SU1622803A1 - Способ определени степени нарушенности поверхности или объема монокристаллических пластин - Google Patents
Способ определени степени нарушенности поверхности или объема монокристаллических пластин Download PDFInfo
- Publication number
- SU1622803A1 SU1622803A1 SU884419421A SU4419421A SU1622803A1 SU 1622803 A1 SU1622803 A1 SU 1622803A1 SU 884419421 A SU884419421 A SU 884419421A SU 4419421 A SU4419421 A SU 4419421A SU 1622803 A1 SU1622803 A1 SU 1622803A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- degree
- disturbance
- width
- crystal
- determining
- Prior art date
Links
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
Изобретение относитс к рентгенографическим неразрушающим способам определени степени нарушенности монокристаллов. Цель изобретени - повышение экспресс- ности и упрощение метода определени степени совершенства поверхности или объема монокристаллов. Степень нарушенности кристалла определ етс путем измерени разности между шириной дифрагированного на образце в дисперсионной геометрии монохроматического пучка синхротронного излучени и шириной коллимирующей щели, установленной на рассто нии, обеспечивающем требуемое разрешение степени нарушенности образца . Новым в способе вл етс то, что степень нарушенности определ етс путем одного измерени ширины дифрагированного пучка. 2 ил., 1 табл.
Description
сл
с
Изобретение относитс к рентгенографическим неразрушающим способам определени степени нарушенности монокристаллов.
Целью изобретени вл етс упрощение способа и повышение его экспрессно- сти.
На фиг.1 схематически показано взаимное расположение кристаллов, пучков, кол- лимирующей щели и регистратора дл осуществлени предлагаемого способа в геометрии Брэгг-Брэгг; на фиг.2 - то же, в геометрии Брэгг-Лауэ.
Сущность способа заключаетс в следующем .
Пучок синхротронного излучени 1 кол- лимируетс с помощю пр молинейной щели 2 шириной h0, установленной на рассто нии L h + 2 + з, от входной поверхности регистрирующего устройства двухкристального спектрометра, последовательно отражаетс
от кристалла монохроматора 3, изготовленного из образца с высокой степенью совершенства , и исследуемого образца 4 и измер етс расширение поперечного размера дифрагированного от исследуемого монокристалла пучка в плоскости 5, перпендикул рной оси дифрагированного пучка, Полученна разность Д h между шириной коллимирующей щели h0 и шириной дифрагированного пучка h определ етс формулой
о
fO
э
00
о
OJ
.
где Ј иЈ2 соответственно ширины кривых качани кристалла монохром торл и исследуемого образца;
L- рассто ние от коллимирующей щели до детектора, измер ющего поперечный разрез дифрагированного пучка.
Так как степень нарушенности кристалла определ ет ширину кривой качани , то измеренна величина Ah пр мо пропорциональна е + к 2 , соответственно, количеству дефектов в исследуемом кристалле, есл,, е 1 уже измерено независимым методом и дл всех исследуемых образцов не мен етс . К примьру, если вз ть рассто ние L. равное 100 м, а изменение величины кривой качани исследуемого образца относительно эталона 0,5 то изменение Ah составит величину мм. Так.как расширение щели на 0,1 мм легко может быть изме- рего, то соответственно изменение ка на величину -0,05 витс разрешением предлагаемого способа.
Использование синхротронного излучени , имеющего лкую диаграмму направленности , высокую интенсивность, равномерность интенсивности в плоскости орбиты, позвол ет создавать узкие, прот женные в горизонтальной плоскости щелэ- вые пучки, перекрывающие диаметры полупроводниковых кремниевых шайб, служащих в качестве основного материала дл создани элементов современной электроники . Перемещение исследуемого монокри- сталла в плоскости, совпадающей с кристаллографической плоскостью, без изменени угла дифракции позвол ет сканировать всю поверхность кристалла и получить информацию о структурном совершенстве всего кристалла.
При установке двухкристальчого (п, +п) спектрометра в геометрии Брэгг-Брэгг получаетс информаци о структурном совершенстве приповерхностного сло кристалла (фиг.1). При установке спектрометра в геометрии Брэгг-Лауэ получаетс информаци о структурном совершенстве объема кристалла (фиг.2), Мала величина коэффициента поглощени /j при аномальном прохождении рентгеновских лучей позвол ет в геометрии Брэгг-Борман получать информацию о структурном совершенстве монокристаллов в несколько дес тков миллиметров .
П р и м е р. С использованием предлагаемого способа в лабораторных услови х на пучки синхрогронного излучени электронного синхротрона провод т исследова- ни степени нарушенности монокристаллов кремни и германи . Исследовани провод т с помощью двухкристального (п, +п) спектрометра, собранного на основе стандартного гониометра ГУР-5 на длине волны
,52А.
В качестве нарушенных образцов используют монокристаллы германи с примесью атомов Ga, As, Си в концентрации 10ia ат/см3 и монокристаллы кремни с
наличием ростовых дислокаций и с поверхностью , прошлифованной абразивными порошками различней зернистости (7,20,50 мкм).
Moi-юхромртор двухкристального спектрометра изготовлен из совершенного монокристалла Si (III). Рассто ние от коллимирующей щели до регистратора ширины дифрагированного пучка - 8 м. Ширина коллимирующей щели ho 0,5 мм.
В таблице представлены результаты исследовани степени нарушенности поверхности и объема образцов монокристаллов Si и Ge с помощью предлагаемого способа (ширина коллиматора h0 0,5 мм).
Claims (1)
- Формула изобретениСпособ определени степени нарушенности поверхности или объема монокристаллических пластин, включающий облучение образца коллимированным с помощью пр молинейной щели монохроматическим пучком синхротроиного излучени , регистрацию дифрагированного от образца излучени в плоскости дифракции и анализ полученных данных, отличающийстем, что, с целью упрощени способа и повышени его экспрессное™, исследуемиЗ кристалл устанавливают в дисперсионную геометрию дифракции, измер ю ширину дифрагированного от образца пучка, сравнивают эту ширину с шириной щели коллиматора и по разности этих величин суд т об относительной степени нарушенности кристалла .фиг.1
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU884419421A SU1622803A1 (ru) | 1988-05-04 | 1988-05-04 | Способ определени степени нарушенности поверхности или объема монокристаллических пластин |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU884419421A SU1622803A1 (ru) | 1988-05-04 | 1988-05-04 | Способ определени степени нарушенности поверхности или объема монокристаллических пластин |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU1622803A1 true SU1622803A1 (ru) | 1991-01-23 |
Family
ID=21372480
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU884419421A SU1622803A1 (ru) | 1988-05-04 | 1988-05-04 | Способ определени степени нарушенности поверхности или объема монокристаллических пластин |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU1622803A1 (ru) |
-
1988
- 1988-05-04 SU SU884419421A patent/SU1622803A1/ru active
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Рентгенотехника: Справочник. /Под ред. Клюева В.В. - М.: Машиностроение, 1980, кн.1,2. Русаков А.А. Рентгенографи металлов - М.: Атомиздат, 1977, с. 262-265. * |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
RU2012872C1 (ru) | Способ получения изображения внутренней структуры объекта | |
Bowen et al. | High resolution X-ray diffractometry and topography | |
US8437450B2 (en) | Fast measurement of X-ray diffraction from tilted layers | |
Kikuta et al. | Measurements on local variations in spacing and orientation of the lattice plane of silicon single crystals by X-ray double-crystal topography | |
Mitsunaga | X-ray thin-film measurement techniques | |
US4928294A (en) | Method and apparatus for line-modified asymmetric crystal topography | |
JP3968350B2 (ja) | X線回折装置及び方法 | |
SU1622803A1 (ru) | Способ определени степени нарушенности поверхности или объема монокристаллических пластин | |
SU1257482A1 (ru) | Рентгенодифракционный способ исследовани структурных нарушений в тонких приповерхностных сло х кристаллов | |
Masson et al. | On the use of one-dimensional position sensitive detector for x-ray diffraction reciprocal space mapping: Data quality and limitations | |
JPH11304729A (ja) | X線測定方法及びx線測定装置 | |
JP2905659B2 (ja) | X線装置と該装置を用いた評価解析方法 | |
SU1133519A1 (ru) | Способ определени структурных характеристик монокристаллов | |
SU1103126A1 (ru) | Способ определени структурных характеристик тонких приповерхностных слоев монокристаллов | |
SU881592A2 (ru) | Рентгеновский спектрометр | |
SU1702265A1 (ru) | Способ прецизионного измерени периодов кристаллической решетки | |
SU584234A1 (ru) | Способ измерени параметров решетки монокристаллов и устройство дл его реализации | |
SU1497533A1 (ru) | Способ контрол структурного совершенства монокристаллов | |
SU920480A1 (ru) | Рентгеновский спектрометр | |
SU881591A1 (ru) | Способ рентгеноструктурного анализа | |
JPS61137052A (ja) | 格子定数の高精度測定装置 | |
JPH04329347A (ja) | 薄膜試料x線回折装置 | |
RU2166184C2 (ru) | Рентгеновский рефлектометр | |
SU1141321A1 (ru) | Рентгеновский спектрометр | |
JPH03289547A (ja) | 格子定数測定方法及び測定装置 |