JPH07196779A - ノルボルネン重合体およびその製造方法 - Google Patents
ノルボルネン重合体およびその製造方法Info
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- JPH07196779A JPH07196779A JP1141294A JP1141294A JPH07196779A JP H07196779 A JPH07196779 A JP H07196779A JP 1141294 A JP1141294 A JP 1141294A JP 1141294 A JP1141294 A JP 1141294A JP H07196779 A JPH07196779 A JP H07196779A
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Abstract
エン(DCP)を原料とした、透明性、耐薬品性、電気
特性等に優れた新規ノルボルネン樹脂、およびその製造
方法を得る。 【構成】 特定のノルボルネン構造単位を含有すること
を特徴とするポリスチレン換算数平均分子量5000〜1000
000のノルボルネン重合体。
Description
価なジシクロペンタジエン(DCP)を原料とした、透
明性、耐薬品性、電気特性等に優れた新規ノルボルネン
樹脂、およびその製造方法に関する。
ンを原料とするメタセシス開環重合体はその優れた耐熱
性、透明性などの特徴を有し、光学材料として用途が期
待されている。そのモノマーの重合に着目すると、ノル
ボルネン骨格の二重結合部の開環重合反応を利用したも
のである。一方、C5留分の工業原料として、ジシクロ
ペンタジエン(DCP)が知られているが、ノルボルネ
ンの構造を有しながら、同時にシクロペンテンの構造を
有しているために、DCPをメタセシス重合しても選択
的に重合が起こらずゲル化してしまう。従って、反応性
の乏しいシクロペンテン骨格の二重結合を他の官能基に
変換した後、ノルボルネン誘導体としメタセシス開環重
合するしかなく、工業的にジシクロペンタジエン(DC
P)を直接利用することができなかった。また、従来開
発されてきたノルボルネン系重合体は、ガラス転移温度
(Tg)が200〜300℃と高く、射出成形、圧縮成形、押出
成形といった加熱溶融型の成形法では高い溶融温度を必
要とし、そのため樹脂内がゲル化、黒色化するといった
問題が生じる。
事情に基づいてなされたものであって、その目的は工業
的にジシクロペンタジエンなどの安価な原料を用い、優
れた特徴を有するノルボルネン樹脂およびその製造方法
を提供することにある。
ば、下記一般式1で表される単量体単位を含有すること
を特徴とするポリスチレン換算数平均分子量5000〜1000
000のノルボルネン重合体およびその製造方法を提供す
るものである。
素基または水素原子であり、A、BおよびYは水素原子
またはハロゲン原子または炭素数1〜10の炭化水素基ま
たはその鎖中に酸素原子または窒素原子を含む官能基を
示す。また、nは整数であり、mは0〜5の整数であ
る。) 以下に本発明を更に詳細に説明する。
式1で表される単量体単位が重合体全体の50〜100
モル%、好ましくは80〜100モル%、さらに好まし
くは100モル%である重合体である。前記一般式1に
おいて、Xである炭素数1〜10の炭化水素基として
は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキ
シル基、シクロヘキシル基などのアルキル基を挙げるこ
とができる。また、一般式1においてA、BおよびYで
あるハロゲン原子としては、塩素原子、フッ素原子、臭
素原子などを、炭素数1〜10の炭化水素基としては、
前記Xと同様のものを、酸素原子または窒素原子を含む
官能基としては、カルボキシル基、−CH2COORで
表される基(Rはメチル基、エチル基などのアルキル基
を示す)、エポキシ基、イソシアネート基、アミノ基、
ニトロ基などを挙げることができる。さらに、一般式1
においてmは0〜5であるが、好ましくは、0〜3であ
る。本発明において、好ましい単量体単位としは、一般
式1においてX、Y、AおよびBのすべてが水素原子の
ものである。本発明のノルボルネン重合体において、一
般式1以外に含有することのできる単量体単位としては
下記一般式3で表される単量体単位が好ましく、ノルボ
ルネン重合体中0〜50モル%、好ましくは0〜20モ
ル%である。
1と同様である) 一般式3おいては、XおよびAが水素原子、Bが−CH
2COORで表される基、Yがアルキル基である場合が
好ましい。本発明のノルボルネン重合体のGPC測定に
よるポリスチレン換算の平均分子量(溶媒:テトラヒド
ロフラン)は、数平均分子量(Mn)が、通常0.5×
104〜1×106、好ましくは1.0×104〜5×1
05、さらに好ましくは1.2×104〜2.0×1
05、特に好ましくは1.5×104〜1.0×105の
範囲が好適である。
て用いることができず、また、分子量が1,000,0
00以上では流動性に乏しく成形が困難となる。本発明
のノルボルネン重合体の固有粘度(ηinh)は0.1〜
5.0の範囲にあることが好ましい。本発明のノルボル
ネン重合体は下記一般式2で表される化合物をメタセシ
ス開環重合することにより製造することができる。本発
明で使用する下記一般式2で表される単量体は、下記一
般式4で表される化合物が有するノルボルネン部とシク
ロペンテン部の2つの二重結合のうち、ノルボルネン部
の二重結合を選択的に水添するか、ノルボルネン部の二
重結合部にハロゲンまたは置換基を導入することにより
得られる。
1と同様である。mは0〜5の整数である。)
法について説明する。一般式4で表される化合物のうち
代表的化合物であるジシクロペンタジエンについては、
例えばC.A.Brown,U.K.Ahuja,J.Org.Chem.,38,2226 (197
3).や F.Bergmann,H.Japhe,J.Amer.Chem.Soc.,69,1826
(1947).に記載されており、ノルボルネン部の二重結合
が選択的に反応することが知られている。選択的水添触
媒としては、通常のオレフィン性化合物の水添反応に用
いられるものを使用することができる。この水添触媒と
しては、不均一系触媒および均一系触媒が公知である。
不均一系触媒としては、パラジウム、白金、ニッケル、
ロジウム、ルテニウム等の貴金属触媒物質をカーボン、
シリカ、アルミナ、チタニアなどの担体に担持させた固
体触媒などを挙げることができる。また、均一系触媒と
しては、ナフテン酸ニッケル/トリエチルアルミニウ
ム、ニッケルアセチルアセトナート/トリエチルアルミ
ニウム、オクテン酸コバルト/n−ブチルリチウム、チ
タノセンジクロリド/ジエチルアルミニウムモノクロリ
ド、酢酸ロジウム、クロロトリス(トリフェニルホスフ
ィン)ロジウム、トリクロロビストリフェニルホスフィ
ンルテニウム、クロロヒドロカルボニルビストリフェニ
ルホスフィンルテニウムなどを挙げることができる。触
媒の形態は粉末でも粒状でもよい。
化合物:水添触媒(重量比)が1:1×10-4〜1:2
となる割合で使用される。水添反応は、通常、常圧〜3
00気圧、好ましくは3〜150気圧の水素ガス雰囲気
下において、0〜180℃、好ましくは20〜150℃
で行うことができる。
ルネン部分の二重結合へのハロゲンまたは置換基の導入
について説明する。一般式4で表される化合物は、シク
ロペンテン部分と、ノルボルネン部武運との2種の異な
る二重結合(オレフィン)を持つ。これらの二重結合の
うち、ノルボルネン部分は活性が高く、反応が選択的に
進行する。この性質を利用して一般式4のノルボルネン
部分をエポキシ化することができる。(J.Am.Chem.So
c.,1960,82,4328 M.Korack , D.R.Nielsen and W.H.Rid
eout)一般式4で表される化合物を塩化メチレン中、4
0%過酢酸の酢酸溶液を用い、無水炭素ナトリウムの存
在下で、ノルボルネン部を選択的にエポキシ化すること
ができる。また、過酢酸としてm−クロロ過安息香酸を
用いてもより緩和な条件でのエポキシ化が可能である。
(J.Org.ChEM.,1965,30,1271 D.J.Pasto and C.C.Cumb
o)さらに、ノルボルネン部をエポキシ化したエポキシ
化合物は、リチウムアルミニウムハライド(LiAlH
4)や、液体アンモニア中、ナトリウムによってモノア
ルコールに還元することができる。(J.Org.Chem.,197
1.36,330 E.M.Kaiseret. al.)次に、このモノアルコー
ルに還元されたエポキシ化合物はハロゲン化水素酸や塩
化チオニルと反応させて、ハロゲン化アルキルとするこ
とができる。この反応では、シクロペンテン部のオレフ
ィンもハロゲン化される場合があるので、Fe(CO)
5などでオレフィンを保護してからハロゲン化すること
が好ましい。
れる単量体の具体例としては、トリシクロ[4 1,5 3 1,5
0,1 6,8 ]−2−デセン、7−ヒドロ−トリシクロ[4
1,5 31,5 0,1 6,8 ]−3−デセン、7−メチルカルボキ
シ−トリシクロ[4 1,5 3 1,5 0,1 6,8 ]−3−デセン、
7−カルボキシ−トリシクロ[4 1,5 3 1,5 0,1 6,8 ]−
3−デセン、7−トリフルオロメチル−トリシクロ[4
1,5 3 1,5 0,1 6,8 ]−3−デセン、7,7−ジフルオロ−
8−トリフルオロメチル−トリシクロ[4 1,5 3 1,50,1
6,8 ]−3−デセン、7−エチリデン−トリシクロ[4 1,5
3 1,5 0,1 6,8 ]−3−デセン、7−プロピリデン−ト
リシクロ[4 1,5 3 1,5 0,1 6,8 ]−3−デセン、オキサ
−テトラシクロ−[4 4,8 ,3 4,8 ,0,1 3,9 ,1 2,10 ]−
6−ドデセンなどがあげられる。
と他の単量体を共重合することができる。この他の単量
体としては、8−カルボキシメチルテトラシクロ[4.
4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン、8−カルボ
キシエチルテトラシクロ[4.4.0.17,10]−3−
ドデセン、8−カルボキシn−プロピルテトラシクロ
[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン、8−
カルボキシイソプロピルテトラシクロ[4.4.0.1
2,5.17,10]−3−ドデセン、8−カルボキシn−ブ
チルテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3
−ドデセン、8−メチル−8−カルボキシメチルテトラ
シクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセ
ン、8−メチル−8−カルボキシエチルテトラシクロ
[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン、8−
メチル−8−カルボキシn−プロピルテトラシクロ
[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン、8−
メチル−8−カルボキシイソプロピルテトラシクロ
[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン、8−
メチル−8−カルボキシn−ブチルテトラシクロ[4.
4.0.12, 5.17,10]−3−ドデセン、ノルボルネ
ン、ジメタノオクタヒドロナフタレン、エチルテトラシ
クロドデセン、トリメタノオクタヒドロナフタレン等が
挙げられる。これらのうち、好ましい例としては、8−
メチル−8−カルボキシメチルテトラシクロ[4.4.
0.12,5.17,10]−3−ドデセンなどを挙げること
ができる。
媒の存在下に行われる。メタセシス触媒としては、通
常、(ア)W、MoおよびReの化合物から選ばれた少
なくとも一種と、(イ)デミングの周期律表IA、II
A、IIIA、IVA、あるいはIV族元素の化合物で
少なくとも一つの元素−炭素結合あるいは元素−水素結
合を有するものから選ばれた少なくとも一種の組み合わ
せからなる触媒であるが、触媒活性を高めるために添加
剤を加えてもよい。 (ア)成分として適当なW、MoあるいはReの化合物
は、これらのハロゲン化物、オキシハロゲン化物、アル
コキシハロゲン化物、アルコキシド、カルボン酸塩、
(オキシ)アセチルアセトネート、カルボニル錯体、ア
セトニトリル錯体、ヒドリド錯体、およびその誘導体、
あるいはこれらの組み合わせであるが、WおよびMoの
化合物、特にこれらのハロゲン化物、オキシハロゲン化
物およびアルコキシハロゲン化物が重合活性、実用性の
点から好ましい。これらの化合物は適当な錯化剤例えば
P(C6H5)5、C5H5Nなどによって錯化されていて
もよい。
Cl5、MoOCl3、ReCl3、WCl2(OC6H5)
4、MoO2(acac)2、W(OCOR)5、W(C
O)6、WCl5・P(C6H5)3等が挙げられる。これ
らの化合物のうち特に好ましい化合物としては、WCl
6,MoCl5などが挙げられる。 (イ)成分として適当な化合物の具体例としては、n−
C4H5Li、(C2H5)2Zn、(C2H5)3Al、(C
2H5)AlCl、C2H5AlCl2、(C2H5)Al
H、(C2H5)3Al2Cl3、(C2H5)2AlOC
2H5、(iso-C4H9)2AlH、(iso-C4H9)3Al、
(CH3)4Ga、(CH3)4Sn、(n-C4H9)4S
n、Ph4Sn等が挙げられる。これらのうち特に好ま
しい化合物としては、(CH3)4Sn、(n-C4H9)4
Sn、Ph4Snなどである。(ア)成分と(イ)成分
の量的関係は金属原子比で(ア)成分/(イ)成分が1
/1〜1/30好ましくは1/2〜1/20の範囲で用
いられる。上記の(ア)および(イ)の二成分から調整
された触媒は、通常本発明の製造法において用いるのに
十分な高活性を有しているが、必要に応じて以下に挙げ
る様な(ウ)成分を添加することによって、活性を一層
高めることもできる。
物としてはアルコール類、アルデヒド類、ケトン類、ア
ミン類などが好適に用いることができるが、更に特開平
1−240517号公報に示される化合物を使用するこ
とができる。(ア)成分と(ウ)成分との割合は、モル
比で(ウ)成分/(ア)成分が0.005:1〜15:
1、好ましくは0.05:1〜7:1の範囲とされる。
開環重合反応に用いられる溶媒としては、例えばペンタ
ン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン等
のアルカン類、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シク
ロオクタン、デカリン、ノルボルナン等のシクロアルカ
ン類、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼ
ン、クメン等の芳香族炭化水素、クロロブタン、ブロム
ヘキサン、塩化メチレン、ジクロロエタン、ヘキサメチ
レンジブロミド、クロロホルム、テトラクロロエチレ
ン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリフルオロ
メチルベンゼン等のハロゲン化アルカン、アリール等の
化合物、酢酸エチル、酢酸n−ブチル、酢酸iso−ブ
チル、プロピオン酸メチル等の飽和カルボン酸エステル
類、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキ
シエタン等のエーテル類などを挙げることができ、これ
らは単独であるいは混合して用いることができる。これ
らのうち、ハロゲン化アリール、飽和カルボン酸エステ
ルが好ましい。本発明において、単量体の割合は(ア)
成分:単量体(重量比)が1:1〜1:10000とな
る量とされ、好ましくは1:500〜1:5000とな
る量である。
量比)が、通常1:1〜10:1となる量とされ、好ま
しくは1:1〜5:1となる量とされる。開環重合体の
分子量の調節は、重合温度、触媒の種類、溶媒の種類に
よっても行うことができるが、本発明においては、分子
量調節剤を反応系に共存させることにより調節する。か
かる分子量調節剤としては、例えば、エチレン、プロペ
ン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、1−ヘ
プテン、1−オクテン、1−ノネン、1−デセンなどの
α−オレフィン類などを挙げることができ、特に1−ブ
テン、1−ヘキセンが好ましい。これらは1種または2
種以上を混合して用いることができる。反応系に添加さ
れる分子量調節剤の添加量は、開環重合反応に供される
単量体の合計1モルに対して0.001〜0.4モル、
好ましくは0.005〜0.3モルとされる。開環重合
工程においては、単量体をメタセシス触媒、分子量調節
剤、および重合溶媒と共に反応器に導入し、開環重合反
応をおこなわせる。重合温度は、通常−10〜100
℃、好ましくは−10〜50℃である。
合体は、水素添加触媒を用いて水素添加できる。水素添
加触媒としては、一般式4で表される化合物の合成時に
使用されるのと同様の水添触媒および水添条件を使用す
ることができる。さらに、本発明においては、ポリブタ
ジエン、ポリイソプレン、スチレン−ブタジエン共重合
体、エチレン−非共役ジエン共重合体、ポリノルボルネ
ンなどの主鎖に炭素−炭素間二重結合を含む不飽和炭化
水素系ポリマ−などの存在下に一般式2で表される単量
体を開環重合させても良い。そして、この場合に得られ
るノルボルネン重合体の水素添加物は耐衝撃性の大きい
樹脂の原料として有用である。
酸化防止剤、例えば2,6−ジ−t−ブチル−4−メチ
ルフェノール、2,2’−ジオキシ−3,3’−ジ−t
−ブチル−5,5’−ジメチルジフェニルメタン、テト
ラキス[メチレン−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4
−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタンあるい
は紫外線吸収剤、例えば2,4−ジヒドロキシベンゾフ
ェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン
等を添加することによって安定化することができる。ま
た、加工性を向上させるために滑剤等の添加剤を添加す
ることもできる。
形手段、例えば、射出成形、圧縮成形、押出成形法など
を用いて成形品を作成できる。本発明のノルボルネン重
合体は溶融温度が低いため前記の成形が容易に行え、加
工性が向上している。また本発明のノルボルネン重合体
からなる成形品の表面には、無機化合物、シランカップ
リング剤などの有機シリコン化合物、アクリル系樹脂、
ビニル系樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、フッ素系
樹脂、シリコーン樹脂等などからなるハードコート層を
形成させることができる。ハードコート層の形成手段と
しては熱硬化法、紫外線硬化法、真空蒸着法、スパッタ
リング法、イオンプレーティング法などの公知の方法を
挙げることができる。これによって、成形品の耐熱性、
光学特性、耐薬品性、耐摩耗性、透湿性などを向上させ
ることができる。
制限されるものではなく、広い範囲にわたって使用する
ことができ、例えば、半導体保護膜(α線保護膜、パッ
シベーション膜、バッファーコート、層間絶縁膜)、高
周波基板、ペリクル(フォトマスク防塵カバー)、EP
ROM(紫外線消去及びプログラム可能なROM)の保
護膜、及び窓材、絶縁材料として、また、光ファイバ
ー、一般カメラ用レンズ、ビデオカメラ用レンズ、望遠
鏡レンズ、レーザービーム用レンズ等のレンズ、光学式
ビデオディスク、オーディオディスク、文書ファイルデ
ィスク、メモリディスク等の光ディスク類、低反射コー
ト材、眼鏡レンズ、CCDリッドなどの光学材料やOH
Pシート、アニメーションのセル画用シート、透明導電
性フィルムなどの透明フィルムとして好適に使用するこ
とができる。
本発明がこれらによって限定されるものではない。以下
において、水素化率、共重合比率の値は100MHzで測定さ
れた核磁気共鳴(NMR)によるものである。ノルボルネン
骨格オレフィンに由来するδ=5.5■6.0ppmのピークが減
少する大きさの値を基に、また、共重合比については、
8−メチル−8−カルボキシメチルテトラシクロ[4.
4.0.12,5.17 ,10]−3−ドデセンのカルボキシ
メチル基に由来するδ=3.5ppmのピークの積分値を基
に、また、重合体の水添については、δ=5.5■6.0ppmの
ピークが減少する大きさの値を基に算出している。
に脱水したシクロペンタジエン0.4 kgを仕込んだ後、ア
ルコキシリチウム 0.5 g を加え、5分間、80℃でかくは
んした。次に、ベンゾフェノンを1.54 g 加え、10分間
かくはんした。次に、0.10 g のビス(シクロペンタジ
エニル)チタニウムジクロライドと20 mlのトルエンで
溶かした0.43 g のジエチルアルミニウムクロライドを
窒素雰囲気下であらかじめ混合した成分を仕込、これを
系中に加え、かくはんした。その後、水素ガスを1.5 kg
f/cm2Gの圧力で供給し、90℃で水素化反応を行った。水
素の吸収量が74,01 dm3 (25℃計算)になった時点で反応
を終了した。反応時間は4時間であった。生成した混合
物は減圧蒸留法により精留を行い目的の生成物を得た。
水添率は99.5%で、収率は95%であった。
したテトラシクロペンタジエン0.5 kg を仕込んだ以外
は参考例1と同様の方法で反応を行い目的の生成物を得
た。水添率は99.5%で、収率は95%であった。 参考例3 参考例1においてシクロペンタジエンの代わりに7−メ
チル−トリシクロ[4 1 ,5 3 1,5 0,1 6,8 ]−3−デセン
0.4 kg を用いた以外は参考令と同様にして目的の生成
物を得た。水添率は99.5%で、収率は92%であった。 参考例4 参考例1においてシクロペンタジエンの代わりに7−カ
ルボキシメチル−トリシクロ[4 1,5 3 1,5 0,1 6,8 ]−
3−デセン0.4 kg を用いた以外は参考例1と同様にして
目的の生成物を得た。水添率は99.5%で、収率は92%であ
った。
−テトラシクロ−[4 4 ,8 ,3 4,8 ,0,1 3,9 ,1 2,10 ]−
6−デセン0.4 kg を用いた以外は参考令と同様にして
目的の生成物を得た。水添率は99.5%で、収率は92%であ
った。
内を窒素ガスで置換し、窒素気流下でジエチルアルミニ
ウムクロライドのトルエン溶液(1.25 mol/dm3)を1.2 ml
、六塩化タングステンのトルエン溶液(0.01 mol/dm3)
を7.5 ml加え、約5分間、0℃でかくはんした。その後、
上記参考例1で合成した単量体10 g 、1−ヘキセン 0.
1 g をトルエン 24 ml に溶かした溶液を少しずつ加
え、3時間、0℃でかくはんし、重合させた。重合反応終
了後、重合溶液を大量のメタノール中に注ぎ、開環重合
体を析出させた。次に、得られた開環重合体 10 g をト
ルエン 100 ml に溶解させ、約10 % の重合体溶液を調
製した。これをかくはん機、温度計を備えた 1 dm3 オ
ートクレーブ中に仕込み、Inorganic Synthesis Vol.15
に従って製造された RuH4[P(C6H5)3]4 を水素化触媒と
して 1.7 mg 添加した。その後高圧オートクレーブに水
素ガスを導入し、かくはんしながら165 ℃まで昇温し
た。水素圧は 60 kgf/cm2 であった。この温度で10時間
保ち、その後、温度を室温まで戻し、水素ガスを放出
し、反応溶液を大量のメタノール中に落として水添重合
体を析出させ、真空乾燥して、収率 93% のノルボルネ
ン重合体を得た。水添率は 99 % であった。このノルボ
ルネン重合体のポリスチレン換算の重量平均分子量は10
3000、DSCで測定したガラス転移温度(Tg)は11
3℃、誘電率2.7(1MHz)であった。
参考例2で合成した単量体(実施例2)、参考例3で合
成した単量体(実施例3)、参考例4で合成した単量体
(実施例4)および参考例5で合成した単量体(実施例
5)をそれぞれ5g用いた以外は実施例1と同様にして
開環重合し、水添し、本発明のノルボルネン重合体を得
た。それぞれのノルボルネン重合体の収率、水添率、数
平均分子量は表1に示すとおりであった。
ボキシメチルテトラシクロ[4.4.0.12,5.1
7,10]−3−ドデセン5g 、1−ヘキセン 0.1 gをトル
エン24mlに溶かした溶液を少しずつ加え、3時間、室
温でかくはんし、重合させた。重合反応終了後、重合溶
液を大量のメタノール中に注ぎ、開環重合体を析出させ
た。この開環重合体を実施例1と同様にして水添し、こ
れを濾別して回収し、真空乾燥して収率85%のノルボル
ネン重合体を得た。水添率は99%であった。また、こ
のノルボルネン重合体のポリスチレン換算の数平均分子
量は105000、DSCで測定したガラス転移温度(Tg)
は140℃、誘電率3.1(1MHz)であった。
ルボキシメチルテトラシクロ[4.4.0.12,5.1
7,10]−3−ドデセン0.1 g 、1−ヘキセン 0.1 g を
トルエン 24 ml に溶かした溶液を少しずつ加え、3時
間、室温でかくはんし、重合させた。重合反応終了後、
重合溶液を大量のメタノール中に注ぎ、開環重合体を析
出させた。この開環重合体を実施例1と同様にして水添
し、これを濾別して回収し、真空乾燥して収率83%のノ
ルボルネン重合体を得た。水添率は99%であった。こ
の重合体のポリスチレン換算の数平均分子量は125000で
あった。
セン 0.1 g をトルエン 24 ml に溶かした溶液を逐次添
加し、3時間、かくはんした以外は実施例1と同様にし
て、重合させた。重合反応終了後、重合溶液を大量のメ
タノール中に注ぎ、開環重合体を析出させた。この開環
重合体を実施例1と同様にして水添し、真空乾燥して収
率53%のノルボルネン重合体を得た。水添率は95%で
あった。このノルボルネン重合体のポリスチレン換算の
数平均分子量は85000、ガラス転移温度(Tg)は75
℃、誘電率2.8(1MHz)であった。 実施例9 実施例1において 、シクロペンテン 6.5 g 、1−ヘキ
セン 0.1 g をトルエン 24 ml に溶かした溶液を逐次添
加し、3時間、かくはんした以外は実施例1と同様にし
て、重合させた。重合反応終了後、重合溶液を大量のメ
タノール中に注ぎ、開環重合体を析出させた。この開環
重合体を実施例1と同様にして水添し、真空乾燥して収
率42%のノルボルネン重合体を得た。水添率は93%で
あった。このノルボルネン重合体のポリスチレン換算の
数平均分子量は77000であった。
性を試験した。すなわち、各重合体を5cm5cm1c
mに成形し、表2に示す各有機溶剤に℃で時間浸漬した
後、目視により観察した。結果を表2に示す。 ○:全く変化なし、△:試験片の一部または全部の透明
性が失われた、×:試験片の一部または全部が溶解した
ジエン(DCP)を水添触媒を用いて分子内にある複数
のオレフィン部のうち、活性の高いノルボルネン部位の
みを選択的に部分水添させ、オレフィン部をシクロペン
テン骨格のみに変換できる。さらに、ここで合成した単
量体は従来活性が低いとされていたにもかかわらず、活
性の高いノルボルネン誘導体と良く共重合する。また、
8−メチル−8−カルボキシメチルテトラシクロ[4.
4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン に代表される
ノルボルネン誘導体を5■10 % 共重合させることによ
り、重合活性を著しく向上できる。また、この重合体は
適当な水添触媒によって容易に水素化を行うことができ
る。本発明によって得られた重合体は、透明性、耐薬品
性、電気特性等に優れた新規ノルボルネン系重合体であ
り、そのガラス転移温度が従来のものと比べて低く、加
工性に優れた材料が得られる。
示す図である。
示す図である。
Claims (2)
- 【請求項1】下記一般式1で表される単量体単位を含有
することを特徴とするポリスチレン換算数平均分子量50
00〜1000000のノルボルネン重合体。 【化1】 (一般式中、Xは炭素数1〜10の炭化水素基または水
素原子であり、A、BおよびYは水素原子またはハロゲ
ン原子または炭素数1〜10の炭化水素基またはその鎖中
に酸素原子または窒素原子を含む官能基を示す。また、
nは整数であり、mは0〜5の整数である。) - 【請求項2】下記一般式2で表される単量体の少なくと
も1種をメタセシス開環重合触媒の存在下に重合し、さ
らに水添することを特徴とする請求項1記載のノルボル
ネン重合体の製造方法。 【化2】 (一般式2中、X、Y、AおよびBは一般式1と同様で
あり、mは0〜5の整数である。)
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP01141294A JP3346012B2 (ja) | 1994-01-06 | 1994-01-06 | ノルボルネン重合体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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ID=11777323
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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1994
- 1994-01-06 JP JP01141294A patent/JP3346012B2/ja not_active Expired - Lifetime
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