JP2717884B2 - 半導体ウエハ測定方法 - Google Patents

半導体ウエハ測定方法

Info

Publication number
JP2717884B2
JP2717884B2 JP41769690A JP41769690A JP2717884B2 JP 2717884 B2 JP2717884 B2 JP 2717884B2 JP 41769690 A JP41769690 A JP 41769690A JP 41769690 A JP41769690 A JP 41769690A JP 2717884 B2 JP2717884 B2 JP 2717884B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chip
semiconductor wafer
defective
needle
measurement
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP41769690A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH08340027A (ja
Inventor
準一 井上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Electron Ltd
Original Assignee
Tokyo Electron Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Electron Ltd filed Critical Tokyo Electron Ltd
Priority to JP41769690A priority Critical patent/JP2717884B2/ja
Publication of JPH08340027A publication Critical patent/JPH08340027A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2717884B2 publication Critical patent/JP2717884B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
  • Measuring Leads Or Probes (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【産業上の利用分野】この発明は半導体ウエハの測定方
法に関するものである。 【0002】 【従来の技術】従来の半導体ウエハプローバーの適用に
際しては、まず、当該ウエハ内に同一チップが数百個存
在しているうちの1個のチップに対し、オペレーターが
当該チップ内のパッドにプローブカード針を接触させて
適正な位置であることを顕微鏡やモニターテレビ等で確
認し、その後、半導体ウエハプローバーの機械精度(自
動認識装置の精度も含む)とチップの繰り返し精度のみ
を信頼し、該パッドにプローブカード針が適正な状態で
接触されているという仮定のもとで、プローブカード針
と接続されているテスターでチップの良否を判定してい
る。 【0003】 【発明が解決しようとする課題】しかしながら、近時半
導体ウエハの高集積化に伴い各構成要素も微細近接化
し、プローブ針のパッドに対するコンタクトに際して該
パッドの表面に形成されている自然酸化膜を破り、該パ
ッドにコンタクトさせるためオーバードライブをかける
が、当該オーバードライブも上記微細化により思うよう
にかけられず、該パッドに対する接触不良の状態で測定
(不良測定)を続けてしまう難点がある。 【0004】上述の判定作業により、不良チップである
と判定された時点では、当該チップが真実不良なの
か、半導体ウエハプローバー自身の機械精度が悪くて
プローブカード針の接触がパッド面よりずれ、チップの
他の配線部に触れて不良と判定されたのか、プローブ
カード針が悪いのか、いずれとも判別することが出来な
い。このような理由により連続的に不良が続いた場合
は、不良チップの判定が続く前のチップに人手作業によ
り戻し、再度プローブカード針を前に戻したチップに接
触させて試験をやり直している。 【0005】このように本来自動式の半導体ウエハプロ
ーバーでありながら、より多くの人員を介在させて試験
を行っているのが実状であり、作業性の向上が図れない
不具合がある。 【0006】又、半導体ウエハのチップの試験におい
て、特に高集積化された今日ではパッド内にぎりぎりの
条件でプローブカード針が接触して良品として判定され
るチップが存在するが、このようなチップも半導体ウエ
ハから個々に切離してパッケージングすることにより、
集積回路(IC)製品となり、上述のようにぎりぎりの
条件で良品となったチップは、使用する集積回路製品に
良品としての余裕がなく、他の良品で製造された集積回
路製品に比して早期に故障等を起こし、よって製品の信
頼性の低下につながる欠点がある。 【0007】 【発明の目的】この発明の目的は上述のウエハプローバ
ーのプローブ針の半導体ウエハのチップのパッドに対す
る連続的不良測定の問題点を解決すべき技術的課題と
し、該連続的コンタクト不良による測定ミスの発生を可
及的に少くするようにして半導体製造産業におけるウエ
ハ測定技術利用分野に益する優れたウエハ測定方法を提
供せんとするものである。 【0008】 【課題を解決するための手段】上述目的に沿い先述特許
請求の範囲を要旨とするこの発明の構成は、前述課題を
解決するために、被測定半導体ウエハ内の各チップ毎に
プローブ針を順次パッドに接触させて電気的測定を行う
工程において、該工程により測定した結果、不良チップ
が予め定められた設定個数連続して測定された場合、こ
れらの連続する該不良チップの前に測定したチップに自
動的に戻し再度プローブ針をパッドに順次接触させて電
気的測定を行う工程を有してなる技術的手段を講じたも
のである。 【0009】 【作用】而して、半導体ウエハに形成された各チップ上
の電極パッドにプローブ針を接触させて測定するに、不
良チップが設定数連続して測定された時、当該連続した
不良チップの発生前に測定したチップまで自動的に戻し
測定し直すことにより、コンタクト不良によって不良品
のチツプを良品のチップと誤測定するのが防止されるよ
うにするものである。 【0010】 【実施例】以下に、この発明の1実施例を図1乃至図3
に基づいて明する。 【0011】第3図の制御部の制御により、図1の
(b)の測定機構の載置台3をX軸、Y軸、Z軸方向及
びZ軸芯における周方向に当該第3図の駆動機構で移動
させ、該図1の(b)に示す半導体ウエハ1を図示しな
い半導体ウエハプローバーに対し位置決めした後、当該
図1の(b)に示す載置台3に、被測定半導体ウエハ1
を所定に真空吸着して仮固定する。次に制御部の制御を
介して、半導体ウエハプローバーのプローブカード針2
を図1の(a)に示すチップ4のパッド5上に接触さ
せ、各チップ4を電気的に接続したテスタにより順次測
定する。 【0012】この場合、図1に示す態様において、X
軸、Y軸、Z軸方向およびZ軸芯における周方向に動い
て被測定半導体ウエハ1を半導体ウエハプローバーに位
置決めする載置台3に、該半導体ウエハ1を真空吸着し
て固定するが、この時プローブカード針2でチップ4の
パッド5上に接触させる位置を図1の(a)のO点と
し、針跡を認識する位置をP点とする。 【0013】而して、図1の(b)で示す如く該プロー
ブカード針2がチップ4上に接触してパッド5に針跡R
を付加し、該針跡Rを付加したチップ4を認識する位置
PにY方向Sを含むLだけ移動するが、当該移動は載置
台3を動かすX軸、Y軸用モータにより指定された位置
までなされる。 【0014】このような操作により、図2の(a)で示
した既に設定してある指定面積(条件)Qと、図2の
(b)に示した現実に付加して針跡Rの面積を比較す
る。その際、指定面積Q内に針跡Rがある場合は、プロ
ーブカード針2とパッド5との接触は適切である良品と
図3の判定機構により判断され、判断の情報が「適切な
接触」の場合は更に連続して試験することが可能とな
る。 【0015】これに対し、図2の(c)に示すように、
既に設定している指定面積(条件)Q内に現実に付加し
た針跡Rが位置していない場合、プローブカード針2と
パッド5とは「不適切な接触」である不良品と上記判定
機構により判断される。この際、試験が不可能であるこ
との信号、即ち、不良品の判定認識が設定数連続して発
生した場合、載置台3をマイクロプロセッサ等で制御す
ることにより、不良品の判定認識が発生する以前の試験
に測定装置、認識装置、駆動機構を介して自動的に戻し
て再度試験を行う際の精度を自動的に修正する。 【0016】この測定操作により不良チップが設定数連
続して判定された時、当該連続不良チップの判定認識発
生前のチップにプローブカード針2を自動的に戻し移動
させ、再度測定を行う。この測定結果が以前と同一結果
であれば、当該測定結果を真の良品、不良品の測定結果
として正当に得られる。 【0017】このような工程を再度説明すると、先ず測
定機構の載置台3に半導体ウエハ1をセットし、該載置
台3を移動させて各チップ4のパッド毎にプローブ針2
を接触させる。その際各チップ4のパッド5に針跡Rが
付加される。 【0018】次いで各チップ4毎にテスタにより通常の
電気的測定を行い、この測定結果を前記判定機構により
チェックして、不良チップが設定数連続して続くような
場合には上記載置台3を移動させて再度不良チップが連
続する以前のチップ4に自動的に戻し、上記各チップ4
毎にプローブ針2を接触させて、各チップ4毎にテスタ
により通常の電気的測定を行う。 【0019】 【発明の効果】この発明の半導体ウエハ測定方法は以上
のように、プローブ針のチップに対する接触を介しての
測定の結果、コンタクト不全による不良チップが設定数
連続発生した時、再度不良チップの測定認識前のチップ
に自動的に戻し測定を行うので、良品、不良品の測定結
果の信頼性を向上出来るという優れた効果が奏される。 【0020】この発明の半導体ウエハプロービングは以
上のように構成したので、数百個にわたって全てのチッ
プのパッドに針跡を付加した後、従来ならオペレータに
よって顕微鏡、モニターテレビ等で拡大した当該チップ
内のパッドの針跡をその都度目視検査する無駄があった
が、この発明ではこのような無駄を除去出来、したがっ
て、針跡の検査を折込みながら完全に自動的に試験する
ことにより、半導体ウエハプローバーの信頼性の向上は
計り知れない効果があるものである。 【0021】又、このように不良チップの連続発生の場
合、載置台をマイクロプロセッサを介して精度を自動修
正するようにすることにより、例えば、半導体ウエハプ
ローバー自身の機械的精度が悪かったり、又、プローブ
カード針の接触がパッド面よりずれてチップの他の配線
部分に触れて不良とミス判定されるような場合の判定精
度を自動修正することにより本来的には不良チップでな
い良品チップであると判定すべきチップの判定が性格に
行われ、測定歩留りも向上し、測定の精度が向上し、結
果的に製品精度の向上や製品に対する信頼性が著しく向
上するという優れた効果が奏されるものであります。

Claims (1)

  1. (57)【特許請求の範囲】 1.被測定半導体ウエハの各チップパッド毎にプロー
    ブ針を順次接触させて電気的測定を行う工程から成り
    工程により測定した結果、不良チップが予め定められ
    設定個数連続した場合、これら連続する不良チップの
    発生前に測定したチップに戻って再度プローブ針を各チ
    ップのパッドに対し順次接触させて電気的測定を行う工
    程を反復すようにし、当該不良チップの連続発生の場
    合は上記被測定半導体ウエハの載置台をマイクロプロセ
    ッサを介して精度を自動修正するようにすることを特徴
    とする半導体ウエハ測定方法。
JP41769690A 1990-12-15 1990-12-15 半導体ウエハ測定方法 Expired - Lifetime JP2717884B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP41769690A JP2717884B2 (ja) 1990-12-15 1990-12-15 半導体ウエハ測定方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP41769690A JP2717884B2 (ja) 1990-12-15 1990-12-15 半導体ウエハ測定方法

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP13217983A Division JPS6024030A (ja) 1983-07-19 1983-07-19 半導体ウエハ測定方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH08340027A JPH08340027A (ja) 1996-12-24
JP2717884B2 true JP2717884B2 (ja) 1998-02-25

Family

ID=18525761

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP41769690A Expired - Lifetime JP2717884B2 (ja) 1990-12-15 1990-12-15 半導体ウエハ測定方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2717884B2 (ja)

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
電子材料別冊「超LSI製造・試験装置ガイドブック 1983年版」(昭57−11−18)工業調査会p.230

Also Published As

Publication number Publication date
JPH08340027A (ja) 1996-12-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0567652A (ja) プローブ装置
KR19980032057A (ko) 프로브 카드 및 그것을 이용한 시험장치
US6298312B1 (en) Method of determining the tip angle of a probe card needle
JP2717884B2 (ja) 半導体ウエハ測定方法
JPH0441495B2 (ja)
JPH04207047A (ja) プローブ検査装置
JPH09230005A (ja) 回路基板検査装置
JP2002107417A (ja) 半導体集積回路の試験装置及びその管理方法
JPS6024029A (ja) 半導体ウエハプローブ方法
JPH0348171A (ja) 混成集積回路板の電気的特性検査を行う方法
JPS6279640A (ja) ウエハプロ−バ装置
JP2767291B2 (ja) 検査装置
KR20050067759A (ko) 반도체 검사장치
JPS6030147A (ja) 半導体ウェ−ハ
JPH04315068A (ja) プリント回路板の検査装置
JPH0595030A (ja) 自動検査装置
JPS6170735A (ja) 電気測定用アライメントマ−クを有するウエハまたはチツプ
JPH0828408B2 (ja) 半導体ウエハ測定方法
JP2006261391A (ja) 半導体装置およびその検査方法
JPH0758168A (ja) プローブ装置
KR0127639B1 (ko) 프로우빙 시험 방법 및 그 장치
JPS6115340A (ja) ウエハプロ−バ
JPH07280868A (ja) セラミック基板の配線パターン検査装置と方法
JP2652705B2 (ja) 配線用突部の高さ検査方法
JPH01181432A (ja) ウエハプローバ