518B (zh) * 2017-10-13 2019-05-31 浙江爱科新材料有限公司 一种超细氧化铝粉体的制备方法
EP3833721A4 (en) * 2018-08-10 2022-08-24 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. COMPOSITION COMPRISING A PLURALITY OF ABRASIVE PARTICLES AND METHOD OF USE
DE102018215694A1 (de) * 2018-09-14 2020-03-19 Robert Bosch Gmbh Vergussmasse, elektrisch isoliertes elektrisches oder elektronisches Bauteil und Verfahren zu dessen elektrischer Isolierung
WO2021133901A1 (en) 2019-12-27 2021-07-01 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Abrasive articles and methods of forming same

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3121623A (en) * 1961-03-17 1964-02-18 Nesin Asher Method of making crystalline alumina lapping powder
DD151566A3 (de) * 1980-04-30 1981-10-28 Karl Hoeffl Verfahren zum herstellen einer poliertonerde aus aluminiumhydroxiden
DE3212297C2 (de) * 1982-03-29 1984-12-13 Schweizerische Aluminium Ag, Chippis Verfahren zur Herstellung grobkristalliner Tonerde
US4657754A (en) * 1985-11-21 1987-04-14 Norton Company Aluminum oxide powders and process
US4820498A (en) * 1986-09-16 1989-04-11 Lanxide Technology Company, Lp Method for producing substantially pure alumina material
WO1990003838A1 (en) * 1988-10-13 1990-04-19 Ici Australia Operations Proprietary Limited Ceramic powders
US4952389A (en) * 1989-09-15 1990-08-28 Norton Company Alumina particles
JPH06104816B2 (ja) * 1990-02-09 1994-12-21 日本研磨材工業株式会社 焼結アルミナ砥粒及びその製造方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004155630A (ja) * 2002-11-08 2004-06-03 Showa Denko Kk アルミナ粒子及びその製造方法
JP2012512048A (ja) * 2008-12-17 2012-05-31 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 傾斜側壁を備える成形研磨粒子

Also Published As

Publication number Publication date
US5277702A (en) 1994-01-11
DE4407086A1 (de) 1994-09-15
CN1092381A (zh) 1994-09-21
MY110409A (en) 1998-04-30
DE4407086C2 (de) 1998-08-27
KR100278251B1 (ko) 2001-01-15
KR940021421A (ko) 1994-10-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH07315833A (ja) 平板状アルミナ粒子からなる粉末及びその製造方法
CN1129554C (zh) 氧化铈浆液及其制备方法
KR100543781B1 (ko) 세륨계 연마재 슬러리 및 세륨계 연마재 슬러리의 제조방법
JP2006186381A (ja) Cmp生成物
US3121623A (en) Method of making crystalline alumina lapping powder
JP3463999B1 (ja) セリウム系研摩材の製造方法
CN1142989C (zh) 用于研磨的无机氧化物颗粒淤浆及调节所述颗粒的磨蚀性的方法
JP2002265931A (ja) セリウム系研摩材及び研摩材スラリー並びにセリウム系研摩材の製造方法
JP4927342B2 (ja) 半導体薄膜研磨用酸化セリウムスラリー
JP6357536B2 (ja) 研磨スラリーの作製方法、ガラス基板の製造方法、及び原料砥粒の塊
JP3416855B2 (ja) 研磨用組成物および研磨方法
JP5237542B2 (ja) 酸化セリウム系研摩材
JP2008001907A (ja) セリウム系研摩材スラリー及びセリウム系研摩材スラリーの製造方法
JP4471072B2 (ja) ボールミル装置を用いた酸化セリウムの粉砕方法
JP2003512501A (ja) 改良されたcmp生成物
KR101090913B1 (ko) 화학 기계적 연마를 위한 산화세륨 연마입자 분산액 및 그제조방법
JP3685481B2 (ja) 粒度分布に優れたセリウム系研摩材粒子粉末、該粒子粉末を含有する研摩材スラリー及び該粒子粉末の製造方法
JP3986384B2 (ja) セリウム系研摩材およびその製造方法
JP4070180B2 (ja) セリウム系研摩材の製造方法
JP4290465B2 (ja) 酸化セリウムを主成分とするセリウム系研摩材の製造方法
JPH08267355A (ja) 研磨剤微粉末の製造方法
KR100574162B1 (ko) 세륨계 연마제의 제조방법
JP2631924B2 (ja) アルミナ製粉砕機用部材の製造方法
Joye et al. Advancements in cerium oxide slurry development for precision optics
JPH08113773A (ja) 砥粒組成物