SU1622803A1 - Способ определени степени нарушенности поверхности или объема монокристаллических пластин - Google Patents

Способ определени степени нарушенности поверхности или объема монокристаллических пластин Download PDF

Info

Publication number
SU1622803A1
SU1622803A1 SU884419421A SU4419421A SU1622803A1 SU 1622803 A1 SU1622803 A1 SU 1622803A1 SU 884419421 A SU884419421 A SU 884419421A SU 4419421 A SU4419421 A SU 4419421A SU 1622803 A1 SU1622803 A1 SU 1622803A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
degree
disturbance
width
crystal
determining
Prior art date
Application number
SU884419421A
Other languages
English (en)
Inventor
Иван Патваканович Карабеков
Давид Левонович Егикян
Original Assignee
Предприятие П/Я М-5629
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Предприятие П/Я М-5629 filed Critical Предприятие П/Я М-5629
Priority to SU884419421A priority Critical patent/SU1622803A1/ru
Application granted granted Critical
Publication of SU1622803A1 publication Critical patent/SU1622803A1/ru

Links

Landscapes

  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Abstract

Изобретение относитс  к рентгенографическим неразрушающим способам определени  степени нарушенности монокристаллов. Цель изобретени  - повышение экспресс- ности и упрощение метода определени  степени совершенства поверхности или объема монокристаллов. Степень нарушенности кристалла определ етс  путем измерени  разности между шириной дифрагированного на образце в дисперсионной геометрии монохроматического пучка синхротронного излучени  и шириной коллимирующей щели, установленной на рассто нии, обеспечивающем требуемое разрешение степени нарушенности образца . Новым в способе  вл етс  то, что степень нарушенности определ етс  путем одного измерени  ширины дифрагированного пучка. 2 ил., 1 табл.

Description

сл
с
Изобретение относитс  к рентгенографическим неразрушающим способам определени  степени нарушенности монокристаллов.
Целью изобретени   вл етс  упрощение способа и повышение его экспрессно- сти.
На фиг.1 схематически показано взаимное расположение кристаллов, пучков, кол- лимирующей щели и регистратора дл  осуществлени  предлагаемого способа в геометрии Брэгг-Брэгг; на фиг.2 - то же, в геометрии Брэгг-Лауэ.
Сущность способа заключаетс  в следующем .
Пучок синхротронного излучени  1 кол- лимируетс  с помощю пр молинейной щели 2 шириной h0, установленной на рассто нии L h + 2 + з, от входной поверхности регистрирующего устройства двухкристального спектрометра, последовательно отражаетс 
от кристалла монохроматора 3, изготовленного из образца с высокой степенью совершенства , и исследуемого образца 4 и измер етс  расширение поперечного размера дифрагированного от исследуемого монокристалла пучка в плоскости 5, перпендикул рной оси дифрагированного пучка, Полученна  разность Д h между шириной коллимирующей щели h0 и шириной дифрагированного пучка h определ етс  формулой
о
fO
э
00
о
OJ
.
где Ј иЈ2 соответственно ширины кривых качани  кристалла монохром торл и исследуемого образца;
L- рассто ние от коллимирующей щели до детектора, измер ющего поперечный разрез дифрагированного пучка.
Так как степень нарушенности кристалла определ ет ширину кривой качани , то измеренна  величина Ah пр мо пропорциональна е + к 2 , соответственно, количеству дефектов в исследуемом кристалле, есл,, е 1 уже измерено независимым методом и дл  всех исследуемых образцов не мен етс . К примьру, если вз ть рассто ние L. равное 100 м, а изменение величины кривой качани  исследуемого образца относительно эталона 0,5 то изменение Ah составит величину мм. Так.как расширение щели на 0,1 мм легко может быть изме- рего, то соответственно изменение ка на величину -0,05  витс  разрешением предлагаемого способа.
Использование синхротронного излучени , имеющего лкую диаграмму направленности , высокую интенсивность, равномерность интенсивности в плоскости орбиты, позвол ет создавать узкие, прот женные в горизонтальной плоскости щелэ- вые пучки, перекрывающие диаметры полупроводниковых кремниевых шайб, служащих в качестве основного материала дл  создани  элементов современной электроники . Перемещение исследуемого монокри- сталла в плоскости, совпадающей с кристаллографической плоскостью, без изменени  угла дифракции позвол ет сканировать всю поверхность кристалла и получить информацию о структурном совершенстве всего кристалла.
При установке двухкристальчого (п, +п) спектрометра в геометрии Брэгг-Брэгг получаетс  информаци  о структурном совершенстве приповерхностного сло  кристалла (фиг.1). При установке спектрометра в геометрии Брэгг-Лауэ получаетс  информаци  о структурном совершенстве объема кристалла (фиг.2), Мала  величина коэффициента поглощени  /j при аномальном прохождении рентгеновских лучей позвол ет в геометрии Брэгг-Борман получать информацию о структурном совершенстве монокристаллов в несколько дес тков миллиметров .
П р и м е р. С использованием предлагаемого способа в лабораторных услови х на пучки синхрогронного излучени  электронного синхротрона провод т исследова- ни  степени нарушенности монокристаллов кремни  и германи . Исследовани  провод т с помощью двухкристального (п, +п) спектрометра, собранного на основе стандартного гониометра ГУР-5 на длине волны
,52А.
В качестве нарушенных образцов используют монокристаллы германи  с примесью атомов Ga, As, Си в концентрации 10ia ат/см3 и монокристаллы кремни  с
наличием ростовых дислокаций и с поверхностью , прошлифованной абразивными порошками различней зернистости (7,20,50 мкм).
Moi-юхромртор двухкристального спектрометра изготовлен из совершенного монокристалла Si (III). Рассто ние от коллимирующей щели до регистратора ширины дифрагированного пучка - 8 м. Ширина коллимирующей щели ho 0,5 мм.
В таблице представлены результаты исследовани  степени нарушенности поверхности и объема образцов монокристаллов Si и Ge с помощью предлагаемого способа (ширина коллиматора h0 0,5 мм).

Claims (1)

  1. Формула изобретени 
    Способ определени  степени нарушенности поверхности или объема монокристаллических пластин, включающий облучение образца коллимированным с помощью пр молинейной щели монохроматическим пучком синхротроиного излучени , регистрацию дифрагированного от образца излучени  в плоскости дифракции и анализ полученных данных, отличающийс 
    тем, что, с целью упрощени  способа и повышени  его экспрессное™, исследуемиЗ кристалл устанавливают в дисперсионную геометрию дифракции, измер ю ширину дифрагированного от образца пучка, сравнивают эту ширину с шириной щели коллиматора и по разности этих величин суд т об относительной степени нарушенности кристалла .
    фиг.1
SU884419421A 1988-05-04 1988-05-04 Способ определени степени нарушенности поверхности или объема монокристаллических пластин SU1622803A1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU884419421A SU1622803A1 (ru) 1988-05-04 1988-05-04 Способ определени степени нарушенности поверхности или объема монокристаллических пластин

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU884419421A SU1622803A1 (ru) 1988-05-04 1988-05-04 Способ определени степени нарушенности поверхности или объема монокристаллических пластин

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU1622803A1 true SU1622803A1 (ru) 1991-01-23

Family

ID=21372480

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU884419421A SU1622803A1 (ru) 1988-05-04 1988-05-04 Способ определени степени нарушенности поверхности или объема монокристаллических пластин

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU1622803A1 (ru)

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Рентгенотехника: Справочник. /Под ред. Клюева В.В. - М.: Машиностроение, 1980, кн.1,2. Русаков А.А. Рентгенографи металлов - М.: Атомиздат, 1977, с. 262-265. *

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2012872C1 (ru) Способ получения изображения внутренней структуры объекта
Bowen et al. High resolution X-ray diffractometry and topography
US8437450B2 (en) Fast measurement of X-ray diffraction from tilted layers
Kikuta et al. Measurements on local variations in spacing and orientation of the lattice plane of silicon single crystals by X-ray double-crystal topography
Mitsunaga X-ray thin-film measurement techniques
US4928294A (en) Method and apparatus for line-modified asymmetric crystal topography
JP3968350B2 (ja) X線回折装置及び方法
SU1622803A1 (ru) Способ определени степени нарушенности поверхности или объема монокристаллических пластин
SU1257482A1 (ru) Рентгенодифракционный способ исследовани структурных нарушений в тонких приповерхностных сло х кристаллов
Masson et al. On the use of one-dimensional position sensitive detector for x-ray diffraction reciprocal space mapping: Data quality and limitations
JPH11304729A (ja) X線測定方法及びx線測定装置
JP2905659B2 (ja) X線装置と該装置を用いた評価解析方法
SU1133519A1 (ru) Способ определени структурных характеристик монокристаллов
SU1103126A1 (ru) Способ определени структурных характеристик тонких приповерхностных слоев монокристаллов
SU881592A2 (ru) Рентгеновский спектрометр
SU1702265A1 (ru) Способ прецизионного измерени периодов кристаллической решетки
SU584234A1 (ru) Способ измерени параметров решетки монокристаллов и устройство дл его реализации
SU1497533A1 (ru) Способ контрол структурного совершенства монокристаллов
SU920480A1 (ru) Рентгеновский спектрометр
SU881591A1 (ru) Способ рентгеноструктурного анализа
JPS61137052A (ja) 格子定数の高精度測定装置
JPH04329347A (ja) 薄膜試料x線回折装置
RU2166184C2 (ru) Рентгеновский рефлектометр
SU1141321A1 (ru) Рентгеновский спектрометр
JPH03289547A (ja) 格子定数測定方法及び測定装置