JPH0715917B2 - 半導体チップ用パッケージ及びその製作方法 - Google Patents
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- H01L2924/01079—Gold [Au]
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ワイヤ・ボンディング
した半導体チップに関する。更に詳しくは、本発明は、
ワイヤ・ボンディングした半導体チップであって、ワイ
ヤ・ボンディングによるワイヤの接続部の接触状態を改
良し、パッケージの寸法を小型化した半導体チップに関
する。
した半導体チップに関する。更に詳しくは、本発明は、
ワイヤ・ボンディングした半導体チップであって、ワイ
ヤ・ボンディングによるワイヤの接続部の接触状態を改
良し、パッケージの寸法を小型化した半導体チップに関
する。
【0002】
【従来の技術】ワイヤ・ボンディングという技法は、か
なり以前から採用されている技法である。この技法は、
半導体チップをパッケージに封入するのに先立って、そ
の半導体チップ上に形成されている電極部(パッド)
と、その半導体チップをプリント回路板等の外部デバイ
スへ接続するための構造である固定リード構造との間
の、導電経路を形成するための技法である。固定リード
構造としては、リードフレーム等が用いられ、半導体チ
ップ上のパッドをリードフレームの導体(リード)に接
続して導電経路を形成するためには、一般的に、ワイヤ
として金線が使用されている。
なり以前から採用されている技法である。この技法は、
半導体チップをパッケージに封入するのに先立って、そ
の半導体チップ上に形成されている電極部(パッド)
と、その半導体チップをプリント回路板等の外部デバイ
スへ接続するための構造である固定リード構造との間
の、導電経路を形成するための技法である。固定リード
構造としては、リードフレーム等が用いられ、半導体チ
ップ上のパッドをリードフレームの導体(リード)に接
続して導電経路を形成するためには、一般的に、ワイヤ
として金線が使用されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題及び課題を解決するため
の手段】ワイヤ・ボンディングに関する故障が最も多く
発生する箇所は、ワイヤとリードとの間の接続部分であ
る。現在、工業的に採用されている自動ボンディング法
では、そのボンディング法それ自体が完璧なものではな
いために、この接続部分に大量ではないにしても無視し
得ない発生率で接続不良が発生しており、それによって
信頼性上の問題が生じている。更には、ワイヤそれ自体
に付随した問題やボンディングの際の加工条件に付随し
た問題(例えば、ボンディングの際の温度が低過ぎた
り、圧力が低過ぎる等の問題)が、この接続部分に発生
する不良の原因となっていることもあり、また、ワイヤ
とリードとのいずれか一方もしくは両方の表面に汚れが
薄膜状に付着していて、その汚れの薄膜が、ワイヤとリ
ードとの間の接触状態の不良の原因となっていることも
ある。ボンディングの際の温度や圧力等のパラメータを
全て明確に制御し、また、薄膜状の汚れ等を除去するた
めに、綿密な注意が払われてはいるものの、現在までの
ところ、ワイヤとリードとの間の接続部分の故障の発生
は、完全には防止されていない。
の手段】ワイヤ・ボンディングに関する故障が最も多く
発生する箇所は、ワイヤとリードとの間の接続部分であ
る。現在、工業的に採用されている自動ボンディング法
では、そのボンディング法それ自体が完璧なものではな
いために、この接続部分に大量ではないにしても無視し
得ない発生率で接続不良が発生しており、それによって
信頼性上の問題が生じている。更には、ワイヤそれ自体
に付随した問題やボンディングの際の加工条件に付随し
た問題(例えば、ボンディングの際の温度が低過ぎた
り、圧力が低過ぎる等の問題)が、この接続部分に発生
する不良の原因となっていることもあり、また、ワイヤ
とリードとのいずれか一方もしくは両方の表面に汚れが
薄膜状に付着していて、その汚れの薄膜が、ワイヤとリ
ードとの間の接触状態の不良の原因となっていることも
ある。ボンディングの際の温度や圧力等のパラメータを
全て明確に制御し、また、薄膜状の汚れ等を除去するた
めに、綿密な注意が払われてはいるものの、現在までの
ところ、ワイヤとリードとの間の接続部分の故障の発生
は、完全には防止されていない。
【0004】本発明の目的は、半導体チップからボンデ
ィング・ワイヤを介してリードフレームへ至る導電経路
を、容易でしかも再現性のある方式で改良した、半導体
チップ用パッケージを提供することにある。これを達成
するために、各々のボンディング・ワイヤと、そのボン
ディング・ワイヤが接続されているリードフレームのリ
ードとの間の接続部分を改良し、各々のワイヤとそれに
対応した夫々のリードとの間に、追加の接触部分が形成
されるようにしている。ワイヤとリードとの間の本来の
接続部分が破断したり、或いは、その接続部分の近くで
ワイヤが破断した場合でも、この追加の接触部分によっ
て導電経路が確保される。本発明の更なる目的は、機械
的及び電気的性能を改良した、パッケージに封入した半
導体チップを提供することにある。本発明の更なる目的
は、従来の半導体用パッケージと比較してその厚さを大
幅に薄くした半導体用パッケージを提供することにあ
る。本発明の更なる目的は、信頼性を強化した、複数の
半導体チップを封入したパッケージ構造体を提供するこ
とにある。本発明の更なる目的は、複数の半導体チップ
を積層して封入したパッケージ構造体であって、積層し
た半導体チップのうちに故障したものが発見されたとき
にはその積層体を容易に分解できる方式で、それら半導
体チップを積層し得るように、接着剤の塗膜を設けた、
パッケージ構造体を提供することにある。
ィング・ワイヤを介してリードフレームへ至る導電経路
を、容易でしかも再現性のある方式で改良した、半導体
チップ用パッケージを提供することにある。これを達成
するために、各々のボンディング・ワイヤと、そのボン
ディング・ワイヤが接続されているリードフレームのリ
ードとの間の接続部分を改良し、各々のワイヤとそれに
対応した夫々のリードとの間に、追加の接触部分が形成
されるようにしている。ワイヤとリードとの間の本来の
接続部分が破断したり、或いは、その接続部分の近くで
ワイヤが破断した場合でも、この追加の接触部分によっ
て導電経路が確保される。本発明の更なる目的は、機械
的及び電気的性能を改良した、パッケージに封入した半
導体チップを提供することにある。本発明の更なる目的
は、従来の半導体用パッケージと比較してその厚さを大
幅に薄くした半導体用パッケージを提供することにあ
る。本発明の更なる目的は、信頼性を強化した、複数の
半導体チップを封入したパッケージ構造体を提供するこ
とにある。本発明の更なる目的は、複数の半導体チップ
を積層して封入したパッケージ構造体であって、積層し
た半導体チップのうちに故障したものが発見されたとき
にはその積層体を容易に分解できる方式で、それら半導
体チップを積層し得るように、接着剤の塗膜を設けた、
パッケージ構造体を提供することにある。
【0005】本発明の以上の目的並びにその他の目的を
達成するために、本発明では、各々の半導体チップの活
性面(回路形成面)に、絶縁層を重ねて設けるようにし
ている。即ち、複数の入出力用ボンディング・パッドを
形成してある各々の半導体チップの回路形成面に近接し
た位置に、リードフレームの複数本の導体(リード)が
位置するようにし、複数本のボンディング・ワイヤによ
って、半導体チップ上のそれら複数のボンディング・パ
ッドをリードフレームの複数本のリードに夫々接続す
る。上記の絶縁層は、絶縁薄膜に熱硬化性樹脂系接着剤
を塗布したものとし、この絶縁薄膜を、リードフレー
ム、ボンディング・ワイヤ、及び半導体チップの回路形
成面の上に、それら全てを覆うようにして載置する。更
にその際に、この絶縁薄膜の両面のうち、熱硬化性樹脂
系接着剤の層を塗布した側の面が、それらリードフレー
ム、ボンディング・ワイヤ、及び半導体チップの回路形
成面に当接するようにする。この絶縁薄膜に、それを貼
り合わせるための押圧力を加えたときに、ボンディング
・ワイヤの各々が、その押圧力によって押しつぶされ、
そのボンディング・ワイヤが接続されている夫々のボン
ディング・パッド及びリードの表面へ押し付けられる。
これにより、ボンディング・ワイヤとリードとの間の接
触面積が増大し、それらの間の導電性能に関する不良な
いし故障の発生が低減ないし除去される。本発明の以上
の目的、特徴及び利点、並びにその他の目的、特徴及び
利点は、添付図面に即した、本発明の好適実施例に関す
る以下のより詳細な説明から明らかとなる。
達成するために、本発明では、各々の半導体チップの活
性面(回路形成面)に、絶縁層を重ねて設けるようにし
ている。即ち、複数の入出力用ボンディング・パッドを
形成してある各々の半導体チップの回路形成面に近接し
た位置に、リードフレームの複数本の導体(リード)が
位置するようにし、複数本のボンディング・ワイヤによ
って、半導体チップ上のそれら複数のボンディング・パ
ッドをリードフレームの複数本のリードに夫々接続す
る。上記の絶縁層は、絶縁薄膜に熱硬化性樹脂系接着剤
を塗布したものとし、この絶縁薄膜を、リードフレー
ム、ボンディング・ワイヤ、及び半導体チップの回路形
成面の上に、それら全てを覆うようにして載置する。更
にその際に、この絶縁薄膜の両面のうち、熱硬化性樹脂
系接着剤の層を塗布した側の面が、それらリードフレー
ム、ボンディング・ワイヤ、及び半導体チップの回路形
成面に当接するようにする。この絶縁薄膜に、それを貼
り合わせるための押圧力を加えたときに、ボンディング
・ワイヤの各々が、その押圧力によって押しつぶされ、
そのボンディング・ワイヤが接続されている夫々のボン
ディング・パッド及びリードの表面へ押し付けられる。
これにより、ボンディング・ワイヤとリードとの間の接
触面積が増大し、それらの間の導電性能に関する不良な
いし故障の発生が低減ないし除去される。本発明の以上
の目的、特徴及び利点、並びにその他の目的、特徴及び
利点は、添付図面に即した、本発明の好適実施例に関す
る以下のより詳細な説明から明らかとなる。
【0006】
【実施例】図1は本発明の一部分を示した分解斜視図で
あり、同図には、リードフレーム10と、層体11と、
半導体チップ12とが示されている。リードフレーム1
0は金属の薄板ないし箔の素材から製作したものであ
る。このリードフレーム10には、送り移動用の複数の
孔13が列設されており、また、リードフレーム導体
(リードフレームのリード)14が形成されている。リ
ードフレーム10の好適な材質は銅合金である。リード
フレームという用語は、半導体の技術分野においては周
知の用語であり、その意味は明確に定められている。リ
ードフレームの材質、厚さ、及び強度については、当業
界において既に周知となっており、「リードフレーム」
という用語を当業界における用法に従って使用しさえす
れば、然るべきリードフレームを購入することができ
る。本質的には、「リードフレーム」という用語が意味
するのは、好ましくはめっきを施した銅合金である、金
属製の薄板ないし箔の素材から形成した、具体的な用途
に即した機械的強度条件を満足し得る充分な寸法及び強
度を備えた金属製の構造体である。一例として、この種
のリードフレームのうちの1つが「半導体インターナシ
ョナル」誌の1985年4月号に説明されている。本発
明におけるリードフレーム10の具体的な寸法例を示す
ならば、例えば、そのリードフレームの厚さは、0.0
03〜0.015インチ(約0.076〜0.38ミリ
メートル)とし、また、そのリードフレームの各コマを
構成している複数本のリード14の各リードの幅は、
0.006〜0.017インチ(約0.15〜0.43
ミリメートル)とすることができる。リード14は、こ
のような厚さ及び幅のものとすれば、そのリード14を
ソケットの中へ挿入したり、或いははんだ付け等によっ
てプリント回路板に接続する際にも、不都合なく取り扱
うことができる、充分な強度を持ったものとなる。リー
ドフレーム10の、1本のリード14のうち、半導体チ
ップ12の上を延伸している部分は、層体11によっ
て、半導体チップ12に直接接触しないようにしてあ
り、しかも、この層体11を介して半導体チップ12に
接着されている。
あり、同図には、リードフレーム10と、層体11と、
半導体チップ12とが示されている。リードフレーム1
0は金属の薄板ないし箔の素材から製作したものであ
る。このリードフレーム10には、送り移動用の複数の
孔13が列設されており、また、リードフレーム導体
(リードフレームのリード)14が形成されている。リ
ードフレーム10の好適な材質は銅合金である。リード
フレームという用語は、半導体の技術分野においては周
知の用語であり、その意味は明確に定められている。リ
ードフレームの材質、厚さ、及び強度については、当業
界において既に周知となっており、「リードフレーム」
という用語を当業界における用法に従って使用しさえす
れば、然るべきリードフレームを購入することができ
る。本質的には、「リードフレーム」という用語が意味
するのは、好ましくはめっきを施した銅合金である、金
属製の薄板ないし箔の素材から形成した、具体的な用途
に即した機械的強度条件を満足し得る充分な寸法及び強
度を備えた金属製の構造体である。一例として、この種
のリードフレームのうちの1つが「半導体インターナシ
ョナル」誌の1985年4月号に説明されている。本発
明におけるリードフレーム10の具体的な寸法例を示す
ならば、例えば、そのリードフレームの厚さは、0.0
03〜0.015インチ(約0.076〜0.38ミリ
メートル)とし、また、そのリードフレームの各コマを
構成している複数本のリード14の各リードの幅は、
0.006〜0.017インチ(約0.15〜0.43
ミリメートル)とすることができる。リード14は、こ
のような厚さ及び幅のものとすれば、そのリード14を
ソケットの中へ挿入したり、或いははんだ付け等によっ
てプリント回路板に接続する際にも、不都合なく取り扱
うことができる、充分な強度を持ったものとなる。リー
ドフレーム10の、1本のリード14のうち、半導体チ
ップ12の上を延伸している部分は、層体11によっ
て、半導体チップ12に直接接触しないようにしてあ
り、しかも、この層体11を介して半導体チップ12に
接着されている。
【0007】層体11は、175℃以上の温度に耐える
耐熱性を持ち、しかも、ナトリウム(Na)やカリウム
(K)等の強活性金属や、ハロゲン、ないしはリン
(P)等の、イオン化傾向の大きな元素を含まない、ポ
リマー薄膜である。この層体11は例えば、デュポン社
(DuPont De NemoursCompany )がキャプトン(Capto
n)という商標を付して販売している、ポリイミド・フ
ィルムから製作することができる。このポリイミド・フ
ィルムは、その厚さが1.0〜2.0ミル(約25〜5
0マイクロメートル)であり、その中にアルミニウムな
いしは窒化シリコンを添加することによって耐熱性を強
化することができるものである。
耐熱性を持ち、しかも、ナトリウム(Na)やカリウム
(K)等の強活性金属や、ハロゲン、ないしはリン
(P)等の、イオン化傾向の大きな元素を含まない、ポ
リマー薄膜である。この層体11は例えば、デュポン社
(DuPont De NemoursCompany )がキャプトン(Capto
n)という商標を付して販売している、ポリイミド・フ
ィルムから製作することができる。このポリイミド・フ
ィルムは、その厚さが1.0〜2.0ミル(約25〜5
0マイクロメートル)であり、その中にアルミニウムな
いしは窒化シリコンを添加することによって耐熱性を強
化することができるものである。
【0008】層体11の両面には、接着剤を薄膜状に塗
布するようにしており、それによって、この層体11に
接着剤の塗膜11a及び11bを形成している。これら
接着剤の塗膜は、この層体11を、夫々、リードフレー
ム10と、チップ12とに接着するためのものである。
また、層体11それ自体は、リードフレーム10とチッ
プ12との間で短絡が発生しないように、絶縁する機能
を果たしている。層体11の両面に塗布する接着剤の層
(塗膜)の材質(即ち接着剤の種類)を、一方の面と他
方の面とで、互いに異なった材質のものとすることが望
ましいこともあり、その場合には、それら材質を適宜異
ならせるようにすれば良い。例えば、層体11を半導体
チップ12に接着するための接着剤の塗膜11bは、エ
ポキシ系接着剤、アクリル系接着剤、シリコン系接着
剤、及びポリイミド系接着剤から成る材質群のうちから
選択したものとすることができ、これらのうちではエポ
キシ系接着剤が好適な材質である。また、他方の、リー
ドフレームのリード14を層体11に接着するための接
着剤の塗膜11aも、同一の材質群のうちから選択した
ものとすることができ、ただし、この塗膜11aの好適
な材質は、エポキシ系接着剤、アクリル系接着剤、ない
しはフェノール類を含有するポリイミド系接着剤であ
る。接着剤の層11a及び11bに用いるのに適した材
質として、アリゾナ州、チャンドラーに所在のロジャー
ズ社(Rogers Corporation)が、ロジャーズ8970
(Rogers 8970)という商標を付して販売している接着
剤がある。
布するようにしており、それによって、この層体11に
接着剤の塗膜11a及び11bを形成している。これら
接着剤の塗膜は、この層体11を、夫々、リードフレー
ム10と、チップ12とに接着するためのものである。
また、層体11それ自体は、リードフレーム10とチッ
プ12との間で短絡が発生しないように、絶縁する機能
を果たしている。層体11の両面に塗布する接着剤の層
(塗膜)の材質(即ち接着剤の種類)を、一方の面と他
方の面とで、互いに異なった材質のものとすることが望
ましいこともあり、その場合には、それら材質を適宜異
ならせるようにすれば良い。例えば、層体11を半導体
チップ12に接着するための接着剤の塗膜11bは、エ
ポキシ系接着剤、アクリル系接着剤、シリコン系接着
剤、及びポリイミド系接着剤から成る材質群のうちから
選択したものとすることができ、これらのうちではエポ
キシ系接着剤が好適な材質である。また、他方の、リー
ドフレームのリード14を層体11に接着するための接
着剤の塗膜11aも、同一の材質群のうちから選択した
ものとすることができ、ただし、この塗膜11aの好適
な材質は、エポキシ系接着剤、アクリル系接着剤、ない
しはフェノール類を含有するポリイミド系接着剤であ
る。接着剤の層11a及び11bに用いるのに適した材
質として、アリゾナ州、チャンドラーに所在のロジャー
ズ社(Rogers Corporation)が、ロジャーズ8970
(Rogers 8970)という商標を付して販売している接着
剤がある。
【0009】図2は、図1のリードフレームのリード1
4を、以上に説明した絶縁用の層体11を介して半導体
チップ12に取り付けた状態を示した図である。この図
2の状態では、リードフレームの全体のうち、送り移動
用の孔13を形成した側縁部は既にリード14から切り
離されており、また、リード14は、当業界において周
知の技法を用いて屈曲成形されている。図2において、
夫々のリード14は、その両端部のうち、半導体チップ
12の表面の上に位置している方の端部が、金線16に
よって半導体チップ12上のパッド15に接続されてい
る。即ち、金線16は、チップ上のパッド15と、リー
ド14のこの端部とに接続されている。尚、図1に示し
た構成では、薄膜状の層体11の両面に接着剤を塗布し
て塗膜を形成したものを絶縁層として使用しているが、
このような絶縁層に替えて、上に列挙した数種類の材質
の接着剤のうちの1つだけから成る層体としても良く、
ただしそうするためには、その接着剤の層体が、充分に
濃密なものであるか、或いは、充分な厚さを持ったもの
であるようにして、リードフレームのリードを、チップ
の表面から絶縁できるようにしておく必要がある。更
に、そのような単層の接着剤層から成る絶縁層とした場
合には、その接着剤層を、リードフレームのリードの表
面に塗布形成したり、或いは、チップの上面、即ち、そ
のチップの両面のうち、そのチップの電極部(パッド)
を形成してある方の面に、塗布形成するようにしても良
く、そうすれば、チップ表面とリードとの間に短絡が発
生する可能性を、事実上皆無にすることができる。
4を、以上に説明した絶縁用の層体11を介して半導体
チップ12に取り付けた状態を示した図である。この図
2の状態では、リードフレームの全体のうち、送り移動
用の孔13を形成した側縁部は既にリード14から切り
離されており、また、リード14は、当業界において周
知の技法を用いて屈曲成形されている。図2において、
夫々のリード14は、その両端部のうち、半導体チップ
12の表面の上に位置している方の端部が、金線16に
よって半導体チップ12上のパッド15に接続されてい
る。即ち、金線16は、チップ上のパッド15と、リー
ド14のこの端部とに接続されている。尚、図1に示し
た構成では、薄膜状の層体11の両面に接着剤を塗布し
て塗膜を形成したものを絶縁層として使用しているが、
このような絶縁層に替えて、上に列挙した数種類の材質
の接着剤のうちの1つだけから成る層体としても良く、
ただしそうするためには、その接着剤の層体が、充分に
濃密なものであるか、或いは、充分な厚さを持ったもの
であるようにして、リードフレームのリードを、チップ
の表面から絶縁できるようにしておく必要がある。更
に、そのような単層の接着剤層から成る絶縁層とした場
合には、その接着剤層を、リードフレームのリードの表
面に塗布形成したり、或いは、チップの上面、即ち、そ
のチップの両面のうち、そのチップの電極部(パッド)
を形成してある方の面に、塗布形成するようにしても良
く、そうすれば、チップ表面とリードとの間に短絡が発
生する可能性を、事実上皆無にすることができる。
【0010】複数本のリード14をチップ12の面上に
適切に取り付け、更に、所定のリード14の先端を、チ
ップ12の上の所定の電極部(パッド)15に、ボンデ
ィング・ワイヤ16で接続したならば、次に、キャプト
ン等のポリイミド系樹脂製の薄膜18の一面に、B段階
にある熱硬化性樹脂系接着剤から成る層体17を塗布形
成する。この接着剤を塗布した薄膜18を、リードフレ
ームの複数本のリード14の上に、しかも、半導体チッ
プ12と重なる部分に、それらを覆うようにして載置す
る。本発明に適した、この層体(塗膜)17に用いる接
着剤の1つに、前述のデュポン社が、パイララックス
(Pyralux )という商標を付して販売しているアクリル
系接着剤がある。また、この接着剤の層体17の厚さ
は、3〜10ミル(約0.075〜0.25ミリメート
ル)とするのが好ましい。ここでは、この接着剤を塗布
した薄膜18は、その寸法を、それが覆う半導体チップ
12の寸法と同一に揃えてあり、それを、その半導体チ
ップ12に対して位置合せして重ね合わせるようにして
いる。そして、この薄膜18を半導体チップ12の上に
適切に位置合せして重ね合わせたならば、高温にした押
圧部材(不図示)によって、その薄膜18に対して押圧
力を加えると共に熱を加え、それによって、その薄膜1
8に塗布してある接着剤17を軟化ないし溶融させ、そ
の軟化ないし溶融させた接着剤を、リードフレームの複
数本のリード14どうしの間、並びにワイヤ16の周囲
へ流動させる。押圧部材から薄膜18へ加える押圧力の
大きさは、単に、軟化ないし溶融させた接着剤17を、
リード14どうしの間へ流動させることができるだけの
大きさでは不充分であり、それと共に、各々のワイヤ1
6を押しつぶして、そのワイヤを、そのワイヤが接続さ
れている夫々のパッド及びリードの表面へ押し付けるこ
とができるだけの、充分な大きさにしておかねばならな
い。
適切に取り付け、更に、所定のリード14の先端を、チ
ップ12の上の所定の電極部(パッド)15に、ボンデ
ィング・ワイヤ16で接続したならば、次に、キャプト
ン等のポリイミド系樹脂製の薄膜18の一面に、B段階
にある熱硬化性樹脂系接着剤から成る層体17を塗布形
成する。この接着剤を塗布した薄膜18を、リードフレ
ームの複数本のリード14の上に、しかも、半導体チッ
プ12と重なる部分に、それらを覆うようにして載置す
る。本発明に適した、この層体(塗膜)17に用いる接
着剤の1つに、前述のデュポン社が、パイララックス
(Pyralux )という商標を付して販売しているアクリル
系接着剤がある。また、この接着剤の層体17の厚さ
は、3〜10ミル(約0.075〜0.25ミリメート
ル)とするのが好ましい。ここでは、この接着剤を塗布
した薄膜18は、その寸法を、それが覆う半導体チップ
12の寸法と同一に揃えてあり、それを、その半導体チ
ップ12に対して位置合せして重ね合わせるようにして
いる。そして、この薄膜18を半導体チップ12の上に
適切に位置合せして重ね合わせたならば、高温にした押
圧部材(不図示)によって、その薄膜18に対して押圧
力を加えると共に熱を加え、それによって、その薄膜1
8に塗布してある接着剤17を軟化ないし溶融させ、そ
の軟化ないし溶融させた接着剤を、リードフレームの複
数本のリード14どうしの間、並びにワイヤ16の周囲
へ流動させる。押圧部材から薄膜18へ加える押圧力の
大きさは、単に、軟化ないし溶融させた接着剤17を、
リード14どうしの間へ流動させることができるだけの
大きさでは不充分であり、それと共に、各々のワイヤ1
6を押しつぶして、そのワイヤを、そのワイヤが接続さ
れている夫々のパッド及びリードの表面へ押し付けるこ
とができるだけの、充分な大きさにしておかねばならな
い。
【0011】平均的な、厚さが30ミル(約0.75ミ
リメートル)の半導体デバイスの場合には、押圧部材か
ら薄膜18へ加える押圧力の大きさは、例えば、約10
グラム/平方インチ(約1.6グラム/平方センチメー
トル)とするのが良く、また押圧部材の温度は、薄膜1
8を150℃に加熱するのに充分な温度にするのが良
い。この工程における要点は、接着剤を塗布した薄膜1
8が、チップに密着した状態を、押圧力と高温との両方
を加えたままで、約22秒間に亙って維持することであ
る。ワイヤ16を押しつぶし、接着剤17をワイヤ16
の周囲へ流動させたならば、次に、その接着剤17を完
全に硬化させるようにし、それには、チップと薄膜18
とから成るそのアセンブリを加熱炉の中へ入れ、150
℃で約1時間加熱すれば良い。
リメートル)の半導体デバイスの場合には、押圧部材か
ら薄膜18へ加える押圧力の大きさは、例えば、約10
グラム/平方インチ(約1.6グラム/平方センチメー
トル)とするのが良く、また押圧部材の温度は、薄膜1
8を150℃に加熱するのに充分な温度にするのが良
い。この工程における要点は、接着剤を塗布した薄膜1
8が、チップに密着した状態を、押圧力と高温との両方
を加えたままで、約22秒間に亙って維持することであ
る。ワイヤ16を押しつぶし、接着剤17をワイヤ16
の周囲へ流動させたならば、次に、その接着剤17を完
全に硬化させるようにし、それには、チップと薄膜18
とから成るそのアセンブリを加熱炉の中へ入れ、150
℃で約1時間加熱すれば良い。
【0012】図3及び図4に示すように、各々のワイヤ
16は、加えられる押圧力のために押しつぶされて、そ
のワイヤ16が接続されているリードフレームのリード
14及び半導体チップのパッドの、夫々の上面へ押し付
けられる。また層体17は、熱に反応して一旦軟化する
ため、図4に示すように、リードフレームの複数本のリ
ード14どうしの間へ流動し、最終的に、接着剤の層1
1aに密着する。ワイヤ16が押しつぶされたときに、
そのワイヤ16がボンディング・パッドの表面へ押し付
けられることによって、それらの間に、信頼性の高い、
追加の電気的接続部が形成され、また、そのワイヤ16
がリード14の表面へ押し付けられることによって、そ
れらの間に、信頼性の高い、追加の電気的接続部が形成
される。従って、この工程に先立って形成されたワイヤ
とそれらとの間の元の接続部が、その初期の状態におい
て既にやや不良、ないしは完全な不良状態にあった場合
でも、このようにして良好な接続状態を得ることができ
るのである。また特に、押圧力を加えることによって、
ワイヤの表面とリードフレームのリードの表面との間
に、かなり広い面積の良好な電気的接触部が形成される
ようにしているため、これまでその存在が知られていた
多くの欠陥の除去が可能になっている。また、これによ
って最終製品の信頼性も向上する。
16は、加えられる押圧力のために押しつぶされて、そ
のワイヤ16が接続されているリードフレームのリード
14及び半導体チップのパッドの、夫々の上面へ押し付
けられる。また層体17は、熱に反応して一旦軟化する
ため、図4に示すように、リードフレームの複数本のリ
ード14どうしの間へ流動し、最終的に、接着剤の層1
1aに密着する。ワイヤ16が押しつぶされたときに、
そのワイヤ16がボンディング・パッドの表面へ押し付
けられることによって、それらの間に、信頼性の高い、
追加の電気的接続部が形成され、また、そのワイヤ16
がリード14の表面へ押し付けられることによって、そ
れらの間に、信頼性の高い、追加の電気的接続部が形成
される。従って、この工程に先立って形成されたワイヤ
とそれらとの間の元の接続部が、その初期の状態におい
て既にやや不良、ないしは完全な不良状態にあった場合
でも、このようにして良好な接続状態を得ることができ
るのである。また特に、押圧力を加えることによって、
ワイヤの表面とリードフレームのリードの表面との間
に、かなり広い面積の良好な電気的接触部が形成される
ようにしているため、これまでその存在が知られていた
多くの欠陥の除去が可能になっている。また、これによ
って最終製品の信頼性も向上する。
【0013】以上に説明したデバイスは、特に、積層し
てチップ・キューブを構成するのに適したものであり、
その理由は、そのパッケージの寸法を小さくでき、且
つ、高い信頼性を得ることができるからである。
てチップ・キューブを構成するのに適したものであり、
その理由は、そのパッケージの寸法を小さくでき、且
つ、高い信頼性を得ることができるからである。
【0014】図5に示したのは、本発明の構成例のう
ち、リードをチップの一方の側にのみ延出させることに
よって、積層してチップ・キューブを構成するのに、更
に適するようにした構成例である。ただし、容易に理解
されるように、この図5の構成例は、本発明者が本願に
おける好適構成例であると考えているものではあるが、
図1及び図2に示した、チップの両側にリードを延出さ
せた構成でも、積層させることが可能であることはいう
までもない。
ち、リードをチップの一方の側にのみ延出させることに
よって、積層してチップ・キューブを構成するのに、更
に適するようにした構成例である。ただし、容易に理解
されるように、この図5の構成例は、本発明者が本願に
おける好適構成例であると考えているものではあるが、
図1及び図2に示した、チップの両側にリードを延出さ
せた構成でも、積層させることが可能であることはいう
までもない。
【0015】図5は、複数本の導体(リード)51から
成るリードフレーム50を示している。それら複数本の
リード51は、全てチップ52に取り付けてあり、そし
てこのチップ52のパッケージから、一方の側のみへ延
出している。チップ52には複数のチップ・パッド53
を形成してあり、それらチップ・パッド53は、略々こ
のチップ52の中央部に沿って配置されている。容易に
理解されるように、パッドの配置はこれに限られるもの
ではなく、例えば図2に示したように、チップの辺縁部
にパッドを設けるようにしても良い。夫々の所定のチッ
プ・パッド53と、夫々の所定のリード51との間を、
複数本のボンディング・ワイヤ54で接続してある。図
示の如く、複数本のリード51のうちの1本のリード5
1aは、略々U字形に形成されており、このリード51
aは、その一部分が、その他のリード51に対して横方
向に、しかも、それらリード51の内端部とチップ・パ
ッド53の形成領域との間を延伸している。更にこの図
から分るように、略々L字形に形成した、もう1本のリ
ード51bが、チップ・パッド53の形成領域を間に挟
んで、リード51aのコントロール部分(横方向延伸部
分)と反対の側に配置されている。ボンディング・ワイ
ヤ54は、トップ・フィルム(即ち、図2、図3、及び
図4に示した前述の接着剤の層体17)をその上に重ね
合わせて押圧したときに下方へ押しつぶされるため、リ
ード51aは、その所定の部分については、層体55に
よってチップから絶縁するだけでなく、更に、その上面
も絶縁しておく必要がある。ここで所定の部分に該当す
るのは、図5の中にハッチングで表示した複数の部分5
6であり、それら部分56は、複数本のリード51と、
それらリード51に対応した夫々のチップ・パッド53
とを接続している夫々のワイヤ54の直下の部分、即
ち、それらワイヤ54が上をまたいでいる部分である。
それら部分56を絶縁するための絶縁材料は、任意の種
類の適当なポリマーとすることができ、例えば、ハイゾ
ル−SR1020(Hysol SR1020)という商標を付して
販売されているポリマー等を用いることができる。この
ポリマー材料はシルクスクリーン法によって塗布するこ
とができるため、リード51aをチップに取り付けた後
に、そのリード51aにシルクスクリーン法で塗布する
という方法を用いることができる。また、このポリマー
材料は、転写法によって塗布することも可能なものであ
る。所定部分56を絶縁するための絶縁材料としては更
に、図1及び図2に関して上で説明した層体11の材質
と、同一の材質のものを使用することもでき、また、そ
の絶縁材料をリード51aの横方向延伸部分に塗布ない
し付着させる方法も、当業界において周知の多くの適当
な方法のうちの、任意の方法を用いることができる。ま
た、以上とは異なった絶縁の仕方として、ワイヤを絶縁
材料で被覆するという方法もある。
成るリードフレーム50を示している。それら複数本の
リード51は、全てチップ52に取り付けてあり、そし
てこのチップ52のパッケージから、一方の側のみへ延
出している。チップ52には複数のチップ・パッド53
を形成してあり、それらチップ・パッド53は、略々こ
のチップ52の中央部に沿って配置されている。容易に
理解されるように、パッドの配置はこれに限られるもの
ではなく、例えば図2に示したように、チップの辺縁部
にパッドを設けるようにしても良い。夫々の所定のチッ
プ・パッド53と、夫々の所定のリード51との間を、
複数本のボンディング・ワイヤ54で接続してある。図
示の如く、複数本のリード51のうちの1本のリード5
1aは、略々U字形に形成されており、このリード51
aは、その一部分が、その他のリード51に対して横方
向に、しかも、それらリード51の内端部とチップ・パ
ッド53の形成領域との間を延伸している。更にこの図
から分るように、略々L字形に形成した、もう1本のリ
ード51bが、チップ・パッド53の形成領域を間に挟
んで、リード51aのコントロール部分(横方向延伸部
分)と反対の側に配置されている。ボンディング・ワイ
ヤ54は、トップ・フィルム(即ち、図2、図3、及び
図4に示した前述の接着剤の層体17)をその上に重ね
合わせて押圧したときに下方へ押しつぶされるため、リ
ード51aは、その所定の部分については、層体55に
よってチップから絶縁するだけでなく、更に、その上面
も絶縁しておく必要がある。ここで所定の部分に該当す
るのは、図5の中にハッチングで表示した複数の部分5
6であり、それら部分56は、複数本のリード51と、
それらリード51に対応した夫々のチップ・パッド53
とを接続している夫々のワイヤ54の直下の部分、即
ち、それらワイヤ54が上をまたいでいる部分である。
それら部分56を絶縁するための絶縁材料は、任意の種
類の適当なポリマーとすることができ、例えば、ハイゾ
ル−SR1020(Hysol SR1020)という商標を付して
販売されているポリマー等を用いることができる。この
ポリマー材料はシルクスクリーン法によって塗布するこ
とができるため、リード51aをチップに取り付けた後
に、そのリード51aにシルクスクリーン法で塗布する
という方法を用いることができる。また、このポリマー
材料は、転写法によって塗布することも可能なものであ
る。所定部分56を絶縁するための絶縁材料としては更
に、図1及び図2に関して上で説明した層体11の材質
と、同一の材質のものを使用することもでき、また、そ
の絶縁材料をリード51aの横方向延伸部分に塗布ない
し付着させる方法も、当業界において周知の多くの適当
な方法のうちの、任意の方法を用いることができる。ま
た、以上とは異なった絶縁の仕方として、ワイヤを絶縁
材料で被覆するという方法もある。
【0016】複数のチップ・パッドと、それらチップ・
パッドに対応した夫々のリードとの間をワイヤでボンデ
ィングしたならば、キャプトン等から形成した薄膜57
を、図6に示すように、また図1〜図4に関して先に説
明したのと同様にして、ワイヤ及びリードを覆うように
して、それらワイヤ及びリードの上に載置する。
パッドに対応した夫々のリードとの間をワイヤでボンデ
ィングしたならば、キャプトン等から形成した薄膜57
を、図6に示すように、また図1〜図4に関して先に説
明したのと同様にして、ワイヤ及びリードを覆うように
して、それらワイヤ及びリードの上に載置する。
【0017】図6は、図5に示した一側方にのみリード
を延出させた形式のチップ用パッケージ52を複数個積
層した、積層構造を示したものである。この積層構造を
構成するために、薄膜57には更に、熱可塑性ポリイミ
ド系接着剤(例えばスリーエム社(3M Company)がスコ
ッチ・ブランド586(Scotch Brand 586)という商標
を付して販売している接着剤等)から成る接着剤層58
を、重ねて形成してある。即ち、薄膜57の上面に接着
剤層58を設けてあるため、各々のパッケージを、その
パッケージのすぐ上のパッケージに封入されているチッ
プ52の、露出している底面へ、その接着剤層58によ
って接着して接合し得るようになっている。
を延出させた形式のチップ用パッケージ52を複数個積
層した、積層構造を示したものである。この積層構造を
構成するために、薄膜57には更に、熱可塑性ポリイミ
ド系接着剤(例えばスリーエム社(3M Company)がスコ
ッチ・ブランド586(Scotch Brand 586)という商標
を付して販売している接着剤等)から成る接着剤層58
を、重ねて形成してある。即ち、薄膜57の上面に接着
剤層58を設けてあるため、各々のパッケージを、その
パッケージのすぐ上のパッケージに封入されているチッ
プ52の、露出している底面へ、その接着剤層58によ
って接着して接合し得るようになっている。
【0018】このように、薄膜57の上面に接着剤層5
8を設けてあるため、パッケージどうしを接合して、図
6に示す積層構造を構成することができる。即ち、図6
に示すように、パッケージ52の薄膜57の上に設けた
接着剤層58を、このパッケージ52のすぐ上のパッケ
ージ52aに封入されているチップの、その露出した底
面に重ね合わせて密着させることによって、1つのパッ
ケージ52をそのすぐ上のパッケージ52aに固定する
ことができるのである。
8を設けてあるため、パッケージどうしを接合して、図
6に示す積層構造を構成することができる。即ち、図6
に示すように、パッケージ52の薄膜57の上に設けた
接着剤層58を、このパッケージ52のすぐ上のパッケ
ージ52aに封入されているチップの、その露出した底
面に重ね合わせて密着させることによって、1つのパッ
ケージ52をそのすぐ上のパッケージ52aに固定する
ことができるのである。
【0019】接着剤層58を形成している接着剤は、熱
可塑性樹脂系接着剤であるため、積層体を構成する際に
は、加熱工程が必要である。即ち、その加熱工程によっ
て、薄膜57上に形成してある接着剤層58を、その接
着剤層58をが密着している半導体チップの底面に、即
ち、積層体の中のすぐ上に位置しているパッケージに封
入されている半導体チップの、その露出した底面に、接
着させて固着させる。本実施例においては、この加熱工
程における加熱温度を約230℃としている。この温度
は、積層したチップに使用している材料のうち、この接
着剤層58の接着剤以外の、いかなる材料の溶融点ない
し軟化点よりも低い温度である。この加熱工程によっ
て、1つのパッケージ52の薄膜57が、そのすぐ上の
パッケージ52aに封入されているチップの底面に、接
着剤層58によって接着されて接合される。尚、この方
式によれば、任意の個数のチップから成る積層体を組立
てることができる。
可塑性樹脂系接着剤であるため、積層体を構成する際に
は、加熱工程が必要である。即ち、その加熱工程によっ
て、薄膜57上に形成してある接着剤層58を、その接
着剤層58をが密着している半導体チップの底面に、即
ち、積層体の中のすぐ上に位置しているパッケージに封
入されている半導体チップの、その露出した底面に、接
着させて固着させる。本実施例においては、この加熱工
程における加熱温度を約230℃としている。この温度
は、積層したチップに使用している材料のうち、この接
着剤層58の接着剤以外の、いかなる材料の溶融点ない
し軟化点よりも低い温度である。この加熱工程によっ
て、1つのパッケージ52の薄膜57が、そのすぐ上の
パッケージ52aに封入されているチップの底面に、接
着剤層58によって接着されて接合される。尚、この方
式によれば、任意の個数のチップから成る積層体を組立
てることができる。
【0020】以上のようにしてチップの積層体を組立て
たならば、その積層体を試験した上で使用に供するよう
にすれば良い。もし、その試験の結果、或いはその後の
使用中に、1つの積層体の中の、1つないし幾つかのチ
ップに故障が発見された場合には、その積層体を分解す
れば良い。この分解を行なうには、積層体を210℃に
加熱すれば良く、この温度に加熱すれば、接着剤層58
を、それが接着していた半導体チップの底面から容易に
剥すことができる。しかもこの温度では、この接着剤層
58は、その反対側の面で接着しているキャプトン製の
薄膜57からは剥れない。この作業手順によって、その
積層体を分解して、個々のパッケージに分離することが
できる。
たならば、その積層体を試験した上で使用に供するよう
にすれば良い。もし、その試験の結果、或いはその後の
使用中に、1つの積層体の中の、1つないし幾つかのチ
ップに故障が発見された場合には、その積層体を分解す
れば良い。この分解を行なうには、積層体を210℃に
加熱すれば良く、この温度に加熱すれば、接着剤層58
を、それが接着していた半導体チップの底面から容易に
剥すことができる。しかもこの温度では、この接着剤層
58は、その反対側の面で接着しているキャプトン製の
薄膜57からは剥れない。この作業手順によって、その
積層体を分解して、個々のパッケージに分離することが
できる。
【0021】積層体を個々のパッケージへ分離したなら
ば、必要に応じてパッケージの交換を行った上で、元の
積層体を再組立てしても良く、また、分離した個々のパ
ッケージを使用して、元の積層体とは異なった積層体
を、新たに組立てることもできる。これらの再組立てな
いし新たな組立てを行なう際には、上で説明したと同様
にして、再び積層体を230℃に加熱すれば良い。
ば、必要に応じてパッケージの交換を行った上で、元の
積層体を再組立てしても良く、また、分離した個々のパ
ッケージを使用して、元の積層体とは異なった積層体
を、新たに組立てることもできる。これらの再組立てな
いし新たな組立てを行なう際には、上で説明したと同様
にして、再び積層体を230℃に加熱すれば良い。
【0022】以上、本発明の好適実施例について説明し
た。ただし、当業者であれば、以上の説明を読了した後
には、本発明の概念並びに範疇から逸脱することなく、
更なる別実施例ないし変更実施例にも容易に想到し得る
ことは明らかであり、それら別実施例ないし変更実施例
もまた本発明の範囲に包含されるものである。
た。ただし、当業者であれば、以上の説明を読了した後
には、本発明の概念並びに範疇から逸脱することなく、
更なる別実施例ないし変更実施例にも容易に想到し得る
ことは明らかであり、それら別実施例ないし変更実施例
もまた本発明の範囲に包含されるものである。
【図1】本発明に用いる、ワイヤ・ボンディングによっ
て接続するように構成した半導体チップとリードフレー
ムとを示した、半導体用パッケージの一部分の分解斜視
図である。
て接続するように構成した半導体チップとリードフレー
ムとを示した、半導体用パッケージの一部分の分解斜視
図である。
【図2】図1の半導体チップの回路形成面に、図1のリ
ードフレームの複数本のリードを取り付け、その半導体
チップに形成した夫々のパッドと、それらパッドに対応
した夫々のリードとを、複数本のボンディング・ワイヤ
によって接続した、半導体チップと、それらリードの表
面、それらボンディング・ワイヤ、及びその半導体チッ
プの表面を覆うように重ね合わせるための、本発明に係
る、接着剤を塗布した絶縁薄膜と示した、斜視図であ
る。
ードフレームの複数本のリードを取り付け、その半導体
チップに形成した夫々のパッドと、それらパッドに対応
した夫々のリードとを、複数本のボンディング・ワイヤ
によって接続した、半導体チップと、それらリードの表
面、それらボンディング・ワイヤ、及びその半導体チッ
プの表面を覆うように重ね合わせるための、本発明に係
る、接着剤を塗布した絶縁薄膜と示した、斜視図であ
る。
【図3】図2の接着剤を塗布した絶縁被膜を、図2の半
導体チップの上に重ね合わせて押圧した後の、その半導
体チップの断面図である。
導体チップの上に重ね合わせて押圧した後の、その半導
体チップの断面図である。
【図4】図2の接着剤を塗布した絶縁被膜を、図2の半
導体チップの回路形成面の上に重ねて合わせて押圧した
後の、その絶縁被膜を示す、図3の断面図の切断面とは
直交する切断面に沿った断面図である。
導体チップの回路形成面の上に重ねて合わせて押圧した
後の、その絶縁被膜を示す、図3の断面図の切断面とは
直交する切断面に沿った断面図である。
【図5】全てのリードが半導体チップの一方の側にのみ
延出する構成としたリードフレームを使用した、本発明
に係る、別構成例の半導体用パッケージを示した上面図
である。
延出する構成としたリードフレームを使用した、本発明
に係る、別構成例の半導体用パッケージを示した上面図
である。
【図6】図5に示した半導体用パッケージを本発明に従
って複数個積層して、積層体、即ちキューブ形の構成と
した、アセンブリの図である。
って複数個積層して、積層体、即ちキューブ形の構成と
した、アセンブリの図である。
10 リードフレーム 11 絶縁層 11a、11b 接着剤の塗膜 12 半導体チップ 14 リード 15 ボンディング・パッド 16 ボンディング・ワイヤ 17 接着剤層 18 薄膜 50 リードフレーム 51、51a、51b リード 52、52a 半導体チップ 53 ボンディング・パッド 54 ボンディング・ワイヤ 57 薄膜 58 接着剤層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ゲーリー・ヒュー・アイリシュ アメリカ合衆国05456、バーモント州 ジ ェリコ、アール・ディー 2、ボックス 212エイ (72)発明者 フランシス・ジョセフ・パクルスキ アメリカ合衆国05482、バーモント州 シ ェルバーン、スピアー・ストリート 2109 番地 (72)発明者 ウィリアム・ジョン・スラッテリー アメリカ合衆国05452、バーモント州 エ セックス・ジャンクション、ベイル・ドラ イブ 13番地 (72)発明者 スティーブン・ジョージ・スター アメリカ合衆国05452、バーモント州 エ セックス・ジャンクション、フォスター・ ロード 53番地 (72)発明者 ウィリアム・キャロル・ワード アメリカ合衆国05401−1518、バーモント 州 バーリントン、バイロデュー・コート 28番地
Claims (11)
- 【請求項1】 半導体用パッケージの製作方法におい
て、 第1面と第2面とを有し前記第1面に複数の入出力用ボ
ンディング・パッドを設けた半導体チップを用意し、 前記半導体チップに近接して位置させる複数本のリード
を有するリードフレームを用意し、 複数本の導電用ボンディング・ワイヤによって、前記複
数本のリードと前記半導体チップ上の前記複数のボンデ
ィング・パッドとの間で、互いに対応するリードとボン
ディング・パッドとを夫々接続し、 熱硬化性樹脂系接着剤を塗布した絶縁薄膜を、その接着
剤を塗布した面が前記リードフレーム及び前記複数本の
ボンディング・ワイヤに接触するようにして、前記リー
ドフレーム、前記半導体チップの前記第1面、並びに前
記複数本のボンディング・ワイヤを覆うように重ねて載
置し、 前記絶縁薄膜に押圧力を加え、この押圧力の大きさは、
前記複数本のボンディング・ワイヤの各々を、そのボン
ディング・ワイヤが接続されている夫々のボンディング
・パッド及びリードの表面へ押し付けるのに充分な大き
さであって、しかも、前記熱硬化性樹脂系接着剤の塗膜
を前記複数本のリードどうしの間へ流動させるのに充分
な大きさであるようにし、更に、 前記半導体チップを加熱して前記熱硬化性樹脂系接着剤
を硬化させる、 ことを特徴とする方法。 - 【請求項2】 複数の半導体チップ用パッケージを積層
したパッケージ積層体の製作方法において、 複数の半導体チップ用パッケージの各々を、 複数の入出力用ボンディング・パッドを設けた第1面を
有し、且つ、第2面を有する、半導体チップを用意し、 前記半導体チップに近接して位置させる複数本のリード
を有するリードフレームを用意し、 複数本のボンディング・ワイヤによって、前記複数本の
リードと前記半導体チップの前記第1面上の前記複数の
ボンディング・パッドとの間で、各々のリードをそのリ
ードに対応したボンディング・パッドに夫々接続し、 熱硬化性樹脂被膜を選定し、該被膜を前記リードフレー
ム及び前記複数本のボンディング・ワイヤの上に重ねて
載置し、 前記被膜に押圧力を加え、この押圧力の大きさは、前記
複数本のボンディング・ワイヤの各々を、そのボンディ
ング・ワイヤが接続されている夫々のボンディング・パ
ッド及びリードの表面へ押し付けるのに充分な大きさで
あって、しかも、該被膜を前記リードフレームの前記複
数本のリードどうしの間へ流動させるのに充分な大きさ
であるようにし、更に、 前記被膜を加熱して該被膜を硬化させる、 ことによって製作し、 以上のようにして製作した複数の半導体チップ用パッケ
ージの各々において、前記被膜の第2面に接着剤を塗布
し、 前記接着剤の塗布処理を完了した複数の半導体チップ用
パッケージを、互いの位置を合わせて重ね合わせ、その
際に、1つの半導体チップ用パッケージの前記被膜の接
着剤を塗布した前記第2面が、その半導体チップ用パッ
ケージに隣接した半導体チップ用パッケージに封入され
ている半導体チップの前記第2面に当接するようにし、 こうして重ね合わせた複数の半導体チップ用パッケージ
を加熱して、各々の半導体チップ用パッケージの前記被
膜に塗布した前記接着剤を、その半導体チップ用パッケ
ージに隣接した半導体チップ用パッケージに封入されて
いる半導体チップの前記第2面に接着させる、 ことを特徴とする方法。 - 【請求項3】 前記被膜の前記第2面に塗布する前記接
着剤を、熱可塑性ポリイミド系接着剤とすることを特徴
とする請求項2の方法。 - 【請求項4】 重ね合わせた複数の半導体チップ用パッ
ケージを加熱する際の温度を約230℃とし、且つ、こ
の方法が更に、重ね合わせた複数の半導体チップ用パッ
ケージを加熱して形成したパッケージ積層体を、約21
0℃まで加熱することによって、該積層体を分解して複
数の半導体チップ用パッケージとし、それら複数の半導
体チップ用パッケージのうちの少なくとも1つを除去
し、残りの半導体チップ用パッケージを含む複数の半導
体チップ用パッケージを再び重ね合わせて再積層体と
し、再積層したそれら複数の半導体チップ用パッケージ
を、約230℃に加熱して互いに接着させる工程を含ん
でいることを特徴とする請求項2の方法。 - 【請求項5】 半導体用パッケージの製作方法におい
て、 一面に複数の入出力用ボンディング・パッドを備えた半
導体チップの、そのボンディング・パッドを備えた面
に、絶縁層を止着し、 前記絶縁層上に、複数本のリードを有するリードフレー
ムを止着し、 複数本の導電用ボンディング・ワイヤによって、前記複
数本のリードと前記半導体チップ上の前記複数のボンデ
ィング・パッドとの間で、互いに対応するリードとボン
ディング・パッドとを夫々接続し、 一面に熱硬化性樹脂系接着剤を塗布した絶縁薄膜を、そ
の接着剤を塗布した面が前記リードフレーム及び前記複
数本のボンディング・ワイヤに接触するようにして、そ
れらリードフレーム及び複数本のボンディング・ワイヤ
を覆うように重ねて載置し、 前記絶縁薄膜に押圧力を加え、この押圧力の大きさは、
前記熱硬化性樹脂系接着剤の塗膜を前記複数本のリード
どうしの間へ流動させるのに充分な大きさであって、し
かも、前記複数本のボンディング・ワイヤの各々を、そ
のボンディング・ワイヤが接続されている夫々のボンデ
ィング・パッド及びリードの表面へ押し付けるのに充分
な大きさであるようにし、更に、 前記絶縁薄膜を加熱して前記熱硬化性樹脂系接着剤の塗
膜を硬化させる、 ことを特徴とする方法。 - 【請求項6】 複数の半導体チップ用パッケージを積層
したパッケージ積層体の製作方法において、 複数の半導体チップ用パッケージの各々を、 複数の入出力用ボンディング・パッドを設けた第1面を
有し、且つ、第2面を有する、半導体チップを選択し、 前記半導体チップの前記第1面上に絶縁層を載置し、 前記絶縁層上に、複数本のリードを有するリードフレー
ムを止着し、 複数本のボンディング・ワイヤによって、前記複数本の
リードと前記半導体チップの前記第1面上の前記複数の
ボンディング・パッドとの間で、各々のリードをそのリ
ードに対応したボンディング・パッドに夫々接続し、 第1面と第2面とを有する絶縁薄膜を選定し、該絶縁薄
膜の前記第1面に熱硬化性樹脂系接着剤を塗布し、こう
して熱硬化性樹脂系接着剤を塗布したその絶縁薄膜を、
その熱硬化性樹脂系接着剤の塗膜が前記リードフレーム
及び前記複数本のボンディング・ワイヤに接触するよう
にして、それらリードフレーム及び複数本のボンディン
グ・ワイヤを覆うように重ねて載置し、 前記絶縁薄膜に押圧力を加え、この押圧力の大きさは、
前記熱硬化性樹脂系接着剤の塗膜を前記リードフレーム
の前記複数本のリードどうしの間へ流動させるのに充分
な大きさであって、しかも、前記複数本のボンディング
・ワイヤの各々を、そのボンディング・ワイヤが接続さ
れている夫々のボンディング・パッド及びリードフレー
ムのリードの表面へ押し付けるのに充分な大きさである
ようにし、更に、 前記絶縁薄膜を加熱し前記熱硬化性樹脂系接着剤の塗膜
を硬化させる、 ことによって製作し、 以上のようにして製作した複数の半導体チップ用パッケ
ージの各々において、前記絶縁薄膜の前記第2面に、熱
可塑性樹脂系接着剤を塗布し、 前記熱可塑性樹脂系接着剤の塗布処理を完了した複数の
半導体チップ用パッケージを、互いの位置を合わせて重
ね合わせ、その際に、1つの半導体チップ用パッケージ
の前記絶縁薄膜の熱可塑性樹脂系接着剤を塗布した前記
第2面が、その半導体チップ用パッケージに隣接した半
導体チップ用パッケージに封入されている半導体チップ
の前記第2面に当接するようにし、 こうして重ね合わせた複数の半導体チップ用パッケージ
を少なくとも230℃にまで加熱して、各々の半導体チ
ップ用パッケージの前記熱可塑性樹脂系接着剤を、その
半導体チップ用パッケージに隣接した半導体チップ用パ
ッケージに封入されている半導体チップの前記第2面に
接着させる、 ことを特徴とする方法。 - 【請求項7】 半導体用パッケージにおいて、 複数の入出力用ボンディング・パッドを設けた第1面を
有する、半導体チップと、 前記半導体チップの前記第1面に近接して位置する複数
本のリードを有するリードフレームと、 前記複数本のリードと前記半導体チップ上の前記複数の
ボンディング・パッドとの間で、それらのうちの各々の
リードをそのリードに対応したボンディング・パッドに
接続している、複数本のボンディング・ワイヤと、 前記リードフレーム及び前記複数本のボンディング・ワ
イヤの上に、それらリードフレーム及びボンディング・
ワイヤを覆うように止着した、熱硬化性樹脂系接着剤の
層を含んでいる絶縁薄膜と、を備え、 前記熱硬化性樹脂系接着剤は、前記リードフレームの前
記複数本のリード及び前記複数本のボンディング・ワイ
ヤの上方に存在していると共に、該複数本のリードどう
しの間と該複数本のボンディング・ワイヤどうしの間と
に入り込んでおり、それによって該複数本のボンディン
グ・ワイヤの各々が、そのボンディング・ワイヤが接続
されている夫々のボンディング・パッド並びにリードの
表面へ押し付けられている、 ことを特徴とする半導体用パッケージ。 - 【請求項8】 前記熱硬化性樹脂系接着剤がアクリル系
接着剤であり、該熱硬化性樹脂系接着剤の前記層の厚さ
が3〜10ミル(75〜250マイクロメートル)であ
ることを特徴とする請求項7の半導体パッケージ。 - 【請求項9】 複数の半導体チップ用パッケージを積層
したパッケージ積層体において、 複数の半導体チップ用パッケージを備え、 前記複数の半導体チップ用パッケージの各々は、 第1面と第2面とを有し、前記第1面に複数の入出力用
パッドを設けた、半導体チップと、 前記半導体チップの前記第1面に近接して位置する複数
本のリードを有するリードフレームと、 前記複数本のリードと前記半導体チップの前記第1面上
の前記複数の入出力用パッドとの間で、互いに対応する
リードと入出力用パッドとを夫々接続している、複数本
のボンディング・ワイヤと、 第1面と第2面とを有する絶縁薄膜と、を備え、 前記絶縁薄膜は、該絶縁薄膜の前記第1面が前記リード
フレーム及び前記複数本のボンディング・ワイヤに当接
するようにして、それらリードフレーム及びボンディン
グワイヤの上に、それらリードフレーム及びボンディン
グ・ワイヤを覆うように止着されており、且つ、該絶縁
薄膜は、前記リードフレームの前記複数本のリード及び
前記複数本のボンディング・ワイヤの上方と、該複数本
のリードどうしの間と該複数本のボンディング・ワイヤ
どうしの間とへ入り込んでおり、それによって該複数本
のボンディング・ワイヤの各々が、そのボンディング・
ワイヤが接続されている夫々のボンディング・パッド並
びにリードの表面へ押し付けられており、更に、 前記絶縁薄膜の前記第2面に設けた接着剤層を備えた、 半導体チップ用パッケージであり、 前記複数の半導体チップ用パッケージを積層した積層体
の中では、1つの半導体チップ用パッケージの前記絶縁
薄膜の前記第2面に設けた接着剤層が、その半導体チッ
プ用パッケージに隣接した半導体チップ用パッケージに
封入されている半導体チップの前記第2面に接触してい
る、 ことを特徴とするパッケージ積層体。 - 【請求項10】 半導体用パッケージにおいて、 複数の入出力用ボンディング・パッドを設けた第1面を
有する、半導体チップと、 前記半導体チップの前記第1面上に設けた絶縁層ポリマ
ー薄膜と、 複数本のリードを有するリードフレームと、を備え、 前記リードフレームの前記複数本のリードの各々は、そ
の一部分が前記絶縁層の上に止着されていると共に、そ
の別の一部分が該絶縁層の上から外へカンチレバー式に
延出しており、 前記複数本のリードと前記半導体チップ上の前記複数の
ボンディング・パッドとの間で、それらのうちの各々の
リードをそのリードに対応したボンディング・パッドに
接続している、複数本のボンディング・ワイヤと、 前記リードフレーム及び前記複数本のボンディング・ワ
イヤの上に、それらリードフレーム及びボンディング・
ワイヤを覆うように止着した、熱硬化性樹脂系接着剤を
塗布した絶縁薄膜と、を備え、 前記熱硬化性樹脂系接着剤は、前記リードフレームの前
記複数本のリード及び前記複数本のボンディング・ワイ
ヤの上方に存在していると共に、該複数本のリードどう
しの間と該複数本のボンディング・ワイヤどうしの間と
に入り込んでおり、それによって該複数本のボンディン
グ・ワイヤの各々が、そのボンディング・ワイヤが接続
されている夫々のボンディング・パッド並びにリードの
表面へ押し付けられている、 ことを特徴とする半導体用パッケージ。 - 【請求項11】 複数の半導体チップ用パッケージを積
層したパッケージ積層体において、 複数の半導体チップ用パッケージを備え、 前記複数の半導体チップ用パッケージの各々は、 第1面と第2面とを有し、前記第1面に複数の入出力用
パッドを設けた、半導体チップと、 前記半導体チップの前記第1面に設けた絶縁層と、 複数本のリードを有するリードフレームと、を備え、 前記リードフレームの前記複数本のリードの各々は、そ
の一部分が前記絶縁層の上に止着されていると共に、そ
の別の一部分が該絶縁層の上から外へカンチレバー式に
延出しており、更に、 前記複数本のリードと前記半導体チップの前記第1面上
の前記複数の入出力用パッドとの間で、互いに対応する
リードと入出力用パッドとを夫々接続している、複数本
のボンディング・ワイヤと、 第1面と第2面とを有する絶縁薄膜と、 前記絶縁薄膜の前記第1面に塗布した熱硬化性樹脂系接
着剤の塗膜と、を備えており、 前記絶縁薄膜は、その前記熱硬化性樹脂系接着剤を塗布
した側の面が前記リードフレーム及び前記複数本のボン
ディング・ワイヤに当接するようにして、それらリード
フレーム及びボンディングワイヤの上に、それらリード
フレーム及びボンディング・ワイヤを覆うように止着さ
れており、且つ、前記熱硬化性樹脂系接着剤は、前記リ
ードフレームの前記複数本のリード及び前記複数本のボ
ンディング・ワイヤの上方に存在していると共に、該複
数本のリードどうしの間と該複数本のボンディング・ワ
イヤどうしの間とへ入り込んでおり、それによって該複
数本のボンディング・ワイヤの各々が、そのボンディン
グ・ワイヤが接続されている夫々のボンディング・パッ
ド並びにリードの表面へ押し付けられており、更に、 前記絶縁薄膜の前記第2面に設けた熱可塑性樹脂系接着
剤の層を、備えている、 半導体チップ用パッケージであり、 前記複数の半導体チップ用パッケージを積層した積層体
の中では、1つの半導体チップ用パッケージの前記絶縁
薄膜の前記第2面に設けた接着剤層が、その半導体チッ
プ用パッケージに隣接した半導体チップ用パッケージに
封入されている半導体チップの前記第2面に接触してい
る、 ことを特徴とするパッケージ積層体。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US07/694,719 US5086018A (en) | 1991-05-02 | 1991-05-02 | Method of making a planarized thin film covered wire bonded semiconductor package |
US694719 | 1991-05-02 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05109801A JPH05109801A (ja) | 1993-04-30 |
JPH0715917B2 true JPH0715917B2 (ja) | 1995-02-22 |
Family
ID=24790003
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4080916A Expired - Fee Related JPH0715917B2 (ja) | 1991-05-02 | 1992-04-02 | 半導体チップ用パッケージ及びその製作方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5086018A (ja) |
EP (1) | EP0513521B1 (ja) |
JP (1) | JPH0715917B2 (ja) |
DE (1) | DE69229489T2 (ja) |
Families Citing this family (78)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5278101A (en) * | 1989-06-28 | 1994-01-11 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
US5475920A (en) * | 1990-08-01 | 1995-12-19 | Burns; Carmen D. | Method of assembling ultra high density integrated circuit packages |
AU8519891A (en) * | 1990-08-01 | 1992-03-02 | Staktek Corporation | Ultra high density integrated circuit packages, method and apparatus |
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