JPH07118531B2

JPH07118531B2 - ホットエレクトロン・ユニポーラ・トランジスタ

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Publication number: JPH07118531B2
Application number: JP61500511A
Authority: JP
Inventors: ルーリー，サージエイ
Original assignee: AT&T Corp
Current assignee: AT&T Corp
Priority date: 1985-01-09
Filing date: 1985-12-23
Publication date: 1995-12-18
Anticipated expiration: 2010-12-18
Also published as: HK98990A; CA1245775A; US4691215A; JPS62501389A; SG77090G; WO1986004184A1; EP0207968A1; KR910004315B1; KR880700472A; EP0207968B1; DE3578274D1

Description

【発明の詳細な説明】本発明の分野本発明は電流伝導がデバイスのエミッタからコレクタ領
域への電子のトンネルを含む半導体トランジスタデバイ
ス構造に係る。

本発明の背景半導体トランジスタ構造の技術において、約20ピコ秒よ
り速い動作スイッチングは、たとえそれらの寸法が更に
減少したとしても、当業者にはかなりよく理解されると
思われるそのような構造の自然の限界により、通常のバ
イポーラNPN（又はPNP）トランジスタ構造又は通常のユ
ニポーラＮ−MOS（又はＰ−MOS）構造では、達成できる
ようにはみえない。従って、ピコ秒トランジスタスイッ
チング動作を達成するために、そのような制約を受けな
い新しいトランジスタ構造を考案する試みがなされてき
た。

たとえば、Japanese Journal of Applied Physics（ジ
ャパニーズ・ジャーナル・オブ・アプライド・フィジッ
クス）、第23巻、第５号、L311−L312（1984）に発表さ
れた“GaAs/AlGaAsヘテロ接合を用いたトンネルホット
エレクトロン・トランジスタ”と題するN.Yokoyama（エ
ヌ・ヨコヤマ）による論文には、ピコ秒又はサブピコ秒
もの動作が達成できることを約束するトランジスタ構造
が示されている。その構造は、比較的厚い1,000オング
ストローム（100nm）のベース層に依存する。ベース層
はｎ形半導体ガリウムひ素、すなわちそれを導電性とす
るため、特に高電流路を横切る方向では、過剰の主要ド
ナ不純物をドープしたガリウムひ素から成る。ベース層
は、エミッタ層とコレクタ層の間に配置され、それぞれ
はｎ形ガリウムひ素から成る。ベース−エミッタ障壁層
は、ベース及びエミッタ層間をわける半導電性アンドー
プ・アルミニウム・ガリウムひ素から成り、コレクタ障
壁層（やはりアルミニウム・ガリウムひ素から成る）
は、ベース及びコレタク層をわける。そのような障壁層
のそれぞれは、それを貫く電子の輸送に対し、電位（電
気的または化学的）障壁を作る。動作はエミッタ層に対
してベース層に印加された正電圧に応答したエミッタか
らベース層へのトンネルに依存する。この電圧が十分高
いとき、電子はベースを貫いて透過するのに十分な運動
エネルギーをもって（“ホットエレクトロン”）、ベー
ス層に入り、これらの電子の散乱又は捕獲がそれらの運
動エネルギーを減らすベースを通過した後も、なおベー
ス−コレクタトランジスタ障壁を越えるのに十分なエネ
ルギーをもつ限り、コレクタ層により集められるであろ
う。

しかし、そのようなトランジスタ構造は比較的α値、α
＝β／（１＋β）が低くなる。ここで、βはトランジス
タの電流利得（すなわち、ベース電流の増加量に対する
コレクタ電流の増加量の比）で、αは“伝達比”すなわ
ち（トンネルまたは他の現象により）エミッタからベー
スに注入されコレタクにより集められる電子の割合であ
る。特に、トランジスタは、わずか約0.28という好まし
くないほど低い伝達比αをもつが、αの望ましい値は少
なくとも約0.50か、好ましくはそれ以上である。このよ
うに、αが好ましくないほど低い値となることは比較的
厚いベース層により生じる。その中ではエミッタからコ
レクタへ行く通過する電子が、ベース中での散乱現象ま
たは捕獲によりそれらの運動エネルギーを失い、従って
ベース−コレクタ障壁を越えることができない。それに
対し、それの中での運動エネルギーのこの損失を減らす
ために、ベース層の厚さを減らすと、好ましくないほど
高い横方向又は“広がり”ベース抵抗を生じる結果とな
る。それはRCベース遅延を増し、従って通常の現在のト
ランジスタのスイッチング時間と等しいか大きい値まで
トランジスタスイッチング時間を増加させる。従って、
ピコ秒動作ができ、少なくとも約0.50の伝達比αをもつ
トランジスタ構造をもつことが望ましい。

本発明の要約本発明は、誘導ベーストランジスタ構造に係る。そこで
は半導体エミッタ障壁層と半導体コレクタ障壁層との間
に配置されたベース半導体層中の可動荷電キャリヤの縮
退二次元ガスにより誘導ベースが形成されている。よっ
て、障壁層はベース層の相対する平行した側に配置され
ている。

本発明のトランジスタ構造のベース層は、ベース層を横
切る輸送時間を減らし、ピコ秒スイッチング時間を可能
にするため、かなり薄いこと、典型的には、約100オン
グストロームであることが有利である。ベース層それ自
身の中で、荷電キャリヤ（電子又は正孔）の二次元ガス
は（フエルミ統計により支配されるガスという観点で）
縮退しており、荷電キャリヤの横方向輸送、すなわち、
エミッタ障壁層からコレクタ障壁層への荷電キャリヤの
流れに垂直な方向の輸送に関して（高電気伝導を伴い）
金属のように働く。従って、ベースの横方向（“広が
り”）抵抗従ってRC遅延時間は、本発明のトランジスタ
構造において十分低く、そのためピコ秒動作はベースの
RC遅延では妨げられない。

図面の簡単な説明第１図は、本発明の具体的な実施例に従うトランジスタ
デバイス構造の断面図、第２及び第３図は、第１図に示されたトランジスタ構造
の動作を説明するのに有用なエネルギー帯図、第４図は、本発明の別の実施例に従うトランジスタデバ
イス構造の断面図、第５−６図は、第１図に示したトランジスタデバイス構
造の製作の初期の段階における断面図である。

詳細な説明第１図に示されるように、トランジスタデバイス構造
（100）は、当業者には周知のように、汚染によるドナ
およびアクセプタ不純物による電気伝導を抑えるのに十
分な量のトラップを形成するため、クロムをドープした
ガリウムひ素の半絶縁性基板基体（10）を有する。この
構造（10）上にn⁺GaAsすなわち典型的な場合１立方セン
チメートル当たり約２×10¹⁸の濃度のシリコンといった
著しく過剰のドナ不純物が中に存在するため、強いｎ型
半導電性となったガリウムひ素の補助コレクタ接触層
（11）が配置されている。補助コレクタ接触層（11）の
厚さは、典型的な場合、約5000オングストロームであ
る。この補助コレクタ層（11）の上に比較的薄い（典型
的な場合、約20オングストローム）n⁺AlAsの保護コレク
タ接触エッチ停止層（12）が配置されている。この目的
は、以下で十分述べるようにコレクタ接触窓のエッチン
グの浸透を防止することである。この保護層中のn⁺伝導
は、１立方センチメートル当たりやはり約２×10¹⁸とい
った濃度にシリコンのような不純物原子をドープするこ
とにより得られる。

保護層（12）の上に、補助コレクタ接触層（11）と同様
の主コレクタ接触層（13）が配置されている。

主コレタク接触層（13）の上に、典型的な場合1500オン
グストロームの厚さで、約0.25ないし0.45の範囲、典型
的には約0.34のアルミニウムの原子組成をもったアンド
ープAl_aGa_1-aAsのアンドープコレクタ障壁層（14）が配
置されている。上に配置されたベース層（14）との電位
障壁が縮退しないように、１立方センチメートル当たり
約10¹⁶以下の任意のドナ及びアクセプタ不純物が望まし
い。

ベース層（15）は約100オングストロームの厚さをもつ
アンドープGaAsで、典型的な場合、１立方センチメート
ル当たり約10¹⁶以下のドナ及びアクセプタ濃度をもち、
好ましくはその中の反転層の高電子移動度を保証するた
め、１立方センチメートル当たり約10¹⁵以下が好まし
い。すなわち、二次元縮退フエルミ電子ガスが図中の縦
（エミッタからコレクタへ）方向に垂直な方向で、自由
電子のようにふるまうようにする。いずれの場合もベー
ス層の厚さは、その中での好ましくない電子散乱効果を
最小にするため、約500オングストロームより小さく、
適当な量の量子準位をその中に形成する目的で十分な量
の波動関数を形成するよう十分な空間を作るため、約50
オングストローム以上である。二次元縮退フェルミガス
についての議論は、Review of Modern Physics（レビュ
ー・オブ・モダン・フィジックス）第54巻、第２号、43
7−672頁（1982）に発表された“二次元系における電子
特性”と題するT.Ando（ティー・アンドー）らによる論
文に述べられている。半導体中の二次元縮退フェルミガ
スの例は、通常のMOSトランジスタの、当業者には周知
のように、反転層である。しかし、MOSトランジスタ中
の電流の方向は（トランジスタが“オン”の時）反転層
の面内であるが、本発明において電流の方向は反転層の
面に垂直である。

ベース層（15）上にアンドープAl_XGa_1-XAsのエミッタ障
壁層（16）が配置され、典型的な場合その厚さは約1500
オングストロームで、その中でアルミニウムの原子比率
ｘは、（典型的な場合、直線的に）垂直方向に最上部の
典型的な場合ゼロから、その底部［すなわち、ベース層
（15）との界面］での約0.45まで変化する。やはり、ド
ナ及びアクセプタの濃度は、ベース層（15）との界面に
おける電位障壁の縮退を防止するため、ともに１立方セ
ンチメートル当たり約10¹⁶以下である。

エミッタ障壁層（16）上に主エミッタ接触層（17）が配
置されており、それはまた典型的な場合約200オングス
トロームの厚さと１立方センチメートル当たり約２×10
¹⁸の過剰ドナ濃度を有するn⁺GaAs“キャップ”層であ
る。

補助エミッタ接触層（17）上に保護コレクタ接触エッチ
停止層（12）と構造的に同様なn⁺AlAsの保護エミッタ接
触エッチ停止層（18）が配置されている。これらのエッ
チ停止層の両方は“スパイク”層として知られている。
なぜなら、それらが生じる化学組成分布の形が、スパイ
ク状だからである。

保護エミッタ接触エッチ停止層（18）上に、典型的な場
合、約2500オングストロームの厚さ（高さ）を有する
（メサ形の）n⁺GaAsの補助エミッタ接触層（19）が配置
されている。

エミッタ接触層（19）の外部からの電気的駆動は、金エ
ミッタ端子層（22）を上にもった第１の金−ゲルマニウ
ム−銀合金層（21）を通して作られる。ベース層（15）
への外部駆動は、金を基本とした端子層（32）を上にも
った第２の金−ゲルマニウム−銀合金層（31）を通して
行なわれる。コレクタ接触層（11）への外部駆動は、金
−コレクタ端子層（42）を上にもった第３の金−ゲルマ
ニウム−銀合金層（41）を通して行なわれる。

デバンス（100）の動作を理解するために、第２および
３図を参照するのは有用である。ここで、ゼロベース−
エミッタバイアス電圧下での電子の運動エネルギーのゼ
ロレベルEC（伝導体プロフィル）は、実線により印され
ており、順方向ベース−エミッタ電圧V_beを印加した場
合については、第３図において破線で示されている。フ
ェルミレベルE_Fは第２及び３図中で一点鎖線により示さ
れている。第２図は、ゼロバイアス電圧を印加した伝導
帯図を示し、第３図はベース−コレクタおよびベース−
エミッタバイアス電圧を印加したときのそれを示す。説
明のため第２および３図において、ｎ形接触層（13）お
よび（17）中のドーピングは縮退していない。すなわ
ち、１立方センチメートル当たり10¹⁷のオーダである。
そのためフェルミレベルＥは１立方センチメートル当た
り約２×10¹⁸のドーピング（縮退）を有する上述の実施
例にあるように、E_Cの上ではなくE_Cの下になる。印加さ
れたコレクタ−ベース電圧V_cb（第３図）は、ベースに
対してコレクタを正にバイアスする。その結果、電子の
縮退フェルミガスが最低の量子化レベルE₀及びフェルミ
レベルE_Fの間のエネルギーの範囲で、ベース層（15）中
に誘導される。従って、厚さｄのベース層は横方向に金
属ベースとして働く。

本発明の別の実施例において、縮退フェルミガスはコレ
クタ電圧が印加されていなくとも存在できることを理解
すべきである。

動作中、エミッタ（ここでは電子は多数キャリヤであ
る）から熱的に放出された電子は、ベース（ここでそれ
らは“熱い”すなわち熱的な運動エネルギーより高い）
中に入り、ベースを通過し、厚さ（L₂）のコレクタ障壁
層中に入る。ただし、これらの電子は第３図中でΦ_Tに
より示された高さをもつコレクタ−ベース界面での障壁
により、反射されなければである。エミッタからベース
中への熱放出に対する障壁高さは、第３図の破線で示さ
れるように、エミッタ−ベース電圧V_beにより制御され
る。ベースに対してエミッタをより負にすると、（すな
わち、V_beの値がより大きくなると）エミッタ障壁を越
えベースに入り、次にコレタクに達するのに十分なエネ
ルギーを有する電子の数がより多くなり、従ってトラン
ジスタ動作には好ましいように、外部電流はより大きく
なる。

コレクタに向かうベース中のＥ＞Φ_T（最低の運動エネ
ルギー量子レベルはE₀である）である運動エネルギーの
電子の、障壁Φ_Tによる上述の障壁反射（量子機械効
果）の確率は、周知の式で与えられる。

Ｒ＝(n-1)²／(n+1)² （１）ここで、ｎ＝（１−Φ_T/E）^1/2 （２）従って、典型的な場合、Φ_T＝0.2電子ボルトで熱い電子
に対してＥ＝0.4電子ボルトであるから、典型的な場合
ｎ＝0.7およびＲ＝0.03＝３％てある。このように、エ
ミッタからベース中へ入る熱い電子のわずかに約３％
が、コレクタ障壁層で反射される。この３％という比較
的低い反射確率Ｒの値は、金属ベーストランジスタの場
合の好ましくない比較的高い反射確率と比較すべきであ
る。金属ベーストランジスタの場合、典型的な場合50％
以上で、それは主として金属ベーストランジスタでは、
最低のエネルギーレベルE₀がはるかに低く、従ってΦ_T
及びＲは半導体中の縮退したフエルミガスの場合よりは
るかに高くなる。

半導体中のベース内にある（縮退）電子のフエルミガス
は、単位面積当たり約400のシート抵抗を生じ、それは
ベース厚ｄがベース中の電子の波動関数の特性量より大
きい限り、ｄには依存しない。ベース層面内の電子のフ
オノンで制限された移動度は、室温において１ボルト−
秒当たり約8500センチメートルである。この移動度はベ
ース層の比較的高純度の（アンドープ）半導体中の縮退
電子ガスの形成の結果増す。移動度は液体窒素の77Kと
いった十分室温においてもなお大きい（典型的な場合１
ボルト−秒当たり100,000センチメートル以上）。この
大きさの雰囲気の低温は、トランジスタ構造中の熱雑音
を減らすのに望ましい。しかし、ベース広がり抵抗（ベ
ース充電時間）から生じるRC遅延に関する限り、室温で
すら誘導ベースシート抵抗は、動作の望ましいピコ秒速
度を妨げないように十分低いものである。

コレクタ障壁の厚さL₂はできるだけ小さく作るのが理想
的であるが、外部電気的駆動のためのそれぞれの電極間
の短絡によるようなベースへのコレクタ接触層の短絡を
可能にするほど小さくしてはならない。他方、エミッタ
障壁層の厚さL₁は望ましい閾値電圧（すなわちトランジ
スタ構造がターンオンする印加ベース−エミッタ及びベ
ース−コレクタ電圧）を生じるのに十分であるのが有利
である。しかし、いずれにしても、この厚さL₁はエミッ
タ−ベース電圧により生じるベースの好ましくない空乏
を減らすため、少なくとも約500オングストロームにす
べきである。

ベース中の半導体はその伝導帯最小値が、コレクタ障壁
層中の半導体のように、同じ電子疑運動量（ブリルアン
領域内の同じ点）付近に配置されることが好ましい。そ
うでないと、ベースからコレクタへの電子の輸送は、電
子的運動量空間で阻止できる。したがって、GaAs−Al_bG
a_1-bAsベース−コレクタの組合わせは原子比率ｂが約0.
45より小さいという条件により制限するのが有利であ
る。

第４図はGaAsベース層（15）とともに、Al_xGa_1-xAsエミ
ッタ障壁層（16）（第２図）（ｘが距離とともに変る）
が単一のGaAs層（26）に置き代わった別の実施例を示
す。単一GaAs層はプレーナドープ障壁として知られるも
のを形成するようアクセプタ不純物ドープ（p⁺）層によ
り生じる永久的な固定負性荷電シートを有する。プレー
ナドープ障壁により電位井戸の左側はゼロ運動エネルギ
ーレベルE_cの急峻な曲がりから成る急峻なエネルギー帯
の曲がりにより形成される。このp⁺荷電シート中の厚さ
及びドーピングレベルは、動作中第３図に示された構造
の近くの望ましい電位井戸と同じ（又は同様）ものを生
成するよう選択するのが有利である。電荷シート中のア
クセプタ濃度は、そこに導電性領域を生じるように、あ
まり高く（縮退）はないことが重要である。典型的な場
合、アクセプタ濃度は１立方センチメートル当たり約２
×10¹⁸アクセプタで、このシートの厚さは約50オングス
トロームで、シートは層（26）の右側端部から約200オ
ングストロームの距離だけ離れている。

別の実施例において、GaAsコレクタ層（13）（第２図）
は、たとえば非常に高濃度（縮退まで）ドープしたn⁺Al
_bGa_1-bAs層（23）で置きかえることができる。これはｂ
がこの層（23）およびコレクタ障壁層（14）の両方の中
で、典型的な場合、約0.3で、層（23）中の不純物ドー
ピング濃度は、１立方センチメートル当たり、典型的な
場合、約２×10¹⁸ドナ原子である。しかし、このドーピ
ングは縮退している必要はなく、１立方センチメートル
当たり10¹⁷ドナのオーダーでよい。このコレクタ層（2
3）はその禁制帯とｎ形ドーピングのため、コレクタ障
壁層（14）中に作りつけ電界を生じ、それは印加コレク
タ−ベースバイアス電圧の存在下ですら、ベース中に二
次元縮退電子ガスを誘導する。

更に、負の閾値電圧を確実にするため、すなわち印加コ
レクタ−ベース電圧がゼロのとき、ベース中に反転層が
確実に形成されるように、コレクタ障壁層（14）（第２
図）は、当業者には周知のように、以下のごとくドナ不
純物を変調ドープすることができる。すなわち、エネル
ギー帯を曲げ、従って特にゼロ運動エネルギーレベルE_c
を上方に凹状に曲げる不純物分布を生じるようにする。
例えば、Al_bGa_1-bAsのコレクタ障壁層（14）の一部は、
１立方センチメートル当たり約10¹⁸原子の均一な濃度
で、シリコンをドープすることができる。そのようにド
ープすると、ベース層（15）との界面から約80オングス
トローム、コレクタ障壁層中に延びる障壁層中の領域
は、アンドープのままのはずである。このようにして、
ドナはコレタク障壁層中に固定され、ベース層中の可動
電子からは空間的に分離され、それによって、そうでな
ければ固定ドナにより生じるベース層中の可動電子の好
ましくない散乱（それは電子の移動度を下げ、好ましく
ないほどベースシート抵抗を増す）が避けられる。同時
に、コレクタ障壁層中のエネルギー帯の凹状の曲がり
は、ゼロ・コレクタ−ベースバイアス条件下で、ベース
層中に反転層を誘導する。

トランジスタ構造（100）を製作するために、半導体層
（11）ないし（19）は基板（10）の主表面上に、分子線
エピタキシーまたは有機金属気相堆積のような他の標準
的なエピタキシャルプロセスにより、順次エピタキシャ
ル成長させる。メサ形成の当業者には周知のように、適
当なエッチング溶液および選択マスクによるエッチング
と、典型的な場合、2,000オングストロームの厚さのシ
リコン窒化物層（20）で、次に被覆することにより、製
作中のトランジスタは第５図に示される構造になる。そ
れは二つの空間的に分離されたメサ側壁（51）および
（52）を有するダブルメサ構造である。次に、層（12）
および（18）をそれぞれエッチ停止層に用いて、湿式エ
ッチングにより接触層（13）および（19）中に窓が開け
られる。これらの窓の横方向の大きさは、得られる形状
の寸法に依存して、約数ミクロンかそれ以下に小さくす
ることができる。窓の右側端部のすぐ近くの接触層（1
9）上にあるシリコン窒化物層（20）の一部も、やはり
形状の寸法に依存して、合金接触となるよう十分な横方
向の大きさまで除去される。次に、金−ゲルマニウム−
銀の合金層（21,31）および（41）が、それぞれエミッ
タ、ベースおよびコレクタへの接触となるよう、標準的
なプロセスにより形成される。最後に、それぞれエミッ
タ、ベースおよびコレクタ接触層への電気的駆動のた
め、標準的なプロセスにより形成される。エッチ停止層
（18）の残った露出最上表面は、シリコン窒化物の（図
示されていない）適当な保護層で被覆できる。当業者に
は周知のように、トランジスタ構造（100）がスイッチ
ングデバイスとして動作する電気回路を完成させるた
め、外部電気回路（図示されていない）をエミッタ、ベ
ースおよびコレクタ端子層を取付けることができる。

本発明について、具体例を挙げて詳細に述べてきたが、
本発明の視点を離れることなく、各種の修正を作ること
ができる。たとえば、ｎ形半導体の代わりにｐ形を用い
ることができ、すると、縮退フエルミガスは可動正孔で
できる。もちろん、正孔に対する電位障壁は、電子に対
するものとは異なる。III族およびＶ族元素の三元およ
び四元の組合わせ、すなわち（Ga,Al,In）と（As,P,S
b）の組合わせ及びII族とVI族元素の組合わせ、すなわ
ち（Zn,Cd,Hg）と（S,Se,Te）の組合わせなどにより形
成される各種の化合物半導体のような他の半導体も用い
ることができる。IV族元素は電子形（ｎ形）伝導をもつ
本発明を実施するには、理想的に適しているとはいえな
い。シリコンとゲルマニウムのようなIV族ヘテロ接合の
組合わせをもつｎ型トランジスタを作成する上での主な
障害は、これら材料はそれらの伝導帯極小値がブリルア
ン領域の異なる点にあり、従ってシリコン界面における
ゲルマニウム中での電子の運動量−空間反射が、重大な
問題となるという事実にある。しかし、これらの材料で
第４図に示されたものと同様であるが相補的な構造を実
現することは可能である。すなわち、シリコン層との界
面付近でアンドープゲルマニウム層中に誘発された正孔
ガスによって形成されたベースを有するｐ形トランジス
タである。シリコンはゲルマニウムより広い禁制帯材料
で、価電子帯不連続は界面に（少なくとも十分低温−た
とえば、液体窒素温度で）二次元正孔ガスを閉じ込める
のに十分であることが知られている。

また、シリコンまたはゲルマニウム基板を必要なエネル
ギー帯プロフィールを有するIII−Ｖ族化合物半導体層
のその後のヘテロエピタキシャル成長に用いることも可
能である。すなわち、第１図中で半絶縁性GaAs基板（1
0）をSiまたはGe基板、またはGe被覆シリコン基板で置
きかえる。そのような材料の組合わせは、Si基板が本質
的に低価格であるという経済的な理由のため望ましい。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｈ０１Ｌ 29/772 (56)参考文献特開昭58−192384（ＪＰ，Ａ) 特開昭56−120170（ＪＰ，Ａ) 特開昭57−208171（ＪＰ，Ａ) 特開昭58−192383（ＪＰ，Ａ) 欧州特許公開67276（ＥＰ，Ａ１) Ｓ．Ｌ．Ｓｕｅｔ．ａｌ，Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ，54（11），Ｐ．6725−6731 （1983）.

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】第１及び第２の相対する表面を有する半導
体ベース層（15）；第１及び第２の相対する表面を有し、当該第１の表面が
前記ベース層の第１の表面と続いている半導体エミッタ
障壁層（16）；前記ベース層の第２の表面と続いている半導体コレクタ
障壁層（14）；前記半導体エミッタ障壁層（16）の第２の表面と続いて
いる表面を有する半導体エミッタ層（17）；及び前記エミッタ障壁層、前記ベース層及び前記コレクタ障
壁層の各々に対する別々の電気的接触（21−22、31−3
2、41−42）を含むユニポーラトランジスタにおいて、前記エミッタ層の電気的接触（21−22）、前記ベース層
の電気的接触（31−32）、及び前記コレクタ障壁層の電
気的接触（41−42）を有し、可動荷電キャリアの縮退二
次元ガスが、前記ベース層の電気的接触（31−32）へ向
かう方向に沿って前記ベース層中に形成され、これは、
少なくとも順バイアス電圧がエミッタ障壁層接触（21−
22）へ与えられる限りにおいて達成され、前記エミッタ
障壁層は、該エミッタ障壁層の禁制帯幅が前記ベース層
の第１の表面に向かう該第１の方向に増大し、かつ前記
半導体エミッタ障壁層（16）の第２の表面と前記半導体
エミッタ層（17）の表面との接触領域において連続にな
るように、本質的に前記ベース層の第１の表面に垂直な
第１の方向に連続的に変化する濃度を持つ成分を含む化
合物半導体であることを特徴とするユニポーラトランジ
スタ。
【請求項２】請求の範囲第１項記載のユニポーラトラン
ジスタにおいて、前記ベース層（15）におけるドナー及びアクセプタの濃
度が単位体積当たり近似的に10¹⁶以下であることを特徴
とするユニポーラトランジスタ。
【請求項３】請求の範囲第１項記載のユニポーラトラン
ジスタにおいて、前記ベース層（15）におけるドナー及びアクセプタの濃
度が単位体積当たり近似的に10¹⁵以下であることを特徴
とするユニポーラトランジスタ。