SU1257482A1 - Рентгенодифракционный способ исследовани структурных нарушений в тонких приповерхностных сло х кристаллов - Google Patents
Рентгенодифракционный способ исследовани структурных нарушений в тонких приповерхностных сло х кристаллов Download PDFInfo
- Publication number
- SU1257482A1 SU1257482A1 SU843764559A SU3764559A SU1257482A1 SU 1257482 A1 SU1257482 A1 SU 1257482A1 SU 843764559 A SU843764559 A SU 843764559A SU 3764559 A SU3764559 A SU 3764559A SU 1257482 A1 SU1257482 A1 SU 1257482A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- angle
- crystal
- detector
- rays
- surface layers
- Prior art date
Links
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
Изобретение позвол ет получать с высокой чувствительностью информацию о структуре тонких приповерхностных слоев до толщины 1 нм на двухкристальном спектрометре. Угловое распределение интенсивности при различных углах отворота .исследуемого кристалла от точного брэгговского угла определ ют с помощью детектора со щелью, линейно перемещающегос в плоскости, перпендикул рной плоскости отражени . В используемой скольз щей Брэгг-Лауэ-геометрии рентгеновские лучи, удовлетвор ющие условию дифракции, падают на кристалл под малым скольз щим углом Ф . Отражающие плоскости разориентированы от направлени нормали к поверхности на небольшой угол ( 4°. В рассматриваемой геометр1-ш дифракции возникает св зь между углом отворота & исследуемого кристалла от точного угла Брэгга и углом выхода дифрагированного излучени с поверхностью кристалла: h Ьо Ь (9 ° т.е. изменение угла 9 на несколько дес тков секунд приводит к изменению угла Jj, на несколько градусов. Такие изменени могут быть зафиксированы с помощью щели детектора при ее перемещении . 1 ил.
Description
Изобретение относитс к рентгено- дифракционньм методам исследовани структуры приповерхностных слоев кристаллов и может быть использовано дл неразрушающего контрол в технологии производства материалов и приборов .
Цель изобретени - повьшение чувствительности и упрощение аппаратурной реализации путем использовани дл исследовани двухкристального спектрометра.
На чертеже представлена схема реализации предлагаемого способа.
Устройство дл реализации способа содержит источник 1 рентгеновского излучени , кристалл-монохроматор 2, щели 3 и 4 дл коллимации отраженного от кристалла-монохроматора рентгеновского излучени , исследуемый кристалл 5 и детектор 6 рентгеновского излучени со щелью, линейно перемещающийс в вертикальной плоскости . На чертеже показана только осева лини рентгеновского пучка.
Пример. Рентгеновское излучение от источника 1 падает на кристалл-монохроматор 2, Наход щийс в положении, удовлетвор ющем дифракции в геометрии Брэгга. Рентгеновские лучи, отраженные от кристалла-монохроматора , коллимируютс в горизонтальной плоскости щел ми 3 и 4 и падают под малым скольз щим углом ф на исследуемый кристалл. Кристалл-устанавливают под углом Брэгга дл се- мейства дифракционных плоскостей, от клоненных от направлени нормали к поверхности кристалла на небольшой угол q. После получени отрайсени кристалл отворачивают на некоторый угол О от точного положени Брэгга и регистрируют распределение интенсивности дифрагированных от исследуемого кристалла лучей с помощью детектора 6 со щелью, линейно перемещающегос в плоскости, перпендикул рной плоскости отражени . В рассма риваемой геометрии дифракции возникает св зь между углом отворота б исследуемого кристалла от точного угла Брэгга и углом выхода $ j дифрагированного пучка с поверхностью кристал ла: 1-е, т е,Ф,(в 0). Отсюда следует, что изменение угла 9 на несколько дес тков секунд приводит к изменению угла на несколько градусов. Такие изменени Ф, могут
0
5
0
5
0
5
5
5
быть З афиксированы при помощи щели, установленной перед детектором в плоскости, перпендикул рной плоскости отражени , и видимой с поверхности кристалла под углом 0,1-0,2°. На стандартных дифрактометрах это может быть осуществлено без значительных потерь в интенсивности при размерах щели пор дка 0,1 мм. Таким образом, сканиру детектор со щелью в плоскости , перпендикул рной плоскости отражени , измер ют интенсивность ),„ и угол , дифрагированного излучени в зависимости от угла отворота 9 .
Дл идеального кристалла функци приведенной интенсивности Р(0) 1|-„ ((,) }, вл етс константой, и только за счет нарушений кристаллической структуры в приповерхностном слое кристалла этот закон может не выполн тьс . Записыва угловое распределение интенсивности 1 при различных углах отворота 0 с помощью детектора со щелью, линейно перемещающегос в плоскости, перпендикул рной плоскости отражени , получают набор значений Ij, и j , по которым стро т график функции Р(9), позвол ющий судить о совершенстве структуры тонкого приповерхностного сло кристалла в кристаллографических направлени х , параллельных поверхности, и о размере дефектной области по глубине кристалла.
Использование в указанной схеме скольз щих углов падени рентгеновских лучей на кристалл многократно уменьшает глубину проникновени излучени в кристалл и длину экстинк- ции, что позвол ет исследовать структуру тонких приповерхностных слоев при незначительных углах отворота 9 и достигать толщин пор дка 1 им при стандартных источниках рентгеновского излучени . Так, дл получени информации о структуре нарушенного сло на глубине 1 нм методом трехкристальной рентгеновской дифрак; тометрии в стандартной брэгговской геометрии требуетс отворот исследуемого кристалла на угол & 6000, а в предлагаемой геометрии с использованием скольз щих углов падени - только на 250 .
Кроме того, использование дл измерени интенсивности детектора со щелью позвол ет значительно уменьшить фон и увеличить соотношение сигнал/фон приблизительно в 10 раз.
Claims (1)
- Формула изобретениРентгенодифракционный способ исследовани структурных нарушений в тонких приповерхностных сло х кристаллов , заключающийс в том, что исследуемый кристалл облучают монохро- матизированным и коллимированным рентгеновским излучением, вьюод т в отражающее положение дл выбранных кристаллографических плоскостей, регистрируют угловое распределение ин- тенсивности дифрагированных лучей с помощью детектора при отклонени исследуемого кристалла от точного угла Брэгга и по нему суд т о структуре приповерхностных слоев, отличающийс тем, что, с целью повышени чувствительности и упрощени аппаратурной реализации путем использовани дл исследовани двухкристального спектрометра, в качестве отражающих выбирают кристаллографические плоскости, отклоненные от нормали к поверхности на угол Ср 4 , при котором падающий и отраженный лучи составл ют малые скольз щие углы д и $, с входной поверхностью исследуемого кристалла, причем $д + h Z/Cf/sinSj, - точньш угол Брэгга, и перед детектором устанавливают щель, которую перемещают в направлении, перпендикул рном плоскости отражени .Редактор А. ОгарСоставитель Т. ВладимироваТехред Л.Сердюкова Корректор А. ОбручарЗаказ 4908/39 Тираж 778ПодписноеЗВНИЙПИ Государственного комитета СССРпо делам изобретений и открытий 113035, Москва, Ж-35, Раушска наб., д. 4/5Производственно-полиграфическое предпри тие, г. Ужгород, ул. Проектна , 4
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU843764559A SU1257482A1 (ru) | 1984-07-03 | 1984-07-03 | Рентгенодифракционный способ исследовани структурных нарушений в тонких приповерхностных сло х кристаллов |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU843764559A SU1257482A1 (ru) | 1984-07-03 | 1984-07-03 | Рентгенодифракционный способ исследовани структурных нарушений в тонких приповерхностных сло х кристаллов |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU1257482A1 true SU1257482A1 (ru) | 1986-09-15 |
Family
ID=21128215
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU843764559A SU1257482A1 (ru) | 1984-07-03 | 1984-07-03 | Рентгенодифракционный способ исследовани структурных нарушений в тонких приповерхностных сло х кристаллов |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU1257482A1 (ru) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5280176A (en) * | 1992-11-06 | 1994-01-18 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of Commerce | X-ray photoelectron emission spectrometry system |
RU2450261C2 (ru) * | 2007-03-06 | 2012-05-10 | Термо Фишер Сайентифик Инк. | Прибор для рентгеновского анализа |
RU2466384C2 (ru) * | 2010-12-01 | 2012-11-10 | Учреждение Российской академии наук Институт кристаллографии им. А.В. Шубникова РАН | Способ и устройство для регистрации кривых дифракционного отражения |
RU2539787C1 (ru) * | 2013-09-06 | 2015-01-27 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт кристаллографии им. А.В. Шубникова Российской академии наук, (ИК, РАН) | Способ и устройство для регистрации кривых дифракционного отражения |
RU2674584C1 (ru) * | 2017-12-15 | 2018-12-11 | Федеральное государственное учреждение "Федеральный научно-исследовательский центр "Кристаллография и фотоника" Российской академии наук" | Установка для топо-томографических исследований образцов |
-
1984
- 1984-07-03 SU SU843764559A patent/SU1257482A1/ru active
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Авторское свидетельство СССР № 1103126, кл. G 01 N 23/20, 1983. Афанасьев A.M. и др. Трехкристаль- на рентгеновска дифрактометри в исследовании тонких нарушенных слоев. - Кристаллографи , вьш. 1, т. 26, с. 28-34, 1981. * |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5280176A (en) * | 1992-11-06 | 1994-01-18 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of Commerce | X-ray photoelectron emission spectrometry system |
RU2450261C2 (ru) * | 2007-03-06 | 2012-05-10 | Термо Фишер Сайентифик Инк. | Прибор для рентгеновского анализа |
RU2466384C2 (ru) * | 2010-12-01 | 2012-11-10 | Учреждение Российской академии наук Институт кристаллографии им. А.В. Шубникова РАН | Способ и устройство для регистрации кривых дифракционного отражения |
RU2539787C1 (ru) * | 2013-09-06 | 2015-01-27 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт кристаллографии им. А.В. Шубникова Российской академии наук, (ИК, РАН) | Способ и устройство для регистрации кривых дифракционного отражения |
RU2674584C1 (ru) * | 2017-12-15 | 2018-12-11 | Федеральное государственное учреждение "Федеральный научно-исследовательский центр "Кристаллография и фотоника" Российской академии наук" | Установка для топо-томографических исследований образцов |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
RU2012872C1 (ru) | Способ получения изображения внутренней структуры объекта | |
US6359964B1 (en) | X-ray analysis apparatus including a parabolic X-ray mirror and a crystal monochromator | |
US7076024B2 (en) | X-ray apparatus with dual monochromators | |
SU1257482A1 (ru) | Рентгенодифракционный способ исследовани структурных нарушений в тонких приповерхностных сло х кристаллов | |
JP3968350B2 (ja) | X線回折装置及び方法 | |
US4928294A (en) | Method and apparatus for line-modified asymmetric crystal topography | |
RU2555191C1 (ru) | Устройство для рентгенофлуоресцентного анализа материалов с формированием потока возбуждения плоским рентгеновским волноводом-резонатором | |
Egorov et al. | Peculiarities of the planar waveguide-resonator application for TXRF spectrometry | |
US2926258A (en) | X-ray reflection microscopy and diffraction apparatus and method | |
Blagov et al. | Lattice parameter local determination for trigonal, hexagonal, and tetragonal crystal systems using several coplanar X-ray reflections | |
SU1103126A1 (ru) | Способ определени структурных характеристик тонких приповерхностных слоев монокристаллов | |
JP2921597B2 (ja) | 全反射スペクトル測定装置 | |
SU1141321A1 (ru) | Рентгеновский спектрометр | |
SU1133519A1 (ru) | Способ определени структурных характеристик монокристаллов | |
SU1322797A1 (ru) | Способ определени микродефектов в монокристаллах | |
JPH0625740B2 (ja) | 結晶基板の薄膜層内欠陥検出方法 | |
SU1702265A1 (ru) | Способ прецизионного измерени периодов кристаллической решетки | |
SU1622803A1 (ru) | Способ определени степени нарушенности поверхности или объема монокристаллических пластин | |
RU2166184C2 (ru) | Рентгеновский рефлектометр | |
RU2370757C2 (ru) | Устройство для исследования совершенства структуры монокристаллических слоев | |
JPH02107952A (ja) | 粉末のx線回析測定方法 | |
JPH04329347A (ja) | 薄膜試料x線回折装置 | |
JPH0721469B2 (ja) | X線による被測定物の組成分析方法 | |
SU1497533A1 (ru) | Способ контрол структурного совершенства монокристаллов | |
SU1599732A1 (ru) | Способ определени структурных искажений приповерхностных слоев совершенного монокристалла |