JPH0721469B2 - Ｘ線による被測定物の組成分析方法 - Google Patents
Ｘ線による被測定物の組成分析方法Info
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- JPH0721469B2 JPH0721469B2 JP60082078A JP8207885A JPH0721469B2 JP H0721469 B2 JPH0721469 B2 JP H0721469B2 JP 60082078 A JP60082078 A JP 60082078A JP 8207885 A JP8207885 A JP 8207885A JP H0721469 B2 JPH0721469 B2 JP H0721469B2
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Description
【発明の詳細な説明】 『産業上の利用分野』 本発明はＸ線を利用した非破壊測定手段により被測定物
の組成を分析する方法に関する。
の組成を分析する方法に関する。
『従来の技術』 不透明な物体の組成濃度、組成分布を放射線照射により
非破壊的に測定するとき、その線源としてアイソトープ
（Ga、Ir、Co）などのγ線、あるいはＸ線を用い、放射
線照射系から出射した放射線を被測定物に照射し、その
透過線の強度を検出系で測定解析するようにしている。
非破壊的に測定するとき、その線源としてアイソトープ
（Ga、Ir、Co）などのγ線、あるいはＸ線を用い、放射
線照射系から出射した放射線を被測定物に照射し、その
透過線の強度を検出系で測定解析するようにしている。
ところで、アイソトープによる非破壊測定法の場合、ア
イソトープの入手が困難であること、その強度が弱いか
または強すぎること、さらに半減期が短いこと等々の理
由により工業化がむずかしいとされており、そのため、
Ｘ線を用いる方法が普及している。
イソトープの入手が困難であること、その強度が弱いか
または強すぎること、さらに半減期が短いこと等々の理
由により工業化がむずかしいとされており、そのため、
Ｘ線を用いる方法が普及している。
Ｘ線には白色Ｘ線、単色Ｘ線があり、例えば被測定物が
二つの元素からなる場合、通常、Ｘ線照射系と被測定物
とを相対移動させるスキャンニングより白色Ｘ線または
単色Ｘ線を被測定物に照射し、二以上の特定波長または
エネルギに関する透過線強度をその検出系により求めた
後、その測定データをもとにした多層分割法、アベール
変換法等の計算法により被測定物の組成分布を求めてい
る。
二つの元素からなる場合、通常、Ｘ線照射系と被測定物
とを相対移動させるスキャンニングより白色Ｘ線または
単色Ｘ線を被測定物に照射し、二以上の特定波長または
エネルギに関する透過線強度をその検出系により求めた
後、その測定データをもとにした多層分割法、アベール
変換法等の計算法により被測定物の組成分布を求めてい
る。
この際、Ｘ線源の電圧は30kv以上 その強度はＸ線源の
電流換算値10mA以上がよいとされており、この電流値が
低いとＸ線量が小さくなり、測定に時間がかかる。
電流換算値10mA以上がよいとされており、この電流値が
低いとＸ線量が小さくなり、測定に時間がかかる。
Ｘ線の波長λ（オングストローム）は、Ｘ線源にかける
管電圧kvをＶとしたとき、約λ＝12.4/Vである。
管電圧kvをＶとしたとき、約λ＝12.4/Vである。
透過線の強度は１分程度で測定するのがよく、時間が長
いほど測定精度が高まるとされている。
いほど測定精度が高まるとされている。
『発明が解決しようとする問題点』 一般に、Ｘ線走査時においてその線源を移動させると
き、その移動設備が大がかりとなり、線源の不安定も生
じる。
き、その移動設備が大がかりとなり、線源の不安定も生
じる。
これに対処すべく被測定物を移動させるとき、回折手段
により白色Ｘ線から二種以上の単色Ｘ線を取り出し、こ
れを被測定物へ照射することが考えられるが、この倍も
各単色Ｘ線の光軸が一致しないことにより測定時間が長
くなる。
により白色Ｘ線から二種以上の単色Ｘ線を取り出し、こ
れを被測定物へ照射することが考えられるが、この倍も
各単色Ｘ線の光軸が一致しないことにより測定時間が長
くなる。
その他、製造ライン上の被測定物をオンラインにより測
定しようとしても、Ｘ線走査のための被測定物移動がで
きないのでオフライン制御しか採用できず、かかるオフ
ライン制御ではリアルタイムで被測定物の組成を分析す
ることができない。
定しようとしても、Ｘ線走査のための被測定物移動がで
きないのでオフライン制御しか採用できず、かかるオフ
ライン制御ではリアルタイムで被測定物の組成を分析す
ることができない。
本発明は上記の問題点に鑑み、被測定物、Ｘ線源等を移
動せずとも、単時間で被測定物の組成分析が行なえ、オ
ンライン制御も実現可能な方法を提供しようとするもの
である。
動せずとも、単時間で被測定物の組成分析が行なえ、オ
ンライン制御も実現可能な方法を提供しようとするもの
である。
『問題点を解決するための手段』 本発明のＸ線による被測定物の測定方法は、所期の目的
を達成するために、 被測定物の測定部間全域にわたって白色Ｘ線を照射する
ためのＸ線源と、被測定物を透過した後の透過線（透過
白色Ｘ線）を複数に分岐するための複数のコリメータ
と、該各透過線をそれぞれ回折してこれら透過線を複数
種の特性Ｘ線として取り出すための複数の単結晶と、該
各単結晶を経て入射される複数種の特性Ｘ線エネルギを
測定するための複数のＸ線検出器とを備えていること、
および、 Ｘ線源から出射される白色Ｘ線の照射領域側に配置され
て互いに隣接している各Ｘ線検出器が、そのＸ線源とそ
れぞれ対面していること、被測定物がＸ線源と各Ｘ線検
出器との間において定位置に配置されていること、各コ
リメータが被測定物と各Ｘ線検出器との間にあって互い
に隣接して配置されていること、各単結晶も、被測定物
と各Ｘ線検出器との間に配置されていて、各コリメータ
により分岐された透過線を各Ｘ線検出器へ入射させるた
めに、これらコリメータ、Ｘ線検出器とそれぞれ対応し
ていること、および、 上記の手段を介して被測定物の組成を分析するときに、 Ｘ線源から出射した白色Ｘ線を被測定物の測定部間全域
にわたって照射すること、その被測定物を透過した後の
透過線を各コリメータおよび各単結晶により分岐かつ回
折すること、これら分岐、回折により取り出された各特
性Ｘ線を各Ｘ線検出器へ入射させること、該各Ｘ線検出
器により各特性Ｘ線のエネルギ強度を各別に測定して被
測定物の組成を分析することを特徴とする。
を達成するために、 被測定物の測定部間全域にわたって白色Ｘ線を照射する
ためのＸ線源と、被測定物を透過した後の透過線（透過
白色Ｘ線）を複数に分岐するための複数のコリメータ
と、該各透過線をそれぞれ回折してこれら透過線を複数
種の特性Ｘ線として取り出すための複数の単結晶と、該
各単結晶を経て入射される複数種の特性Ｘ線エネルギを
測定するための複数のＸ線検出器とを備えていること、
および、 Ｘ線源から出射される白色Ｘ線の照射領域側に配置され
て互いに隣接している各Ｘ線検出器が、そのＸ線源とそ
れぞれ対面していること、被測定物がＸ線源と各Ｘ線検
出器との間において定位置に配置されていること、各コ
リメータが被測定物と各Ｘ線検出器との間にあって互い
に隣接して配置されていること、各単結晶も、被測定物
と各Ｘ線検出器との間に配置されていて、各コリメータ
により分岐された透過線を各Ｘ線検出器へ入射させるた
めに、これらコリメータ、Ｘ線検出器とそれぞれ対応し
ていること、および、 上記の手段を介して被測定物の組成を分析するときに、 Ｘ線源から出射した白色Ｘ線を被測定物の測定部間全域
にわたって照射すること、その被測定物を透過した後の
透過線を各コリメータおよび各単結晶により分岐かつ回
折すること、これら分岐、回折により取り出された各特
性Ｘ線を各Ｘ線検出器へ入射させること、該各Ｘ線検出
器により各特性Ｘ線のエネルギ強度を各別に測定して被
測定物の組成を分析することを特徴とする。
『作用』 本発明方法の場合、白色Ｘ線を被測定物の測定部間全域
にわたって照射するから、Ｘ線源、被測定物等を移動走
査する必要がなく、また、被測定物を透過した後の透過
線を複数のコリメータおよび単結晶により分岐、回折
し、これら分岐、回折後における各特性Ｘ線のエネルギ
強度を各別に測定するから測定部間各部の組成がわか
る。
にわたって照射するから、Ｘ線源、被測定物等を移動走
査する必要がなく、また、被測定物を透過した後の透過
線を複数のコリメータおよび単結晶により分岐、回折
し、これら分岐、回折後における各特性Ｘ線のエネルギ
強度を各別に測定するから測定部間各部の組成がわか
る。
したがって、上述した走査不要、測定部間各部の組成判
明により短時間で被測定物の組成分析が行なえるように
なり、しかもＸ線源、被測定物のいずれをも移動走査し
ないか、製造ライン上にある被測定物であってもこれを
オンラインで組成分析できるようになる。
明により短時間で被測定物の組成分析が行なえるように
なり、しかもＸ線源、被測定物のいずれをも移動走査し
ないか、製造ライン上にある被測定物であってもこれを
オンラインで組成分析できるようになる。
『実施例』 以下本発明方法の実施例につき、図面を参照して説明す
る。
る。
第１図の実施例において、１はＸ線源、２はマニホール
ド、3a〜3fはコリメータ、4a〜4fおよび5a〜5fは単結
晶、6a〜6fはＸ線検出器、７はマニホールド２とコリメ
ータ3a〜3fとの間に配置された不透明な被測定物であ
る。
ド、3a〜3fはコリメータ、4a〜4fおよび5a〜5fは単結
晶、6a〜6fはＸ線検出器、７はマニホールド２とコリメ
ータ3a〜3fとの間に配置された不透明な被測定物であ
る。
第１図において本発明方法を実施するとき、被測定物７
がマニホールド２とコリメータ3a〜3fとの間に配置さ
れ、Ｘ線源１か出射された第２図のごとき白色Ｘ線は、
マニホールド２を通ることにより多数のビーム（直径約
1mm程度）となり、これらビームが上記被測定物７の幅
方向全域にわたって照射される。
がマニホールド２とコリメータ3a〜3fとの間に配置さ
れ、Ｘ線源１か出射された第２図のごとき白色Ｘ線は、
マニホールド２を通ることにより多数のビーム（直径約
1mm程度）となり、これらビームが上記被測定物７の幅
方向全域にわたって照射される。
こうして被測定物７に照射された白色Ｘ線は、その被測
定物７を透過し、該透過Ｘ線（透過線）がコリメータ3a
〜3fをそれぞれ通る。
定物７を透過し、該透過Ｘ線（透過線）がコリメータ3a
〜3fをそれぞれ通る。
この際、コリメータ3a〜3fは被測定物７から反射される
Ｘ線等のノイズを遮断する。
Ｘ線等のノイズを遮断する。
コリメータ3a〜3fを透過した透過線は単結晶4a〜4f、5a
〜5fによりそれぞれラウエ条件、ブラッグ条件で回折さ
れて第３図のごとき特性Ｘ線となり、これら特性Ｘ線が
Ｘ線検出器6a〜6fへ入射される。
〜5fによりそれぞれラウエ条件、ブラッグ条件で回折さ
れて第３図のごとき特性Ｘ線となり、これら特性Ｘ線が
Ｘ線検出器6a〜6fへ入射される。
Ｘ線検出器6a〜6fは例えば半導体検出器、シンチレーシ
ョン管等からなり、上記特性Ｘ線がこれらＸ線検出器6a
〜6fへ入射されたとき、該各Ｘ検出器6a〜6fは、前記被
測定物７の組成分布濃度に応じた特性Ｘ線のエネルギを
測定する。
ョン管等からなり、上記特性Ｘ線がこれらＸ線検出器6a
〜6fへ入射されたとき、該各Ｘ検出器6a〜6fは、前記被
測定物７の組成分布濃度に応じた特性Ｘ線のエネルギを
測定する。
さらにＸ線検出器6a〜6fは、検出したＸ線エネルギの強
度に応じた信号を図示しない電子計算機へ入力し、該電
子計算機はその入力信号を電気的ないし電子的に演算し
て前記被測定物７の組成を解析する。
度に応じた信号を図示しない電子計算機へ入力し、該電
子計算機はその入力信号を電気的ないし電子的に演算し
て前記被測定物７の組成を解析する。
なお、白色Ｘ線を出射するための上記Ｘ線源１として
は、電圧200kv、350kv程度の高圧のものが用いられ、Ｘ
線管内のターゲットとしてはタングステンが用いられ
る。
は、電圧200kv、350kv程度の高圧のものが用いられ、Ｘ
線管内のターゲットとしてはタングステンが用いられ
る。
マニホールド２は、前述したごとく白色Ｘ線を直径約1m
m程度のビームに分岐するが、この際、各ビームと各コ
リメータ3a〜3fとの光軸を互いに一致させる。
m程度のビームに分岐するが、この際、各ビームと各コ
リメータ3a〜3fとの光軸を互いに一致させる。
被測定物としてはSiO2とGeO2とからなる光ファイバ用の
多孔質母材をあげることができ、該被測定物７がSi、Ge
などの二成分からなるとき、前記ビーム数を20以上とす
ることにより分析精度が高まる。
多孔質母材をあげることができ、該被測定物７がSi、Ge
などの二成分からなるとき、前記ビーム数を20以上とす
ることにより分析精度が高まる。
被測定物７が上記に例示したごとき二成分であるとき、
単結晶4a〜4f、5a〜5fにより回折したエネルギE1、E2に
ついて、それぞれ所定の測定を行なう。
単結晶4a〜4f、5a〜5fにより回折したエネルギE1、E2に
ついて、それぞれ所定の測定を行なう。
その他、被測定物７の測定開始前、すなわちマニホール
ド２とコリメータ3a〜3fとの間に被測定物７を配置する
前、当該被測定物７がない状態でのＸ線強度を測定して
おき、その後、前述した測定分析を実施する。
ド２とコリメータ3a〜3fとの間に被測定物７を配置する
前、当該被測定物７がない状態でのＸ線強度を測定して
おき、その後、前述した測定分析を実施する。
つぎに本発明方法の他実施例を第４図、第５図により説
明する。
明する。
この実施例では、Ｘ線源から出射された白色Ｘ線をPbか
らなる遮蔽板８により絞った後、これを被測定物７へ照
射し、その後の透過線をさらにコリメータ3g〜3sにより
絞って検出器6g〜6sへ入射する。
らなる遮蔽板８により絞った後、これを被測定物７へ照
射し、その後の透過線をさらにコリメータ3g〜3sにより
絞って検出器6g〜6sへ入射する。
この際、コリメータ3g〜3s内には第５図のごとく単結晶
9g〜9sを配置し、次式のごときラウエ条件、ブラッグ条
件を満たすエネルギを取り出す。
9g〜9sを配置し、次式のごときラウエ条件、ブラッグ条
件を満たすエネルギを取り出す。
ｎλ＝2d sinθnhc/E＝2d sinθ n:整数、h:プランク定数、c:光速、 E:エネルギ（kv）、d:格子間隔。
第４図、第５図の実施例では、第７図のごとく一つのエ
ネルギのみが回折されるが、前記のごとく二成分からな
る被測定物７の組成を分析するときは、これら組成に応
じた各エネルギE1、E2が測定できるよう、単結晶9g〜9s
の角度θを交互に変える。
ネルギのみが回折されるが、前記のごとく二成分からな
る被測定物７の組成を分析するときは、これら組成に応
じた各エネルギE1、E2が測定できるよう、単結晶9g〜9s
の角度θを交互に変える。
第８図は、前記第１図の実施例における単結晶4a〜4f、
5a〜5fを回転台10a〜10f上に配置してこれら単結晶の角
度θが変更できるように、すなわ所定の二成分に対応し
たエネルギE1、E2が取り出せるようにしたものである。
5a〜5fを回転台10a〜10f上に配置してこれら単結晶の角
度θが変更できるように、すなわ所定の二成分に対応し
たエネルギE1、E2が取り出せるようにしたものである。
つぎに本発明方法のより具体的な実施例につき説明す
る。
る。
VAD法により外径（直径）80mm、長さ1000mmの光ファイ
バ用多孔質母材を作製するとき、これを被測定物として
当該被測定物の組成をオンラインで分析するようにし
た。
バ用多孔質母材を作製するとき、これを被測定物として
当該被測定物の組成をオンラインで分析するようにし
た。
この際の測定手段は概ね第１図の通りであり、白色Ｘ線
源としては100kvのものを、マニホールドとしては30本
のＸ線ビームが得られるものをそれぞれ用いた。
源としては100kvのものを、マニホールドとしては30本
のＸ線ビームが得られるものをそれぞれ用いた。
各Ｘ線ビームは被測定物を透過後、コリメータの光軸と
一致させるようにし、コリメータの後には第８図のよう
にして単結晶を配置し、その単結晶からのエネルギが検
出器へ入射されるようにした。
一致させるようにし、コリメータの後には第８図のよう
にして単結晶を配置し、その単結晶からのエネルギが検
出器へ入射されるようにした。
単結晶支持用の回転台としては、秒単位の回転角度が精
密に制御できるターンテーブルを用い、該回転台による
各単結晶の角度θは、上記白色Ｘ線源を100kvとしたの
で、E1＝50kv、E2＝80kvのエネルギが取り出せるよう調
整した。
密に制御できるターンテーブルを用い、該回転台による
各単結晶の角度θは、上記白色Ｘ線源を100kvとしたの
で、E1＝50kv、E2＝80kvのエネルギが取り出せるよう調
整した。
上記の条件により被測定物たる光ファイバ用多孔質母材
の組成を分析したところ、その一断面の測定がわずか数
10秒で行なえ、しかも当該分析結果に基づいて多孔質母
材の合成条件を制御することにより、所望屈折率分布の
多孔質母材が得られた。
の組成を分析したところ、その一断面の測定がわずか数
10秒で行なえ、しかも当該分析結果に基づいて多孔質母
材の合成条件を制御することにより、所望屈折率分布の
多孔質母材が得られた。
『発明の効果』 以上説明した通り、本発明方法によるときは、Ｘ線源、
被測定物の走査が不要であり、被測定物の組成が短時間
でわかり、製造ライン上にある被測定物であってもこれ
をオンラインで組成分析できる。
被測定物の走査が不要であり、被測定物の組成が短時間
でわかり、製造ライン上にある被測定物であってもこれ
をオンラインで組成分析できる。
第１図は本発明方法の一実施例を略示した説明図、第２
図はその一実施例における白色Ｘ線のエネルギ特性図、
第３図はその一実施例における特性Ｘ線のエネルギ特性
図、第４図は本発明方法の他実施例を略示した説明図、
第５図はその他実施例におけるコリメータの断面図、第
６図はその他実施例における白色Ｘ線のエネルギ特性
図、第７図はその他実施例にける特性Ｘ線のエネルギ特
性図、第８図は上記一実施例における単結晶を回転台に
より支持した例を示した略示説明図である。 １……Ｘ線源 ２……マニホールド 3a〜3f……コリメータ 3g〜3s……コリメータ 4a〜4f……単結晶 5a〜5f……単結晶 6a〜6f……Ｘ線検出器 ７……被測定物 ８……遮蔽板 9g〜9s……単結晶 10a〜10f……回転台
図はその一実施例における白色Ｘ線のエネルギ特性図、
第３図はその一実施例における特性Ｘ線のエネルギ特性
図、第４図は本発明方法の他実施例を略示した説明図、
第５図はその他実施例におけるコリメータの断面図、第
６図はその他実施例における白色Ｘ線のエネルギ特性
図、第７図はその他実施例にける特性Ｘ線のエネルギ特
性図、第８図は上記一実施例における単結晶を回転台に
より支持した例を示した略示説明図である。 １……Ｘ線源 ２……マニホールド 3a〜3f……コリメータ 3g〜3s……コリメータ 4a〜4f……単結晶 5a〜5f……単結晶 6a〜6f……Ｘ線検出器 ７……被測定物 ８……遮蔽板 9g〜9s……単結晶 10a〜10f……回転台
フロントページの続き (72)発明者 安倍 文彦 千葉県市原市八幡海岸通６番地 古河電気 工業株式会社千葉電線製造所内 (56)参考文献 特開 昭56−22925（ＪＰ，Ａ) 特公 昭43−21920（ＪＰ，Ｂ１) 1979年東大出版会発行「Ｘ線回折技術」 第14頁図１．４
Claims (1)
- 【請求項１】被測定物の測定部間全域にわたって白色Ｘ
線を照射するためのＸ線源と、被測定物を透過した後の
透過線（透過白色Ｘ線）を複数に分岐するための複数の
コリメータと、該各透過線をそれぞれ回折してこれら透
過線を複数種の特性Ｘ線として取り出すための複数の単
結晶と、該各単結晶を経て入射される複数種の特性Ｘ線
エネルギを測定するための複数のＸ線検出器とを備えて
いること、および、 Ｘ線源から出射される白色Ｘ線の照射領域側に配置され
て互いに隣接している各Ｘ線検出器が、そのＸ線源とそ
れぞれ対面していること、被測定物がＸ線源と各Ｘ線検
出器との間において定位置に配置されていること、各コ
リメータが被測定物と各Ｘ線検出器との間にあって互い
に隣接して配置されていること、各単結晶も、被測定物
と各Ｘ線検出器との間に配置されていて、各コリメータ
により分岐された透過線を各Ｘ線検出器へ入射させるた
めに、これらコリメータ、Ｘ線検出器とそれぞれ対応し
ていること、および、 上記の手段を介して被測定物の組成を分析するときに、 Ｘ線源から出射した白色Ｘ線を被測定物の測定部間全域
にわたって照射すること、その被測定物を透過した後の
透過線を各コリメータおよび各単結晶により分岐かつ回
折すること、これら分岐、回折により取り出された各特
性Ｘ線を各Ｘ線検出器へ入射させること、該各Ｘ線検出
器により各特性Ｘ線のエネルギ強度を各別に測定して被
測定物の組成を分析することを特徴とするＸ線による被
測定物の組成分析方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60082078A JPH0721469B2 (ja) | 1985-04-17 | 1985-04-17 | Ｘ線による被測定物の組成分析方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60082078A JPH0721469B2 (ja) | 1985-04-17 | 1985-04-17 | Ｘ線による被測定物の組成分析方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61240146A JPS61240146A (ja) | 1986-10-25 |
| JPH0721469B2 true JPH0721469B2 (ja) | 1995-03-08 |
Family
ID=13764425
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60082078A Expired - Lifetime JPH0721469B2 (ja) | 1985-04-17 | 1985-04-17 | Ｘ線による被測定物の組成分析方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0721469B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2014065412A1 (ja) * | 2012-10-26 | 2014-05-01 | 株式会社 東芝 | Ｘ線コンピュータ断層撮影装置、ｘ線検出装置およびｘ線検出モジュール |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6239747A (ja) * | 1985-08-14 | 1987-02-20 | Furukawa Electric Co Ltd:The | Ｘ線による被測定物の組成分析方法 |
| WO2014109374A1 (ja) * | 2013-01-10 | 2014-07-17 | 株式会社 東芝 | Ｘ線コンピュータ断層撮影装置、医用画像処理装置、および医用画像処理方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5622925A (en) * | 1979-08-01 | 1981-03-04 | Furukawa Electric Co Ltd:The | Analytic measurement method for base material for optical fiber |
-
1985
- 1985-04-17 JP JP60082078A patent/JPH0721469B2/ja not_active Expired - Lifetime
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| １９７９年東大出版会発行「Ｘ線回折技術」第１４頁図１．４ |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2014065412A1 (ja) * | 2012-10-26 | 2014-05-01 | 株式会社 東芝 | Ｘ線コンピュータ断層撮影装置、ｘ線検出装置およびｘ線検出モジュール |
| JP2014083361A (ja) * | 2012-10-26 | 2014-05-12 | Toshiba Corp | Ｘ線コンピュータ断層撮影装置、ｘ線検出装置およびｘ線検出モジュール |
| US9693745B2 (en) | 2012-10-26 | 2017-07-04 | Toshiba Medical Systems Corporation | X-ray computed tomography apparatus, x-ray detection apparatus, and x-ray detection module |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61240146A (ja) | 1986-10-25 |
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