JPH07161787A - 半導体装置及びその特性測定方法 - Google Patents

半導体装置及びその特性測定方法

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JPH07161787A
JPH07161787A JP5311432A JP31143293A JPH07161787A JP H07161787 A JPH07161787 A JP H07161787A JP 5311432 A JP5311432 A JP 5311432A JP 31143293 A JP31143293 A JP 31143293A JP H07161787 A JPH07161787 A JP H07161787A
Authority
JP
Japan
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semiconductor
probe
reference pattern
electrode pad
semiconductor chip
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Pending
Application number
JP5311432A
Other languages
English (en)
Inventor
Kiyoko Yanase
聖子 簗瀬
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP5311432A priority Critical patent/JPH07161787A/ja
Publication of JPH07161787A publication Critical patent/JPH07161787A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/0555Shape
    • H01L2224/05552Shape in top view
    • H01L2224/05553Shape in top view being rectangular

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  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】半導体チップ1の品種によらずに、相対的同一
場所に半導体検査位置基準パターン3を設け、最初に測
定する半導体検査部2aを視覚的にさがす事なくプロー
ブカード探針との位置決めを行う。 【構成】電気的特性の測定を行う半導体検査部2aの電
極パッドと同一の電極パッドからなり、使用するプロー
ブカード探針とその電極パッドが同一座標にある半導体
検査位置基準パターン3を半導体チップ1の品種によら
ず同一場所に配置する。この位置基準パターン3を用い
る事により、異品種であっても作業間違え無く、作業工
数をかける異なく検査用電極パッドとプローブカード探
針を合わせる事が出来る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体検査部が形成され
た半導体装置に関し、半導体検査部の測定方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】半導体装置の製造過程において、半導体
基板(ウェーハ)上に各半導体チップが形成されると同
時に半導体基板上に形成された半導体検査部を用いてそ
の電気的特性の測定を行い、これによって半導体チップ
の代用特性として評価、管理する事は重要である。その
ため半導体チップ内又はスクライブ線内に半導体検査部
が形成されている。
【0003】図4はこの種の半導体装置の部分平面図で
あり、4種の半導体検査部2a〜2dを半導体チップ1
内に有する場合を示している。ここで半導体チップ1は
半導体基板上に複数個存在し、かつ全ての半導体チップ
1が同一の半導体検査部2a〜2dを有する。
【0004】次に、実際の測定方法を、図5のフロー図
により説明する。図5においては、オートプローバ測定
器を制御装置により制御し、自動測定を行う場合を示
す。まず、ステップS1aで、制御装置に最初に測定を
行う半導体検査部2a(座標=(0,0))を基準とし
て測定を行う他の各半導体検査部2b〜2dの相対座標
を入力し、測定以前に登録をしておく。ステップS2
で、測定を開始すると、自動的にオートプローバが半導
体基板ロード、アライメント、ステージ高さ調整まで行
う。
【0005】次にステップS3aで、手動にて最初に測
定を行う半導体検査部2aの電極パッドにプローブカー
ドの探針を合わせる必要がある。この場合、半導体チッ
プ1が同一品種でない限り、半導体検査部2a〜2dの
配置場所は半導体チップにより異なる。従って、最初に
測定を行う半導体検査部2aの電極パッドにプローブカ
ードの探針を合せるには、光学顕微鏡等を用いて視覚的
に確認し、場所指定を行う。
【0006】更にステップS4で、最初に測定を行う半
導体チップ1に移動させてその位置を認識させた後に、
ステップS6で自動測定を開始する。各半導体検査部2
b以降は、先に入力した相対座標に従って自動的に移動
し測定する。尚、半導体チップ1内の半導体検査部2a
〜2dは同一のプローブカードを用いて測定を行なうた
め、同一の電極パッド配置となっている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の測定方
法のうち最初に測定を行う半導体検査部2aの電極パッ
ドにプローブカードの探針を合せるときの場所指定は、
半導体チップ1の品種毎に半導体検査部の配置がことな
る為、品種が変わる毎に視覚的に確認を行う必要があ
り、従って作業工数がかかるという問題点があった。
【0008】更に、この半導体装置内の半導体検査部
は、同一のプローブカードを用いて連続測定を行う為に
同一の電極パッド配置を有しており、最初に測定を行う
半導体検査部と他の半導体検査部とは外観上非常に似て
いる。従って、最初に測定を行う半導体検査部を間違え
て指定してしまった場合、電気的特性の測定が出来ない
ばかりか、半導体チップをプローブカードの探針で破壊
してしまうという問題点があった。
【0009】本発明の目的は、これらの問題を解決し、
各半導体チップの確認を容易にし、かつ半導体チップの
位置決めを簡単にできるようにした半導体装置およびそ
の特定測定方法を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体装置の構
成は、半導体基板上に形成された各半導体チップの電気
的測定を行う半導体検査部の電極パッドと同一形状の電
極パッドからなり、かつその測定を行うプローブカード
の探針座標に対して相対的に同一個所となるように前記
各電極パッド座標を設定した半導体検査装置基準パター
ンを、前記半導体チップ上あるいはそのスクライブ線上
に備えた事を特徴とする。
【0011】また、本発明の半導体装置の特性測定方法
の構成は、半導体検査位置基準パターンを用いて測定用
プローブカード探針と各半導体チップの検査用電極パッ
ドとの位置合せを行って各電気的特性測定を行うことを
特徴とする。
【0012】
【実施例】図1は本発明の第1の実施例の部分平面図で
あり、半導体チップ1内に、基準(0,0)となる半導
体検査位置基準パターン3を接地した場合を示してい
る。半導体検査チップ位置基準パターン3の半導体チッ
プ1内での配置は品種によらず同一となっている。この
半導体検査位置基準パターン3は、半導体検査部2a〜
2dの有する電極パッドと同一形状で、その配置はプロ
ーブカードの探針座標と同一となっている。
【0013】次に、この半導体検査部2a〜2dの測定
方法について、図2のフロー図を用いて説明する。これ
は、半導体検査部の位置基準パターン3を用いた場合の
測定フローであるが、測定フローについては従来技術と
はとんど同じである。
【0014】まずステップS1で、制御装置に半導体検
査位置基準パターン3(座標=(0,0))を基準とし
て、測定を行う半導体検査部2a〜2dの相対座標を入
力し、測定以前に登録しておく。ステップS2で測定を
開始すると、自動にてオートプローバが半導体基板ロー
ド,アライメント,ステージ高さ調整まで行う。次にス
テップS3で、手動にて半導体検査位置基準パターン3
の電極パッドにプローブカードの探針を合わせる。この
時品種によらず半導体検査位置基準パターン3は同一の
接地場所であるため迷う異なくプローブカードの探針と
合わせる事が出来る。
【0015】更にステップS4で、最初に測定を行う半
導体チップ1に移動させてその位置を認識させた後に自
動測定を開始する。ステップS5で、各半導体検査部2
a〜2dは先に入力した相対座標に従って自動的に移動
する。ここで将来的に半導体検査位置基準パターン3及
び最初に測定を行う半導体チップの自動認識が可能とな
れば、ステップS6で全ての作業を自動にて行なえる。
【0016】図3は本発明の第2の実施例の部分平面図
であり、スクライブ線4内に半導体検査位置基準パター
ン3を設置した例を示している。この場合の測定のフロ
ーは第1の実施例と同一である。
【0017】第1の実施例では、半導体検査位置基準パ
ターン3が半導体チップ1内に設置されていたのに対し
第2の実施例ではスクライブ線4の線内にその基準パタ
ーン3が設置されるため、半導体チップ1の設計上の制
約を受けない。この事から異なる品種であっても同一場
所に設置する事が容易に出来る。
【0018】
【発明の効果】以上説明した用に本発明は、電気的特性
の測定時半導体検査部の電極パッドにプローブカード探
針を合せるための半導体検査位置基準パターンを品種に
よらず半導体チップ内もしくはスクライブ線内の同一位
置に設置することにより、品種毎に最初に測定を行う半
導体検査部を毎回さがす事なく位置決めすることが出
来、作業効率向上、作業間違いに伴なう半導体装置破壊
の防止に非常に効果を有する。又、自動認識による半導
体検査部の電極パッドとプローブカード探針合わせも認
識場所が品種によらず同一な為、将来的に容易に実現可
能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例の半導体装置を示す部分
平面図。
【図2】本実施例の操作手順を説明するフロー図。
【図3】本発明の第2の実施例の半導体装置の示す部分
平面図。
【図4】従来の半導体装置を示す部分平面図。
【図5】図4の操作説明するフロー図。
【符号の説明】
1 半導体チップ 2a〜2d 半導体検査部 3 半導体検査位置基準パターン 4 スクライブ線 S1〜S6 処理ステップ

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体基板上に形成された各半導体チッ
    プの電気的測定を行う半導体検査部の電極パッドと同一
    形状の電極パッドからなり、かつその測定を行うプロー
    ブカードの探針座標に対して相対的に同一個所となるよ
    うに前記各電極パッド座標を設定した半導体検査装置基
    準パターンを、前記半導体チップ上あるいはそのスクラ
    イブ線上に備えた事を特徴とする半導体装置。
  2. 【請求項2】 半導体検査位置基準パターンを、各半導
    体チップの品種によらずにこれら半導体チップ上の同一
    座標位置に配置した請求項1記載の半導体装置。
  3. 【請求項3】 半導体検査位置基準パターンを用いて測
    定用プローブカード探針と各半導体チップの検査用電極
    パッドとの位置決めを行って各電気的特性測定を行うこ
    とを特徴とする半導体装置の特性測定方法。
JP5311432A 1993-12-13 1993-12-13 半導体装置及びその特性測定方法 Pending JPH07161787A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6928375B2 (en) * 2002-04-10 2005-08-09 Hitachi High-Technologies Corporation Inspection condition setting program, inspection device and inspection system
JP2011061236A (ja) * 2010-11-26 2011-03-24 Renesas Electronics Corp 半導体装置

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JPH0384945A (ja) * 1989-08-28 1991-04-10 Tokyo Electron Ltd 位置合せ方法およびそれを用いた検査装置
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JPH04307950A (ja) * 1991-04-05 1992-10-30 Tokyo Electron Ltd 半導体検査方法

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Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 19970218