JPH07198904A - 最密充填塗膜、その製造方法及び最密充填塗膜形成フィルム - Google Patents
最密充填塗膜、その製造方法及び最密充填塗膜形成フィルムInfo
- Publication number
- JPH07198904A JPH07198904A JP5353480A JP35348093A JPH07198904A JP H07198904 A JPH07198904 A JP H07198904A JP 5353480 A JP5353480 A JP 5353480A JP 35348093 A JP35348093 A JP 35348093A JP H07198904 A JPH07198904 A JP H07198904A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating film
- silica particles
- close
- silica
- packed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 簡単な方法で、超微粒子を基板上に一層だけ
高密度に規則正しく配列させた最密充填塗膜、特に、反
射防止膜に適した塗膜を形成する方法を提供する。 【構成】 シリカ粒子と、該シリカ粒子の粒径より小さ
な粒径を持つコロイダルシリカとの混合物を主体とした
分散液を用いて塗膜を形成することにより、基材表面に
一層だけ高密度に規則正しくシリカ粒子を配列させる。
前記分散液中に、樹脂バインダーを添加してもよい。こ
のような最密充填塗膜とすることにより、空気と接する
表層から基板に向けて屈折率が段階的に緩やかに増大す
るので、光の反射防止効果が生ずる。
高密度に規則正しく配列させた最密充填塗膜、特に、反
射防止膜に適した塗膜を形成する方法を提供する。 【構成】 シリカ粒子と、該シリカ粒子の粒径より小さ
な粒径を持つコロイダルシリカとの混合物を主体とした
分散液を用いて塗膜を形成することにより、基材表面に
一層だけ高密度に規則正しくシリカ粒子を配列させる。
前記分散液中に、樹脂バインダーを添加してもよい。こ
のような最密充填塗膜とすることにより、空気と接する
表層から基板に向けて屈折率が段階的に緩やかに増大す
るので、光の反射防止効果が生ずる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、カーブミラー、バック
ミラー、ゴーグル、窓ガラス、及びパソコン・ワープロ
等のディスプレイ、その他商業用のディスプレイ等の各
種表面の反射防止塗膜の製造に応用される、シリカ粒子
を最密充填した塗膜の製造方法に関する。
ミラー、ゴーグル、窓ガラス、及びパソコン・ワープロ
等のディスプレイ、その他商業用のディスプレイ等の各
種表面の反射防止塗膜の製造に応用される、シリカ粒子
を最密充填した塗膜の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】光の反射は屈折率が急変するような界面
で生じるため、光の反射を防止するには、界面において
屈折率が除々に変化すればその反射は生じなくなるとさ
れている。したがって、基板に近い屈折率から徐々に空
気に近い屈折率へ変化する膜ができれば、有効な反射防
止効果が得られることが従来知られている。このような
原理を基にした反射防止膜には、例えば、特開平２−２
４５７０２号公報に記載されるものがあった。該公報に
は、このような反射防止膜を得るために、ガラス基板と
ＭｇＦ2 との中間の屈折率を持つ物質、例えばＳｉＯ2
（屈折率１．４６）の超微粒子とＭｇＦ2 （屈折率：
１．３８）の超微粒子を混合してガラス基板に塗布し、
ガラス基板面から塗布膜表面に向かって除々にＳｉＯ2
超微粒子の混合比を減らし、且つＭｇＦ2 超微粒子の混
合比を増やすことにより、塗布面とガラス基板との界面
における屈折率変化がよりゆるやかとなり、反射防止効
果を得ることが示されている。
で生じるため、光の反射を防止するには、界面において
屈折率が除々に変化すればその反射は生じなくなるとさ
れている。したがって、基板に近い屈折率から徐々に空
気に近い屈折率へ変化する膜ができれば、有効な反射防
止効果が得られることが従来知られている。このような
原理を基にした反射防止膜には、例えば、特開平２−２
４５７０２号公報に記載されるものがあった。該公報に
は、このような反射防止膜を得るために、ガラス基板と
ＭｇＦ2 との中間の屈折率を持つ物質、例えばＳｉＯ2
（屈折率１．４６）の超微粒子とＭｇＦ2 （屈折率：
１．３８）の超微粒子を混合してガラス基板に塗布し、
ガラス基板面から塗布膜表面に向かって除々にＳｉＯ2
超微粒子の混合比を減らし、且つＭｇＦ2 超微粒子の混
合比を増やすことにより、塗布面とガラス基板との界面
における屈折率変化がよりゆるやかとなり、反射防止効
果を得ることが示されている。
【０００３】また、特開平５−１３０２１号公報には、
ＭｇＦ2 又はＳｉＯ2 等の低屈折率を有する超微粒子を
用いた反射防止膜においては、この超微粒子が透明基板
上に高密度に規則正しく配列されたときに最も小さな反
射率が現れること、そして、透明基板上に形成される反
射防止膜の一層中の屈折率の異なる分布は、その最表面
から透明基板に向かって、空気側の超微粒子の屈折率、
超微粒子側の屈折率、超微粒子とバインダーで形成され
る層の屈折率の種類があることが示されている。
ＭｇＦ2 又はＳｉＯ2 等の低屈折率を有する超微粒子を
用いた反射防止膜においては、この超微粒子が透明基板
上に高密度に規則正しく配列されたときに最も小さな反
射率が現れること、そして、透明基板上に形成される反
射防止膜の一層中の屈折率の異なる分布は、その最表面
から透明基板に向かって、空気側の超微粒子の屈折率、
超微粒子側の屈折率、超微粒子とバインダーで形成され
る層の屈折率の種類があることが示されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記特
開平２−２４５７０２号公報に記載されている反射防止
膜は、混合比の異なる塗布膜を積み重ねることによって
形成しているが、その膜の形成は煩雑であり、且つその
屈折率の異なる膜を調製する際に、屈折率のコントロー
ルも困難であった。
開平２−２４５７０２号公報に記載されている反射防止
膜は、混合比の異なる塗布膜を積み重ねることによって
形成しているが、その膜の形成は煩雑であり、且つその
屈折率の異なる膜を調製する際に、屈折率のコントロー
ルも困難であった。
【０００５】また、前記特開平５−１３０２１号公報の
反射防止膜を表した図面に示されるような超微粒子を基
板上に一層だけ高密度に規則正しく配列させることは非
常に困難であり、理想的な最密充填構造の塗膜を得る条
件は不明であった。また、該公報に記載の塗膜は、焼き
付けによって形成されているために、塗膜を形成する基
材が耐熱性のものに限られてしまうという問題があっ
た。
反射防止膜を表した図面に示されるような超微粒子を基
板上に一層だけ高密度に規則正しく配列させることは非
常に困難であり、理想的な最密充填構造の塗膜を得る条
件は不明であった。また、該公報に記載の塗膜は、焼き
付けによって形成されているために、塗膜を形成する基
材が耐熱性のものに限られてしまうという問題があっ
た。
【０００６】そこで本発明は、簡単な方法で、超微粒子
を基板上に一層だけ高密度に規則正しく配列させた（以
下、最密充填という）塗膜、特に、反射防止膜に適した
塗膜を形成する方法を提供することを目的とする。
を基板上に一層だけ高密度に規則正しく配列させた（以
下、最密充填という）塗膜、特に、反射防止膜に適した
塗膜を形成する方法を提供することを目的とする。
【０００７】また本発明の付随的な目的は、基材の耐熱
性が低い場合に焼付を特に行なわなくても、反射防止膜
が形成できる方法提供することを目的とする。
性が低い場合に焼付を特に行なわなくても、反射防止膜
が形成できる方法提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】前記した問題点を解決す
るために本発明の最密充填塗膜は、シリカ粒子と、該シ
リカ粒子の粒径より小さな粒径を持つコロイダルシリカ
との混合物により形成された該シリカ粒子の粒径と同じ
程度の膜厚を持ち、該シリカ粒子が高密度に規則正しく
一層だけ配列していることを特徴とする。
るために本発明の最密充填塗膜は、シリカ粒子と、該シ
リカ粒子の粒径より小さな粒径を持つコロイダルシリカ
との混合物により形成された該シリカ粒子の粒径と同じ
程度の膜厚を持ち、該シリカ粒子が高密度に規則正しく
一層だけ配列していることを特徴とする。
【０００９】また本発明の最密充填塗膜の製造方法は、
シリカ粒子と、該シリカ粒子の粒径より小さな粒径を持
つコロイダルシリカとの混合物を主体とした分散液を用
いて塗膜を形成することにより、基材表面に一層だけ高
密度に規則正しくシリカ粒子を配列させたことを特徴と
する。
シリカ粒子と、該シリカ粒子の粒径より小さな粒径を持
つコロイダルシリカとの混合物を主体とした分散液を用
いて塗膜を形成することにより、基材表面に一層だけ高
密度に規則正しくシリカ粒子を配列させたことを特徴と
する。
【００１０】また本発明の最密充填塗膜形成フィルム
は、シリカ粒子と、該シリカ粒子の粒径より小さな粒径
を持つコロイダルシリカとの混合物により形成された該
シリカ粒子の粒径と同じ程度の膜厚を持ち、該シリカ粒
子が高密度に規則正しく一層だけ配列している最密充填
塗膜が、基材フィルム上に形成されていることを特徴と
する。
は、シリカ粒子と、該シリカ粒子の粒径より小さな粒径
を持つコロイダルシリカとの混合物により形成された該
シリカ粒子の粒径と同じ程度の膜厚を持ち、該シリカ粒
子が高密度に規則正しく一層だけ配列している最密充填
塗膜が、基材フィルム上に形成されていることを特徴と
する。
【００１１】本発明の最密充填方法は、シリカ粒子と、
該シリカ粒子の粒径より相対的に小さな粒径を持つコロ
イダルシリカとを組み合わせることによってなされる
が、特に、反射防止膜を得る目的ならば、シリカ粒子の
粒径は１００〜３００ｎｍのシリカの超微粒子を選択す
ることが好ましい。本発明のように単層反射防止膜を形
成した場合において、反射防止すべき波長（λ）に対
し、λ／４となるように膜厚を設計すると最も反射防止
効果があり、この場合、前記シリカの粒径が単層反射防
止膜の膜厚とほぼ等しくなるので、そのシリカの粒径が
３００ｎｍより大きな粒径では拡散反射が大きくなり、
且つ白濁が激しくなり透明感が得られない。また、シリ
カの粒径が１００ｎｍより小さな粒径では形成する層が
薄すぎて充分な反射防止効果が得られない。シリカ粒子
の前記粒径に対して、コロイダルシリカの粒径は４〜１
００ｎｍとする。
該シリカ粒子の粒径より相対的に小さな粒径を持つコロ
イダルシリカとを組み合わせることによってなされる
が、特に、反射防止膜を得る目的ならば、シリカ粒子の
粒径は１００〜３００ｎｍのシリカの超微粒子を選択す
ることが好ましい。本発明のように単層反射防止膜を形
成した場合において、反射防止すべき波長（λ）に対
し、λ／４となるように膜厚を設計すると最も反射防止
効果があり、この場合、前記シリカの粒径が単層反射防
止膜の膜厚とほぼ等しくなるので、そのシリカの粒径が
３００ｎｍより大きな粒径では拡散反射が大きくなり、
且つ白濁が激しくなり透明感が得られない。また、シリ
カの粒径が１００ｎｍより小さな粒径では形成する層が
薄すぎて充分な反射防止効果が得られない。シリカ粒子
の前記粒径に対して、コロイダルシリカの粒径は４〜１
００ｎｍとする。
【００１２】シリカ粒子とコロイダルシリカとの重量比
は、コロイダルシリカ／シリカ粒子＝１／１００〜１／
１が好ましく、さらに好ましくは１／５０〜１／１０で
ある。コロイダルシリカの添加量が多すぎると、シリカ
粒子がコロイダルシリカに被覆されてしまい粒子の反射
防止効果が無くなってしまう。また、コロイダルシリカ
の添加量が少なすぎると、シリカ粒子同士が緻密に集ま
るのを助ける作用に劣る。
は、コロイダルシリカ／シリカ粒子＝１／１００〜１／
１が好ましく、さらに好ましくは１／５０〜１／１０で
ある。コロイダルシリカの添加量が多すぎると、シリカ
粒子がコロイダルシリカに被覆されてしまい粒子の反射
防止効果が無くなってしまう。また、コロイダルシリカ
の添加量が少なすぎると、シリカ粒子同士が緻密に集ま
るのを助ける作用に劣る。
【００１３】コロイダルシリカに代えて、同等の粒径を
有するシリカ粒子を用いて、即ち、単に粒径の異なる２
種類のシリカ粒子の分散液を用いて塗膜を形成しても、
本発明のような一層だけ高密度に規則正しくシリカ粒子
が配列された最密充填構造の塗膜を得ることはできな
い。その理由は明らかではないが、コロイダルシリカ特
有の性質によるものと考えられる。
有するシリカ粒子を用いて、即ち、単に粒径の異なる２
種類のシリカ粒子の分散液を用いて塗膜を形成しても、
本発明のような一層だけ高密度に規則正しくシリカ粒子
が配列された最密充填構造の塗膜を得ることはできな
い。その理由は明らかではないが、コロイダルシリカ特
有の性質によるものと考えられる。
【００１４】シリカ粒子とコロイダルシリカとを分散さ
せるための溶剤には、エタノール、メチルエチルケト
ン、トルエン、イソプロピルアルコール、アノン等の汎
用溶剤が使用される。この分散液には、シリカ粒子の最
密充填を損なわない条件の樹脂バインダーを添加しても
よい。このような樹脂には、例えば、一般の熱可塑性樹
脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化型樹脂等の汎用樹脂
が挙げられ、その添加量もコロイダルシリカ１００重量
部に対して０〜７０重量部が可能である。
せるための溶剤には、エタノール、メチルエチルケト
ン、トルエン、イソプロピルアルコール、アノン等の汎
用溶剤が使用される。この分散液には、シリカ粒子の最
密充填を損なわない条件の樹脂バインダーを添加しても
よい。このような樹脂には、例えば、一般の熱可塑性樹
脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化型樹脂等の汎用樹脂
が挙げられ、その添加量もコロイダルシリカ１００重量
部に対して０〜７０重量部が可能である。
【００１５】図１は本発明の製造方法により得られた最
密充填塗膜を示している。図１中、１は基材、２はシリ
カ粒子、３はコロイダルシリカを示している。また、図
１中、Ａは空気層の屈折率を持つ範囲、Ｂは空気層とシ
リカ粒子２の混在した層の屈折率の範囲、Ｃは主として
シリカ粒子２の屈折率を持つ範囲、Ｃ′はシリカ粒子２
とコロイダルシリカ３が混在している層の屈折率を持つ
範囲若しくはシリカ粒子２とコロイダルシリカが３混在
し樹脂バインダーが添加されるか又は添加されていない
層の屈折率を持つ範囲である。空気の屈折率は１であ
り、シリカ粒子２若しくはコロイダルシリカ３の屈折率
は１．４６であるので、Ａ〜Ｃ′の各範囲の屈折率の大
きさの順序は、Ａ＜Ｂ＜Ｃ≦Ｃ′となる。このように、
この最密充填塗膜は空気と接する表層から基板に向けて
屈折率が段階的に緩やかに変化して増大するので光の反
射防止効果を有する。
密充填塗膜を示している。図１中、１は基材、２はシリ
カ粒子、３はコロイダルシリカを示している。また、図
１中、Ａは空気層の屈折率を持つ範囲、Ｂは空気層とシ
リカ粒子２の混在した層の屈折率の範囲、Ｃは主として
シリカ粒子２の屈折率を持つ範囲、Ｃ′はシリカ粒子２
とコロイダルシリカ３が混在している層の屈折率を持つ
範囲若しくはシリカ粒子２とコロイダルシリカが３混在
し樹脂バインダーが添加されるか又は添加されていない
層の屈折率を持つ範囲である。空気の屈折率は１であ
り、シリカ粒子２若しくはコロイダルシリカ３の屈折率
は１．４６であるので、Ａ〜Ｃ′の各範囲の屈折率の大
きさの順序は、Ａ＜Ｂ＜Ｃ≦Ｃ′となる。このように、
この最密充填塗膜は空気と接する表層から基板に向けて
屈折率が段階的に緩やかに変化して増大するので光の反
射防止効果を有する。
【００１６】本発明の最密充填塗膜の塗布方法は、例え
ば、ある面積のキャスティング表面に対し、最密充填に
なるようなシリカ−コロイダルシリカ分散液の濃度およ
び量を計算して塗布することにより行なうことができ
る。
ば、ある面積のキャスティング表面に対し、最密充填に
なるようなシリカ−コロイダルシリカ分散液の濃度およ
び量を計算して塗布することにより行なうことができ
る。
【００１７】本発明における反射防止膜を形成するため
の塗布液は、カーテンフローコート、浸漬塗装、スピン
コーティング、ロールコーティング、スプレーコーティ
ング等の塗装法によって、各種基板に塗装されることに
よって反射防止膜の塗膜が形成される。
の塗布液は、カーテンフローコート、浸漬塗装、スピン
コーティング、ロールコーティング、スプレーコーティ
ング等の塗装法によって、各種基板に塗装されることに
よって反射防止膜の塗膜が形成される。
【００１８】
〔実施例１〕アノン９ｇに平均粒子径２００ｎｍのシリ
カ粒子（シーホスターＰ−２０：商品名、日本触媒製）
１ｇを分散し、さらに平均粒子径５ｎｍのコロイダルシ
リカ（スノーテックス×５：商品名、日産化学製）０．
０３ｇを添加した。この溶液をＰＥＴフィルム（Ｔ−６
０：商品名、東レ製、厚さ１００μｍ）上に塗布し、室
温で乾燥し、薄膜を形成した。この薄膜の表面を電子顕
微鏡で観察したところ、シリカ粒子が規則正しく最密充
填構造をとり、一層に並んでいる状態が認められた。こ
の状態の薄膜表面（集合化されたシリカ粒子の粒子構造
の状態）の電子顕微鏡写真（２万倍）を図２として示
す。
カ粒子（シーホスターＰ−２０：商品名、日本触媒製）
１ｇを分散し、さらに平均粒子径５ｎｍのコロイダルシ
リカ（スノーテックス×５：商品名、日産化学製）０．
０３ｇを添加した。この溶液をＰＥＴフィルム（Ｔ−６
０：商品名、東レ製、厚さ１００μｍ）上に塗布し、室
温で乾燥し、薄膜を形成した。この薄膜の表面を電子顕
微鏡で観察したところ、シリカ粒子が規則正しく最密充
填構造をとり、一層に並んでいる状態が認められた。こ
の状態の薄膜表面（集合化されたシリカ粒子の粒子構造
の状態）の電子顕微鏡写真（２万倍）を図２として示
す。
【００１９】この薄膜のヘイズ値はＰＥＴフィルムのそ
れとほぼ同じであり、透過率は上昇していた。
れとほぼ同じであり、透過率は上昇していた。
【００２０】〔比較例１〕アノン９ｇに平均粒子径２０
０ｎｍのシリカ粒子（シーホスターＰ−２０：商品名、
日本触媒製）１ｇを分散し、この溶液をＰＥＴフィルム
（Ｔ−６０：商品名、東レ製、厚さ１００μｍ）上に塗
布し、室温で乾燥し、薄膜を形成した。この薄膜の表面
を電子顕微鏡で観察したところ、シリカ粒子が無秩序に
存在し、ＰＥＴフィルム表面はシリカ粒子の存在しない
領域や、シリカ粒子が山積みになっている領域もあっ
た。この薄膜表面（集合化されたシリカ粒子の粒子構造
の状態）の電子顕微鏡写真（２万倍）を図３として示
す。
０ｎｍのシリカ粒子（シーホスターＰ−２０：商品名、
日本触媒製）１ｇを分散し、この溶液をＰＥＴフィルム
（Ｔ−６０：商品名、東レ製、厚さ１００μｍ）上に塗
布し、室温で乾燥し、薄膜を形成した。この薄膜の表面
を電子顕微鏡で観察したところ、シリカ粒子が無秩序に
存在し、ＰＥＴフィルム表面はシリカ粒子の存在しない
領域や、シリカ粒子が山積みになっている領域もあっ
た。この薄膜表面（集合化されたシリカ粒子の粒子構造
の状態）の電子顕微鏡写真（２万倍）を図３として示
す。
【００２１】この薄膜のヘイズ値はＰＥＴフィルムに比
べてかなり高く、透過率の上昇は認められなかった。
べてかなり高く、透過率の上昇は認められなかった。
【００２２】〔比較例２〕アノン９ｇに平均粒子径２０
０ｎｍのシリカ粒子（シーホスターＰ−２０：商品名、
日本触媒製）１ｇを分散し、さらに平均粒子径５ｎｍの
シリカ粒子（アエロジル３００ＣＦ：商品名、日本アエ
ロジル製）０．０３ｇを添加した。この溶液をＰＥＴフ
ィルム（Ｔ−６０：商品名、東レ製、厚さ１００μｍ）
上に塗布し、室温で乾燥し、薄膜を形成した。この薄膜
の表面を電子顕微鏡で観察したところ、シリカ粒子が無
秩序に存在し、ＰＥＴフィルム表面はシリカ粒子の存在
しない領域や、シリカ粒子が山積みになっている領域も
あった。この薄膜表面（集合化されたシリカ粒子の粒子
構造の状態）の電子顕微鏡写真（１万倍）を図４として
示す。
０ｎｍのシリカ粒子（シーホスターＰ−２０：商品名、
日本触媒製）１ｇを分散し、さらに平均粒子径５ｎｍの
シリカ粒子（アエロジル３００ＣＦ：商品名、日本アエ
ロジル製）０．０３ｇを添加した。この溶液をＰＥＴフ
ィルム（Ｔ−６０：商品名、東レ製、厚さ１００μｍ）
上に塗布し、室温で乾燥し、薄膜を形成した。この薄膜
の表面を電子顕微鏡で観察したところ、シリカ粒子が無
秩序に存在し、ＰＥＴフィルム表面はシリカ粒子の存在
しない領域や、シリカ粒子が山積みになっている領域も
あった。この薄膜表面（集合化されたシリカ粒子の粒子
構造の状態）の電子顕微鏡写真（１万倍）を図４として
示す。
【００２３】この薄膜のヘイズ値はＰＥＴフィルムに比
べてかなり高く、透過率の上昇は認められなかった。
べてかなり高く、透過率の上昇は認められなかった。
【００２４】
【発明の効果】本発明によれば、簡単な方法で超微粒子
を基板上に一層だけ高密度に規則正しく配列させた最密
充填塗膜を得ることができる。この最密充填塗膜は特に
反射防止膜に適している。
を基板上に一層だけ高密度に規則正しく配列させた最密
充填塗膜を得ることができる。この最密充填塗膜は特に
反射防止膜に適している。
【００２５】本発明は、焼付を特に行なわなくても、反
射防止膜を形成することができるので、基板の耐熱性が
低い場合に有利な方法である。
射防止膜を形成することができるので、基板の耐熱性が
低い場合に有利な方法である。
【図１】本発明の製造方法によって得られた最密充填塗
膜の断面を示す。
膜の断面を示す。
【図２】実施例１の製造方法によって得られた最密充填
塗膜の表面の状態であり、集合化されたシリカ粒子の粒
子構造の状態を示す顕微鏡写真（２万倍）。
塗膜の表面の状態であり、集合化されたシリカ粒子の粒
子構造の状態を示す顕微鏡写真（２万倍）。
【図３】比較例１の製造方法によって得られた薄膜の表
面の状態であり、集合化されたシリカ粒子の粒子構造の
状態を示す顕微鏡写真（２万倍）。
面の状態であり、集合化されたシリカ粒子の粒子構造の
状態を示す顕微鏡写真（２万倍）。
【図４】比較例２の製造方法によって得られた薄膜の表
面の状態であり、集合化されたシリカ粒子の粒子構造の
状態を示す顕微鏡写真（１万倍）。
面の状態であり、集合化されたシリカ粒子の粒子構造の
状態を示す顕微鏡写真（１万倍）。
１ 基材 ２ シリカ粒子 ３ コロイダルシリカ
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ３２Ｂ 27/36 7421−4Ｆ
Claims (10)
- 【請求項１】 シリカ粒子と、該シリカ粒子の粒径より
小さな粒径を持つコロイダルシリカとの混合物により形
成された該シリカ粒子の粒径と同じ程度の膜厚を持ち、
該シリカ粒子が高密度に規則正しく一層だけ配列してい
る最密充填塗膜。 - 【請求項２】 前記シリカ粒子の粒径は１００〜３００
ｎｍである請求項１記載の最密充填塗膜。 - 【請求項３】 前記コロイダルシリカの粒径は４〜１０
０ｎｍである請求項１又は２記載の最密充填塗膜。 - 【請求項４】 前記シリカ粒子と前記コロイダルシリカ
との重量比は、コロイダルシリカ／シリカ粒子＝１／１
００〜１／１である請求項１、２又は３記載の最密充填
塗膜。 - 【請求項５】 シリカ粒子と、該シリカ粒子の粒径より
小さな粒径を持つコロイダルシリカとの混合物を主体と
した分散液を用いて塗膜を形成することにより、基材表
面に高密度に規則正しくシリカ粒子を一層だけ配列させ
たことを特徴とする最密充填塗膜の製造方法。 - 【請求項６】 前記シリカ粒子の粒径は１００〜３００
ｎｍである請求項５記載の最密充填塗膜の製造方法。 - 【請求項７】 前記コロイダルシリカの粒径は４〜１０
０ｎｍである請求項５又は６記載の最密充填塗膜の製造
方法。 - 【請求項８】 前記シリカ粒子と前記コロイダルシリカ
との重量比は、コロイダルシリカ／シリカ粒子＝１／１
００〜１／１である請求項５、６又は７記載の最密充填
塗膜の製造方法。 - 【請求項９】 前記シリカ粒子と、該シリカ粒子の粒径
より小さな粒径を持つコロイダルシリカとの混合物を主
体とした分散液は、樹脂バインダーが添加されているこ
とを特徴とする請求項５、６、７又は８記載の最密充填
塗膜の製造方法。 - 【請求項１０】 請求項１、２、３又は４記載の最密充
填塗膜が基材フィルム上に形成されていることを特徴と
する最密充填塗膜形成フィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35348093A JP3383050B2 (ja) | 1993-12-28 | 1993-12-28 | 最密充填塗膜、その製造方法及び最密充填塗膜形成フィルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35348093A JP3383050B2 (ja) | 1993-12-28 | 1993-12-28 | 最密充填塗膜、その製造方法及び最密充填塗膜形成フィルム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07198904A true JPH07198904A (ja) | 1995-08-01 |
| JP3383050B2 JP3383050B2 (ja) | 2003-03-04 |
Family
ID=18431130
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35348093A Expired - Lifetime JP3383050B2 (ja) | 1993-12-28 | 1993-12-28 | 最密充填塗膜、その製造方法及び最密充填塗膜形成フィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3383050B2 (ja) |
Cited By (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09251101A (ja) * | 1996-03-15 | 1997-09-22 | Konica Corp | 偏光板用保護フィルム |
| JP2002006108A (ja) * | 2000-04-17 | 2002-01-09 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射防止膜およびその製造方法 |
| JP2002293542A (ja) * | 2001-03-30 | 2002-10-09 | Taki Chem Co Ltd | 酸化チタン薄膜形成塗布液及びその製造方法並びに酸化チタン薄膜担持基材 |
| JP2005535934A (ja) * | 2002-08-15 | 2005-11-24 | 富士写真フイルム株式会社 | 反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置 |
| JP2006036916A (ja) * | 2004-07-27 | 2006-02-09 | Admatechs Co Ltd | スラリー組成物、ワニス組成物、およびそれを用いた絶縁フィルム、プリプレグ |
| JP2006327187A (ja) * | 2005-04-26 | 2006-12-07 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 反射防止積層体の製造方法 |
| JP2007283294A (ja) * | 2006-03-23 | 2007-11-01 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 積層体の製造方法 |
| JP2008086967A (ja) * | 2006-10-05 | 2008-04-17 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 積層体の製造方法および基材の傷つき防止方法 |
| JP2008246846A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Tokyo Institute Of Technology | フィルムおよび塗膜形成用組成物 |
| WO2009107874A1 (ja) * | 2008-02-29 | 2009-09-03 | 住友化学株式会社 | 積層体の製造方法 |
| JP2009223154A (ja) * | 2008-03-18 | 2009-10-01 | Hoya Corp | 基板上に規則的に二次元配置した構造体、及びその形成方法 |
| JP2010128309A (ja) * | 2008-11-28 | 2010-06-10 | Jgc Catalysts & Chemicals Ltd | 反射防止膜付基材および反射防止膜形成用塗布液 |
| JP2010142745A (ja) * | 2008-12-19 | 2010-07-01 | Canon Inc | 膜の製造方法および多孔性膜の製造方法 |
| US7749567B2 (en) | 2005-02-28 | 2010-07-06 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Process for producing a layered article |
| JP2011148288A (ja) * | 2009-07-01 | 2011-08-04 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 積層体 |
| WO2011125949A1 (ja) * | 2010-04-05 | 2011-10-13 | 株式会社 ジャパンナノコート | 塗布液及び基板 |
| JP2013501248A (ja) * | 2009-07-31 | 2013-01-10 | ライプニッツ−インスティトゥート フィア ノイエ マテリアーリエン ゲマインニュッツィゲ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクタ ハフトゥンク | 反射防止性を有するコーティングを作製するための方法 |
| WO2015122395A1 (ja) * | 2014-02-12 | 2015-08-20 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性樹脂組成物、これを用いた反射防止膜、固体撮像素子およびカメラモジュール |
| CN107923996A (zh) * | 2015-07-31 | 2018-04-17 | 富士胶片株式会社 | 防反射膜的制造方法及防反射膜 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4894298B2 (ja) * | 2005-02-28 | 2012-03-14 | 住友化学株式会社 | 積層体の製造方法 |
-
1993
- 1993-12-28 JP JP35348093A patent/JP3383050B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09251101A (ja) * | 1996-03-15 | 1997-09-22 | Konica Corp | 偏光板用保護フィルム |
| JP2002006108A (ja) * | 2000-04-17 | 2002-01-09 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射防止膜およびその製造方法 |
| JP4562894B2 (ja) * | 2000-04-17 | 2010-10-13 | 大日本印刷株式会社 | 反射防止膜およびその製造方法 |
| JP2002293542A (ja) * | 2001-03-30 | 2002-10-09 | Taki Chem Co Ltd | 酸化チタン薄膜形成塗布液及びその製造方法並びに酸化チタン薄膜担持基材 |
| JP2005535934A (ja) * | 2002-08-15 | 2005-11-24 | 富士写真フイルム株式会社 | 反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置 |
| JP2006036916A (ja) * | 2004-07-27 | 2006-02-09 | Admatechs Co Ltd | スラリー組成物、ワニス組成物、およびそれを用いた絶縁フィルム、プリプレグ |
| US7749567B2 (en) | 2005-02-28 | 2010-07-06 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Process for producing a layered article |
| JP2006327187A (ja) * | 2005-04-26 | 2006-12-07 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 反射防止積層体の製造方法 |
| JP2007283294A (ja) * | 2006-03-23 | 2007-11-01 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 積層体の製造方法 |
| JP2008086967A (ja) * | 2006-10-05 | 2008-04-17 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 積層体の製造方法および基材の傷つき防止方法 |
| JP2008246846A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Tokyo Institute Of Technology | フィルムおよび塗膜形成用組成物 |
| JP2009226947A (ja) * | 2008-02-29 | 2009-10-08 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 積層体の製造方法 |
| WO2009107874A1 (ja) * | 2008-02-29 | 2009-09-03 | 住友化学株式会社 | 積層体の製造方法 |
| JP2009223154A (ja) * | 2008-03-18 | 2009-10-01 | Hoya Corp | 基板上に規則的に二次元配置した構造体、及びその形成方法 |
| JP2010128309A (ja) * | 2008-11-28 | 2010-06-10 | Jgc Catalysts & Chemicals Ltd | 反射防止膜付基材および反射防止膜形成用塗布液 |
| JP2010142745A (ja) * | 2008-12-19 | 2010-07-01 | Canon Inc | 膜の製造方法および多孔性膜の製造方法 |
| JP2011148288A (ja) * | 2009-07-01 | 2011-08-04 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 積層体 |
| JP2013501248A (ja) * | 2009-07-31 | 2013-01-10 | ライプニッツ−インスティトゥート フィア ノイエ マテリアーリエン ゲマインニュッツィゲ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクタ ハフトゥンク | 反射防止性を有するコーティングを作製するための方法 |
| WO2011125949A1 (ja) * | 2010-04-05 | 2011-10-13 | 株式会社 ジャパンナノコート | 塗布液及び基板 |
| WO2015122395A1 (ja) * | 2014-02-12 | 2015-08-20 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性樹脂組成物、これを用いた反射防止膜、固体撮像素子およびカメラモジュール |
| CN107923996A (zh) * | 2015-07-31 | 2018-04-17 | 富士胶片株式会社 | 防反射膜的制造方法及防反射膜 |
| CN107923996B (zh) * | 2015-07-31 | 2019-12-06 | 富士胶片株式会社 | 防反射膜的制造方法及防反射膜 |
| US10718887B2 (en) | 2015-07-31 | 2020-07-21 | Fujifilm Corporation | Method of manufacturing antireflection film and antireflection film |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3383050B2 (ja) | 2003-03-04 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3383050B2 (ja) | 最密充填塗膜、その製造方法及び最密充填塗膜形成フィルム | |
| CN1738711B (zh) | 含二氧化硅的层状结构和用于形成多孔二氧化硅层的涂料组合物 | |
| CN1636711B (zh) | 硬质涂布膜 | |
| JP4362509B2 (ja) | 反射防止フィルムおよびその製造方法 | |
| KR101203465B1 (ko) | 대전방지층용 조성물 | |
| JP5372417B2 (ja) | 反射防止フィルム | |
| CN102985499A (zh) | 防反射膜及其制备方法 | |
| JP4712236B2 (ja) | 反射防止膜、反射防止フィルム、画像表示装置、及び、それらの製造方法 | |
| KR20060126563A (ko) | 코팅용 도료, 그것을 사용한 광학 필름의 제조 방법, 광학필름, 편광판 및 화상 표시 장치 | |
| JPH09288201A (ja) | 反射防止膜及びそれを用いた画像表示装置 | |
| JP2003004904A (ja) | 高屈折率化した防眩層を有する反射防止フィルム及び低反射表示装置 | |
| JPH11326601A (ja) | 反射防止膜およびそれを用いた画像表示装置 | |
| JPH10133002A (ja) | 反射防止膜、該反射防止膜の製造方法及び該反射防止膜を用いた表示装置 | |
| CN101910877B (zh) | 光学片 | |
| JP3361857B2 (ja) | ハード性を有する高屈折率膜、反射防止フィルム及びその製造方法 | |
| CN1196946C (zh) | 防反射膜及其在基片上的形成方法 | |
| JP3383039B2 (ja) | 干渉縞の発生を防止するハードコート層を有する光学材料用プラスチックフィルム、その製造方法及び反射防止フィルム | |
| JP2004300210A (ja) | コーティング組成物、その塗膜、反射防止膜、反射防止フィルム、及び画像表示装置 | |
| KR20040034725A (ko) | 볼록 형상 막 및 그 형성 방법 | |
| JP2004012657A (ja) | 反射防止フィルム | |
| CN100392435C (zh) | 形成突起膜的方法 | |
| JP2018045137A (ja) | 映像を投影可能な積層体、およびそれを備えた映像投影システム | |
| WO2006088151A1 (ja) | 光拡散光学部材 | |
| TWI414811B (zh) | 具有無機微粒子層之積層體之製造方法 | |
| JP2002298665A (ja) | 透明導電膜の製造方法、透明導電膜及びこれを用いた光学フィルム |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081220 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081220 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091220 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091220 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101220 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111220 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121220 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121220 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131220 Year of fee payment: 11 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |