JPH11326601A - 反射防止膜およびそれを用いた画像表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 大量生産に適し、屈折率が非常に低く、強度
が優れた低屈折率層を有する反射防止膜を得る。 【解決手段】 反射防止膜の低屈折率層に、内部にミク
ロボイドが形成されており平均粒径が０．５乃至２００
ｎｍの無機微粒子を５０乃至９５重量％およびポリマー
を５乃至５０重量％含ませ、無機微粒子を少なくとも２
個以上積み重ねることにより微粒子間にもミクロボイド
を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、低屈折率層を有す
る反射防止膜およびそれを用いた画像表示装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】反射防止膜は、液晶表示装置（ＬＣ
Ｄ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレク
トロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表
示装置（ＣＲＴ）のような様々な画像表示装置に設けら
れている。眼鏡やカメラのレンズにも反射防止膜が設け
られている。反射防止膜としては、金属酸化物の透明薄
膜を積層させた多層膜が従来から普通に用いられてい
る。複数の透明薄膜を用いるのは、様々な波長の光の反
射を防止するためである。金属酸化物の透明薄膜は、化
学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理
蒸着法の一種である真空蒸着法により形成されている。
金属酸化物の透明薄膜は、反射防止膜として優れた光学
的性質を有しているが、蒸着による形成方法は、生産性
が低く大量生産に適していない。

【０００３】蒸着法に代えて、無機微粒子の塗布により
反射防止膜を形成する方法が提案されている。特公昭６
０−５９２５０号公報は、微細空孔と微粒子状無機物と
を有する反射防止層を開示している。反射防止層は、塗
布により形成される。微細空孔は、層の塗布後に活性化
ガス処理を行ない、ガスが層から離脱することによって
形成される。特開昭５９−５０４０１号公報は、支持
体、高屈折率層および低屈折率層の順に積層した反射防
止膜を開示している。同公報は、支持体と高屈折率層の
間に中屈折率層を設けた反射防止膜も開示している。低
屈折率層は、ポリマーまたは無機微粒子の塗布により形
成されている。

【０００４】特開平２−２４５７０２号公報は、二種類
以上の超微粒子（例えば、ＭｇＦ₂とＳｉＯ₂ ）を混在
させて、膜厚方向にその混合比を変化させた反射防止膜
を開示している。混合比を変化させることにより屈折率
を変化させ、上記特開昭５９−５０４０１号公報に記載
されている高屈折率層と低屈折率層を設けた反射防止膜
と同様の光学的性質を得ている。超微粒子は、エチルシ
リケートの熱分解で生じたＳｉＯ₂ により接着してい
る。エチルシリケートの熱分解では、エチル部分の燃焼
によって、二酸化炭素と水蒸気も発生する。特開平２−
２４５７０２号公報の第１図に示されているように、二
酸化炭素と水蒸気が層から離脱することにより、超微粒
子の間に間隙が生じている。特開平５−１３０２１号公
報は、上記特開平２−２４５７０２号公報記載の反射防
止膜に存在する超微粒子間隙をバインダーで充填するこ
とを開示している。特開平７−４８５２７号公報は、多
孔質シリカよりなる無機微粉末とバインダーとを含有す
る反射防止膜を開示している。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明者は、無機微粒
子の塗布により形成する低屈折率層について、研究を進
めた。本発明者の研究により、無機微粒子を少なくとも
２個以上積み重ねることにより微粒子間にミクロボイド
を形成すると、層の屈折率が低下することが判明した。
微粒子間にミクロボイドを形成することで、屈折率が非
常に低い低屈折率層が得られる。特開平２−２４５７０
２号公報に記載の反射防止膜では、積み重なった超微粒
子の間に間隙が生じている。ただし、同公報は、間隙を
第１図に示唆しているだけであって、間隙の光学的機能
については全く記載していない。また、空隙を有する低
屈折率層は、強度が弱いとの問題がある。低屈折率層
は、画像表示装置の表示面やレンズの外側表面に配置さ
れる。そのため、低屈折率層には一定の強度が要求され
ている。特開平２−２４５７０２号公報に記載の反射防
止膜は、実質的に無機化合物のみで構成されており、硬
いが非常に脆い膜になっている。特開平５−１３０２１
号公報に記載されているように、微粒子間の空隙をバイ
ンダーで充填すれば、強度の問題は解消できる。しか
し、本発明者の研究によれば、微粒子間の空隙をバイン
ダーで充填すると、層の屈折率を低下させる間隙の光学
的機能が失われる。特開平７−４８５２７号公報に記載
されている多孔質シリカのように、微粒子間ではなく、
微粒子内にミクロボイドを形成することもできる。しか
し、微粒子内のミクロボイドでは、層の屈折率を充分に
低下させる程度の高い空隙率を得ることが難しい。

【０００６】本発明の目的は、大量生産に適した反射防
止膜を提供することである。また、本発明の目的は、屈
折率が非常に低い低屈折率層を有する反射防止膜を提供
することでもある。さらに、本発明の目的は、強度が優
れた低屈折率層を有する反射防止膜を提供することでも
ある。さらにまた、本発明の目的は、有効な手段で反射
が防止された画像表示装置を提供することでもある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、下記
（１）〜（５）の反射防止膜および下記（６）の画像表
示装置により達成された。 （１）内部にミクロボイドが形成されている平均粒径が
０．５乃至２００ｎｍの無機微粒子を５０乃至９５重量
％およびポリマーを５乃至５０重量％含み、該無機微粒
子を少なくとも２個以上積み重ねることにより微粒子間
にもミクロボイドが形成されている低屈折率層を有する
ことを特徴とする反射防止膜。 （２）低屈折率層が、３乃至５０体積％の空隙率を有す
る（１）に記載の反射防止膜。 （３）低屈折率層が、１．２０乃至１．５５の屈折率を
有する（１）に記載の反射防止膜。 （４）無機微粒子が実質的に、架橋しているシリカから
なる請求項１に記載の反射防止膜。 （５）ミクロボイドが、無機微粒子およびポリマーによ
り閉じている（１）に記載の反射防止膜。 （６）内部にミクロボイドが形成されている平均粒径が
０．５乃至２００ｎｍの無機微粒子を５０乃至９５重量
％およびポリマーを５乃至５０重量％含み、該無機微粒
子を少なくとも２個以上積み重ねることにより微粒子間
にもミクロボイドが形成されている低屈折率層を有する
反射防止膜を、表示面に配置したことを特徴とする画像
表示装置。

【０００８】

【発明の効果】本発明の反射防止膜は、塗布により簡単
に製造することができ、大量生産に適している。そし
て、無機微粒子を少なくとも２個以上積み重ねることに
より微粒子間にミクロボイドが形成されている。さら
に、微粒子内にもミクロボイドが形成されている。その
結果、低屈折率層の空隙率が高く、非常に低い屈折率の
値が得られる。さらにまた、ポリマーにより無機微粒子
が接着されているため、低屈折率層の強度も優れてい
る。粒子間および粒子内のミクロボイドはポリマーによ
り充填されていないため、ミクロボイドの屈折率低下機
能も損なわれていない。以上のような反射防止膜を用い
ることで、画像表示装置の画像表示面における光の反射
を有効に防止することができる。

【０００９】

【発明の実施の形態】本発明の反射防止膜の基本的な構
成を図面を引用しながら説明する。図１は、反射防止膜
の低屈折率層の断面模式図である。図１の反射防止膜の
上側が表面であり、下側に画像表示装置またはレンズが
ある。図１に示すように、低屈折率層（１）は多孔質層
である。低屈折率層（１）内では、平均粒径が０．５乃
至２００ｎｍの無機微粒子（１１）が少なくとも２個以
上（図１では３個）積み重なっている。そして、無機微
粒子（１１）の間に、ミクロボイド（１２）が形成され
ている。無機微粒子（１１）は多孔性であって、微粒子
内にもミクロボイド（１３）が形成されている。低屈折
率層（１）は、さらにポリマー（１４）を５乃至５０重
量％の量で含む。ポリマー（１４）は、無機微粒子（１
１）を接着しているが、粒子間ミクロボイド（１２）お
よび粒子内ミクロボイド（１３）を充填していない。図
１に示すように、粒子間ミクロボイド（１２）は、ポリ
マー（１４）と無機微粒子（１１）により閉じている
（開口ではない）ことが好ましい。

【００１０】図２は、反射防止膜の様々な層構成を示す
断面模式図である。図２の（ａ）に示す態様は、透明支
持体（３）、ハードコート層（２）、そして低屈折率層
（１）の順序の層構成を有する。なお、ガラスのような
硬い物質の表面（ＣＲＴの画像表面や眼鏡やカメラのレ
ンズ表面）に、反射防止膜を設ける場合は、透明支持体
（３）なしで、低屈折率層（１）やハードコート層
（２）を直接、画像表示面あるいはレンズ表面に形成し
てもよい。図２の（ｂ）に示す態様は、透明支持体
（３）、ハードコート層（２）、高屈折率層（４）、そ
して低屈折率層（１）の順序の層構成を有する。図２の
（ｃ）に示す態様は、透明支持体（３）、ハードコート
層（２）、中屈折率層（５）、高屈折率層（４）、そし
て低屈折率層（１）の順序の層構成を有する。

【００１１】［無機微粒子および粒子内ミクロボイ
ド］］無機微粒子の平均粒径は、０．５乃至２００ｍｍ
である。粒子径が増大すると前方散乱が増加し、２００
ｎｍを越えると散乱光に色付きが生じる。平均粒径は、
１乃至１００ｎｍであることが好ましく、３乃至７０ｎ
ｍであることがさらに好ましく、５乃至４０ｎｍの範囲
であることが最も好ましい。無機微粒子の粒径は、なる
べく均一（単分散）であることが好ましい。無機微粒子
は、非晶質であることが好ましい。無機微粒子は、金属
の酸化物、窒化物、硫化物またはハロゲン化物からなる
ことが好ましく、金属酸化物または金属ハロゲン化物か
らなることがさらに好ましく、金属酸化物または金属フ
ッ化物からなることが最も好ましい。金属原子として
は、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｆｅ、
Ｃｕ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｗ、Ｙ、Ｓｂ、Ｍｎ、Ｇａ、
Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ａｇ、Ｓｉ、Ｂ、Ｂｉ、Ｍｏ、Ｃｅ、
Ｃｄ、Ｂｅ、ＰｂおよびＮｉが好ましく、Ｍｇ、Ｃａ、
ＢおよびＳｉがさらに好ましい。二種類の金属を含む無
機化合物を用いてもよい。特に好ましい無機化合物は、
二酸化ケイ素、すなわちシリカである。

【００１２】無機微粒子内のミクロボイドは、例えば粒
子を形成するシリカの分子を架橋させることにより形成
することができる。シリカの分子を架橋させると体積が
縮小し、粒子が多孔質になる。ミクロボイドを有する
（多孔質）無機微粒子は、ゾル−ゲル法（特開昭５３−
１１２７３２号、特公昭５７−９０５１号の各公報記
載）または析出法（APPLIED OPTICS、27、3356頁（198
8）記載）により、分散物として直接合成することがで
きる。また、乾燥・沈澱法で得られた粉体を、機械的に
粉砕して分散物を得ることもできる。市販の多孔質無機
微粒子（例えば、二酸化ケイ素ゾル）を用いてもよい。
ミクロボイドを有する無機微粒子は、低屈折率層の形成
のため、適当な媒体に分散した状態で使用することが好
ましい。分散媒としては、水、アルコール（例、メタノ
ール、エタノール、イソプロピルアルコール）およびケ
トン（例、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン）が好ましい。無機微粒子の量は、低屈折率層全量の
５０乃至９５重量％である。無機微粒子の量は、５０乃
至９０重量％であることが好ましく、６０乃至９０重量
％であることがさらに好ましく、７０乃至９０重量％で
あることが最も好ましい。

【００１３】［粒子間ミクロボイド］低屈折率層では、
粒子内ミクロボイドを有する無機微粒子を少なくとも２
個以上積み重ねることにより微粒子間にもミクロボイド
が形成されている。低屈折率層の空隙率（粒子内ミクロ
ボイドと粒子間ミクロボイドの合計）は、３乃至５０体
積％であることが好ましく、５乃至３５体積％であるこ
とがさらに好ましい。なお、粒径が等しい（完全な単分
散の）球状微粒子を最密充填すると、微粒子間に２６体
積％の空隙率の粒子間ミクロボイドが形成される。粒径
が等しい球状微粒子を単純立方充填すると、微粒子間に
４８体積％の空隙率のミクロボイドが形成される。実際
の低屈折率層では、微粒子の粒径の分布や粒子内ミクロ
ボイドが存在するため、空隙率は上記の理論値からかな
り変動する。空隙率（ミクロボイドの大きさ）を増加さ
せると、低屈折率層の屈折率が低下する。本発明では、
無機微粒子を積み重ねてミクロボイドを形成するため、
無機微粒子の粒径を調整することで、粒子間ミクロボイ
ドの大きさも適度の（光を散乱せず、低屈折率層の強度
に問題が生じない）値に容易に調節できる。さらに、無
機微粒子の粒径を均一にすることで、粒子間ミクロボイ
ドの大きさも均一である光学的に均一な低屈折率層を得
ることができる。これにより、低屈折率層は微視的には
ミクロボイド含有多孔質膜であるが、光学的あるいは巨
視的には均一な膜にすることができる。

【００１４】ミクロボイドを形成することにより、低屈
折率層の巨視的屈折率は、低屈折率層を構成する微粒子
とポリマーとの総屈折率和よりも低い値になる。層の屈
折率は、層の構成要素の体積当りの屈折率の和になる。
微粒子とポリマーの屈折率は１よりも大きな値であるの
に対して、空気の屈折率は１．００である。そのため、
ミクロボイドを形成することによって、屈折率が非常に
低い低屈折率層を得ることができる。粒子間ミクロボイ
ドは、無機微粒子およびポリマーによって低屈折率層内
で閉じていることが好ましい。閉じている空隙は、低屈
折率層表面に開かれた開口と比較して、低屈折率層表面
での光の散乱が少ないとの利点がある。

【００１５】［ポリマー］低屈折率層は、５乃至５０重
量％の量のポリマーを含む。ポリマーは、無機微粒子を
接着し、ミクロボイドを含む低屈折率層の構造を維持す
る機能を有する。ポリマーの使用量は、ミクロボイドを
充填することなく低屈折率層の強度を維持できるように
調整する。ポリマーの量は、低屈折率層の全量の１０乃
至３０重量％であることが好ましい。ポリマーで無機微
粒子を接着するためには、（１）無機微粒子の表面処理
剤にポリマーを結合させるか、あるいは（２）無機微粒
子間のバインダーとして、ポリマーを使用することが好
ましい。（１）の表面処理剤に結合させるポリマーは、
（２）のバインダーポリマーであることが好ましい。
（２）のポリマーは、低屈折率層の塗布液にモノマーを
添加し、低屈折率層の塗布と同時または塗布後に、重合
反応により形成することが好ましい。（１）と（２）を
組み合わせて、実施することが好ましい。 （１）表面処理および（２）バインダーについて、順次
説明する。

【００１６】（１）表面処理 無機微粒子には、表面処理を実施して、ポリマーとの親
和性を改善することが好ましい。表面処理は、プラズマ
放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理と、
カップリング剤を使用する化学的表面処理に分類でき
る。化学的表面処理のみ、または物理的表面処理と化学
的表面処理の組み合わせで実施することが好ましい。カ
ップリング剤としては、オルガノアルコキシメタル化合
物（例、チタンカップリング剤、シランカップリング
剤）が好ましく用いられる。無機微粒子が二酸化ケイ素
からなる場合は、シランカップリング剤による表面処理
が特に有効に実施できる。好ましいシランカップリング
剤を、下記式（Ｉａ）および（Ｉｂ）で示す。

【００１７】

【化１】

【００１８】式中、Ｒ¹ 、Ｒ⁵ およびＲ⁶ は、それぞれ
独立に、炭素原子数が１乃至１０のアルキル基、炭素原
子数が６乃至１０のアリール基、炭素原子数が２乃至１
０のアルケニル基、炭素原子数が２乃至１０のアルキニ
ル基または炭素原子数が７乃至１０のアラルキル基であ
り、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁷ およびＲ⁸ は、それぞれ独
立に、炭素原子数が１乃至６のアルキル基または炭素原
子数が２乃至６のアシル基である。式（Ｉａ）および式
（Ｉｂ）において、Ｒ¹ 、Ｒ⁵ およびＲ⁶ は、アルキル
基、アリール基、アルケニル基またはアラルキル基であ
ることが好ましく、アルキル基、アリール基またはアル
ケニル基であることがさらに好ましく、アルキル基また
はアルケニル基であることが最も好ましい。アルキル
基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基およびア
ラルキル基は、置換基を有していてもよい。置換基の例
には、グリシジル基、グリシジルオキシ基、アルコキシ
基、ハロゲン原子、アシルオキシ基（例、アクリロイル
オキシ、メタクリロイルオキシ）、メルカプト、アミ
ノ、カルボキシル、シアノ、イソシアナトおよびアルケ
ニルスルホニル基（例、ビニルスルホニル）が含まれ
る。

【００１９】式（Ｉａ）および式（Ｉｂ）において、Ｒ
² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁷ およびＲ⁸ は、アルキル基である
ことが好ましい。アルキル基は、置換基を有していても
よい。置換基の例には、アルコキシ基が含まれる。シラ
ンカップリング剤は、分子内に二重結合を有し、その二
重結合の反応によりポリマーと結合させることが好まし
い。二重結合は、式（Ｉａ）と式（Ｉｂ）のＲ¹ 、Ｒ⁵
またはＲ⁶ の置換基中に存在していることが好ましい。
特に好ましいシランカップッリング剤を、下記式（II
ａ）および（IIｂ）で示す。

【００２０】

【化２】

【００２１】式中、Ｒ¹¹およびＲ¹⁵は、それぞれ独立
に、水素原子またはメチルであり、Ｒ¹⁶は、炭素原子数
が１乃至１０のアルキル基、炭素原子数が６乃至１０の
アリール基、炭素原子数が２乃至１０のアルケニル基、
炭素原子数が２乃至１０のアルキニル基または炭素原子
数が７乃至１０のアラルキル基であり、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ
¹⁴、Ｒ¹⁷およびＲ¹⁸は、それぞれ独立に、炭素原子数が
１乃至６のアルキル基または炭素原子数が２乃至６のア
シル基であり、Ｌ¹ およびＬ² は二価の連結基である。
式（IIｂ）において、Ｒ¹⁶は、式（Ｉａ）および式（Ｉ
ｂ）のＲ¹ 、Ｒ⁵ およびＲ⁶ と同様の定義を有する。式
（IIａ）式（IIｂ）において、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁷
およびＲ¹⁸は、式（Ｉａ）および式（Ｉｂ）のＲ² 、Ｒ
³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁷ およびＲ⁸ と同様の定義を有する。式
（IIａ）式（IIｂ）において、Ｌ¹ およびＬ² は、アル
キレン基であることが好ましく、炭素原子数が１乃至１
０のアルキレン基であることがさらに好ましく、炭素原
子数が１乃至６のアルキレン基であることが最も好まし
い。

【００２２】式（Ｉａ）で示されるシランカップリング
剤の例には、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエ
トキシシラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、メ
チルトリアセトキシシラン、メチルトリブトキシシラ
ン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシ
ラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシ
シラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメト
キシエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フ
ェニルトリエトキシシラン、フェニルトリアセトキシシ
ラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−ク
ロロプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピル
トリアセトキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロ
ピルトリメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピ
ルトリメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピル
トリエトキシシラン、γ−（β−グリシジルオキシエト
キシ）プロピルトリメトキシシラン、β−（３，４−エ
ポシシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、β
−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエト
キシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメト
キシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメ
トキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メル
カプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプ
ロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）
−γ−アミノプロピルトリメトキシシランおよびβ−シ
アノエチルトリエトキシシランが含まれる。分子内に二
重結合を有するビニルトリメトキシシラン、ビニルトリ
エトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニル
トリメトキシエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシ
プロピルトリメトキシシランおよびγ−メタクリロイル
オキシプロピルトリメトキシシランが好ましく、式( Ｉ
I ａ）で示されるγ−アクリロイルオキシプロピルトリ
メトキシシランおよびγ−メタクリロイルオキシプロピ
ルトリメトキシシランが特に好ましい。

【００２３】式（Ｉｂ）で示されるシランカップリング
剤の例には、ジメチルジメトキシシラン、フェニルメチ
ルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェ
ニルメチルジエトキシシラン、γ−グリシジルオキシプ
ロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシジルオキシ
プロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシジルオキ
シプロピルフェニルジエトキシシラン、γ−クロロプロ
ピルメチルジエトキシシラン、ジメチルジアセトキシシ
ラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキ
シシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエ
トキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチ
ルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピ
ルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメ
チルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチル
ジエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキ
シシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラ
ン、メチルビニルジメトキシシランおよびメチルビニル
ジエトキシシランが含まれる。

【００２４】分子内に二重結合を有するγ−アクリロイ
ルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリ
ロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メ
タクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、
γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシ
ラン、メチルビニルジメトキシシランおよびメチルビニ
ルジエトキシシランが好ましく、式( ＩI ｂ）で示され
るγ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシ
ラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキ
シシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジ
メトキシシランおよびγ−メタクリロイルオキシプロピ
ルメチルジエトキシシランが特に好ましい。

【００２５】二種類以上のカップリング剤を併用しても
よい。式（Ｉａ）および式（Ｉｂ）で示されるシランカ
ップリング剤に加えて、他のシランカップリングを用い
てもよい。他のシランカップリング剤には、オルトケイ
酸のアルキルエステル（例、オルトケイ酸メチル、オル
トケイ酸エチル、オルトケイ酸ｎ−プロピル、オルトケ
イ酸ｉ−プロピル、オルトケイ酸ｎ−ブチル、オルトケ
イ酸sec-ブチル、オルトケイ酸ｔ−ブチル）およびその
加水分解物が含まれる。カップリング剤による表面処理
は、無機微粒子の分散物に、カップリング剤を加え、室
温から６０℃までの温度で、数時間から１０日間分散物
を放置することにより実施できる。表面処理反応を促進
するため、無機酸（例、硫酸、塩酸、硝酸、クロム酸、
次亜塩素酸、ホウ酸、オルトケイ酸、リン酸、炭酸）、
有機酸（例、酢酸、ポリアクリル酸、ベンゼンスルホン
酸、フェノール、ポリグルタミン酸）、またはこれらの
塩（例、金属塩、アンモニウム塩）を、分散物に添加し
てもよい。

【００２６】（２）バインダー バインダーポリマーは、飽和炭化水素またはポリエーテ
ルを主鎖として有するポリマーであることが好ましく、
飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーであることが
さらに好ましい。バインダーポリマーは架橋しているこ
とが好ましい。飽和炭化水素を主鎖として有するポリマ
ーは、エチレン性不飽和モノマーの重合反応により得る
ことが好ましい。架橋しているバインダーポリマーを得
るためには、二以上のエチレン性不飽和基を有するモノ
マーを用いることが好ましい。

【００２７】二以上のエチレン性不飽和基を有するモノ
マーの例には、多価アルコールと（メタ）アクリル酸と
のエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリ
レート、１，４−ジクロヘキサンジアクリレート、ペン
タエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペン
タエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチ
ロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロ
ールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリス
リトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリス
リトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリ
トールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シク
ロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリア
クリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニル
ベンゼンおよびその誘導体（例、１，４−ジビニルベン
ゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエ
ステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニル
スルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド
（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリル
アミドが含まれる。ポリエーテルを主鎖として有するポ
リマーは、多官能エポシキ化合物の開環重合反応により
合成することが好ましい。二以上のエチレン性不飽和基
を有するモノマーの代わりまたはそれに加えて、架橋性
基の反応により、架橋構造をバインダーポリマーに導入
してもよい。架橋性官能基の例には、イソシアナート
基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アル
デヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル
基、メチロール基および活性メチレン基が含まれる。ビ
ニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導
体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよび
ウレタンも、架橋構造を導入するためのモノマーとして
利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解
反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。

【００２８】また、本発明において架橋基とは、上記化
合物に限らず上記官能基が分解した結果反応性を示すも
のであってもよい。バインダーポリマーは、低屈折率層
の塗布液にモノマーを添加し、低屈折率層の塗布と同時
または塗布後に重合反応（必要ならばさらに架橋反応）
により形成することが好ましい。重合反応および架橋反
応に使用する熱重合開始剤の例には、無機過酸化物
（例、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム）、アゾニ
トリル化合物（例、アゾビスシアノ吉草酸ナトリウ
ム）、アゾアミジン化合物（例、２，２’−アゾビス
（２−メチルプロピオンアミド）塩酸塩）、環状アゾア
ミジン化合物（例、２，２’−アゾビス〔２−（５−メ
チル−２−イミダゾリン−２−イル）プロパン塩酸
塩）、アゾアミド化合物（例、２，２’−アゾビス｛２
−メチル−Ｎ−〔１，１’−ビス（ヒドロキシメチル）
−２−ヒドロキシエチル〕プロピオンアミド）、アゾ化
合物（例、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、
２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリ
ル）、ジメチル−２，２’−アゾビス（２−メチルプロ
ピオネート）、ジメチル−２，２’−アゾビスイソブチ
レート）および有機過酸化物（例、ラウリルパーオキシ
ド、ベンゾイルパーオキシド、tert−ブチルパーオクト
エート）が含まれる。

【００２９】重合反応および架橋反応に使用する光重合
開始剤の例には、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベ
ンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、
アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過
酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスル
フィド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スル
ホニウム類がある。アセトフェノン類の例には、２，２
−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェ
ノン、１−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、１−ヒ
ドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−
４−メチルチオ−２−モルフォリノプロピオフェノンお
よび２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モ
ルフォリノフェニル）−ブタノンが含まれる。ベンゾイ
ン類の例には、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイン
エチルエーテルおよびベンゾインイソプロピルエーテル
が含まれる。ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノ
ン、２，４−ジクロロベンゾフェノン、４，４−ジクロ
ロベンゾフェノンおよびｐ−クロロベンゾフェノンが含
まれる。ホスフィンオキシド類の例には、２，４，６−
トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド
が含まれる。低屈折率層の塗布液に、少量のポリマー
（例、ポリビニルアルコール、ポリオキシエチレン、ポ
リメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ジ
アセチルセルロース、トリアセチルセルロース、ニトロ
セルロース、ポリエステル、アルキド樹脂）を添加して
もよい。

【００３０】［低屈折率層］低屈折率層は、以上の微粒
子およびポリマーを含み、ミクロボイド構造を有する層
である。低屈折率層の屈折率は、１．２０乃至１．５５
であることが好ましく、１．３０乃至１．５５であるこ
とがさらに好ましい。低屈折率層の層厚は、５０乃至４
００ｎｍであることが好ましく、５０乃至２００ｎｍで
あることがさらに好ましい。

【００３１】［透明支持体］反射防止膜をＣＲＴ画像表
示面やレンズ表面に直接設ける場合を除き、反射防止膜
は透明支持体を有することが好ましい。透明支持体とし
ては、プラスチックフイルムを用いることが好ましい。
プラスチックフイルムの材料の例には、セルロースエス
テル（例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロ
ース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、
アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロー
ス）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル
（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフ
タレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテ
レフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエ
タン−４，４’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテ
レフタレート）、ポリスチレン（例、シンジオタクチッ
クポリスチレン）、ポリオレフィン（例、ポリプロピレ
ン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン）、ポリスルホ
ン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエー
テルイミド、ポリメチルメタクリレートおよびポリエー
テルケトンが含まれる。トリアセチルセルロース、ポリ
カーボネート及びポリエチレンテレフタレートが好まし
い。透明支持体の光透過率は、８０％以上であることが
好ましく、８６％以上であることがさらに好ましい。透
明支持体のヘイズは、２．０％以下であることが好まし
く、１．０％以下であることがさらに好ましい。透明支
持体の屈折率は、１．４乃至１．７であることが好まし
い。

【００３２】［高屈折率層および中屈折率層］図２の
（ｂ）に示すように、低屈折率層と透明支持体との間に
高屈折率層を設けてもよい。また、図２の（ｃ）に示す
ように、高屈折率層と透明支持体との間に中屈折率層を
設けてもよい。高屈折率層の屈折率は、１．６５乃至
２．４０であることが好ましく、１．７０乃至２．２０
であることがさらに好ましい。中屈折率層の屈折率は、
低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値と
なるように調整する、中屈折率層の屈折率は、１．５５
乃至１．７０であることが好ましい。

【００３３】中屈折率層および高屈折率層は、比較的屈
折率が高いポリマーを用いて形成することが好ましい。
屈折率が高いポリマーの例には、ポリスチレン、スチレ
ン共重合体、ポリカーボネート、メラミン樹脂、フェノ
ール樹脂、エポキシ樹脂および環状（脂環式または芳香
族）イソシアネートとポリオールとの反応で得られるポ
リウレタンが含まれる。その他の環状（芳香族、複素環
式、脂環式）基を有するポリマーや、フッ素以外のハロ
ゲン原子を置換基として有するポリマーも、屈折率が高
い。二重結合を導入してラジカル硬化を可能にしたモノ
マーの重合反応によりポリマーを形成してもよい。屈折
率の高い無機微粒子を上記ポリマー中に分散してもよ
い。屈折率の高い無機微粒子を用いる場合は、比較的屈
折率の低いポリマー、例えば、ビニル系ポリマー（アク
リル系ポリマーを含む）、ポリエステル系ポリマー（ア
ルキド系ポリマーを含む）、セルロース系ポリマーやウ
レタン系ポリマーでも、無機微粒子を安定に分散するた
めに用いることができる。

【００３４】有機置換されたケイ素化合物を、高屈折率
層または中屈折率層に添加してもよい。ケイ素化合物と
しては、低屈折率層の無機微粒子の表面処理に使用する
シランカップリング剤またはその加水分解物が好ましく
用いられる。無機微粒子としては、金属（例、アルミニ
ウム、チタニウム、ジルコニウム、アンチモン）の酸化
物が好ましい。無機微粒子の粉末またはコロイド状分散
物を上記のポリマーまたは有機ケイ素化合物中と混合し
て、使用する。無機微粒子の平均粒径は、１０乃至１０
０ｎｍであることが好ましい。被膜形成能を有する有機
金属化合物から、高屈折率層または中屈折率層を形成し
てもよい。有機金属化合物は、適当な媒体に分散できる
か、あるいは液状であることが好ましい。

【００３５】有機金属化合物の例には、金属アルコレー
ト（例、チタンテトラエトキシド、チタンテトラ−ｉ−
プロポキシド、チタンテトラ−ｎ−プロポキシド、チタ
ンテトラ−ｎ−ブトキシド、チタンテトラ−sec-ブトキ
シド、チタンテトラ−tert−ブトキシド、アルミニウム
トリエトキシド、アルミニウムトリ−ｉ−プロポキシ
ド、アルミニウムトリブトキシド、アンチモントリエト
キシド、アンチモントリブトキシド、ジルコニウムテト
ラエトキシド、ジルコニウムテトラ−ｉ−プロポキシ
ド、ジルコニウムテトラ−ｎ−プロポキシド、ジルコニ
ウムテトラ−ｎ−ブトキシド、ジルコニウムテトラ−se
c-ブトキシド、ジルコニウムテトラ−tert−ブトキシ
ド）、キレート化合物（例、ジ−イソプロポキシチタニ
ウムビスアセチルアセトネート、ジ−ブトキシチタニウ
ムビスアセチルアセトネート、ジ−エトキシチタニウム
ビスアセチルアセトネート、ビスアセチルアセトンジル
コニウム、アルミニウムアセチルアセトネート、アルミ
ニウムジ−ｎ−ブトキシドモノエチルアセトアセテー
ト、アルミニウムジ−ｉ−プロポキシドモノメチルアセ
トアセテート、トリ−ｎ−ブトキシドジルコニウムモノ
エチルアセトアセテート）、有機酸塩（例、炭酸ジルコ
ニールアンモニウム）およびジルコニウムを主成分とす
る活性無機ポリマーが含まれる。アルキルシリケート
類、その加水分解物および微粒子状シリカ、特にコロイ
ド状に分散したシリカゲルを高屈折率層または中屈折率
層に添加してもよい。高屈折率層および中屈折率層のヘ
イズは、３％以下であることが好ましい。

【００３６】［その他の層］反射防止膜には、さらに、
ハードコート層、防湿層、帯電防止層、下塗り層、透明
導電性層や保護層を設けてもよい。ハードコート層は、
透明支持体に耐傷性を付与するために設ける。ハードコ
ート層は、透明支持体とその上の層との接着を強化する
機能も有する。ハードコート層は、アクリル系ポリマ
ー、ウレタン系ポリマー、エポキシ系ポリマーやシリカ
系化合物を用いて形成することができる。顔料をハード
コート層に添加してもよい。

【００３７】低屈折率層の上に、保護層を設けてもよ
い。保護層は、滑り層または汚れ防止層として機能す
る。滑り層に用いる滑り剤の例には、ポリオルガノシロ
キサン（例、ポリジメチルシロキサン、ポリジエチルシ
ロキサン、ポリジフェニルシロキサン、ポリメチルフェ
ニルシロキサン、アルキル変性ポリジメチルシロキサ
ン）、天然ワックス（例、カルナウバワックス、キャン
デリラワックス、ホホバ油、ライスワックス、木ろう、
蜜ろう、ラノリン、鯨ろう、モンタンワックス）、石油
ワックス（例、パラフィンワックス、マイクロクリスタ
リンワックス）、合成ワックス（例、ポリエチレンワッ
クス、フィッシャー・トロプシュワックス）、高級脂肪
脂肪酸アミド（例、ステアラミド、オレインアミド、
Ｎ，Ｎ’−メチレンビスステアラミド）、高級脂肪酸エ
ステル（例、ステアリン酸メチル、ステアリン酸ブチ
ル、グリセリンモノステアレート、ソルビタンモノオレ
エート）、高級脂肪酸金属塩（例、ステアリン酸亜鉛）
およびフッ素含有ポリマー（例、パーフルオロ主鎖型パ
ーフルオロポリエーテル、パーフルオロ側鎖型パーフル
オロポリエーテル、アルコール変性パーフルオロポリエ
ーテル、イソシアネート変性パーフルオロポリエーテ
ル）が含まれる。汚れ防止層には、含フッ素疎水性化合
物（例、含フッ素ポリマー、含フッ素界面活性剤、含フ
ッ素オイル）を添加する。保護層の厚さは、反射防止機
能に影響しないようにするため、２０ｎｍ以下であるこ
とが好ましい。

【００３８】［反射防止膜］反射防止膜の各層は、ディ
ップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート
法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビ
アコート法やエクストルージョンコート法（米国特許２
６８１２９４号明細書）により、塗布により形成するこ
とができる。二以上の層を同時に塗布してもよい。同時
塗布の方法については、米国特許２７６１７９１号、同
２９４１８９８号、同３５０８９４７号、同３５２６５
２８号の各明細書および原崎勇次著、コーティング工
学、２５３頁、朝倉書店(1973)に記載がある。反射防止
膜は、外光を散乱させるアンチグレア機能を有していて
もよい。アンチグレア機能は、反射防止膜の表面に凹凸
を形成することにより得られる。本発明では、低屈折率
層に微粒子を使用するため、図１に示すように反射防止
膜の表面に凹凸が形成されている。微粒子により得られ
るアンチグレア機能では不充分な場合は、いずれかの層
（好ましくはハードコート層）に比較的大きな粒子（粒
径：２乃至１５μｍ）を少量（０．１乃至５０重量％）
添加してもよい。

【００３９】反射防止膜のヘイズは、３乃至３０％であ
ることが好ましく、５乃至２０％であることがさらに好
ましく、７乃至２０％であることが最も好ましい。反射
防止膜は、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプ
レイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディ
スプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のよう
な画像表示装置に適用する。反射防止膜が透明支持体を
有する場合は、透明支持体側を画像表示装置の画像表示
面に接着する。

【００４０】

【実施例】［実施例１］ （ハードコート層の形成）ジペンタエリスリトールペン
タアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリ
レートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）１２５
ｇおよびウレタンアクリレートオリゴマー（ＵＶ−６３
００Ｂ、日本合成化学工業（株）製）１２５ｇを、４５
０ｇの工業用変性エタノールに溶解した。得られた溶液
に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー
社製）７．５ｇおよび光増感剤（カヤキュアーＤＥＴ
Ｘ、日本化薬（株）製）５．０ｇを４７．５ｇのメチル
エチルケトンに溶解した溶液を加えた。混合物を攪拌し
た後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過
してハードコート層の塗布液を調製した。８０μｍの厚
さのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＡＣ−ＴＤ８
０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）上に、上記のハード
コート層の塗布液を、バーコーターを用いて塗布し、１
２０℃で乾燥後、紫外線を照射して、塗布層を硬化さ
せ、厚さ８．０μｍのハードコート層を形成した。

【００４１】（低屈折率層塗布液の調製）テトラメトキ
シシラン１００ｇをメタノール５３０ｇと混合した。室
温で３０重量％アンモニア水を、混合液に滴下し、２４
時間攪拌した。２４時間還流してアンモニアを除去し、
２０重量％まで濃縮して多孔質無機微粒子分散物を得
た。多孔質無機微粒子分散物３００ｇにシランカップリ
ング剤（ＫＢＭ−５０３、信越シリコーン（株）製）５
ｇおよび０．１Ｎ塩酸２ｇを加え、室温で５時間攪拌し
た後、４日間室温で放置して、多孔質無機微粒子をシラ
ンカップリング処理した。分散物２２３ｇに、イソプロ
ピルアルコール７８９ｇおよびメタノール４５０ｇを加
えた。光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギ
ー社製）３．２ｇおよび光増感剤（カヤキュアーＤＥＴ
Ｘ、日本化薬（株）製）１．６ｇを３２ｇのイソプロピ
ルアルコールに溶解した溶液を加え、さらに、ジペンタ
エリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリ
トールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化
薬（株）製）２．２ｇを７８ｇのイソプロピルアルコー
ルに溶解した溶液を加えた。混合物を２０分間室温で攪
拌し、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過
して、低屈折率層用塗布液を調製した。

【００４２】（反射防止膜の作成）ハードコート層の上
に、低屈折率層用塗布液をバーコーターを用いて塗布
し、１２０℃で乾燥した後、紫外線を照射して塗布層を
硬化させ、低屈折率層（厚さ：０．１μｍ）を形成し
た。このようにして、反射防止膜を作成した。得られた
反射防止膜について、４５０〜６５０ｎｍの波長におけ
る平均反射率および表面の鉛筆硬度を測定した。結果は
第１表に示す。

【００４３】［実施例２］１００μｍの厚さのポリエチ
レンテレフタレートフイルムに、スチレン・ブタジエン
コポリマーを主成分とする第１下塗り層を設けた。第１
下塗り層の上に、アクリル樹脂を主成分とする第２下塗
り層を設けた。第２下塗り層の上に、実施例１で用いた
ハードコート層の塗布液を、バーコーターを用いて塗布
し、１２０℃で乾燥後、紫外線を照射して、塗布層を硬
化させ、厚さ８．０μｍのハードコート層を形成した。
実施例１と同様に、ハードコート層の上に低屈折率層を
設け、反射防止膜を作成した。実施例１と同様に平均反
射率および表面の鉛筆硬度を測定した。結果は第１表に
示す。

【００４４】［比較例１］シリカ微粒子のメタノール分
散液（Ｒ５０７、日産化学（株）製）２００ｇにシラン
カップリング剤（ＫＢＮ−８０３、信越シリコーン
（株）製）１０ｇおよび０．１Ｎ塩酸２ｇを加え、室温
で５時間攪拌した後、約６日間室温で放置して、シラン
カップリング処理したシリカ微粒子の分散物を調製し
た。分散物２２３ｇに、イソプロピルアルコール７８９
ｇおよびメタノール４５０ｇを加えた。光重合開始剤
（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）３．２ｇお
よび光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）
製）１．６ｇを３２ｇのイソプロピルアルコールに溶解
した溶液を加え、さらに、ジペンタエリスリトールペン
タアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリ
レートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）２．２
ｇを７８ｇのイソプロピルアルコールに溶解した溶液を
加えた。混合物を２０分間室温で攪拌し、孔径１μｍの
ポリプロピレン製フィルターで濾過して、低屈折率層用
塗布液を調製した。この低屈折率層用塗布液を用いた以
外は実施例１と同様にして反射防止膜を作成した。実施
例１と同様に、ハードコート層の上に低屈折率層を設
け、反射防止膜を作成した。実施例１と同様に平均反射
率および表面の鉛筆硬度を測定した。結果は第１表に示
す。

【００４５】［比較例２］１００μｍの厚さのポリエチ
レンテレフタレートフイルムに、スチレン・ブタジエン
コポリマーを主成分とする第１下塗り層を設けた。第１
下塗り層の上に、アクリル樹脂を主成分とする第２下塗
り層を設けた。第２下塗り層の上に、実施例１で用いた
ハードコート層の塗布液を、バーコーターを用いて塗布
し、１２０℃で乾燥後、紫外線を照射して、塗布層を硬
化させ、厚さ８．０μｍのハードコート層を形成した。
比較例１と同様に、ハードコート層の上に低屈折率層を
設け、反射防止膜を作成した。実施例１と同様に平均反
射率および表面の鉛筆硬度を測定した。結果は第１表に
示す。

【００４６】

【表１】 第１表 ──────────────────────────────────── 反射防止膜 透明支持体 無機微粒子 空隙率 平均反射率 鉛筆硬度 ──────────────────────────────────── 実施例１ トリアセチルセルロース 多孔性 １９％ ０．９％ ２Ｈ 実施例２ ポリエチレンテレフタレート 多孔性 １８％ １．１％ ２Ｈ 比較例１ トリアセチルセルロース 非多孔性 １２％ １．５％ ２Ｈ 比較例２ ポリエチレンテレフタレート 非多孔性 １３％ １．６％ ２Ｈ ────────────────────────────────────

【００４７】［実施例３］ （二酸化チタン分散物の調製）二酸化チタン（一次粒子
重量平均粒径：５０ｎｍ、屈折率：２．７０）３０重量
部、アニオン性モノマー（ＰＭ２１、日本化薬（株）
製）３重量部、カチオン性モノマー（ＤＭＡＥＡ、興人
（株）製）１重量部およびメチルエチルケトン６５．２
重量部を、ダイノミルにより分散し、二酸化チタン分散
物を調製した。

【００４８】（中屈折率層用塗布液の調製）シクロヘキ
サノン１７２ｇおよびメチルエチルケトン４３ｇに、光
重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）
０．１８ｇおよび光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日
本化薬（株）製）０．０５９ｇを溶解した。さらに、上
記の二酸化チタン分散物１５．８ｇおよびジペンタエリ
スリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトー
ルヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬
（株）製）３．１ｇを加え、室温で３０分間攪拌した
後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過し
て、中屈折率層用塗布液を調製した。

【００４９】（高屈折率層用塗布液の調製）シクロヘキ
サノン１８３ｇおよびメチルエチルケトン４６ｇに、光
重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）
０．０８５ｇおよび光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、
日本化薬（株）製）０．０２８ｇを溶解した。さらに、
上記の二酸化チタン分散物１７．９ｇおよびジペンタエ
リスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬
（株）製）１．０ｇを加え、室温で３０分間攪拌した
後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過し
て、高屈折率層用塗布液を調製した。

【００５０】（反射防止膜の作成）８０μｍの厚さのト
リアセチルセルロースフイルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、
富士写真フイルム（株）製）上に、実施例１で用いたハ
ードコート層の塗布液を、バーコーターを用いて塗布
し、１２０℃で乾燥後、紫外線を照射して、塗布層を硬
化させ、厚さ８．０μｍのハードコート層を形成した。
ハードコート層の上に、上記の中屈折率層用塗布液をバ
ーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥した後、紫
外線を照射して塗布層を硬化させ、中屈折率層（厚さ：
０．０８１μｍ）を設けた。中屈折率層の上に、上記の
高屈折率層用塗布液をバーコーターを用いて塗布し、１
２０℃で乾燥した後、紫外線を照射して塗布層を硬化さ
せ、高屈折率層（厚さ：０．０５３μｍ）を設けた。高
屈折率層の上に、実施例１で用いた低屈折率層用塗布液
をバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥した
後、紫外線を照射して塗布層を硬化させ、低屈折率層
（厚さ：０．０９２μｍ）を設けた。このようにして反
射防止膜を作成した。得られた反射防止膜について、４
５０〜６５０ｎｍの波長における平均反射率および表面
の鉛筆硬度を測定した。結果は第２表に示す。

【００５１】［比較例３］比較例１で調製した低屈折率
層用塗布液を用いた以外は、実施例３と同様にして反射
防止膜を作成した。得られた反射防止膜について、実施
例３と同様に平均反射率および表面の鉛筆硬度を測定し
た。結果は第２表に示す。

【００５２】

【表２】 第２表 ──────────────────────────────────── 反射防止膜 無機微粒子 平均反射率 鉛筆硬度 ──────────────────────────────────── 実施例３ 多孔性 ０．２８％ ２Ｈ 比較例３ 非多孔性 ０．３５％ ２Ｈ ────────────────────────────────────

【図面の簡単な説明】

【図１】反射防止膜の低屈折率層の断面模式図である。

【図２】反射防止膜の様々な層構成を示す断面模式図で
ある。

【符号の説明】

１ 低屈折率層 ２ ハードコート層 ３ 透明支持体 ４ 高屈折率層 ５ 中屈折率層 １１ 無機微粒子 １２ 粒子間ミクロボイド １３ 粒子内ミクロボイド １４ ポリマー

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 内部にミクロボイドが形成されている平
   均粒径が０．５乃至２００ｎｍの無機微粒子を５０乃至
   ９５重量％およびポリマーを５乃至５０重量％含み、該
   無機微粒子を少なくとも２個以上積み重ねることにより
   微粒子間にもミクロボイドが形成されていることを特徴
   とする反射防止膜。
2. 【請求項２】 低屈折率層が、３乃至５０体積％の空隙
   率を有する請求項１に記載の反射防止膜。
3. 【請求項３】 低屈折率層が、１．２０乃至１．５５の
   屈折率を有する請求項１に記載の反射防止膜。
4. 【請求項４】 無機微粒子が実質的に、架橋しているシ
   リカからなる請求項１に記載の反射防止膜。
5. 【請求項５】 微粒子間のミクロボイドが、無機微粒子
   およびポリマーにより閉じている請求項１に記載の反射
   防止膜。
6. 【請求項６】 内部にミクロボイドが形成されている平
   均粒径が０．５乃至２００ｎｍの無機微粒子を５０乃至
   ９５重量％およびポリマーを５乃至５０重量％含み、該
   無機微粒子を少なくとも２個以上積み重ねることにより
   微粒子間にもミクロボイドが形成されている低屈折率層
   を有する反射防止膜を、表示面に配置したことを特徴と
   する画像表示装置。