JPH07243053A - 銅及び銅合金の表面処理剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は、プリント配線の銅回路部に対する
水溶液系プレフラックス処理剤を提供する。特に表面実
装法に適し、長期保存安定性及び耐熱性に優れた化成被
膜を形成する水溶液系の処理剤に関する。 【構成】 ２，４−ジフェニルイミダゾールあるいは
２，４−ジフェニル−５−メチルイミダゾールと低級脂
肪族カルボン酸を必須成分として含有する水溶液からな
る銅及び銅合金の表面処理剤。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、銅及び銅合金の表面に
化成被膜を形成する水溶液系表面処理剤に関するもので
あり、特に硬質プリント配線板及びフレキシブルプリン
ト配線板における銅回路部のプレフラックス処理剤とし
て好適なものである。

【０００２】

【従来の技術】銅あるいは銅合金の表面に、２位長鎖ア
ルキルイミダゾール化合物の被膜を形成する表面処理方
法としては、特公昭46-17046号、同48-11454号、同48-2
5621号、同49- 1983号、同49-26183号、同58-22545号、
同61-41988号及び特開昭61-90492号公報に記載されてい
る。また銅あるいは銅合金の表面に、２位アリール基置
換イミダゾール化合物の被膜を形成する処理方法として
は、特開平4-202780号及び同4-206681号公報に記載され
ている。

【０００３】他に銅あるいは銅合金の表面にベンズイミ
ダゾール系化合物の化成被膜を形成する方法としては、
５−メチルベンズイミダゾールを用いる処理方法が特開
昭58-501281 号公報に、２−アルキルベンズイミダゾー
ル化合物、２−アリールベンズイミダゾール化合物、２
−アラルキルベンズイミダゾール化合物あるいは２−メ
ルカプトアルキルベンズイミダゾール化合物を用いる処
理方法が、特開平3-124395号、同3-236478号、同4-7207
2 号、同4-80375 号、同4-99285 号、同4-157174号、同
4-165083号、同4-173983号、同4-183874号、同4-202780
号、同4-206681号、同4-218679号、同5-25407 号、同5-
93280 号、同5-93281 号、同5-156475号、同5-163585
号、同5-175643号、同5-186880号、同5-186888号、同5-
202492号、同5-230674号、同5-237688号、同5-263275
号、同5-287562号、同5-291729号、同5-287563号及び同
5-291729号公報に記載されている。

【０００４】これらの他に、２−メルカプトベンズイミ
ダゾールを用いる銅あるいは銅合金の防錆方法が、特開
昭55-83157号、同62-77600号及び同63-118598 号公報に
開示されている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】近時プリント配線板に
対する電子部品の接合方法として、表面実装法が多く採
用されるようになり、チップ部品の仮止め、部品装置の
両面装着あるいはチップ部品とディスクリート部品の混
載などにより、プリント配線板が高温下に曝されるよう
になった。

【０００６】２位に長鎖アルキル基を有するイミダゾー
ル化合物を用いてプリント配線板の表面処理を行なう場
合、プリント配線板が高温に曝されると表面処理された
銅面が変色し、その後のはんだ付けに支障を生じるた
め、表面実装法には不向きであった。特開昭58−501281
号公報に記載の５−メチルベンズイミダゾールを用いる
処理方法では、この化合物が水に比較的溶け易いため、
銅金属の表面に0.08μm 以上の好ましい被膜を形成する
ことができず、高温下において下地銅を充分に保護し難
く、酸化銅が発生しはんだ付け性に支障を生じていた。

【０００７】一方、前記２−アルキルベンズイミダゾー
ル化合物、２−アリールベンズイミダゾール化合物、２
−アラルキルベンズイミダゾール化合物あるいは２−メ
ルカプトアルキルベンズイミダゾール化合物を用いた防
錆処理によれば、銅金属の表面に耐熱性に優れた化成被
膜を形成し得るが、その実用化に当たっては以下のとお
り解決すべき課題を有している。

【０００８】すなわち、これらのベンズイミダゾール系
化合物は水に対する溶解性が低いため、調整した処理液
のｐＨの上昇あるいは処理液の蒸発などに起因して、ベ
ンズイミダゾール系化合物が晶出し易く、一旦析出した
固体のベンズイミダゾール系化合物は、酸を追加投入し
て処理液のｐＨを下げたり、蒸発した溶媒の補充を行っ
ても再溶解させ難いものである。このようなベンズイミ
ダゾール系化合物の析出がプリント基板メーカーの銅の
表面処理工程で発生すると、装置に付着したベンズイミ
ダゾール系化合物の拭き取りあるいは装置の洗浄を余儀
なくされたり、析出したベンズイミダゾール系化合物が
プリント基板の表面に付着してその商品価値を著しく低
下するため、これを除去するのに余計な労力を必要とす
るなどの問題を生じていた。

【０００９】特開昭55-83157号及び同62-77600号公報に
記載の２−メルカプトベンズイミダゾールを用いる防錆
方法は、２−メルカプトベンズイミダゾールをメタノー
ル等の有機溶剤に溶かして、基材に塗布し乾燥する方法
であり、有機溶剤を使用するため人体に対する悪影響や
工場の保安面で問題があった。また特開昭63-118598号
公報に記載の方法は、２−メルカプトベンズイミダゾー
ルの薄膜を形成するのに約３時間の浸漬処理を必要とし
ており、高生産性、高速処理を要求されるプリント配線
板業界の実情に適合しないものであった。

【００１０】特開平4-206681号公報には、プリント配線
板の表面を２−アリール基置換イミダゾール化合物と高
級脂肪酸、高級脂肪酸類のアンモニウム塩あるいはアミ
ン塩などの高級脂肪酸化合物を含む水性液に接触させ
て、銅表面に化成被膜を形成する方法が開示されてお
り、２−アリール基置換イミダゾール化合物として、２
−フェニルイミダゾール、２−トルイルイミダゾール、
２−フェニル−４−メチルイミダゾール、２−フェニル
−４−ベンジルイミダゾール、２，４，５−トリフェニ
ルイミダゾールなどが例示されている。

【００１１】前記特開平4-206681号公報に記載の発明
は、必須成分として２−アリール基置換イミダゾール化
合物と高級脂肪酸、高級脂肪酸類のアンモニウム塩ある
いはアミン塩などの高級脂肪酸化合物を含むものであ
り、本来膜形成能力が乏しい２−アリール基置換イミダ
ゾール化合物に高級脂肪酸を共存させることによって、
耐熱性に優れた化成被膜が得られることを開示してい
る。

【００１２】しかしながら、当該発明においては化成被
膜を形成する際に造膜性を発揮し被膜に撥水性を付与す
るために、炭素数12ないし22の高級脂肪酸化合物を使用
しているので、これらの高級脂肪酸化合物を水に溶解さ
せるためには、通常、液性をアルカリ性とすべきである
が、２−アリール基置換イミダゾール化合物を水に溶解
させるためには、液性を酸性にしなければならない。す
なわち、前記発明の実施に当たっては２−アリール基置
換イミダゾール化合物と高級脂肪酸化合物の両者を共存
させて水溶液にすることは困難であり、両成分を溶解さ
せるには、水以外にメタノール、アセトンなどの水溶性
有機溶剤を加えた混合液とすることが開示されている。

【００１3 】ところがこのような有機溶剤を使用すると
人体に対する悪影響あるいは工場の保安面で問題があ
り、且つ使用時に有機溶剤が蒸発して処理液の組成が変
化し、有効成分である２−アリール基置換イミダゾール
化合物、高級脂肪酸類化合物等が析出し易いなどの難点
もあった。

【００１4 】このような事情から、プリント配線板の銅
回路部分などを化成被膜によって保護するに当たり、表
面実装法に対応できる充分な耐熱性及びはんだ付け性を
有し、且つ使用時において処理液中に固体を析出せず、
あるいは固体を析出してもこれを容易に再溶解するなど
性能の優れたプレフラックスが望まれていた。

【００１５】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、このよう
な問題を解決するために数多くの試験を繰り返した結
果、必須成分として化２で示される２，４−ジフェニル
イミダゾール化合物０．０１〜５重量％と炭素数４以下
の脂肪族カルボン酸１〜２０重量％を含有する水溶液か
らなる表面処理剤が、特異的に高級脂肪酸を併用するこ
となく銅金属の表面に化成被膜を形成することを知見
し、この化成被膜に優れた耐熱性、はんだ付け性があっ
て所期の目的を達成しうることを見い出し、本発明を完
遂するに至った。

【００１６】

【化２】 （式中、Ｒは水素原子またはメチル基を表す。）

【００１７】本発明方法の実施に適する２，４−ジフェ
ニルイミダゾール化合物としては、２，４−ジフェニル
イミダゾール及び２，４−ジフェニル−５−メチルイミ
ダゾールであり、２，４−ジフェニルイミダゾールは、
化３として示したようにベンズアミジンとフェナシルハ
ライド化合物をクロロホルムなどの溶媒中、加熱して反
応させることによって合成される。

【００１８】

【化３】 （式中、Ｘは塩素原子又は臭素原子を表す。）

【００１９】また、２，４−ジフェニル−５−メチルイ
ミダゾールは、化４として示したようにベンズアルデヒ
ド、１−フェニル−１，２−プロパンジオン及び酢酸ア
ンモニウムを酢酸中で加熱反応させて得られる。

【００２０】

【化４】

【００２１】本発明の実施においては、有効成分として
２，４−ジフェニルイミダゾール化合物を０．０１〜５
重量％の割合、好ましくは０．１〜１．０重量％の割合
として使用する。２，４−ジフェニルイミダゾール化合
物の濃度が０．０１重量％より少ない場合には、膜形成
速度が極端に低下し、また５重量％より高い場合には水
溶液化が難しくなり多量の酸を必要とするので好ましく
ない。

【００２２】本発明者らの知見によれば、前記２，４−
ジフェニルイミダゾール化合物は、炭素数４以下の脂肪
族カルボン酸１〜２０重量％を含む水溶液に溶解させる
ことが可能である。なお、この場合低級脂肪族カルボン
酸の濃度が１重量％以下では２，４−ジフェニルイミダ
ゾール化合物を完全に水溶液化することができず、また
２０重量％を超えると作業環境を阻害したり、装置を腐
蝕する惧れがある。本発明の実施に適する低級脂肪族カ
ルボン酸は、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸及びイソ
酪酸等であり、特にギ酸及び酢酸が好適である。

【００２３】本発明の表面処理剤を銅あるいは銅合金の
表面と接触方法は、浸漬、噴霧、塗布などいずれでも可
能である。本発明表面処理剤の使用に際しては、金属表
面における化成被膜の形成速度を高めるために銅化合物
を添加し、また化成被膜の耐熱性をさらに向上させるた
めに亜鉛化合物を添加しても差し支えがない。

【００２４】本発明の実施において使用できる銅化合物
の代表的なものとしては、塩化第一銅、塩化第二銅、水
酸化銅、リン酸銅、酢酸銅、硫酸銅、硝酸銅、臭化銅等
であり、これらは水溶液に対して0.０１〜１０重量％の
割合、好ましくは0.０２〜５重量％の割合で添加すれば
良い。

【００２５】また亜鉛化合物の代表的なものとしては、
酸化亜鉛、蟻酸亜鉛、酢酸亜鉛、蓚酸亜鉛、乳酸亜鉛、
クエン酸亜鉛、硫酸亜鉛、硝酸亜鉛、リン酸亜鉛等であ
り、これらは水溶液に対して0.０１〜１０重量％の割
合、好ましくは0.０２〜５重量％の割合で添加すれば良
い。

【００２６】銅化合物あるいは亜鉛化合物を用いる場合
には、アンモニアあるいはアミン類等の緩衝作用を有す
る物質を添加して、水溶液のｐＨを安定にすることが望
ましい。また本発明の実施に際しては、オレイン酸、ラ
ウリン酸などの高級脂肪酸を併用しても差し支えない。
さらに本発明表面処理剤の使用に際しては、銅金属の表
面に形成された化成被膜に熱可塑性樹脂の二重構造を形
成し、耐熱性を更に向上させることも可能である。

【００２７】すなわち、銅あるいは銅合金の表面に２，
４−ジフェニルイミダゾール化合物の化成被膜を形成し
たのち、ロジン、ロジンエステル等のロジン誘導体、テ
ルペン樹脂、テルペンフェノール樹脂等のテルペン樹脂
誘導体または芳香族炭化水素樹脂、脂肪族炭化水素樹
脂、脂環族炭化水素樹脂等の炭化水素樹脂またはこれら
の混合物等からなる耐熱性に優れた熱可塑性樹脂をトル
エン、酢酸エチル、イソプロピルアルコール等の溶媒に
溶解し、ロールコーター法等により化成被膜上に膜厚１
〜30μｍの厚みとなるように均一に塗布して、化成被膜
と熱可塑性樹脂の二層構造を形成すれば良い。

【００２８】

【作用】２−アリール基置換イミダゾール化合物のう
ち、２，４−ジフェニルイミダゾール化合物は炭素数４
以下の脂肪族カルボン酸と共存させた水溶液として、銅
あるいは銅合金の表面に接触させると、２，４−ジフェ
ニルイミダゾール化合物と銅との錯体形成反応及び２，
４−ジフェニルイミダゾール化合物間の水素結合などの
作用により、局部的に銅錯体となった２，４−ジフェニ
ルイミダゾール化合物の化成被膜が、意外に早い速度で
銅あるいは銅合金表面上に形成される。

【００２９】前記の化成被膜を放置あるいは加熱するこ
とにより銅表面から銅の移行が起こり、また同時に低級
脂肪族カルボン酸は揮発し、２，４−ジフェニルイミダ
ゾール化合物の大部分は２，４−ジフェニルイミダゾー
ル化合物の銅錯体になる。この銅錯体からなる化成被膜
は、熱的にもまた化学的にも安定であり、下地の銅ある
いは銅合金を高温に曝すことによる酸化、また長期放置
による錆の発生から保護しうるものである。

【００３０】また本発明の表面処理剤は、２，４−ジフ
ェニルイミダゾール化合物０．０１〜５重量％と炭素数
４以下の脂肪族カルボン酸１〜２０重量％を含む水溶液
であり、２，４−ジフェニルイミダゾール化合物の溶解
性が高いので、長期間安定した状態で保存することがで
き、処理に際して液組成に変動が生じても２，４−ジフ
ェニルイミダゾール化合物の結晶が析出する惧れがほと
んどなく、万一析出した場合でも液組成を適正に戻すこ
とにより再溶解するので、安定した連続操業を行うこと
ができる。

【００３１】

【実施例】以下、参考例、実施例及び比較例によって、
本発明を具体的に説明する。 〔参考例１〕２，４−ジフェニルイミダゾールの合成 ベンズアミジン塩酸塩２５．０１ｇ(0.160モル) 及び水
１１０mlからなる溶液に、水酸化カリウム１８．２２ｇ
及び水１５mlからなる溶液を加えて乳濁液とした。この
液をクロロホルム６０mlを用いて３回抽出し、クロロホ
ルム層を無水硫酸ナトリウムを用いて脱水したのち、減
圧下に溶剤を留去してベンズアミジン１８．７６ｇ(0.1
56モル) を結晶として得た。前記ベンズアミジンをクロ
ロホルム８０mlに溶解し、フェナシルクロライド２４．
９ｇ(0.161モル) を加え、１時間加熱還流したのち、ト
リエチルアミン１６．２７ｇ(0.161モル) を加えてさら
に４．５時間加熱還流した。反応終了後、揮発分を減圧
留去し、得られた残渣を４回熱水で洗浄し、さらにベン
ゼンを用いて洗浄することにより、無色微結晶の２，４
−ジフェニルイミダゾール１８．０２ｇ(0.082モル、ベ
ンズアミジン塩酸塩に対する収率51％、融点１６０〜１
６８℃）を得た。

【００３２】〔参考例２〕２，４−ジフェニル−５−メ
チルイミダゾールの合成 １−フェニル−１，２−プロパンジオン１３．００ｇ
(0.088モル) 、ベンズアルデヒド１０．２４ｇ(0.096モ
ル) 、酢酸アンモニウム２０．２９ｇ(0.263モル) 及び
酢酸５０mlからなる溶液を５時間加熱還流した。反応終
了後、揮発分を減圧留去し、得られた残渣をメタノール
に溶解し、水酸化ナトリウムをアルカリ性になるまで加
えたのち、減圧下メタノールを留去し、得られた残渣を
水で洗浄し、次いでエーテルを用いて洗浄し、無色粉末
状の２，４−ジフェニル−５−メチルイミダゾール１
５．１７ｇ(0.065モル、１−フェニル−１，２−プロパ
ンジオンに対する収率74％、融点２１１〜２１６℃）を
得た。

【００３３】〔実施例及び比較例〕以下に述べる実施例
及び比較例の試験において、金属表面における化成被膜
の厚さは、硬質銅張積層板を所定の大きさに切断した試
験片を用い、所定の浸漬処理を行い銅金属の表面に化成
被膜を形成したのち、0.５％の塩酸水溶液に浸漬して
２，４−ジフェニルイミダゾール化合物を抽出し、紫外
分光光度計を用いて、この抽出液中に含まれる２，４−
ジフェニルイミダゾール化合物の濃度を測定し、化成被
膜の厚さに換算したものである。

【００３４】はんだ付け性の試験のうち、はんだ濡れ時
間の測定方法は次のとおりである。まず、試験片として
５mm×50mm×０.3mmの大きさの銅板を用い、この試験片
を脱脂、ソフトエッチング及び水洗を行ったのち、所定
の液温に保持した各実施例あるいは比較例に記載の組成
からなる表面処理剤に夫々所定時間浸漬し、次いで水
洗、乾燥して試験片表面に厚さ約0.10〜0.25μｍの化成
被膜を夫々形成させた。

【００３５】被膜形成処理がなされた試験片を表１に示
す条件で放置し、２００℃の熱風オーブン中で１０分間
加熱処理を行った。次いで、この試験片にポストフラッ
クス（商品名：ＪＳ−６４、（株）弘輝製）を浸漬付着
させ、はんだ濡れ時間を測定した。測定に当たっては、
半田濡れ性試験器（製品名：ＷＥＴ−３０００、（株）
レスカ製）を用い、その測定条件ははんだ温度２５０
℃、浸漬深さ２mm、浸漬スピード１６mm／秒とした。

【００３６】はんだ付け性試験のうち、はんだ上がり性
の測定は、以下のとおり実施した。試験片として、内径
0.80mmのスルーホールを６２９穴有する５cm×10cm×1
.2mmのスルーホール基板を用い、この試験片を脱脂、
ソフトエッチング及び水洗を行ったのち、前記のはんだ
濡れ時間の測定の場合と同様に、表面処理剤に夫々所定
時間浸漬し、水洗、乾燥して試験片表面に厚さ約0.10〜
0.25μｍの化成被膜を夫々形成させた。

【００３７】被膜形成処理がなされた試験片を表１に示
す条件で放置し、赤外線リフロー装置（製品名：ＭＵＬ
ＴＩ−ＰＲＯ−３０６、ヴィトロニクス社製）を用い
て、ピーク温度が２３０℃であるリフロー加熱を３回繰
り返した。次いで、加熱処理後のはんだ上がり性を試験
するため、フローはんだ付け装置を用いてはんだ上がり
性を測定した。その際にポストフラックスとしては、ア
サヒ化研製のＡＧＦ−２００−Ｊ９を用い、はんだ温度
は２５０℃、ベルトスピードは1.0 m/分とした。測定結
果は、スルーホールの上部ランド部分まではんだが上が
ったスルーホール数の全スルーホール数に対する割合
（％）で表示した。

【００３８】クリームはんだ広がり性の試験について
は、次のようにして行った。試験片としては絶縁抵抗試
験に用いられるくし形電極Ｉ形〔ＪＩＳ Ｚ−３１９７
6.8〕を用い、試験片を脱脂、ソフトエッチング及び水
洗を行ったのち、前記はんだ濡れ性の測定と同様にして
表面処理剤に浸漬し、水洗、乾燥して試験片表面に厚さ
約0.10〜0.25μｍの化成被膜を夫々形成させたのち、室
温で１０日間放置した。

【００３９】被膜形成処理が行われ１０日間放置した後
の前記試験片に、クリームはんだ（商品名：ＡＥ−５３
ＨＧＩ、四国化成工業（株）製）を印刷幅３mmで一文
字印刷し、赤外線リフロー装置（製品名：ＭＵＬＴＩ−
ＰＲＯ−３０６、ヴィトロニクス社製）を用いてリフロ
ー加熱（ピーク温度２３０℃）を行い、はんだの広がり
長さを測定した。

【００４０】〔実施例１〕はんだ濡れ時間、はんだ上が
り性並びにクリームはんだ広がり性測定用試験片を、そ
れぞれ２，４−ジフェニルイミダゾール０．２５重量
％、酢酸９．０重量％、酢酸銅０．０９重量％及び臭化
アンモニウム０．０４重量％からなり、アンモニア水で
ｐＨ４．０に調整した処理水溶液に、液温５０℃で６０
秒間浸漬したのち、水洗、乾燥した。

【００４１】次いで、はんだ濡れ時間及びはんだ上がり
性試験は、試験片を表１に示す条件下に放置し、加熱処
理を行なったのち測定したところ、その結果は表１に示
したとおりであった。またクリームはんだ広がり性は、
測定用試験片を１０日間室温で放置したのち、クリーム
はんだ広がり性測定したところ、表１に示したとおりで
あった。

【００４２】〔実施例２〕２，４−ジフェニルイミダゾ
ール０．２５重量％、酢酸１０．０重量％、ｎ−ヘプタ
ン酸０．０３重量％、及び臭化第二銅０．０５重量％か
らなり、アンモニア水でｐＨ３．８に調整した処理水溶
液に、試験片を液温４５℃で６０秒間浸漬したのち、取
り出し水洗、乾燥した。実施例１と同様にはんだ濡れ時
間、はんだ上がり性試験及びクリームはんだ広がり性試
験を行ったところ、その測定結果は表１に示すとおりで
あった。

【００４３】〔実施例３〕２，４−ジフェニル−５−メ
チルイミダゾール０．２０重量％、ギ酸５．０重量％及
び臭化銅０．０５重量％からなり、アンモニア水でｐＨ
３．４に調整した処理水溶液に、試験片を液温５０℃で
７０秒間浸漬したのち、取り出し水洗、乾燥した。実施
例１と同様にしてはんだ濡れ時間、はんだ上がり性試験
及びクリームはんだ広がり性試験を行ったところ、その
測定結果は表１に示すとおりであった。

【００４４】〔実施例４〕２，４−ジフェニル−５−メ
チルイミダゾール０．２０重量％、酢酸１０．０重量
％、ｎ−ヘプタン酸０．０３％及び臭化銅１．０重量％
からなり、アンモニア水でｐＨ４．２に調整した処理水
溶液に、試験片を液温４５℃で６０秒間浸漬したのち、
取り出し水洗、乾燥した。実施例１と同様にしてはんだ
濡れ時間、はんだ上がり性試験及びクリームはんだ広が
り性試験を行ったところ、その測定結果は表１に示すと
おりであった。

【００４５】〔比較例１〕２−ウンデシルイミダゾール
１．０重量％及び酢酸１．６重量％からなり、アンモニ
ア水でｐＨを４．４に調整した処理水溶液に、試験片を
液温５０℃で２５秒間浸漬した後、取り出し水洗、乾燥
した。その後実施例１と同様にはんだ濡れ性試験を行っ
たところ、その測定結果は表１に示すとおりであった。

【００４６】〔比較例２〕２−フェニルイミダゾール
１．０重量％、酢酸２．０重量％、ラウリン酸０．１重
量％及び臭化第二銅０．０５重量％からなり、アンモニ
ア水でｐＨを６．２に調整した処理水溶液に、試験片を
液温５０℃で３０秒間浸漬した後、取り出し水洗乾燥し
た。その後実施例１と同様にはんだ濡れ性試験及びクリ
ームはんだ広がり性試験を行ったところ、その測定結果
は表１に示すとおりであった。

【００４７】〔比較例３〕ラウリン酸を含まない点を除
き比較例２と同一の組成とした処理水溶液を調整し、こ
れに試験片を液温５０℃で１２０秒間浸漬したが、試験
片に化成被膜は形成されなかった。

【００４８】〔比較例４〕２−フェニル−４−メチルイ
ミダゾール１．０重量％、酢酸２．０重量％、ミリスチ
ン酸０．０５重量％及び臭化第二銅０．０５重量％から
なり、アンモニア水でｐＨ６．０に調整した処理水溶液
に、試験片を液温５０℃で４０秒間浸漬した後、取り出
し水洗、乾燥した。その後実施例１と同様にはんだ濡れ
性試験及びクリームはんだ広がり性試験を行ったとこ
ろ、その測定結果は表１に示すとおりであった。

【００４９】〔比較例５〕ミリスチン酸を含まない点を
除き比較例４と同一の組成とした処理水溶液を調整し、
これに試験片を液温５０℃で１２０秒間浸漬したが、試
験片に化成被膜は形成されなかった。

【００５０】〔比較例６〕２−ノニルベンズイミダゾー
ル０．２重量％、酢酸５．０重量％及び塩化第二銅０．
０３５重量％からなり、アンモニア水でｐＨを２．９に
調整した処理水溶液に、試験片を液温４０℃で３０秒間
浸漬した後、取り出し水洗、乾燥した。その後実施例１
と同様にはんだ濡れ性試験及びクリームはんだ広がり性
試験を行ったところ、その測定結果は表１に示すとおり
であった。

【００５１】〔比較例７〕２−（４−クロロフェニルメ
チル）ベンズイミダゾール０．５重量％、ギ酸３．０重
量％、ヘプタン酸０．０４重量％及び塩化第二銅０．０
９重量％からなり、アンモニア水でｐＨ２．５６に調整
した処理水溶液に、試験片を液温５０℃で６０秒間浸漬
した後、取り出し水洗、乾燥した。その後実施例１と同
様にはんだ濡れ性試験及びクリームはんだ広がり性試験
を行ったところ、その測定結果は表１に示すとおりであ
った。

【００５２】

【表１】

【００５３】〔実施例５〕処理水溶液の安定性を調べる
ために、以下の試験を行った。前記実施例及び比較例
（比較例３及び５を除く）において使用した処理液につ
いて、それぞれ加温して約３０％の水分を蒸発させて有
効成分を析出させ、また有効成分が析出しない場合には
アンモニア水を必要量添加して有効成分を析出さた。次
いでこれら結晶が析出した処理液に水を添加し、酸を加
えて元の処理液の組成に戻し、４０℃の温度に加熱して
有効成分が再溶解するか否かを調べた。これらの試験結
果は、表２に示したとおりであった。

【００５４】

【表２】

【００５５】

【発明の効果】２，４−ジフェニルイミダゾール化合物
を含有する処理液は、銅金属の表面に耐熱性に優れた化
成被膜を形成し、表面実装工程におけるリフロー加熱後
の良好なはんだ付け性が確保され、また表面処理工程に
おいても２，４−ジフェニルイミダゾール化合物と低級
脂肪族カルボン酸を共存させた処理水溶液は、処理浴に
有効成分が析出するなどのトラブルが起こらないため、
安定した操業を為し得るなど実践面の効果は顕著であ
る。

【手続補正書】

【提出日】平成６年５月２４日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００１７

【補正方法】変更

【補正内容】

【００１７】本発明の実施に適する２，４−ジフェニル
イミダゾール化合物としては、２，４−ジフェニルイミ
ダゾール及び２，４−ジフェニル−５−メチルイミダゾ
ールであり、２，４−ジフェニルイミダゾールは、化３
として示したようにベンズアミジンとフェナシルハライ
ド化合物をクロロホルムなどの溶媒中、加熱して反応さ
せることによって合成される。

【手続補正２】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００４４

【補正方法】変更

【補正内容】

【００４４】〔実施例４〕２，４−ジフェニル−５−メ
チルイミダゾール０．２０重量％、酢酸１０．０重量
％、ｎ−ヘプタン酸０．０３％及び臭化銅０．１重量％
からなり、アンモニア水でｐＨ４．２に調整した処理水
溶液に、試験片を液温４５℃で６０秒間浸漬したのち、
取り出し水洗、乾燥した。実施例１と同様にしてはんだ
濡れ時間、はんだ上がり性試験及びクリームはんだ広が
り性試験を行ったところ、その測定結果は表１に示すと
おりであった。

【手続補正３】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００５２

【補正方法】変更

【補正内容】

【００５２】

【表１】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 村井 孝行 香川県仲多度郡多度津町大字東白方498番 地 (72)発明者 吉岡 隆 香川県丸亀市津森町382番地15

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 必須成分として、化１で示される２，４
   −ジフェニルイミダゾール化合物０．０１〜５重量％と
   炭素数４以下の脂肪族カルボン酸１〜２０重量％を含有
   する水溶液からなる銅及び銅合金の表面処理剤。 【化１】 （式中、Ｒは水素原子またはメチル基を表す。）