JP2010128309A - 反射防止膜付基材および反射防止膜形成用塗布液 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基材上に反射防止膜が形成された反射防止膜付基材であって、該反射防止膜がシリカ系中空微粒子(A)とマトリックス成分からなり、反射防止膜の膜厚(Th)が80〜
200nmの範囲にあり、シリカ系中空微粒子(A)の平均粒子径(Dpa)が60〜150nmの範囲にあり、シリカ系中空微粒子(A)の平均粒子径(Dpa)と反射防止膜の膜厚(Th)との比(Dpa)/(Th)が0.75〜1の範囲にあることを特徴とする反射防止膜付基材。
【選択図】なし
Description
002−79616号公報(特許文献2)等参照)。
該反射防止膜がシリカ系中空微粒子(A)とマトリックス成分からなり、
反射防止膜の膜厚(Th)が80〜200nmの範囲にあり、
シリカ系中空微粒子(A)の平均粒子径(Dpa)が60〜150nmの範囲にあり、
シリカ系中空微粒子(A)の平均粒子径(Dpa)と反射防止膜の膜厚(Th)との比(Dpa)/(Th)
が0.75〜1の範囲にあることを特徴とする反射防止膜付基材。
[2]前記シリカ系中空微粒子(A)の屈折率が1.10〜1.40の範囲にある[1]の反射防
止膜付基材。
[3]前記反射防止膜中にさらに、平均粒子径(Dpb)が10〜60nmの範囲にあるシリカ系中空微粒子(B)を含み、シリカ系中空微粒子(B)の平均粒子径(Dpb)とシリカ系中空微粒子(A)の平均粒子径(Dpa)との比(Dpb)/(Dpa)が0.1〜0.4の範囲にある[1]または[2]の
反射防止膜付基材。
[4]前記反射防止膜中のシリカ系中空微粒子(A)とシリカ系中空微粒子(B)の合計の含有量
が5〜80質量%の範囲にあり、
シリカ系中空微粒子(A)および(B)の合計中のシリカ系中空微粒子(B)の割合が30質量
%以下である[1]〜[3]の反射防止膜付基材。
Rn−SiX4-n (1)
(但し、式中、Rは炭素数1〜10の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。X:炭素数1〜4のアルコキシ基、シラノール基、ハロゲン、水素、n:0〜3の整数)
[6]シリカ系中空微粒子(A)とマトリックス形成成分と溶媒とからなり、
シリカ系中空微粒子(A)の平均粒子径(Dpa)が60〜150nmの範囲にあり、
全固形分濃度が1〜10質量%の範囲にあり、シリカ系中空微粒子(A)の濃度が固形分
として0.05〜8質量%の範囲にあり、
マトリックス形成成分の濃度が固形分として0.2〜9.95質量%の範囲にあることを特徴とする反射防止膜形成用塗布液。
[7]前記シリカ系中空微粒子(A)の屈折率が1.10〜1.40の範囲にある[6]の反射防
止膜形成用塗布液。
[8]さらに、平均粒子径(Dpb)が10〜60nmの範囲にあるシリカ系中空微粒子(B)を含
み、該シリカ系中空微粒子(B)の平均粒子径(Dpb)と前記シリカ系中空微粒子(A)の平均粒
子径(Dpa)との比(Dpb)/(Dpa)が0.1〜0.4の範囲にある[6]または[7]の反射防止膜
形成用塗布液。
[9]前記塗布液中のシリカ系中空微粒子(A)および(B)の合計中のシリカ系中空微粒子(B)の割合が30質量%以下である[8]の反射防止膜形成用塗布液。
[10]前記シリカ系中空微粒子(A)および/またはシリカ系中空微粒子(B)が、下記式(1)で
表される有機珪素化合物で表面処理されている[6]〜[9]の反射防止膜形成用塗布液。
Rn−SiX4-n (1)
(但し、式中、Rは炭素数1〜10の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。X:炭素数1〜4のアルコキシ基、シラノール基、ハロゲン、水素、n:0〜3の整数)
[11]前記[6]〜[10]の塗布液を、基材表面に塗布し、乾燥して反射防止膜を形成するに際
し、反射防止膜の膜厚(Th)を80〜200nmの範囲とし、
反射防止膜に含まれるシリカ系中空微粒子(A)の平均粒子径(Dpa)と反射防止膜の膜厚(Th)との比(Dpa)/(Th)が0.75〜1の範囲となるように反射防止膜を形成することを特
徴とする反射防止膜付基材の製造方法。
[反射防止膜付基材]
本発明に係る透明被膜付基材は、基材上に反射防止膜が形成された反射防止膜付基材であって、該反射防止膜がシリカ系中空微粒子(A)とマトリックス成分からなり、反射防止
膜の膜厚(Th)が80〜200nmの範囲にあり、シリカ系中空微粒子(A)の平均粒子径(Dpa)が60〜150nmの範囲にあり、シリカ系中空微粒子(A)の平均粒子径(Dpa)と反射防止膜の膜厚(Th)との比(Dpa)/(Th)が0.75〜1の範囲にあることを特徴としている。
基材としては、トリアセチルセルロースフィルム(TAC)、ジアセチルセルロースフィルム、アセテートブチレートセルロースフィルム等のセルロース系基材、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系基材、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、環状ポリオレフィンフィルム等のポリオレフィン系基材、ナイロン−6、ナイロン−66等のポリアミド系基材等の他、ポリアクリル系フィルム、ポリウレタン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエーテウフィルム、ポリエーテルサルホンフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、アクリロニトリルフィルム等の基材が挙げられる。
本発明では、上記基材表面に反射防止膜が形成されている。
反射防止膜はシリカ系中空微粒子(A)とマトリックス成分とからなる。
シリカ系中空微粒子(A)としては、本願出願人の出願による特開2001−23361
1号公報、特開2003−192994号公報に開示した内部に空洞を有するシリカ系微粒子は屈折率が低く、コロイド領域の微粒子であり、分散性等に優れているので好適に採用することができる。
本発明に用いるシリカ系中空微粒子(A)の平均粒子径(Dpa) は60〜150nm、さら
には80〜120nmの範囲にあることが好ましい。
し、反射率が不充分になるとともに膜の強度も不充分になる場合がある。また、膜厚に近似している場合でも、後述する膜厚との関係にない場合、反射防止膜の表面に凹凸ができ、このためヘーズ値が高くなる場合や、耐擦傷性、スクラッチ強度が不充分となる場合がある。
の範囲にあることが好ましい。
シリカ系中空微粒子(A)の屈折率は前記下限未満のものは得ることが困難であり、屈折
率が大きすぎると、基材あるいは下層膜の屈折率にもよるが反射防止性能が不充分となったり、反射防止膜の反射率が高いために明所コントラストが不充分となることがある。
本発明では、前記シリカ系中空微粒子(A)に加えて、シリカ系中空微粒子(A)よりも平均粒子径が小さい、シリカ系中空微粒子(B)を含むことが好ましい。かかるシリカ系中空微
粒子(B)の平均粒子径(Dpb)は、10〜60nm、好ましくは15〜50nmの範囲であるものが望ましい。
る効果により、耐擦傷性、スクラッチ強度に優れた反射防止膜を得ることができる。また、マトリックス成分より屈折率の低いシリカ系中空微粒子(B)が用いられるので反射防止
膜の屈折率を低くすることができ、より反射防止性能に優れた反射防止膜を得ることができる。
(Dpb)/(Dpa)が小さすぎると、シリカ系中空微粒子(B)がシリカ系中空微粒子(A)を凝集させたり、配列を不規則にすることがあり、反射率が不充分になるとともに膜の強度が不充分になる場合がある。(Dpb)/(Dpa)が大きすぎると、前記シリカ系中空微粒子(A)の粒
子間隙に入らないためにシリカ系中空微粒子(A)が不規則に配列したり凝集することがあ
り、反射率が不充分になるとともに膜の強度も不充分になる場合がある。
75質量%の範囲にあることが好ましい。反射防止膜中のシリカ系中空微粒子(A)の含有
量が5質量%未満の場合は、基材との密着性、膜強度、表面平坦性、耐擦傷性、スクラッチ強度等が不充分となることに加えて、反射防止膜の屈折率をさらに低下させることができないために反射防止性能をさらに向上させる効果が不充分となる場合がある。
反射防止膜中のシリカ系中空微粒子(A)の含有量が多すぎると、粒子が多すぎて膜強度、
耐擦傷性、スクラッチ強度等が不充分となることに加えて、反射防止膜のヘーズ値が高くなる場合がある。また、反射防止膜にシリカ系中空微粒子(B)を配合して用いる場合も、
反射防止膜中のシリカ系中空微粒子(A)とシリカ系中空微粒子(B)の合計の含有量が5〜80質量%、さらには10〜75質量%の範囲にあることが好ましい。
なお、シリカ系中空微粒子(B)の割合が多すぎると、前記シリカ系中空微粒子(A)の粒子間隙に入らないシリカ系中空微粒子(B)が増加し、シリカ系中空微粒子(A)が不規則に配列したり凝集することがあり、反射率が不充分になるとともに膜の強度も不充分になる場合がある。
カ系中空微粒子(A)の粒子間隙にシリカ系中空微粒子(B)が存在して表面を平坦化する効果により、耐擦傷性、スクラッチ強度に優れた反射防止膜を得ることができる。
Rn-SiX4-n (1)
(但し、式中、Rは炭素数1〜10の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。X:炭素数1〜4のアルコキシ基、シラノール基、ハロゲン、水素、n:0〜3の整数)
ロピルジメトキシシラン、β−(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシメチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシメチルトリエキシシラン、γ-グリシドキシエチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシエチルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−(β−グリシドキシエトキシ)プロピルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシメチルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシメチルトリエキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシエチルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシエチルトリエトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリメ
トキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリエトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリエ
トキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラオクチルトリエトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、ブチルトリエトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、3-ウレイドイソプロピルプロピルトリ
エトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリメトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリエトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリイソプロポキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ-アミノプロピル
メチルジメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ-アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、N-フェニル-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、トリメチルシラノール、メチルトリクロロシラン、等が挙げられる。
を有する有機珪素化合物で表面処理すると、耐水性、撥水性、防汚性等に優れた反射防止膜が得られる。
前記重量比が0.5を超えてもさらに分散性が向上することもなく、屈折率が上昇し、高価な有機ケイ素化合物が増加するだけで経済性が低下する。
マトリックス成分としては、シリコーン系(ゾルゲル系)マトリックス成分、有機樹脂系マトリックス成分等が用いられる。
シリコーン系マトリックス形成成分としては下記式(2)で表される有機珪素化合物の加水
分解物、加水分解重縮合物が好適に用いられる。
Rn-SiX4-n (2)
(但し、式中、Rは炭素数1〜10の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。X:炭素数1〜4のアルコキシ基、シラノール基、ハロゲン、水素、n:0〜3の整数)
ロピルジメトキシシラン、β−(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラ
ン、γ-グリシドキシメチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシメチルトリエキシシラン、γ-グリシドキシエチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシエチルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−(β−グリシドキシエトキシ)プロピルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシメチルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシメチルトリエキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシエチルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシエチルトリエトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリメ
トキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリエトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリエ
トキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラオクチルトリエトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、ブチルトリエトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、3-ウレイドイソプロピルプロピルトリエトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリメトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリエトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリイソプロポキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ-アミノプロピル
メチルジメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ-アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、N-フェニル-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、トリメチルシラノール、メチルトリクロロシラン、等が挙げられる。
このような樹脂として、たとえば、従来から用いられているポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリフェニレンオキサイド樹脂、アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、フッ素樹脂、酢酸ビニル樹脂、シリコーンゴムなどの熱可塑性樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、ブチラール樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アクリル樹脂などの熱硬化性樹脂、アクリル樹脂、アクリルシリコン樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、シリコン樹脂、ポリエステル樹脂などの電子線硬化型樹脂が挙げられる。
(メタ)アクリロイル基を有するアクリル系樹脂としては、共栄社化学製:製品名:ライトアクリレートDPE−6A(ジペンタエスリトールヘキサアクリレート)、共栄社化学製:製品名:ライトアクリレートDPE−4A(ペンタエスリトールテトラアクリレート)等が挙げられる。
以上のような反射防止膜は、反射防止膜形成用塗布液を、前記基材表面に塗布したのち、乾燥することによって形成することができる。
本発明に係る反射防止膜形成用塗布液は、前記シリカ系中空微粒子(A)とマトリックス
形成成分と溶媒とからなり、全固形分濃度が1〜10質量%の範囲にあり、シリカ系中空微粒子(A)の濃度が固形分として0.05〜8質量%の範囲にあり、マトリックス形成成
分の濃度が固形分として0.2〜8質量%の範囲にあることを特徴としている。
シリカ系シリカ系中空微粒子(A)としては前記したシリカ系シリカ系中空微粒子(A)が用いられる。
8質量%、さらには0.1〜7.5質量%の範囲にあることが好ましい。シリカ系中空微粒子(A)の濃度が薄いと、得られる反射防止膜中のシリカ系中空微粒子(A)の量が少なくなるので、基材との密着性、膜強度、表面平坦性、耐擦傷性、スクラッチ強度等が不充分となることに加えて、反射防止膜の屈折率を低下させることができないために反射防止性能が不充分となる場合がある。反射シリカ系中空微粒子(A)の濃度が濃すぎると、粒子が多
すぎて得られる反射防止膜の膜強度、耐擦傷性、スクラッチ強度等が不充分となることに加えて、反射防止膜のヘーズ値が高くなる場合がある。
シリカ系中空微粒子(B)を用いる場合、全シリカ系中空微粒子中のシリカ系中空微粒子(B)の割合は前記したとおりである。
マトリックス形成成分としては、シリコーン系マトリックス形成成分、有機樹脂系マトリックス形成成分等が用いられる。
シリコーン系マトリックス形成成分としては前記式(2)で表される従来公知の有機珪素化
合物および/またはこれらの加水分解物、加水分解重縮合物が好適に用いられる。
本発明に用いる溶媒としてはマトリックス形成成分、重合開始剤を溶解あるいは分散できるとともにシリカ系中空微粒子(A)、シリカ系中空微粒子(B)を均一に分散することができれば特に制限はなく、従来公知の溶媒を用いることができる。
メチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセチルアセトン、アセト酢酸エステルなどのケトン類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、トルエン、シクロヘキサノン、イソホロン等が挙げられる。
これらは2種以上混合して使用することもできる。
本発明の反射防止膜形成用塗布液には、マトリックス形成成分の種類に応じて重合開始剤を用いることができる。
本発明に係る反射防止膜形成用塗布液を用いて反射防止膜を形成する方法としては従来公知の方法を採用することができる。
平均粒子径(Dpa)と反射防止膜の膜厚(Th)との比(Dpa)/(Th)が0.75〜1の範囲となるようにする。
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
ハードコート膜形成用塗料(HC-1)の調製
シリカゾル分散液(触媒化成工業(株)製;カタロイド SI−30;平均粒子径12nm、SiO2濃度40.5質量%、分散媒:イソプロパノ−ル、粒子屈折率1.46)
100gにγ-メタアクリロオキシプロピルトリメトキシシラン1.88g(信越シリコ
−ン株製:KBM−503、SiO2成分81.2%)を混合し超純水を3.1g添加し50
℃で20時間攪拌し表面処理した12nmのシリカゾル分散液を得た(固形分40.5%)。
シリカ・アルミナゾル(触媒化成工業(株)製:USBB−120、平均粒子径25nm、SiO2・Al2O3濃度20質量%、固形分中Al2O3含有量27質量%)100g
に純水3900gを加えて98℃に加温し、この温度を保持しながら、SiO2として濃度1.5質量%の珪酸ナトリウム水溶液1750gとAl2O3としての濃度0.5質量%のアルミン酸ナトリウム水溶液1750gを添加して、SiO2・Al2O3一次粒子分散液
(平均粒子径35nm)を得た。このときのMOX/SiO2モル比(A)=0.2、で
あった。また、このときの反応液のpHは12.0であった。
ついで、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度13質量%になった複合酸化物微粒子(1)の
分散液500gに純水1,125gを加え、さらに濃塩酸(濃度35.5質量%)を滴下してpH1.0とし、脱アルミニウム処理を行った。次いで、pH3の塩酸水溶液10Lと
純水5Lを加えながら限外濾過膜で溶解したアルミニウム塩を分離・洗浄して固形分濃度20質量%のシリカ系微粒子(中空の形骸粒子、P-1-1)の水分散液を得た。
,750gおよび濃度28質量%のアンモニア水626gとの混合液を35℃に加温した後、エチルシリケート(SiO2濃度28質量%)80gを添加してシリカ被覆層を形成
し、純水5Lを加えながら限外濾過膜で洗浄して固形分濃度20質量%のシリカ被覆層を形成したシリカ系中空微粒子の水分散液を得た。
0A)200gを用いて3時間イオン交換し、さらに陽イオン交換樹脂(三菱化学(株)製:ダイヤイオンSK1B)200gを用い、80℃で3時間イオン交換して洗浄を行い、固形分濃度20質量%のシリカ系中空微粒子の水分散液を得た。このとき、シリカ系中空微粒子の水分散液のNa2O含有量およびNH3含有量はシリカ系微粒子当たり12pp
m、1500ppmであった。
た後、常温に冷却し、陽イオン交換樹脂(三菱化学(株)製:ダイヤイオンSK1B)400gを用いて3時間イオン交換し、ついで、陰イオン交換樹脂(三菱化学(株)製:ダイヤイオンSA20A)200gを用いて3時間イオン交換し、さらに陽イオン交換樹脂(三菱化学(株)製:ダイヤイオンSK1B)200gを用い、80℃で3時間イオン交換して洗浄を行い、固形分濃度20質量%のシリカ系微粒子の水分散液を得た。このとき、シリカ系中空微粒子(P-1-3)の水分散液のNa2O含有量およびNH3含有量はシリカ系中空微粒子当たり0.9ppm、800ppmであった。
0gにメタクリルシランカップリング剤(γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラ
ン)(信越化学(株)製:KBM-503)3gを添加し、50℃で加熱処理を行い、再び限外
濾過膜を用いて溶媒をエタノールに置換した固形分濃度20質量%のシリカ系中空微粒子(A-1)のアルコール分散液を調製した。表面処理したシリカ系中空微粒子(A-1)の屈折率を測定し、結果を表1に示した。
表面処理したシリカ系中空微粒子分散液(A-1)5.40gにジペンタエリスリトールヘ
キサアクリレート(共栄社化学(株)製:DPE-6A、固形分濃度100質量%)1.
2gと撥水化材用反応性シリコンオイル(信越化学(株);X−22−174DX、固形分濃度100質量%)0.24gとシリコーン変性ポリウレタンアクリレート(日本合成化学工業(株)製;紫光UT−4314:固形分濃度30質量%)0.32gと光重合開始剤(ビ−エ−エスエフジャパン(株))製:ルシリンTPO:IPAで固形分濃度10質量%に溶解)1.06gとイソプロピルアルコール68.68g、メチルイソブチルケトン8.1g、イソプロピルグリコール15gを混合して、固形分濃度3.0質量%の反
射防止膜形成用塗布液(1)を調製した。
ハードコート膜形成用塗料(HC-1)を、TACフィルム(厚さ:80μm、屈折率:1.49)にバーコーター法(#8)で塗布し、80℃で120秒間乾燥した後、600mJ/cm2の紫外線を照射して硬化させてハードコート膜を形成した。ハードコート膜の膜
厚は3μmであった。
で120秒間乾燥した後、N2雰囲気下で600mJ/cm2の紫外線を照射して硬化させて反射防止膜付基材(1)を作製した。このときの反射防止膜の膜厚は100nmであっ
た。
、鉛筆硬度、撥水性および耐擦傷性を表1に示す。全光線透過率およびヘーズは、ヘーズ
メーター(スガ試験機(株)製)により、反射率は分光光度計(日本分光社、Ubest-55)により夫々測定した。また、反射防止膜の屈折率は、エリプソメーター(ULVAC社製、EMS−1)により測定した。なお、未塗布のTACフィルムは全光線透過率が93.14%、ヘーズが0.27%であった。
鉛筆硬度は、JIS K 5400に準じて、鉛筆硬度試験器で測定した。即ち、反射防止膜表面に対して45度の角度に鉛筆をセットし、所定の加重を負荷して一定速度で引っ張り、傷の有無を観察した。
反射防止膜付基材(1)の表面にナイフで縦横1mmの間隔で11本の平行な傷を付け100個の升目を作り、これにセロファンテープを接着し、次いで、セロファンテープを剥離したときに被膜が剥離せず残存している升目の数を、以下の3段階に分類することによって密着性を評価した。結果を表1に示す。
残存升目の数90個以上 :◎
残存升目の数85〜89個:○
残存升目の数84個以下 :△
透明被膜の上に水滴を落とし、全自動接触角計(協和界面科学(株)製:DM700)を使用し透明被膜と水滴の接触角を測定した。
#0000スチールウールを用い、荷重500g/cm2で50回摺動し、膜の表面を
目視観察し、以下の基準で評価し、結果を表1に示した。
評価基準:
筋条の傷が認められない :◎
筋条の傷が僅かに認められる :○
筋条の傷が多数認められる :△
面が全体的に削られている :×
反射防止膜付基材(2)の製造
実施例1において、反射防止膜形成用塗布液(1)を固形分濃度2.9質量%に変更して
塗布した以外は同様にして反射防止膜の膜厚が95nmの反射防止膜付基材(2)を得た
。この反射防止膜付基材(2)の膜厚、全光線透過率、ヘーズ、反射率、被膜の屈折率、
密着性および鉛筆硬度、撥水性および耐擦傷性を表1に示す。
反射防止膜付基材(3)の製造
実施例1において、反射防止膜形成用塗布液(1)をハードコート膜を設けたTACフィ
ルムにバーコーター法(バー#5)で塗布した以外は同様にして反射防止膜の膜厚が120nmの反射防止膜付基材(3)を得た。この反射防止膜付基材(3)の膜厚、全光線透過率、ヘーズ、反射率、被膜の屈折率、密着性および鉛筆硬度、撥水性および耐擦傷性を表1に示す。
シリカ系中空微粒子(A-2)分散液の調製
シリカ・アルミナゾル(触媒化成工業(株)製:USBB−120、平均粒子径25n
m、SiO2・Al2O3濃度20質量%、固形分中Al2O3含有量27質量%)100g
に純水3900gを加えて98℃に加温し、この温度を保持しながら、SiO2として濃
度1.5質量%の珪酸ナトリウム水溶液1750gとAl2O3としての濃度0.5質量%のアルミン酸ナトリウム水溶液1750gを添加して、SiO2・Al2O3一次粒子分散液
(平均粒子径35nm)を得た。このときのMOX/SiO2モル比(A)=0.2、で
あった。また、このときの反応液のpHは12.0であった。
O3としての濃度0.5質量%のアルミン酸ナトリウム水溶液2,100gを添加して複合酸化物微粒子(2)(二次粒子)(平均粒子径50nm)の分散液を得た。
ついで、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度13質量%になった複合酸化物微粒子(2)の
分散液500gに純水1,125gを加え、さらに濃塩酸(濃度35.5質量%)を滴下してpH1.0とし、脱アルミニウム処理を行った。次いで、pH3の塩酸水溶液10Lと
純水5Lを加えながら限外濾過膜で溶解したアルミニウム塩を分離・洗浄して固形分濃度20質量%のシリカ系中空微粒子の水分散液を得た。
、1500ppmであった。
温に冷却し、陽イオン交換樹脂(三菱化学(株)製:ダイヤイオンSK1B)400gを用いて3時間イオン交換し、ついで、陰イオン交換樹脂(三菱化学(株)製:ダイヤイオンSA20A)200gを用いて3時間イオン交換し、さらに陽イオン交換樹脂(三菱化学(株)製:ダイヤイオンSK1B)200gを用い、80℃で3時間イオン交換して洗浄を行い、固形分濃度20質量%のシリカ系中空微粒子の水分散液を得た。このとき、シリカ系中空微粒子の水分散液のNa2O含有量およびNH3含有量はシリカ系中空微粒子当
たり0.4pm、60ppmであった。
クリルシランカップリング剤(信越化学(株)製:KBM-5103)3gを添加し、50℃で加
熱処理を行い、再び限外濾過膜を用いて溶媒をエタノールに置換した固形分濃度20質量%のシリカ系中空微粒子(A-2)のアルコール分散液を調製した。表面処理したシリカ系
中空微粒子(A-2)の屈折率を測定し、結果を表1に示した。
実施例1において、固形分濃度20質量%のシリカ系中空微粒子(A-2)のアルコール
分散液を用いた以外は同様にして反射防止膜形成用塗布液(4)を調製した。
反射防止膜形成用塗布液(4)をハードコート膜を設けたTACフィルムにバーコーター
法(バー#3)で塗布し、80℃で、1分間乾燥させて、透明被膜の膜厚が80nmの反射防止膜付基材(4)を得た。この反射防止膜付基材(4)の膜厚、全光線透過率、ヘーズ、反射率、被膜の屈折率、密着性および鉛筆硬度、撥水性および耐擦傷性を表1に示す。
シリカ系中空微粒子(A-3)分散液の調製
シリカ・アルミナゾル(触媒化成工業(株)製:USBB−120、平均粒子径25nm、SiO2・Al2O3濃度20質量%、固形分中Al2O3含有量27質量%)100g
に純水3900gを加えて98℃に加温し、この温度を保持しながら、SiO2として濃
度1.5質量%の珪酸ナトリウム水溶液109,800gとAl2O3としての濃度0.5質量%のアルミン酸ナトリウム水溶液109,800gを添加して、SiO2・Al2O3一
次粒子分散液(平均粒子径120nm)を得た。このときのMOX/SiO2モル比(A
)=0.2、であった。また、このときの反応液のpHは12.0であった。
て複合酸化物微粒子(3)(二次粒子)(平均粒子径171nm)の分散液を得た。
ついで、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度13質量%になった複合酸化物微粒子(3)の
分散液500gに純水1,125gを加え、さらに濃塩酸(濃度35.5質量%)を滴下してpH1.0とし、脱アルミニウム処理を行った。次いで、pH3の塩酸水溶液10Lと
純水5Lを加えながら限外濾過膜で溶解したアルミニウム塩を分離・洗浄して固形分濃度20質量%のシリカ系中空微粒子(形骸粒子)の水分散液を得た。
m、1200ppmであった。
0.4pm、600ppmであった。
クリルシランカップリング剤(信越化学(株)製:KBM-5103)3gを添加し、50℃で加熱処理を行い、再び限外濾過膜を用いて溶媒をエタノールに置換した固形分濃度20質量%のシリカ系中空微粒子(A-3)のアルコール分散液を調製した。表面処理したシリカ系
中空微粒子(A-3)の屈折率を測定し、結果を表1に示した。
実施例1において、固形分濃度20質量%のシリカ系中空微粒子(A-3)のアルコール
分散液を用いた以外は同様にして反射防止膜形成用塗布液(5)を調製した。
反射防止膜形成用塗布液(5)を、ハードコート膜を設けたTACフィルムにバーコータ
ー法(バー#8)で塗布し、80℃で、1分間乾燥させて、反射防止膜の膜厚が200nmの反射防止膜付基材(5)を得た。
この反射防止膜付基材(5)の膜厚、全光線透過率、ヘーズ、反射率、被膜の屈折率、
密着性および鉛筆硬度、撥水性および耐擦傷性を表1に示す。
シリカ系中空微粒子(B-1)分散液の調製
平均粒子径5nmのシリカゾル(SiO2濃度20質量%)100gと純水3,900
gの混合物を98℃に加温した。このときの反応母液のpHは10.5であった。ついで、この温度を保持しながら、SiO2として濃度1.5質量%の珪酸ナトリウム水溶液3,096gとAl2O3としての濃度0.5質量%のアルミン酸ナトリウム水溶液3,096
gを添加して、SiO2・Al2O3一次粒子分散液(平均粒子径8nm)を得た。このと
きのMOX/SiO2モル比(A)=0.2、であった。また、このときの反応液のpHは12.0であった。
複合酸化物微粒子(二次粒子)(平均粒子径20nm)の分散液を得た。このときのMOX/SiO2モル比(B)=0.07であった。また、このときの反応液のpHは12.0であった。
分散液500gに純水1,125gを加え、さらに濃塩酸(濃度35.5質量%)を滴下し
てpH1.0とし、脱アルミニウム処理を行った。次いで、pH3の塩酸水溶液10Lと
純水5Lを加えながら限外濾過膜で溶解したアルミニウム塩を分離・洗浄して固形分濃度20質量%のシリカ系中空微粒子の水分散液を得た。
0.9ppm、1000ppmであった。
クリルシランカップリング剤(信越化学(株)製:KBM-5103)3gを添加し、50℃で加熱処理を行い、再び限外濾過膜を用いて溶媒をエタノールに置換した固形分濃度20質量%のシリカ系中空微粒子(B-1)のアルコール分散液を調製した。表面処理したシリカ系
中空微粒子(B-1)の屈折率を測定し、結果を表1に示した。
実施例1と同様にして調製したシリカ系中空微粒子(A-1)のアルコール分散液4.8
gと、シリカ系中空微粒子(B-1)のアルコール分散液を1.20gと、ジペンタエリス
リトールヘキサアクリレート(共栄社化学(株)製:DPE-6A、固形分濃度100質
量%)1.08gと撥水化材用反応性シリコンオイル(信越化学(株);X−22−174DX、固形分濃度100質量%)0.24gとシリコーン変性ポリウレタンアクリレート(日本合成化学工業(株)製;紫光UT−4314:固形分濃度30質量%)0.32gと光重合開始剤(ビ−エ−エスエフジャパン(株))製:ルシリンTPO:IPAで固
形分濃度10質量%に溶解)0.96gとイソプロピルアルコール68.3g、メチルイソブチルケトン8.1g、イソプロピルグリコール15gを混合して、固形分濃度3.0
質量%の反射防止膜形成用塗布液(6)を調製した。
実施例1において、反射防止膜形成用塗布液(6)を塗布した以外は同様にして反射防止
膜の膜厚が100nmの反射防止膜付基材(6)を得た。
この反射防止膜付基材(6)の膜厚、全光線透過率、ヘーズ、反射率、被膜の屈折率、密
着性および鉛筆硬度、撥水性および耐擦傷性を表1に示す。
シリカ系中空微粒子(B-2)分散液の調製
平均粒子径5nmのシリカゾル(SiO2濃度20質量%)100gと純水3,900
gの混合物を98℃に加温した。このときの反応母液のpHは10.5であった。ついで、この温度を保持しながら、SiO2として濃度1.5質量%の珪酸ナトリウム水溶液3,096gとAl2O3としての濃度0.5質量%のアルミン酸ナトリウム水溶液3,096
gを添加して、SiO2・Al2O3一次粒子分散液(平均粒子径8nm)を得た。このと
きのMOX/SiO2モル比(A)=0.2、であった。また、このときの反応液のpHは12.0であった。
複合酸化物微粒子(二次粒子)(平均粒子径20nm)の分散液を得た。
ついで、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度13質量%になった複合酸化物微粒子(6)の
分散液500gに純水1,125gを加え、さらに濃塩酸(濃度35.5質量%)を滴下してpH1.0とし、脱アルミニウム処理を行った。次いで、pH3の塩酸水溶液10Lと
純水5Lを加えながら限外濾過膜で溶解したアルミニウム塩を分離・洗浄して固形分濃度20質量%のシリカ系中空微粒子の水分散液を得た。
0.9ppm、1000ppmであった。
クリルシランカップリング剤(信越化学(株)製:KBM-5103)3gを添加し、50℃で加熱処理を行い、再び限外濾過膜を用いて溶媒をエタノールに置換した固形分濃度20質量%のシリカ系中空微粒子(B-2)のアルコール分散液を調製した。表面処理したシリカ系
中空微粒子(B-2)の屈折率を測定し、結果を表1に示した。
実施例1と同様にして調製したシリカ系中空微粒子(A-1)のアルコール分散液4.8
gと、シリカ系中空微粒子(B-2)のアルコール分散液1.20gと、ジペンタエリスリ
トールヘキサアクリレート(共栄社化学(株)製:DPE-6A、固形分濃度100質量
%)1.08gと撥水化材用反応性シリコンオイル(信越化学(株);X−22−174DX、固形分濃度100質量%)0.24gとシリコーン変性ポリウレタンアクリレート(日本合成化学工業(株)製;紫光UT−4314:固形分濃度30質量%)0.32と光重合開始剤(ビ−エ−エスエフジャパン(株))製:ルシリンTPO:IPAで固形分濃度10質量%に溶解)0.96gとイソプロピルアルコール68.3g、メチルイソブチルケトン8.1g、イソプロピルグリコール15gを混合して、固形分濃度3.0質量
%の反射防止膜形成用塗布液(7)を調製した。
実施例1において、反射防止膜形成用塗布液(7)を塗布した以外は同様にして反射防止
膜の膜厚が100nmの反射防止膜付基材(7)を得た。
この反射防止膜付基材(7)の膜厚、全光線透過率、ヘーズ、反射率、被膜の屈折率、
密着性および鉛筆硬度、撥水性および耐擦傷性を表1に示す。
反射防止膜形成用塗布液(8)の調製
実施例1と同様にして調製したシリカ系中空微粒子(A-1)のアルコール分散液5.4
0gと、実施例6と同様にして調製したシリカ系中空微粒子(B-1)のアルコール分散液
0.60gと、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(共栄社化学(株)製:DPE-6A、固形分濃度100質量%)1.08gと撥水化材用反応性シリコンオイル(信
越化学(株);X−22−174DX、固形分濃度100質量%)0.24gとシリコーン変性ポリウレタンアクリレート(日本合成化学工業(株)製;紫光UT−4314:固形分濃度30質量%)0.32gと光重合開始剤(ビ−エ−エスエフジャパン(株))製:ルシリンTPO:IPAで固形分濃度10質量%に溶解)0.96gとイソプロピルアルコール68.3g、メチルイソブチルケトン8.1g、イソプロピルグリコール15gを混合して、固形分濃度3.0質量%の反射防止膜形成用塗布液(8)を調製した。
実施例1において、反射防止膜形成用塗布液(8)を塗布した以外は同様にして反射防止
膜の膜厚が100nmの反射防止膜付基材(8)を得た。この反射防止膜付基材(8)の膜厚、全光線透過率、ヘーズ、反射率、被膜の屈折率、密着性および鉛筆硬度、撥水性および耐擦傷性を表1に示す。
反射防止膜形成用塗布液(9)の調製
実施例1と同様にして調製したシリカ系中空微粒子(A-1)のアルコール分散液6.7
2gと、実施例6と同様にして調製したシリカ系中空微粒子(B-2)のアルコール分散液
1.68gと、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(共栄社化学(株)製:DPE-6A、固形分濃度100質量%)0.60gと撥水化材用反応性シリコンオイル(信
越化学(株);X−22−174DX、固形分濃度100質量%)0.24gとシリコーン変性ポリウレタンアクリレート(日本合成化学工業(株)製;紫光UT−4314:固形分濃度30質量%)0.32gと光重合開始剤(ビ−エ−エスエフジャパン(株))製:ルシリンTPO:IPAで固形分濃度10質量%に溶解)0.58gとイソプロピルアルコール66.76g、メチルイソブチルケトン8.1g、イソプロピルグリコール15
gを混合して、固形分濃度3.0質量%の反射防止膜形成用塗布液(9)を調製した。
実施例1において、反射防止膜形成用塗布液(9)を塗布した以外は同様にして反射防止
膜の膜厚が100nmの反射防止膜付基材(9)を得た。この反射防止膜付基材(9)の膜厚、全光線透過率、ヘーズ、反射率、被膜の屈折率、密着性および鉛筆硬度、撥水性および耐擦傷性を表1に示す。
反射防止膜形成用塗布液(10)の調製
実施例1と同様にして調製したシリカ系中空微粒子(A-1)のアルコール分散液2.8
8gと、実施例6と同様にして調製したシリカ系中空微粒子(B-2)のアルコール分散液
0.72gと、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(共栄社化学(株)製:DP
E-6A、固形分濃度100質量%)1.56gと撥水化材用反応性シリコンオイル(信
越化学(株);X−22−174DX、固形分濃度100質量%)0.24gとシリコーン変性ポリウレタンアクリレート(日本合成化学工業(株)製;紫光UT−4314:固形分濃度30質量%)0.32gと光重合開始剤(ビ−エ−エスエフジャパン(株))製:ルシリンTPO:IPAで固形分濃度10質量%に溶解)1.34gとイソプロピルアルコール69.84g、メチルイソブチルケトン8.1g、イソプロピルグリコール15gを混合して、固形分濃度3.0質量%の反射防止膜形成用塗布液(10)を調製した。
実施例1において、反射防止膜形成用塗布液(10)を塗布した以外は同様にして反射防止膜の膜厚が100nmの反射防止膜付基材(10)を得た。この反射防止膜付基材(10)の膜厚、全光線透過率、ヘーズ、反射率、被膜の屈折率、密着性および鉛筆硬度、撥水性および耐擦傷性を表1に示す。
シリカ系中空微粒子(A-4)分散液の調製
実施例1と同様にして溶媒をエタノールに置換した固形分濃度20質量%のシリカ系中空微粒子(A-1)のアルコール分散液を調製した。
0gにメタクリルシランカップリング剤(ヘプタデカフルオロデシルトリイソプロポキシシラン)(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製:XC95−A9715)3gを添加し、50℃で加熱処理を行い、再び限外濾過膜を用いて溶媒をエタノールに置換した固形分濃度20質量%のシリカ系中空微粒子(A-4)のアルコー
ル分散液を調製した。表面処理したシリカ系中空微粒子(A-4)の屈折率を測定し、結果を
表1に示した。
実施例6と同様にして溶媒をエタノールに置換した固形分濃度20質量%のシリカ系中空微粒子(B-1)のアルコール分散液を調製した。
0gにメタクリルシランカップリング剤(ヘプタデカフルオロデシルトリイソプロポキシシラン)(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製:XC95−A9715)3gを添加し、50℃で加熱処理を行い、再び限外濾過膜を用いて溶媒をエタノールに置換した固形分濃度20質量%のシリカ系中空微粒子(B-3)のアルコー
ル分散液を調製した。表面処理したシリカ系中空微粒子(B-3)の屈折率を測定し、結果を
表1に示した。
実施例6において、固形分濃度20質量%の表面処理したシリカ系中空微粒子(A-4)
のアルコール分散液および固形分濃度20質量%の表面処理したシリカ系中空微粒子(B-3)のアルコール分散液を用いた以外は同様にして反射防止膜形成用塗布液(11)を調製し
た。
実施例1において、反射防止膜形成用塗布液(11)を塗布した以外は同様にして反射防止膜の膜厚が100nmの反射防止膜付基材(11)を得た。この反射防止膜付基材(11)の膜厚、全光線透過率、ヘーズ、反射率、被膜の屈折率、密着性および鉛筆硬度、撥水性および耐擦傷性を表1に示す。
反射防止膜付基材(12)の製造
実施例6において、基材としてPETフィルムを用いた以外は同様にして反射防止膜の膜厚が100nmの反射防止膜付基材(12)を得た。
なお、未塗布のPETフィルムは全光線透過率が90. 7%、ヘーズが2. 0%であった。
反射防止膜付基材(R1)の製造
実施例1において、反射防止膜形成用塗布液(1)をハードコート膜を設けたTACフィ
ルムにバーコーター法(バー#6)で塗布し、80℃で、2分間乾燥させて、反射防止膜の膜厚が150nmの反射防止膜付基材(R1)を得た。
この反射防止膜付基材(R1)の膜厚、全光線透過率、ヘーズ、反射率、被膜の屈折率、密着性および鉛筆硬度、撥水性および耐擦傷性を表1に示す。
反射防止膜付基材(R2)の製造
実施例4において、反射防止膜形成用塗布液(4)をハードコート膜を設けたTACフィ
ルムにバーコーター法(バー#4)で塗布し、80℃で、2分間乾燥させて、反射防止膜の膜厚が100nmの反射防止膜付基材(R2)を得た。この反射防止膜付基材(R2)の膜厚、全光線透過率、ヘーズ、反射率、被膜の屈折率、密着性および鉛筆硬度、撥水性および耐擦傷性を表1に示す。
反射防止膜付基材(R3)の製造
実施例5と同様にして調製した反射防止膜形成用塗布液(5)を、ハードコート膜を設け
たTACフィルムにバーコーター法(バー#12)で塗布し、80℃で、2分間乾燥させて、反射防止膜の膜厚が280nmの反射防止膜付基材(R3)を得た。この反射防止膜付基材(R3)の膜厚、全光線透過率、ヘーズ、反射率、被膜の屈折率、密着性および鉛筆硬度、撥水性および耐擦傷性を表1に示す。
シリカ系中空微粒子(A-5)分散液の調製
シリカ・アルミナゾル(触媒化成工業(株)製:USBB−120、平均粒子径25nm、SiO2・Al2O3濃度20質量%、固形分中Al2O3含有量27質量%)100g
と純水3900gの混合物を98℃に加温し、この温度を保持しながら、SiO2として
濃度1.5質量%の珪酸ナトリウム水溶液405gとAl2O3としての濃度0.5質量%のアルミン酸ナトリウム水溶液405gを添加して、SiO2・Al2O3一次粒子分散液を
得た。このときのモル比MOX/SiO2(A)=0.2であった。また、このときの反応液のpHは12.0であった。(平均粒子径28nm)
ついで、SiO2として濃度1.5質量%の珪酸ナトリウム水溶液1607gとAl2O3としての濃度0.5質量%のアルミン酸ナトリウム水溶液535gを添加して複合酸化物
微粒子(二次粒子)の分散液を得た。
ついで、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度13質量%になった複合酸化物微粒子の分散液500gに純水1,125gを加え、さらに濃塩酸(濃度35.5質量%)を滴下してpH1.0とし、脱アルミニウム処理を行った。次いで、pH3の塩酸水溶液10Lと純水
5Lを加えながら限外濾過膜で溶解したアルミニウム塩を分離・洗浄して固形分濃度20質量%のシリカ系中空微粒子の水分散液を得た。
た。このとき、シリカ系中空微粒子(P-1-3)の水分散液のNa2O含有量およびNH3含有
量はシリカ系中空微粒子当たり6ppm、1200ppmであった。
とき、シリカ系中空微粒子の水分散液のNa2O含有量およびNH3含有量はシリカ系中空
微粒子当たり0.5ppm、800ppmであった。
0gにメタクリルシランカップリング剤 固形分濃度20質量%のシリカ系中空微粒子(
A-5)のアルコール分散液100gにメタクリルシランカップリング剤(信越化学(株)
製:KBM-503)3gを添加し、50℃で加熱処理を行い、再び限外濾過膜を用いて溶媒を
エタノールに置換した固形分濃度20質量%のシリカ系中空微粒子(A-5)のアルコール分
散液を調製した。表面処理したシリカ系中空微粒子(A-5)の屈折率を測定し、結果を表1
に示した。
実施例1において、固形分濃度20質量%のシリカ系中空微粒子(A-5)のアルコール
分散液を用いた以外は同様にして反射防止膜形成用塗布液(R4)を調製した。
実施例1において、反射防止膜形成用塗布液(R4)を塗布した以外は同様にして反射防止膜の膜厚が100nmの反射防止膜付基材(R4)を得た。この反射防止膜付基材(R4)の膜厚、全光線透過率、ヘーズ、反射率、被膜の屈折率、密着性および鉛筆硬度、撥水性および耐擦傷性を表1に示す。
Claims (11)
- 基材上に反射防止膜が形成された反射防止膜付基材であって、
該反射防止膜がシリカ系中空微粒子(A)とマトリックス成分からなり、
反射防止膜の膜厚(Th)が80〜200nmの範囲にあり、
シリカ系中空微粒子(A)の平均粒子径(Dpa)が60〜150nmの範囲にあり、
シリカ系中空微粒子(A)の平均粒子径(Dpa)と反射防止膜の膜厚(Th)との比(Dpa)/(Th)
が0.75〜1の範囲にあることを特徴とする反射防止膜付基材。 - 前記シリカ系中空微粒子(A)の屈折率が1.10〜1.40の範囲にあることを特徴と
する請求項1に記載の反射防止膜付基材。 - 前記反射防止膜中にさらに、平均粒子径(Dpb)が10〜60nmの範囲にあるシリカ系
中空微粒子(B)を含み、シリカ系中空微粒子(B)の平均粒子径(Dpb)とシリカ系中空微粒子(A)の平均粒子径(Dpa)との比(Dpb)/(Dpa)が0.1〜0.4の範囲にあることを特徴とす
る請求項1または2に記載の反射防止膜付基材。 - 前記反射防止膜中のシリカ系中空微粒子(A)とシリカ系中空微粒子(B)の合計の含有量が5〜80質量%の範囲にあり、
シリカ系中空微粒子(A)および(B)の合計中のシリカ系中空微粒子(B)の割合が30質量
%以下であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の反射防止膜付基材。 - 前記シリカ系中空微粒子(A)および/またはシリカ系中空微粒子(B)が、下記式(1)で表
される有機珪素化合物で表面処理されていることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の反射防止膜付基材。
Rn−SiX4-n (1)
(但し、式中、Rは炭素数1〜10の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。X:炭素数1〜4のアルコキシ基、シラノール基、ハロゲン、水素、n:0〜3の整数) - シリカ系中空微粒子(A)とマトリックス形成成分と溶媒とからなり、
シリカ系中空微粒子(A)の平均粒子径(Dpa)が60〜150nmの範囲にあり、
全固形分濃度が1〜10質量%の範囲にあり、シリカ系中空微粒子(A)の濃度が固形分
として0.05〜8質量%の範囲にあり、
マトリックス形成成分の濃度が固形分として0.2〜9.95質量%の範囲にあることを特徴とする反射防止膜形成用塗布液。 - 前記シリカ系中空微粒子(A)の屈折率が1.10〜1.40の範囲にあることを特徴と
する請求項6に記載の反射防止膜形成用塗布液。 - さらに、平均粒子径(Dpb)が10〜60nmの範囲にあるシリカ系中空微粒子(B)を含み、該シリカ系中空微粒子(B)の平均粒子径(Dpb)と前記シリカ系中空微粒子(A)の平均粒子
径(Dpa)との比(Dpb)/(Dpa)が0.1〜0.4の範囲にあることを特徴とする請求項6ま
たは7に記載の反射防止膜形成用塗布液。 - 前記塗布液中のシリカ系中空微粒子(A)および(B)の合計中のシリカ系中空微粒子(B)の
割合が30質量%以下であることを特徴とする請求項8に記載の反射防止膜形成用塗布液。 - 前記シリカ系中空微粒子(A)および/またはシリカ系中空微粒子(B)が、下記式(1)で表
される有機珪素化合物で表面処理されていることを特徴とする請求項6〜9のいずれかに記載の反射防止膜形成用塗布液。
Rn−SiX4-n (1)
(但し、式中、Rは炭素数1〜10の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。X:炭素数1〜4のアルコキシ基、シラノール基、ハロゲン、水素、n:0〜3の整数) - 請求項6〜10のいずれかに記載の塗布液を、基材表面に塗布し、乾燥して反射防止膜を形成するに際し、反射防止膜の膜厚(Th)を80〜200nmの範囲とし、
反射防止膜に含まれるシリカ系中空微粒子(A)の平均粒子径(Dpa)と反射防止膜の膜厚(Th)との比(Dpa)/(Th)が0.75〜1の範囲となるように反射防止膜を形成することを特
徴とする反射防止膜付基材の製造方法。
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Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012002865A (ja) * | 2010-06-14 | 2012-01-05 | Univ Of Tokyo | 反射防止膜 |
JP2012006002A (ja) * | 2010-06-28 | 2012-01-12 | Jgc Catalysts & Chemicals Ltd | 透明被膜付基材および透明被膜形成用塗布液 |
JP2012030489A (ja) * | 2010-07-30 | 2012-02-16 | Jgc Catalysts & Chemicals Ltd | 透明被膜付基材および透明被膜形成用塗料 |
JP2013006752A (ja) * | 2011-06-27 | 2013-01-10 | Kawaken Fine Chem Co Ltd | アルミナ皮膜形成用ファイバー状透明アルミナゾル及び透明アルミナ皮膜 |
JP2014026123A (ja) * | 2012-07-26 | 2014-02-06 | Dainippon Printing Co Ltd | 光学積層体、偏光板及び画像表示装置 |
JP2014059368A (ja) * | 2012-09-14 | 2014-04-03 | Dainippon Printing Co Ltd | 光学積層体、偏光板及び画像表示装置 |
WO2015152171A1 (ja) * | 2014-03-31 | 2015-10-08 | 日揮触媒化成株式会社 | 透明被膜形成用の塗布液及びその製造法、有機樹脂分散ゾル、ならびに透明被膜付基材及びその製造方法 |
JP2016001217A (ja) * | 2014-06-11 | 2016-01-07 | 日揮触媒化成株式会社 | 反射防止膜付基材および反射防止膜形成用塗布液 |
KR20160121522A (ko) | 2014-02-14 | 2016-10-19 | 닛키 쇼쿠바이카세이 가부시키가이샤 | 투명 피막 형성용 도포액 및 투명 피막 부착 기재의 제조방법 |
WO2017111094A1 (ja) * | 2015-12-25 | 2017-06-29 | 旭硝子株式会社 | 分散液、硬化性組成物、硬化物、表面修飾シリカ粒子およびその製造方法 |
WO2023090135A1 (ja) * | 2021-11-18 | 2023-05-25 | 日揮触媒化成株式会社 | 官能基および珪素を含む外殻と、その内側の空洞とを有する粒子の分散液、及び、この分散液の製造方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018205598A (ja) | 2017-06-07 | 2018-12-27 | メルク、パテント、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツングMerck Patent GmbH | 感光性シロキサン組成物、およびそれを用いて形成した硬化膜 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07198904A (ja) * | 1993-12-28 | 1995-08-01 | Dainippon Printing Co Ltd | 最密充填塗膜、その製造方法及び最密充填塗膜形成フィルム |
JP2002079616A (ja) * | 2000-06-23 | 2002-03-19 | Toshiba Corp | 透明被膜付基材、透明被膜形成用塗布液、および表示装置 |
JP2004258267A (ja) * | 2003-02-25 | 2004-09-16 | Matsushita Electric Works Ltd | 反射防止膜、反射防止膜の製造方法、反射防止部材 |
JP2006028409A (ja) * | 2004-07-20 | 2006-02-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 組成物、コーティング組成物、反射防止フィルム、偏光板、画像表示装置 |
JP2007321049A (ja) * | 2006-05-31 | 2007-12-13 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | 透明被膜形成用塗料および透明被膜付基材 |
WO2008041681A1 (fr) * | 2006-10-02 | 2008-04-10 | Asahi Glass Company, Limited | Composition de revêtement destinée à la formation d'un film antireflet, et article sur lequel est formé un film antireflet |
JP2008089969A (ja) * | 2006-10-02 | 2008-04-17 | Konica Minolta Opto Inc | 反射防止フィルム、偏光板、及び表示装置 |
JP2008134394A (ja) * | 2006-11-28 | 2008-06-12 | Konica Minolta Opto Inc | 反射防止フィルム、偏光板及び表示装置 |
-
2008
- 2008-11-28 JP JP2008304501A patent/JP5378771B2/ja active Active
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07198904A (ja) * | 1993-12-28 | 1995-08-01 | Dainippon Printing Co Ltd | 最密充填塗膜、その製造方法及び最密充填塗膜形成フィルム |
JP2002079616A (ja) * | 2000-06-23 | 2002-03-19 | Toshiba Corp | 透明被膜付基材、透明被膜形成用塗布液、および表示装置 |
JP2004258267A (ja) * | 2003-02-25 | 2004-09-16 | Matsushita Electric Works Ltd | 反射防止膜、反射防止膜の製造方法、反射防止部材 |
JP2006028409A (ja) * | 2004-07-20 | 2006-02-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 組成物、コーティング組成物、反射防止フィルム、偏光板、画像表示装置 |
JP2007321049A (ja) * | 2006-05-31 | 2007-12-13 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | 透明被膜形成用塗料および透明被膜付基材 |
WO2008041681A1 (fr) * | 2006-10-02 | 2008-04-10 | Asahi Glass Company, Limited | Composition de revêtement destinée à la formation d'un film antireflet, et article sur lequel est formé un film antireflet |
JP2008089969A (ja) * | 2006-10-02 | 2008-04-17 | Konica Minolta Opto Inc | 反射防止フィルム、偏光板、及び表示装置 |
JP2008134394A (ja) * | 2006-11-28 | 2008-06-12 | Konica Minolta Opto Inc | 反射防止フィルム、偏光板及び表示装置 |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012002865A (ja) * | 2010-06-14 | 2012-01-05 | Univ Of Tokyo | 反射防止膜 |
JP2012006002A (ja) * | 2010-06-28 | 2012-01-12 | Jgc Catalysts & Chemicals Ltd | 透明被膜付基材および透明被膜形成用塗布液 |
JP2012030489A (ja) * | 2010-07-30 | 2012-02-16 | Jgc Catalysts & Chemicals Ltd | 透明被膜付基材および透明被膜形成用塗料 |
JP2013006752A (ja) * | 2011-06-27 | 2013-01-10 | Kawaken Fine Chem Co Ltd | アルミナ皮膜形成用ファイバー状透明アルミナゾル及び透明アルミナ皮膜 |
JP2014026123A (ja) * | 2012-07-26 | 2014-02-06 | Dainippon Printing Co Ltd | 光学積層体、偏光板及び画像表示装置 |
JP2014059368A (ja) * | 2012-09-14 | 2014-04-03 | Dainippon Printing Co Ltd | 光学積層体、偏光板及び画像表示装置 |
KR20160121522A (ko) | 2014-02-14 | 2016-10-19 | 닛키 쇼쿠바이카세이 가부시키가이샤 | 투명 피막 형성용 도포액 및 투명 피막 부착 기재의 제조방법 |
WO2015152171A1 (ja) * | 2014-03-31 | 2015-10-08 | 日揮触媒化成株式会社 | 透明被膜形成用の塗布液及びその製造法、有機樹脂分散ゾル、ならびに透明被膜付基材及びその製造方法 |
KR20160138972A (ko) * | 2014-03-31 | 2016-12-06 | 니끼 쇼꾸바이 카세이 가부시키가이샤 | 투명피막 형성용 도포액 및 그의 제조 방법, 유기수지 분산졸 및 투명피막부 기재 및 그의 제조 방법 |
KR102379944B1 (ko) * | 2014-03-31 | 2022-03-29 | 니끼 쇼꾸바이 카세이 가부시키가이샤 | 투명피막 형성용 도포액 및 그의 제조 방법, 유기수지 분산졸 및 투명피막부 기재 및 그의 제조 방법 |
JP2016001217A (ja) * | 2014-06-11 | 2016-01-07 | 日揮触媒化成株式会社 | 反射防止膜付基材および反射防止膜形成用塗布液 |
WO2017111094A1 (ja) * | 2015-12-25 | 2017-06-29 | 旭硝子株式会社 | 分散液、硬化性組成物、硬化物、表面修飾シリカ粒子およびその製造方法 |
WO2023090135A1 (ja) * | 2021-11-18 | 2023-05-25 | 日揮触媒化成株式会社 | 官能基および珪素を含む外殻と、その内側の空洞とを有する粒子の分散液、及び、この分散液の製造方法 |
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Publication number | Publication date |
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