JPH07146323A - 液晶表示器用ガラス基板の検査方法及び検査装置 - Google Patents

液晶表示器用ガラス基板の検査方法及び検査装置

Info

Publication number
JPH07146323A
JPH07146323A JP5339098A JP33909893A JPH07146323A JP H07146323 A JPH07146323 A JP H07146323A JP 5339098 A JP5339098 A JP 5339098A JP 33909893 A JP33909893 A JP 33909893A JP H07146323 A JPH07146323 A JP H07146323A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode
liquid crystal
crystal display
glass substrate
inspected
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP5339098A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroyuki Takagi
啓行 高木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
INTER TEC KK
Original Assignee
INTER TEC KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by INTER TEC KK filed Critical INTER TEC KK
Priority to JP5339098A priority Critical patent/JPH07146323A/ja
Publication of JPH07146323A publication Critical patent/JPH07146323A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】 【目的】 片側にのみ検査用パッドを持つゲート電極
線、データ電極線の断線及び短絡を検出する。 【構成】 データ電極線又はゲート電極線に時間的に変
化する電圧を印加することによりそれら電極線の電位を
時間的に変化させる。プローブ41を非接触に基板上の
被検査電極線12上に配置し、被検査電極線12とプロ
ーブ41間の静電容量を介して被検査電極線12の電位
変化を検知することにより電極線の断線、短絡等を検出
する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は液晶表示器に用いるガ
ラス基板上における電極線の断線や電極線間の短絡等を
検査するための検査方法及び検査装置に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】液晶表示器に用いるガラス基板には、単
純マトリクス型用として複数のデータ電極線又は複数の
ゲート電極線をそれぞれ別のガラス基板上に薄膜プロセ
スを用いて形成したものと、薄膜トランジスタアクティ
ブマトリクス型用として複数のデータ線、ゲート線、薄
膜トランジスタ、画素電極、容量素子を1枚のガラス基
板上に薄膜プロセスを用いて形成したものとがある。
【0003】これらの基板においては、製造工程での塵
埃やフォトレジスト工程での欠陥等に起因して電極線の
断線や電極線間の短絡等の欠陥が発生する。
【0004】従来、これら欠陥の検査としては、各電極
線の両端に検査用パッドを設け、これらのパッドに検査
用プローブを接触させて各電極線の電気抵抗及び電極線
間の電気抵抗を測定し、断線と短絡を検出する方法が行
われている。これは基板内の全電極線に対して検査され
る。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところで各電極線の両
端に検査用パッドを設けることは、本来表示器機能とし
ては不必要な検査のためのみのパターンをガラス基板上
に作ることになり、高価なガラス基板の面積利用効率を
低下させる。
【0006】この発明は上記従来の欠点を解決するため
になされたものであって、その目的は、片側にのみ検査
用パッドを設けた場合であっても、電極線の断線、短絡
等を正確に検出可能な検査方法及び検査装置を提供する
ことにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】そこで請求項1の液晶表
示器用ガラス基板の検査方法は、マトリクス状に配列さ
れた複数個の画素を、互いに直交する複数のデータ電極
線と複数のゲート電極線とから作り出すマトリクス型液
晶表示器用ガラス基板の検査方法において、データ電極
線又はゲート電極線に時間的に変化する電圧を電極線の
片側に設けたパッドと接触式プローブとを介して印加す
ることによりそれら電極線の電位を時間的に変化させ、
プローブを非接触に基板上の被検査電極線上に配置し、
被検査電極線とプローブ間の静電容量を介して被検査電
極線の電位変化を検知することにより電極線の断線、短
絡等を検出することを特徴としている。
【0008】また請求項2の液晶表示器用ガラス基板の
検査装置は、マトリクス状に配列された複数個の画素
を、互いに直交する複数のデータ電極線と複数のゲート
電極線とから作り出すマトリクス型液晶表示器用ガラス
基板の検査装置において、データ電極線又はゲート電極
線に時間的に変化する電圧を電極線の片側に設けたパッ
ドと接触式プローブとを介して印加する手段と、プロー
ブを非接触に基板上の被検査電極線上に配置する手段
と、被検査電極線とプローブ間の静電容量を介して被検
査電極線の電位変化を検知する検知手段とを備えたこと
を特徴としている。
【0009】さらに請求項3の液晶表示器用ガラス基板
の検査方法及び検査装置は、平行に並ぶ電極線群の中の
少なくとも3本の隣合う電極線に対し、中央の被検査電
極線には時間的に変化する電圧を印加し、残る2本の電
極線には接地電圧又は一定電圧を印加し、これにより断
線を検出することを特徴としている。
【0010】請求項4の液晶表示器用ガラス基板の検査
方法及び検査装置は、平行に並ぶ電極線群の中の少なく
とも3本の隣合う電極線に対し、中央の被検査電極線に
は接地電圧又は一定電圧を印加し、残る2本の電極線に
は互いに反転した波形を持つ時間的に変化する電圧を印
加し、これにより短絡を検出することを特徴としてい
る。
【0011】請求項5の液晶表示器用ガラス基板の検査
方法及び検査装置は、電圧を印加する少なくとも3本の
電極線を、それら電極線上の電位検出用の非接触容量結
合型プローブの移動に同期させて順次選択することを特
徴としている。
【0012】請求項6の液晶表示器用ガラス基板の検査
方法及び検査装置は、上記液晶表示器は、マトリクス状
に配列された複数個の画素と、複数のデータ電極線と、
複数のゲート線とを備え、前記画素がスイッチングトラ
ンジスタと容量素子とから成る薄膜トランジスタアクテ
ィブマトリクス型液晶表示器であることを特徴としてい
る。
【0013】
【作用】電極線の断線欠陥を検出するために、ガラス基
板上の被検査電極線には、上記パッドと接触式プローブ
とを介して時間的に変化する電圧を与え、被検査電極線
の電位を時間的に変化させる。一方被検査電極線上に、
電極線とは非接触にプローブを位置決めし、そのプロー
ブと被検査電極線間の静電容量を介して、被検査電極線
の電位変化を検知する。そして被検査電極線に断線があ
るとき、その電極線電位は正常とは異なる振幅や波形に
なるので、これを利用し、欠陥の有無を検出することが
できる。検出精度を向上させるため、被検査電極線に隣
合う2本の電極線には接地又は一定の電圧を与える。
【0014】電極線間の短絡欠陥を検出するために、ガ
ラス基板上の被検査電極線には、上記パッドと接触式プ
ローブとを介して接地又は一定の電圧を与え、被検査電
極線に隣合う2本の電極線には、上記パッドと接触式プ
ローブとを介して互いに反転した波形を持つ時間的に変
化する電圧を与える。一方被検査電極線上に、電極線と
は非接触にプローブを位置決めし、そのプローブと被検
査電極線間の静電容量を介して、被検査電極線の電位変
化を検知する。そして被検査電極線に隣の電極線と短絡
があるとき、その電極線電位は正常とは異なる振幅や波
形になるので、これを利用し、欠陥の有無を検出するこ
とができる。すなわち上記のようにすることで、片側に
のみ検査用パッドを設けた電極線の断線、短絡欠陥を正
確に検出可能である。
【0015】なおデータ線とは、信号線、ドレイン線等
と称されるものを含み、またゲート線とは走査線と称さ
れるものを含む。
【0016】
【実施例】図1は本発明による検査装置の一実施例を示
す。これは被検査ガラス基板1を、基板吸着が可能なチ
ャック2の上に固定し、これと相対向させて非接触プロ
ーブ41を、高さ方向Z及び図示X方向に位置決め及び
移動可能な機構部4により支持したものである。一方チ
ャック2は、Xに直角で紙面に垂直なY方向に位置決め
及び移動可能な機構部7により支持されており、両機構
部4、7を用いることで、非接触プローブ41を、基板
1上の任意の電極線上の任意の位置に任意の距離を隔て
て位置決めすることができるようになっている。
【0017】接触式プローブ31は、電極線にパッドを
介して電圧を供給するためのプローブであり、図には示
されていない電源に接続されている。なお図1におい
て、5はX方向位置決めガイド、6は架台をそれぞれ示
している。
【0018】図2はアクティブマトリクス型ガラス基板
の模式的電極線パターン構成の一例を示すもので、デー
タ電極線11・・16の片側のみに検査用パッド21・
・26を設けてある。なお各電極線は静電気対策のため
短絡線9に接続されている。この短絡線9とそれへの接
続部は、表示器として組立てる工程の前に切断される。
【0019】本実施例では被検査電極線の時間的に変化
する電位を検知するために、非接触式の容量結合型プロ
ーブを用いる。図3に薄膜トランジスタアクティブマト
リクス基板上に非接触プローブ41を位置決めした様子
を示す。図3において非接触プローブ41は、被検査電
極線12の端部真上に適当な距離を隔てて位置決めされ
ている。被検査電極線12とその両隣の電極線11、1
3には、それぞれの検査用パッド21・・23に接触し
ているプローブ31・・33から検査に必要な電圧波形
を印加される。
【0020】電極線の断線を検出する場合を図4、図5
に示す。ここでは被検査電極線12にパルス状の交番電
圧Aを印加し、被検査電極線12に隣合う2本の電極線
11、13には接地電圧Gを印加している。図4に示す
ように、被検査電極線12が正常な場合、プローブ41
の出力波形Pは被検査電極線12に印加されたパルス状
の交番電圧Aと同じになる。その一方、図5に示すよう
に、被検査電極線12が断線(断線箇所X)している場
合、プローブ41の出力中のパルス状交番電圧成分は小
さくなり波形Qはほぼ一定になる。このことから電極線
12の断線を検出することができる。なお図4、図5に
おいて、51はプローブ41に誘起された電圧を増幅す
る増幅器をそれぞれ示している。
【0021】電極線間の短絡を検出する場合を図6、図
7に示す。ここでは被検査電極線12に接地電圧Gを印
加し、被検査電極線に隣合う2本の電極線11、13に
は互いに反転したパルス状の交番電圧A、Bを印加して
いる。図6に示すように、被検査電極線12が正常な場
合、プローブ41に誘起される両隣の電極線11、13
からのクロストークは互いに打ち消し合うので、プロー
ブ41の出力波形Rは一定電圧となる。その一方、図7
に示すように、被検査電極線12が隣の電極線11と画
素電極Yを介して短絡している場合、プローブ41の出
力波形Sは短絡している電極線11に印加されたパルス
状の交番電圧Aと同じになる。プローブ41の出力波形
Sと両隣の電極線11、13に印加した互いに反転して
いるパルス状の交番電圧A、Bとを比べることにより、
どちらの電極線11、13との短絡かを検出することが
できる。なお図6、図7において、51はプローブに誘
起された電圧を増幅する増幅器をそれぞれ示している。
【0022】図8、図9に各電極線に順次印加する電圧
波形を非接触プローブの移動に同期して切換えていく実
施例を示す。図8において、非接触プローブ43は2チ
ャンネル分の入力電極44、45を持ち、図示する矢印
方向に電極線群11・・15上を移動する。一方、電極
線11・・15の他端にあるパッド21・・25に接触
させたプローブ31・・35はスイッチ群55に接続さ
れている。スイッチ群55は非接触プローブ43の電極
44が上空にある電極線14には信号Aで示されるパル
ス波形電圧を与え、その隣の非接触プローブ43の電極
45が上空にある電極線13には接地電圧(信号G)を
与える。またさらにその隣の電極線12には信号Bで示
されているように、電極線14に与えた波形を反転した
パルス波形電圧を与える。その他のすべての電極線1
1、15には接地電圧(信号G)を与える。なお52、
53はプローブに誘起された電圧を増幅する増幅器を示
している。
【0023】図9は非接触プローブ43の移動にしたが
い、各電極線11・・15に印加する電圧波形A、B、
Gを切換えていく様子を示す。表中丸印はプローブ電極
44が上空にあるときを、四角印はプローブ電極45が
上空にあるときを示す。すなわち図9において、時刻T
1にはプローブ電極44が電極線14上に、プローブ電
極45は電極線13上にある。そしてそのときスイッチ
群55により、電極線15は信号Gに、電極線14は信
号Aに、電極線13は信号Gに、電極線12には信号B
に、電極線11及びその他の電極線は信号Gに制御され
ることを示す。前述したようにこの例ではプローブ電極
44により電極線の断線を、プローブ電極45により電
極線間の短絡を検出する。
【0024】
【発明の効果】以上のようにこの発明においては、単純
マトリクス型及び蒲膜トランジスタアクティブマトリク
ス型液晶表示器のガラス基板のゲート電極線及びデータ
電極線の断線や短絡不良を、各電極線の片側に検査用パ
ッドを設けるのみで検出可能な検査方法と検査装置とを
提供することが可能であるため、この発明により液晶表
示器のガラス基板の面積利用効率が向上し、原価低減と
なる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の検査装置の一例を示す模式図であ
る。
【図2】この発明により電極線の断線、短絡検出が可能
なアクティブマトリクス型ガラス基板の模式的電極線パ
ターン構成図である。
【図3】被検査基板上に非接触プローブを位置決めした
状態を示す斜視図である。
【図4】電極線の断線を検出する場合において断線のな
い場合の説明図である。
【図5】電極線の断線を検出する場合において断線のあ
る場合の説明図である。
【図6】電極線間の短絡を検出する場合において短絡の
ない場合の説明図である。
【図7】電極線間の短絡を検出する場合において短絡の
ある場合の説明図である。
【図8】各電極線に順次印加する電圧波形を非接触プロ
ーブの移動に同期して切換えていく実施例の説明図であ
る。
【図9】非接触プローブの移動にしたがい、各電極線に
印加する電圧波形を切換えていく様子を示す説明図であ
る。
【符号の説明】
11 電極線 12 電極線 13 電極線 21 パッド 22 パッド 23 パッド 31 プローブ 32 プローブ 33 プローブ 41 容量結合型プローブ

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 マトリクス状に配列された複数個の画素
    を、互いに直交する複数のデータ電極線と複数のゲート
    電極線とから作り出すマトリクス型液晶表示器用ガラス
    基板の検査方法において、データ電極線又はゲート電極
    線に時間的に変化する電圧を電極線の片側に設けたパッ
    ドと接触式プローブとを介して印加することによりそれ
    ら電極線の電位を時間的に変化させ、プローブを非接触
    に基板上の被検査電極線上に配置し、被検査電極線とプ
    ローブ間の静電容量を介して被検査電極線の電位変化を
    検知することにより電極線の断線、短絡等を検出するこ
    とを特徴とする液晶表示器用ガラス基板の検査方法。
  2. 【請求項2】 マトリクス状に配列された複数個の画素
    を、互いに直交する複数のデータ電極線と複数のゲート
    電極線とから作り出すマトリクス型液晶表示器用ガラス
    基板の検査装置において、データ電極線又はゲート電極
    線に時間的に変化する電圧を電極線の片側に設けたパッ
    ドと接触式プローブとを介して印加する手段と、プロー
    ブを非接触に基板上の被検査電極線上に配置する手段
    と、被検査電極線とプローブ間の静電容量を介して被検
    査電極線の電位変化を検知する検知手段とを備えたこと
    を特徴とする液晶表示器用ガラス基板の検査装置。
  3. 【請求項3】 平行に並ぶ電極線群の中の少なくとも3
    本の隣合う電極線に対し、中央の被検査電極線には時間
    的に変化する電圧を印加し、残る2本の電極線には接地
    電圧又は一定電圧を印加し、これにより断線を検出する
    ことを特徴とする請求項1の液晶表示器用ガラス基板の
    検査方法又は請求項2の液晶表示器用ガラス基板の検査
    装置。
  4. 【請求項4】 平行に並ぶ電極線群の中の少なくとも3
    本の隣合う電極線に対し、中央の被検査電極線には接地
    電圧又は一定電圧を印加し、残る2本の電極線には互い
    に反転した波形を持つ時間的に変化する電圧を印加し、
    これにより短絡を検出することを特徴とする請求項1の
    液晶表示器用ガラス基板の検査方法又は請求項2の液晶
    表示器用ガラス基板の検査装置。
  5. 【請求項5】 電圧を印加する少なくとも3本の電極線
    を、それら電極線上の電位検出用の非接触容量結合型プ
    ローブの移動に同期させて順次選択することを特徴とす
    る請求項3又は請求項4の液晶表示器用ガラス基板の検
    査方法又は請求項3又は請求項4の液晶表示器用ガラス
    基板の検査装置。
  6. 【請求項6】 上記液晶表示器は、マトリクス状に配列
    された複数個の画素と、複数のデータ電極線と、複数の
    ゲート線とを備え、前記画素がスイッチングトランジス
    タと容量素子とから成る薄膜トランジスタアクティブマ
    トリクス型液晶表示器であることを特徴とする請求項5
    の液晶表示器用ガラス基板の検査方法又は請求項5の液
    晶表示器用ガラス基板の検査装置。
JP5339098A 1993-11-22 1993-11-22 液晶表示器用ガラス基板の検査方法及び検査装置 Pending JPH07146323A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5339098A JPH07146323A (ja) 1993-11-22 1993-11-22 液晶表示器用ガラス基板の検査方法及び検査装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5339098A JPH07146323A (ja) 1993-11-22 1993-11-22 液晶表示器用ガラス基板の検査方法及び検査装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH07146323A true JPH07146323A (ja) 1995-06-06

Family

ID=18324246

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5339098A Pending JPH07146323A (ja) 1993-11-22 1993-11-22 液晶表示器用ガラス基板の検査方法及び検査装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH07146323A (ja)

Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5969530A (en) * 1997-02-28 1999-10-19 Nidec-Read Corporation Circuit board inspection apparatus and method employing a rapidly changing electrical parameter signal
US6201398B1 (en) 1996-03-28 2001-03-13 Oht Inc. Non-contact board inspection probe
WO2001053842A1 (fr) * 2000-01-18 2001-07-26 Oht Inc. Procede d'inspection d'un panneau a cristaux liquides a matrice passive et dispositif permettant une telle inspection, ainsi que procede d'inspection d'un panneau d'affichage a plasma et dispositif permettant une telle inspection
WO2001088556A1 (fr) * 1998-11-19 2001-11-22 Oht Inc. Procede et appareil destines a un test de continuite sur plaquette de circuit imprime, auxiliaire pour ce test et support d'enregistrement
US6492666B2 (en) * 2000-07-17 2002-12-10 Mitsumi Electric Co., Ltd. Semiconductor wafer with scribe lines having inspection pads formed thereon
WO2002101398A1 (fr) * 2001-05-24 2002-12-19 Oht Inc. Appareil d'inspection de schema de circuit, procede d'inspection de schema de circuit et support d'enregistrement
WO2004051290A1 (ja) * 2002-11-30 2004-06-17 Oht Inc. 回路パターン検査装置及び回路パターン検査方法
US6825673B1 (en) 2000-05-19 2004-11-30 Oht Inc. Method and apparatus for circuit board continuity test, tool for continuity test, and recording medium
KR100491987B1 (ko) * 2002-09-25 2005-05-30 마이크로 인스펙션 주식회사 Pdp 패널의 유전체 검사장치
US6947853B2 (en) 2002-05-23 2005-09-20 Oht, Inc. Apparatus and method for inspecting electrical continuity of circuit board, jig for use therein, and recording medium thereon
JP2006250608A (ja) * 2005-03-09 2006-09-21 Hioki Ee Corp 回路基板検査方法およびその装置
JP2006284597A (ja) * 2002-11-30 2006-10-19 Oht Inc 回路パターン検査装置及び回路パターン検査方法
JP2007127659A (ja) * 2002-11-30 2007-05-24 Oht Inc 回路パターン検査装置及び回路パターン検査方法
JP2008281576A (ja) * 2008-06-06 2008-11-20 Tokyo Cathode Laboratory Co Ltd 導電パターン検査装置
JP2009294232A (ja) * 2002-12-27 2009-12-17 Hioki Ee Corp 多層基板のスルーホール断線検出方法
JP2010283129A (ja) * 2009-06-04 2010-12-16 Micro Craft Kk プリント配線板の検査装置及び検査方法
KR101243793B1 (ko) * 2006-06-27 2013-03-18 엘지디스플레이 주식회사 평판 표시장치 및 그의 검사방법
KR101300465B1 (ko) * 2012-02-06 2013-08-27 로체 시스템즈(주) 비접촉식 전극패턴 검사장치
CN109817127A (zh) * 2017-11-21 2019-05-28 兴城科技股份有限公司 检测薄膜晶体管基板的方法及设备

Cited By (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6201398B1 (en) 1996-03-28 2001-03-13 Oht Inc. Non-contact board inspection probe
US6373258B2 (en) 1996-03-28 2002-04-16 Naoya Takada Non-contact board inspection probe
US5969530A (en) * 1997-02-28 1999-10-19 Nidec-Read Corporation Circuit board inspection apparatus and method employing a rapidly changing electrical parameter signal
WO2001088556A1 (fr) * 1998-11-19 2001-11-22 Oht Inc. Procede et appareil destines a un test de continuite sur plaquette de circuit imprime, auxiliaire pour ce test et support d'enregistrement
WO2001053842A1 (fr) * 2000-01-18 2001-07-26 Oht Inc. Procede d'inspection d'un panneau a cristaux liquides a matrice passive et dispositif permettant une telle inspection, ainsi que procede d'inspection d'un panneau d'affichage a plasma et dispositif permettant une telle inspection
US6825673B1 (en) 2000-05-19 2004-11-30 Oht Inc. Method and apparatus for circuit board continuity test, tool for continuity test, and recording medium
US6492666B2 (en) * 2000-07-17 2002-12-10 Mitsumi Electric Co., Ltd. Semiconductor wafer with scribe lines having inspection pads formed thereon
US6703251B2 (en) 2000-07-17 2004-03-09 Mitsumi Electric Co., Ltd. Semiconductor wafer
WO2002101398A1 (fr) * 2001-05-24 2002-12-19 Oht Inc. Appareil d'inspection de schema de circuit, procede d'inspection de schema de circuit et support d'enregistrement
US6995566B2 (en) 2001-05-24 2006-02-07 Oht, Inc. Circuit pattern inspection apparatus, circuit pattern inspection method, and recording medium
US6947853B2 (en) 2002-05-23 2005-09-20 Oht, Inc. Apparatus and method for inspecting electrical continuity of circuit board, jig for use therein, and recording medium thereon
KR100491987B1 (ko) * 2002-09-25 2005-05-30 마이크로 인스펙션 주식회사 Pdp 패널의 유전체 검사장치
JP2004191381A (ja) * 2002-11-30 2004-07-08 Oht Inc 回路パターン検査装置及び回路パターン検査方法
WO2004051290A1 (ja) * 2002-11-30 2004-06-17 Oht Inc. 回路パターン検査装置及び回路パターン検査方法
JP2006284597A (ja) * 2002-11-30 2006-10-19 Oht Inc 回路パターン検査装置及び回路パターン検査方法
JP2007127659A (ja) * 2002-11-30 2007-05-24 Oht Inc 回路パターン検査装置及び回路パターン検査方法
KR101013243B1 (ko) * 2002-11-30 2011-02-09 오에이치티 가부시끼가이샤 회로 패턴 검사 장치 및 회로 패턴 검사 방법
JP2009294232A (ja) * 2002-12-27 2009-12-17 Hioki Ee Corp 多層基板のスルーホール断線検出方法
JP2006250608A (ja) * 2005-03-09 2006-09-21 Hioki Ee Corp 回路基板検査方法およびその装置
KR101243793B1 (ko) * 2006-06-27 2013-03-18 엘지디스플레이 주식회사 평판 표시장치 및 그의 검사방법
JP2008281576A (ja) * 2008-06-06 2008-11-20 Tokyo Cathode Laboratory Co Ltd 導電パターン検査装置
JP2010283129A (ja) * 2009-06-04 2010-12-16 Micro Craft Kk プリント配線板の検査装置及び検査方法
KR101300465B1 (ko) * 2012-02-06 2013-08-27 로체 시스템즈(주) 비접촉식 전극패턴 검사장치
CN109817127A (zh) * 2017-11-21 2019-05-28 兴城科技股份有限公司 检测薄膜晶体管基板的方法及设备
JP2019095773A (ja) * 2017-11-21 2019-06-20 興城科技股▲分▼有限公司 薄膜トランジスタパネルを検査する方法及び装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH07146323A (ja) 液晶表示器用ガラス基板の検査方法及び検査装置
KR100353955B1 (ko) 신호라인 검사를 위한 액정표시장치
US20060125510A1 (en) Line short localization in LCD pixel arrays
KR20050078205A (ko) 기판검사 장치 및 기판검사 방법
KR100823357B1 (ko) 회로 패턴 검사 장치
KR0142014B1 (ko) 표시장치의 검사장치 및 검사방법
US20020121917A1 (en) Apparatus and method for testing electrode structure for thin display device using FET function
KR101226197B1 (ko) 스트립 도체 구조물을 검사하는 방법
JPH0627494A (ja) 薄膜トランジスタアクティブマトリクス基板の 検査方法及び装置
US7081908B2 (en) Apparatus and method for testing electrode structure for thin display device using FET function
JPH05333357A (ja) 液晶表示素子におけるストライプ電極パターンの検査方法及び検査装置
JP2001201753A (ja) 単純マトリックス型液晶パネルの検査方法及び検査装置、プラズマディスプレイパネルの検査方法及び検査装置
JP2769372B2 (ja) Lcdプローブ装置
JP2012078127A (ja) Tftアレイ検査装置およびtftアレイ検査方法
JPH02135490A (ja) アクティブマトリックスアレイおよびその検査方法
KR101124030B1 (ko) 기판상에 형성되는 적어도 하나의 전도성 구조물을 검사하기 위해서 필요한 상기 기판 내 전계를 생성하기 위한 생성 장치 및 생성 방법
JPH03121413A (ja) 電極基板の製造方法
JP3448195B2 (ja) 液晶パネル検査装置
JPH0599788A (ja) 液晶デイスプレイ基板の検査装置
JP2776584B2 (ja) 液晶パネルの検査装置および検査方法
KR20000071474A (ko) 전극 배열을 위한 시험 장치 및 관련된 방법
JPH07113727B2 (ja) アクティブマトリックスアレイ
JPH0784010A (ja) 非接触マルチプローブ
JPH06331711A (ja) 非接触マルチプローブ
JP2002040075A (ja) アクティブマトリクス基板検査装置及びアクティブマトリクス基板の検査方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050304

A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20081030

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20090402