JPH07112982A - 複素環式ベンゾ複素環 - Google Patents

複素環式ベンゾ複素環

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JPH07112982A
JPH07112982A JP6222688A JP22268894A JPH07112982A JP H07112982 A JPH07112982 A JP H07112982A JP 6222688 A JP6222688 A JP 6222688A JP 22268894 A JP22268894 A JP 22268894A JP H07112982 A JPH07112982 A JP H07112982A
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group
alkyl
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JP6222688A
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Otto Schallner
オツトー・シヤルナー
Hans-Joachim Santel
ハンス−ヨアヒム・ザンテル
Markus Dr Dollinger
マルクス・ドリンガー
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Bayer AG
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    • C07D277/60Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D277/62Benzothiazoles
    • C07D277/68Benzothiazoles with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached in position 2
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    • A01AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
    • A01NPRESERVATION OF BODIES OF HUMANS OR ANIMALS OR PLANTS OR PARTS THEREOF; BIOCIDES, e.g. AS DISINFECTANTS, AS PESTICIDES OR AS HERBICIDES; PEST REPELLANTS OR ATTRACTANTS; PLANT GROWTH REGULATORS
    • A01N43/00Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing heterocyclic compounds
    • A01N43/72Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing heterocyclic compounds having rings with nitrogen atoms and oxygen or sulfur atoms as ring hetero atoms
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 新規な複素環式ベンゾ複素環、その製造方法
及びその除草剤としての使用、並びに新規な中間体の提
供。 【構成】 本発明は一般式(I) 〔式中、Rは水素またはハロゲンを表わし、Rは水
素、ヒドロキシル、アルキル、アルケニル、アルキニル
等よりなる群からの基を表わし、Rは水素、シアノ、
アルキル、アルケニルまたはアルキニルよりなる群から
の基を表わし、Aは基−O−CO−,−S−CO−等を
表わし、Eは基 の1つを表わし、Qは酸素または硫黄を表わし、そして
は水素または随時置換されていてもよいアルキルを
表わす。〕の新規な複素環式ベンゾ複素環、その製造方
法、その除草剤としての使用及び新規な中間体からな
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】本発明は新規な複素環式ベンゾ複素環、そ
の製造方法及びその除草剤としての使用、並びに新規な
中間体に関する。
【0002】ある複素環式ベンゾ複素環が除草特性を有
することは既に開示されている(ヨーロッパ特許出願公
開第170,191号、同第218,972号参照)。
【0003】しかしながら、これらの従来公知の化合物
はまだいずれかの特定の重要性を得ていない。
【0004】一般式(I)
【0005】
【化11】
【0006】式中、Rは水素またはハロゲンを表わ
し、Rは水素、ヒドロキシル或いは各々随時置換され
ていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニル、シク
ロアルキル、シクロアルキルアルキル、アルコキシ、ア
ルケニルオキシ、アリールアルキルまたはアリールアル
キルオキシよりなる群からの基を表わし、Rは水素、
シアノ或いは随時置換されていてもよいアルキル、アル
ケニルまたはアルキニルよりなる群からの基を表わし、
Aは基−O−CO−、−S−CO−、−O−C(R4,R
5)−CO−、−C(R4,R5)−O−CO−、−C(R4
5)−CO−、−O−CO−C(R4,R5)−、−C
(R4,R5)−C(R4,R5)−、−N(R6)−C(R4
5)−CO−、
【0007】
【化12】
【0008】の1つを表わし、ここにR4、R及びR
は同一もしくは相異なり、かつ水素またはアルキルを
表わすか、或いは一緒になってアルカンジイルを表わ
し、Eは基
【0009】
【化13】
【0010】の1つを表わし、ここにQは酸素または硫
黄を表わし、そしてRは水素または随時置換されてい
てもよいアルキルを表わす、の新規な複素環式ベンゾ複
素環が見い出された。
【0011】かくて、一般式(I)は一般式(IA)及
び(IB)
【0012】
【化14】
【0013】の異性体化合物を表わす。
【0014】一般式(I)の新規な複素環式ベンゾ複素
環は、一般式(II)
【0015】
【化15】
【0016】式中、R1、R2、R7、A及びQは上記の
意味を有し、そしてRはアルキルまたはアリールを表
わす、の置換されたウレイドベンゾ複素環を適当ならば
反応補助剤の存在下及び適当ならば希釈剤の存在下で環
化させ、生じる一般式(IB1)
【0017】
【化16】
【0018】式中、R1、R2、R7、A及びQは上記の
意味を有する、の複素環式ベンゾ複素環を適当ならば続
いての第2の反応工程において適当ならば反応補助剤の
存在下及び適当ならば希釈剤の存在下で式(III) X−R3-1 (III) 式中、R3-1は随時置換されていてもよいアルキルを表
わし、そしてXはハロゲンまたは基−O−SO2−O−
3-1を表わす、のアルキル化剤とか、またはハロゲン
化シアノゲンと反応させ、そして適当ならば生じる式
(IB)の化合物を適当ならば第3の反応工程において
適当ならば反応補助剤の存在下及び適当ならば希釈剤の
存在下で常法例えば熱異性化により式(IA)の化合物
に転化する場合に得られる。
【0019】一般式(I)の新規な複素環式ベンゾ複素
環は強い除草活性に特徴がある。
【0020】定義における飽和もしくは不飽和炭化水素
鎖例えばアルキル、アルケニル、アルキニル、またはヘ
テロ原子に関連する例えばアルコキシは各々の場合に直
鎖状もしくは分枝鎖状である。
【0021】ハロゲンは一般にフッ素、塩素、臭素また
はヨウ素、好ましくはフッ素、塩素または臭素、殊にフ
ッ素または塩素を表わす。
【0022】本発明は好ましくはRが水素、フッ素、
塩素または臭素を表わし、Rが水素、ヒドロキシル、
随時ハロゲン、シアノ、C1〜C4−アルコキシ、C1
4−アルキル−カルボニルまたはC1〜C4−アルコキ
シ−カルボニルで置換されていてもよい炭素原子1〜6
個を有するアルキル、各々炭素原子2〜6個を有し、か
つ各々随時ハロゲンで置換されていてもよいアルケニル
またはアルキニル、各々シクロアルキル部分に炭素原子
3〜6個及び適当ならばアルキル部分に炭素原子1〜4
個を有し、かつ各々随時ハロゲンまたはC1〜C4−アル
キルで置換されていてもよいシクロアルキルまたはシク
ロアルキルアルキル、各々随時ハロゲンで置換されてい
てもよいアルコキシまたはアルケニルオキシ、或いは各
々随時ハロゲン、シアノ、C1〜C4−アルキル、C1
4−ハロゲノアルキル、C1〜C4−アルコキシまたは
1〜C4−ハロゲノアルコキシで置換されていてもよい
ベンジルまたはベンジルオキシを表わし、Rが水素、
随時ハロゲン、シアノ、C1〜C4−アルコキシ、C1
4−アルキルカルボニルまたはC1〜C4−アルコキシ
カルボニルで置換されていてもよい炭素原子1〜6個を
有するアルキル、或いは各々炭素原子2〜6個を有し、
かつ各々随時ハロゲンで置換されていてもよいアルケニ
ルまたはアルキニルを表わし、Aが基−O−CO−、−
S−CO−、−O−C(R4,R5)−CO−、−C(R4
5)−O−CO−、−C(R4,R5)−C(R4,R5)−、
−C(R4)=C(R4)−、−C(R4,R5)−CO−、−N
(R6)−C(R4,R5)−CO−、C(R4)=N−、−O−
CO−C(R4,R5)−の1つを表わし、ここにR及び
が同一もしくは相異なり、かつ個々に水素または炭
素原子1〜6個を有するアルキルを表わすか、或いは一
緒になって炭素原子2〜6個を有するアルカンジイルを
表わし、Rが水素または炭素原子1〜6個を有するア
ルキルを表わし、Eが基
【0023】
【化17】
【0024】の1つを表わし、ここにQが酸素または硫
黄を表わし、そしてRが水素または炭素原子1〜6個
を有する随時置換されていてもよいアルキルを表わす式
(I)の化合物に関する。
【0025】本発明は殊にRが水素、フッ素または塩
素を表わし、Rが水素を表わすか、Rが更に各々随
時フッ素、塩素、シアノ、メトキシ、エトキシ、n−も
しくはi−プロポキシ、アセチル、プロピオニル、n−
もしくはi−ブチロイル、メトキシカルボニル、エトキ
シカルボニル、n−もしくはi−プロポキシカルボニル
で置換されていてもよいメチル、エチル、n−もしくは
i−プロピル及びn−、i−、s−もしくはt−ブチル
を表わし、Rが更に各々随時フッ素、塩素または臭素
で置換されていてもよいアリル、1−メチル−2−プロ
ペン−1−イル、1,1−ジメチル−2−プロペン−1
−イル、2−ブテン−1−イル、プロパルギル、1−メ
チル−2−プロピン−1−イル、1,1−ジメチル−2
−プロピン−1−イルまたは2−ブチル−1−イル、或
いは各々随時フッ素、塩素、臭素、メチル、エチル、n
−もしくはi−プロピル及びn−、i−、s−もしくは
t−ブチルで置換されていてもよいシクロプロピル、シ
クロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロ
プロピルメチル、シクロブチルメチル、シクロペンチル
メチルまたはシクロヘキシルメチルを表わすか、R
更に各々随時フッ素または塩素で置換されていてもよい
メトキシ、エトキシ、n−もしくはi−プロポキシ、n
−、i−、s−もしくはt−ブトキシ、アリルオキシま
たは2−ブテン−1−イル−オキシを表わすか、或いは
が更に各々随時フッ素、塩素、臭素、シアノ、メチ
ル、エチル、n−もしくはi−プロピル、n−、i−、
s−もしくはt−ブチル、トリフルオロメチル、メトキ
シ、エトキシ、n−もしくはi−プロポキシ、ジフルオ
ロメトキシまたはトリフルオロメトキシで置換されてい
てもよいベンジルまたはベンジルオキシを表わし、R
が水素を表わすか、Rが更に各々随時フッ素、塩素、
シアノ、メトキシ、エトキシ、n−もしくはi−プロポ
キシ、アセチル、プロピオニル、n−もしくはi−ブチ
ロイル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、n
−もしくはi−プロポキシカルボニルで置換されていて
もよいメチル、エチル、n−もしくはi−プロピル及び
n−、i−、s−もしくはt−ブチルを表わすか、或い
はRが更に各々随時フッ素、塩素または臭素で置換さ
れていてもよいアリル、1−メチル−2−プロペン−1
−イル、1,1−ジメチル−2−プロペン−1−イル、
2−ブテン−1−イル、プロパルギル、1−メチル−2
−プロピン−1−イル、1,1−ジメチル−2−プロピ
ン−1−イルまたは2−ブチン−1−イルを表わし、A
が基−O−CO−、−S−CO−、−O−C(R4,R5)
−CO−、−C(R4,R5)−O−CO−、−O−CO−
C(R4,R5)−、−C(R4,R5)−C(R4,R5)−、−
C(R4)=C(R4)−、−C(R4,R5)−CO−、−N
(R6)−C(R4,R5)−CO−、−C(R4)=N−の1つ
を表わし、ここにR及びRが同一もしくは相異な
り、かつ個々に水素、メチル、エチル、n−もしくはi
−プロピルを表わすか、或いは一緒になってエタン−
1,2−ジイルを表わし、Rが水素、メチル、エチル
またはn−もしくはi−プロピルを表わし、Eが基
【0026】
【化18】
【0027】の1つを表わし、ここにQが酸素または硫
黄を表わし、そしてRが水素、メチル、エチル、n−
もしくはi−プロピルまたはn−、i−、s−もしくは
t−ブチルを表わす式(I)の化合物に関する。
【0028】一般的にか、または好適な基が示されるか
のいずれかにおける上記の基の定義は式(I)の最終生
成物及びまた同様に各々の場合の製造に必要とされる出
発物質または中間体に適用される。
【0029】これらの基の定義は相互に必要に応じて結
合することができ、即ち上記の範囲内の組合せも可能で
ある。
【0030】上に定義される基R1、R2、R3、R7、A
及びQの可能な組合せの例を下に示す:
【0031】
【化19】
【0032】
【表1】
【0033】
【表2】
【0034】
【表3】
【0035】
【表4】
【0036】
【表5】
【0037】
【表6】
【0038】
【表7】
【0039】
【表8】
【0040】
【表9】
【0041】
【表10】
【0042】
【表11】
【0043】
【表12】
【0044】例えば、出発化合物として6−フルオロ−
5−[3−(1−エトキシ−1−メトキシカルボニルイ
ミノメチル)−ウレイド]−3−メチル−ベンゾチアゾ
ル−5−オン及びアルキル化剤としてヨウ化メチルを用
いる場合、本発明による工程の反応の経路は次式により
表わし得る:
【0045】
【化20】
【0046】
【化21】
【0047】式(II)は式(I)の化合物の製造に対
する本発明による方法において出発物質として用いるウ
レイドベンゾ複素環の一般的定義を与える。
【0048】式(II)において、R1、R2、R7、A
及びQは好ましくは、または殊にR1、R2、R7、A及
びQに対して好適または殊に好適なものとして本発明に
よる式(I)の化合物の記載と関連して既に上に示され
た意味を有する。
【0049】出発物質として必要とされる式(II)の
ウレイドベンゾ複素環は従来文献からは未知のものであ
り;新規な物質であり、これらは本発明の一部である。
【0050】式(II)の化合物は一般式(IV)
【0051】
【化22】
【0052】式中、R1、R及びAは上記の意味を有
する、のイソシアナトベンゾ複素環を0乃至50℃間の
温度で、適当ならば希釈剤例えば塩化メチレンの存在下
で式(V)
【0053】
【化23】
【0054】式中、R7、R及びQは上記の意味を有
する、のウレタン(カルバメート)と反応させる場合に
得られる。
【0055】先駆体として必要とされる式(IV)のイ
ソシアナトベンゾ複素環は従来文献からは未知であり、
新規な物質であり、そして本発明の一部である。
【0056】式(IV)において、R1、R及びAは
好ましくは、または殊にR1、R及びAに対して好適
または殊に好適なものとして本発明による式(I)の化
合物の記載に関連して既に上に示された意味を有する。
【0057】一般的に、式(IV)の化合物は式(V
I)
【0058】
【化24】
【0059】式中、R1、R及びAは上記の意味を有
する、の適当なアミノ複素環とホスゲンまたはジホスゲ
ン(クロロギ酸トリクロロメチル)との前記の反応にお
いて常法により問題なく製造することができ、そしてこ
れらのものは中間体の単離なしに式(V)のウレタンと
反応させ得る(製造実施例参照)。
【0060】式(VI)のアミノ複素環は公知であり、
そして/またはそれ自体公知の方法により製造し得る
(ヨーロッパ特許出願公開第170,191号、同第2
18,972号参照)。
【0061】先駆体としても必要とされる式(V)のウ
レタン(カルバメート)は公知であり、そして/または
それ自体公知の方法により製造し得る(ドイツ国特許出
願公開第2,933,889号;Liebigs An
n.Chem.1985、2363〜2370参照)。
【0062】式(III)は適当ならば本発明による工
程を行う際に出発物質として更に用いるアルキル化剤の
一般的定義を与える。この式(III)において、R
3-1は好ましくは随時ハロゲン、シアノ、C1〜C4−ア
ルコキシ、C1〜C4−アルキル−カルボニルまたはC1
〜C4−アルコキシ−カルボニルで置換されていてもよ
い炭素原子1〜6個を有する直鎖状もしくは分枝鎖状の
アルキル或いは各々炭素原子2〜6個を有し、かつ各々
随時ハロゲンで置換されていてもよい直鎖状もしくは分
枝鎖状のアルケニルまたはアルキニル;殊に各々随時フ
ッ素、塩素、シアノ、メトキシ、エトキシ、n−もしく
はi−プロポキシ、アセチル、プロピオニル、n−もし
くはi−ブチロイル、メトキシカルボニル、エトキシカ
ルボニル、n−もしくはi−プロポキシカルボニルで置
換されていてもよいメチル、エチル、n−もしくはi−
プロピル及びn−、i−、s−もしくはt−ブチル或い
は各々随時フッ素、塩素または臭素で置換されていても
よいアリル、1−メチル−2−プロペン−1−イル、
1,1−ジメチル−2−プロペン−1−イル、2−ブテ
ン−1−イル、プロパルギル、1−メチル−2−プロピ
ン−1−イル、1,1−ジメチル−2−プロピン−1−
イルまたは2−ブチル−1−イルを表わし;Xは好まし
くは塩素、臭素、ヨウ素、メトキシスルホニルオキシま
たはエトキシスルホニルオキシを表わす。
【0063】式(III)のアルキル化剤は有機合成に
対して公知の化学薬品である。
【0064】本発明による方法の工程1を行うに適する
希釈剤は全ての通常の有機または無機溶媒である。これ
らのものには殊に脂肪族、脂環式または芳香族の、随時
ハロゲン化されていてもよい炭化水素例えばベンジン、
ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジク
ロロベンゼン、石油エーテル、ヘキサン、シクロヘキサ
ン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素;エー
テル例えばジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテ
ル、ジオキサン、テトラヒドロフランまたはエチレング
リコールジメチルエーテルもしくはエチレングリコール
ジエチルエーテル;ケトン例えばアセトン、ブタノンま
たはメチルイソブチルケトン;ニトリル例えばアセトニ
トリル、プロピオニトリルまたはベンゾニトリル;アミ
ド例えばN,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメ
チルアセトアミド、N−メチルホルムアニリド、N−メ
チルピロリドンまたはヘキサメチルリン酸トリアミド;
エステル例えば酢酸メチルまたは酢酸エチル;スルホキ
シド例えばジメチルスルホキシド、或いはアルコール例
えばメタノール、エタノール、n−もしくはi−プロパ
ノールまたはn−、i−、s−もしくはt−ブタノール
が含まれる。
【0065】適当ならば本発明による方法の工程1は適
当な塩基性反応補助剤の存在下で行い得る。適当な塩基
性反応補助剤は全ての通常の無機または有機塩基であ
る。これらのものは例えばアルカリ土金属水酸化物また
はアルカリ金属水酸化物例えば水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、水酸化カルシウムまたは他に水酸化アンモ
ニウム、アルカリ金属炭酸(水素)塩例えば炭酸(水
素)ナトリウム、炭酸(水素)カリウムまたは炭酸アン
モニウム、アルカリ金属酢酸塩またはアルカリ土金属酢
酸塩例えば酢酸ナトリウム、酢酸カリウムもしくは酢酸
カルシウムまたは酢酸アンモニウム、アルカリ金属アル
コラート例えばナトリウムメチラート、カリウムメチラ
ート、ナトリウムエチラート、カリウムエチラート、ナ
トリウムt−ブチラートまたはカリウムt−ブチラー
ト、及びまた第三級アミン例えばトリメチルアミン、ト
リエチルアミン、トリブチルアミン、N,N−ジメチル
アニリン、ピリジン、N−メチルピペリジン、N,N−
ジメチルアミノピリジン、ジアザビシクロオクタン(D
ABCO)、ジアザビシクロノネン(DBN)またはジ
アザビシクロウンデセン(DBU)が含まれる。
【0066】本発明による方法の工程1を行う場合、反
応温度は実質的な範囲内で変え得る。一般に、本法は0
乃至150℃間、好ましくは20乃至120℃間の温度
で行う。
【0067】本発明による方法の工程1は通常大気圧下
で行う。しかしながらまた、昇圧または減圧下で行うこ
ともできる。
【0068】本発明による方法の工程1を行うために、
反応補助剤として式(II)のウレイドベンゾ複素環1
モル当り0.01〜2.0モル、好ましくは0.1〜
1.0モルの塩基を一般に用いる。反応を行い、反応生
成物を処理し、そして公知の方法と同様に単離する(製
造実施例参照)。
【0069】本発明による方法の工程2を行う際に適す
る希釈剤は不活性有機溶媒である。これらのものには殊
に脂肪族、脂環式または芳香族の、随時ハロゲン化され
ていてもよい炭化水素例えばベンジン、ベンゼン、トル
エン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、
石油エーテル、ヘキサン、シクロヘキサン、ジクロロメ
タン、クロロホルム、四塩化炭素;エーテル例えばジエ
チルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、
テトラヒドロフランまたはエチレングリコールジメチル
エーテルもしくはエチレングリコールジエチルエーテ
ル;ケトン例えばアセトン、ブタノンまたはメチルイソ
ブチルケトン;ニトリル例えばアセトニトリル、プロピ
オニトリルまたはベンゾニトリル;アミド例えばN,N
−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミ
ド、N−メチルホルムアニリド、N−メチルピロリドン
またはヘキサメチルリン酸トリアミド;エステル例えば
酢酸メチルまたは酢酸エチル;スルホキシド例えばジメ
チルスルホキシドが含まれる。
【0070】本発明による方法の工程2は好ましくは適
当な反応補助剤の存在下で行う。適当な反応補助剤は全
ての通常の無機または有機塩基である。これらのものに
は例えばアルカリ土金属またはアルカリ金属の水素化
物、水酸化物、アミド、アルコラート、酢酸塩、炭酸塩
または炭酸水素塩例えば水酸化ナトリウム、ナトリウム
アミド、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチアー
ト、カリウムt−ブチラート、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、水酸化アンモニウム、酢酸ナトリウム、酢
酸カリウム、酢酸カルシウム、酢酸アンモニウム、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水
素ナトリウムまたは炭酸アンモニウム、及びまた第三級
アミン例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン、ト
リブチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、ピリジ
ン、N−メチルピペリジン、N,N−ジメチルアミノピ
リジン、ジアザビシクロオクタン(DABCO)、ジア
ザビシクロノネン(DBN)またはジアザビシクロウン
デセン(DBU)が含まれる。
【0071】適当ならばまた、本発明による方法の工程
2は2相系例えば水/トルエンまたは水/ジクロロメタ
ンにおいて、適当ならば適当な相間移動触媒の存在下で
行い得る。挙げ得るかかる触媒の例には次のものがあ
る:ヨウ化テトラブチルアンモニウム、臭化テトラブチ
ルアンモニウム、塩化テトラブチルアンモニウム、臭化
トリブチル−メチルホスホニウム、塩化トリメチル−C
13/C15−アルキルアンモニウム、臭化トリメチル−C
13/C15−アルキルアンモニウム、メチル硫酸ジベンジ
ル−ジメチル−アンモニウム、塩化ジメチル−C12/C
14−アルキル−ベンジルアンモニウム、臭化ジメチル−
12/C14−アルキル−ベンジルアンモニウム、水酸化
テトラブチルアンモニウム、塩化トリエチルベンジルア
ンモニウム、塩化メチルトリオクチルアンモニウム、塩
化トリメチルベンジルアンモニウム、15−クラウン−
5−18−クラウン−6またはトリス−[2−(2−メ
トキシエトキシ)−エチル]−アミン。
【0072】本発明による方法の工程2を行う場合、反
応温度は実質的な範囲内で変え得る。一般に、本法は−
20乃至120℃間、好ましくは0乃至80℃間の温度
で行う。
【0073】本発明による方法の工程2は通常大気圧下
で行う。しかしながらまた、昇圧または減圧下でも行い
得る。
【0074】本発明による方法の工程2を行うために、
式(IB1)の複素環式ベンゾ複素環1モル当り1.0
〜5.0モル、好ましくは1.0〜2.5モルの式(I
II)のアルキル化剤或いはまたハロゲン化シアノゲ
ン、並びに1.0〜5.0モル、好ましくは1.0〜
2.5モルの反応補助剤としての塩基及び適当ならば
0.001〜2.0モル、好ましくは0.001〜1.
0モルの相間移動触媒を一般に用いる。
【0075】反応を行い、反応生成物を処理し、そして
公知の方法と同様に単離する(製造実施例参照)。
【0076】本発明による方法の工程3を行う際に適す
る希釈剤は通常の不活性有機溶媒である。これらのもの
には殊に脂肪族、脂環式または芳香族の、随時ハロゲン
化されていてもよい炭化水素例えばベンジン、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベ
ンゼン、石油エーテル、ヘキサン、シクロヘキサン、ジ
クロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素;エーテル例
えばジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオ
キサン、テトラヒドロフランまたはエチレングリコール
ジメチルエーテルもしくはエチレングリコールジエチル
エーテル;ケトン例えばアセトン、ブタノンまたはメチ
ルイソブチルケトン;ニトリル例えばアセトニトリル、
プロピオニトリルまたはベンゾニトリル;アミド例えば
N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセ
トアミド、N−メチルホルムアニリド、N−メチルピロ
リドンまたはヘキサメチルリン酸トリアミド;エステル
例えば酢酸メチルまたは酢酸エチル;スルホキシド例え
ばジメチルスルホキシドが含まれる。
【0077】適当ならばまた、本発明による方法の工程
3は適当な塩基性反応補助剤の存在下で行い得る。適当
な反応補助剤は全ての通常の無機または有機塩基であ
る。これらのものには例えばアルカリ土金属水酸化物ま
たはアルカリ金属水酸化物例えば水酸化ナトリウム、水
酸化カルシウム、水酸化カリウムまたは他に水酸化アン
モニウム、アルカリ金属炭酸塩例えば炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム
または炭酸アンモニウム、アルカリ金属酢酸塩またはア
ルカリ土金属酢酸塩例えば酢酸ナトリウム、酢酸カリウ
ム、酢酸カルシウムまたは酢酸アンモニウム、及びまた
第三級アミン例えばトリメチルアミン、トリエチルアミ
ン、トリブチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、ピ
リジン、N−メチルピペリジン、N,N−ジメチルアミ
ノピリジン、ジアザビシクロオクタン(DABCO)、
ジアザビシクロノネン(DBN)またはジアザビシクロ
ウンデセン(DBU)が含まれる。
【0078】本発明による方法の工程3を行う場合、反
応温度は実質的な範囲内で変え得る。一般に、本法の工
程3は50乃至200℃間、好ましくは80乃至150
℃間の温度で行う。
【0079】本発明による方法の工程3は通常大気圧下
で行う。しかしながらまた、昇圧または減圧下でも行い
得る。
【0080】本発明による方法の工程3を行うために、
反応補助剤として式(IB)の複素環式ベンゾ複素環1
モル当り0.01〜2.0モル、好ましくは0.1〜
1.0モルの塩基を一般に用いる。しかしながらまた、
本発明による方法の工程3を塩基性反応補助剤の添加な
しに行うことができる。反応を行い、反応生成物を処理
し、そして公知の方法と同様に単離する(製造実施例参
照)。
【0081】式(I)の最終生成物は常法により、例え
ばカラムクロマトグラフィーまたは再結晶により精製す
る。
【0082】これらのものは融点によるか、または結晶
化しない化合物の場合は屈折率またはプロトン核磁気共
鳴分光法(1H−NMR)により特性化する。
【0083】本発明による活性化合物は、落葉剤、乾燥
剤、広葉樹の破壊剤及び、ことに殺雑草剤として使用す
ることができる。雑草とは、最も広い意味において、植
物を望まない場所に生長するすべての植物を意味する。
本発明による物質は、本質的に使用量に依存して完全除
草剤または選択的除草剤として作用する。
【0084】本発明による化合物は、例えば、次の植物
に関連して使用することができる: 次の属の双子葉雑草 :カラシ属(Sinapis)、 マメグンバ
イナズナ属(Lepidium)、ヤエムグラ属(Galium)、ハコ
ベ属(Stellaria)、シカギク属(Matricaria)、カミツ
レモドキ属(Anthemis)、ガリンソガ属(Galinsoga)、
アカザ属(Chenopodium)、イラクサ属(Urtica)、キオ
ン属(Senecio)、ヒユ属(Amaranthus)、スベリヒユ属
(Portulaca)、オナモミ属(Xanthium)、ヒルガオ属(C
onvolvulus)、サツマイモ属(Ipomoea)、 タデ属(Polyg
onum)、 セスバニア属(Sesbania)、オナモミ属(Ambros
ia)、 アザミ属(Cirsium)、ヒレアザミ属 (Carduus)、
ノゲシ属(Sonchus)、 ナス属(Solanum)、 イヌガラシ
属(Rorippa)、 キカシグサ属(Rotala)、 アゼナ属(Lin
dernia)、 ラミウム属(Lamium)、 クワガタソウ属(Vero
nica)、イチビ属(Abutilon)、 エメクス属 (Emex)、
チヨウセンアサガオ属(Datura)、 スミレ属(Viola)、
チシマオドリコ属(Galeopsis)、 ケシ属(Papaver)、セ
ンタウレア属(Centaurea)、ツメクサ属(Trifoliu
m)、キツネノボタン属(Ranunculus)及びタンポポ属
(Taraxacum)。次の属の双子葉栽培植物 :ワタ属(Gossypium)、 ダイズ
属(Glycine)、 フダンソウ属(Beta)、 ニンジン属(Dau
cus)、 インゲンマメ属 (Phaseolus)、エンドウ属(Pisu
m)、ナス属(Solanum)、アマ属(Linum)、 サツマイモ
属(Ipomoea)、 ソラマメ属(Vicia)、 タバコ属(Nico
tiana)、 トマト属(Lycopersicon)、ラツカセイ属(Ar
achis)、 アブラナ属(Brassica)、 アキノノゲシ属(La
ctuca)、キユウリ属(Cucumis) 及びウリ属(Cucurbit
a)。次の属の単子葉雑草 :ヒエ属(Echinochloa)、 エノコロ
グサ属(Setaria)、 キビ属(Panicum)、メヒシバ属(Di
gitaria)、 アワガリエ属(Phleum)、スズメノカタビラ
属(Poa)、 ウシノケグサ属(Festuca)、 オヒシバ属(E
leusine)、 ブラキアリア属(Brachiaria)、 ドクムギ属
(Lolium)、 スズメノチヤヒキ属(Bromus)、カラスム
ギ属(Avena)、 カヤツリグサ属(Cyperus)、モロコシ属
(Sorghum)、カモジグサ属(Agropyron)、 シノドン属
(Cynodon)、ミズアオイ属(Monochoria)、 テンツキ属
(Fimbristylis)、 オモダカ属(Sagittaria)、 ハリイ
属 (Eleocharis)、 ホタルイ属(Scirpus)、 パスパルム
属 (Paspalum)、カモノハシ属(Ischaemum)、 スフエノ
クレア属(Sphenoclea)、 ダクチロクテニウム属(Dact
yloctenium)、 ヌカボ属(Agrostis)、スズメノテツポ
ウ属(Alopecurus) 及びアペラ属(Apera)。
【0085】次の属の単子葉栽培植物:イネ属(Oryz
a)、トウモロコシ属(Zea)、 コムギ属(Triticum)、
オオムギ属(Hordeum)、 カラスムギ属(Avena)、ライ
ムギ属(Secale)、 モロコシ属(Sorghum)、キビ属(Pa
nicum)、 サトウキビ属(Saccharum)、アナナス属(Ana
nas)、 クサスギカズラ属(Asparagus) およびネギ属
(Allium)。
【0086】しかしながら、本発明による活性化合物の
使用はこれらの属にまったく限定されず、同じ方法で他
の植物に及ぶ。
【0087】化合物は、濃度に依存して、例えば工業地
域及び鉄道線路上、樹木が存在するか或いは存在しない
道路及び広場上の雑草の完全防除に適する。同等に、化
合物は多年生栽培植物、例えば造林、装飾樹木、果樹
園、ブドウ園、かんきつ類の木立、クルミの果樹園、バ
ナナの植林、コーヒーの植林、茶の植林、ゴムの木の植
林、油ヤシの植林、カカオの植林、小果樹の植え付け及
びホップの栽培植物の中の雑草の防除に、そして1年生
栽培植物中の雑草の選択的防除に使用することができ
る。
【0088】本発明による式(I)の化合物は発芽前及
び発芽後法により単子葉及び双子葉の栽培植物における
単子葉及び双子葉の雑草を選択的防除に殊に適してい
る。
【0089】本活性化合物は普通の組成物例えば、溶
液、乳液、懸濁剤、粉末、泡沫剤、塗布剤、エアロゾ
ル、活性化合物を含浸させた天然及び合成物質、及び重
合物質中の極く細かいカプセルに変えることができる。
【0090】これらの組成物は公知の方法において、例
えば活性化合物を伸展剤、即ち液体溶媒及び/または固
体の担体と随時表面活性剤、即ち乳化剤及び/または分
散剤及び/または発泡剤と混合して製造される。
【0091】また伸展剤として水を用いる場合、例えば
補助溶媒として有機溶媒を用いることもできる。液体溶
媒として、主に、芳香族炭化水素例えばキシレン、トル
エンもしくはアルキルナフタレン、塩素化された芳香族
もしくは塩素化された脂肪族炭化水素例えばクロロベン
ゼン、クロロエチレンもしくは塩化メチレン、脂肪族炭
化水素例えばシクロヘキサン、またはパラフィン例えば
鉱油留分、鉱油及び植物油、アルコール例えばブタノー
ルもしくはグリコール並びにそのエーテル及びエステ
ル、ケトン例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチ
ルイソブチルケトンもしくはシクロヘキサノン、強い有
極性溶媒例えばジメチルホルムアミド及びジメチルスル
ホキシド並びに水が適している。固体の担体として、例
えばアンモニウム塩及び粉砕した天然鉱物、例えばカオ
リン、クレイ、タルク、チョーク、石英、アタパルジャ
イト、モントモリロナイト、またはケイソウ土並びに粉
砕した合成鉱物例えば高度に分散性ケイ酸、アルミナ及
びシリケートが適している;粒剤に対する固体の担体と
して、粉砕し且つ分別した天然岩、例えば方解石、大理
石、軽石、海泡石及び白雲石並びに無機及び有機のひき
わり合成顆粒及び有機物質の顆粒例えばおがくず、やし
がら、トウモロコシ穂軸及びタバコの茎が適している;
乳化剤及び/または発泡剤として非イオン性及び陰イオ
ン性乳化剤例えばポリオキシエチレン−脂肪酸エステ
ル、ポリオキシエチレン脂肪族アルコールエーテル例え
ばアルキルアリールポリグリコールエーテル、アルキル
スルホネート、アルキルスルフェート、アリールスルホ
ネート並びにアルブミン加水分解生成物が適している;
分散剤として、例えばリグニンスルファイト廃液及びメ
チルセルロースが適している。
【0092】接着剤例えばカルボキシメチルセルロース
並びに粉状、粒状またはラテックス状の天然及び合成重
合体例えばアラビアゴム、ポリビニルアルコール及びポ
リビニルアセテート並びに天然リン脂質例えばセフアリ
ン及びレシチン、及び合成リン脂質を組成物に用いるこ
とができる。更に添加剤は鉱油及び植物油であることが
できる。
【0093】着色剤例えば無機顔料、例えば酸化鉄、酸
化チタン及びプルシアンブルー並びに有機染料例えばア
リザリン染料、アゾ染料及び金属フタロシアニン染料、
及び微量の栄養剤例えば鉄、マンガン、ホウ素、銅、コ
バルト、モリブテン及び亜鉛の塩を用いることができ
る。
【0094】調製物は一般に活性化合物0.1乃至95
重量%間、好ましくは0.5乃至90重量%間を含有す
る。
【0095】また本発明による活性化合物は、そのまま
或いはその調製物の形態において、公知の除草剤との混
合物として雑草を防除するために用いることができ、仕
上げた配合物または槽混合が可能である。
【0096】混合物に適する除草剤は公知の除草剤例え
ばアニリド例えばジフルフェニカン及びプロパニル;ア
リールカルボン酸例えばジクロロピコリン酸、ジカンバ
及びピコロラム;アリールオキシアルカン酸例えば2,
4−D、2,4−DB、2,4−DP、フルロキシピ
ル、MCPA、MCPP及びトリクロピル;アリールオ
キシ−フェノキシ−アルカン酸エステル例えばジクロホ
ップ−メチル、フェノキサプロップーエチル、フルアジ
ホップ−ブチル、ハロキシホップ−メチル及びキザロホ
ップ−エチル;アジノン例えばクロリダゾン及びノルフ
ルラゾン;カルバメート例えばクロルプロファム、デス
メジファム、フェンメジファム及びプロファム、クロロ
アセトアニリド例えばアラクロル、アセトクロル、ブタ
クロル、メタザクロル、メトラクロル、プレチラクロル
及びプロパクロル;ジニトロアニリン例えばオリザリ
ン、ペンジメタリン及びトリフルラリン;ジフェニルエ
ステル例えばアシフルオルフェン、ビフェノックス、フ
ルオログリコフェン、ホメサフェン、ハロサフェン、ラ
クトフェン及びオキシフルオルフェン;ウレア例えばク
ロルトルロン、ジウロン、フルオメツロン、イソプロツ
ロン、リヌロン及びメタベンズチアズロン;ヒドロキシ
ルアミン例えばアロキシジム、クレトジム、シクロキシ
ジム、セトキシジム及びトラルコキシジム;イミダゾリ
ノン例えばイマゼタピル、イマザメタベンズ、イマザピ
ル及びイマザキン;ニトリル例えばブロモキシニル、ジ
クロベニル及びイオキシニル;オキシアセトアミド例え
ばメフェナセット;スルホニルウレア例えばアミドスル
フロン、ベンスルフロン−メチル、クロリムロン−エチ
ル、クロルスルフロン、シノスルフロン、メトスルフロ
ン−メチル、ニコスルフロン、プリミスルフロン、ピラ
ゾスルフロン−エチル、チフェンスルフロン−メチル、
トリアスルフロン及びトリベヌロン−メチル;チオカル
バメート例えばブチレート、シクロエート、ジ−アレー
ト、EPTC、エスプロカルブ、モリネート、プロスル
ホカルブ、チオベンカルブ及びトリ−アレート;トリア
ジン例えばアトラジン、シアナジン、シマジン、シメト
リン、ターブトリン及びターブチラジン;トリアジノン
例えばヘキサジノン、メタミトロン及びメトリブジン;
他のもの例えばアミノトリアゾール、ベンフレセート、
ベンタゾン、シンメチリン、クロマゾン、クロピラリ
ド、ジフェンゾクアット、ジチオピル、エトフメセー
ト、フルオロクロリドン、グルホシネート、グリホセー
ト、イソキサベン、ピリデート、キンクロラック、キン
メラック、スルホセート及びトリジファンがある。
【0097】他の公知の活性化合物、例えば殺菌・殺カ
ビ剤(fungicides)、殺虫剤(insecticides)、殺ダニ
剤(acaricides)、 殺線虫剤(nematicides)、小鳥忌
避剤、植物栄養剤及び土壌改良剤との混合物が可能であ
る。
【0098】除草剤として使用する場合、本活性化合物
はそのままで、或いはその配合物の形態またはその配合
物から更に希釈して調製した使用形態、例えば調製済液
剤、懸濁剤、乳剤、粉剤、塗布剤及び粒剤の形態で使用
することができる。これらのものは普通の方法で、例え
ば液剤散布(watering)、スプレー、アトマイジング
(atomising)または粒剤散布(scattering)によって
施用される。
【0099】本発明による活性化合物は植物の発芽の前
または後に施用することができる。また本化合物は種子
をまく前に土壌中に混入することができる。
【0100】本活性化合物の使用量は実質的な範囲内で
変えることができる。この量は本質的に所望の効果の特
質に依存する。一般に、施用量は土壌表面1ヘクタール
当り活性化合物0.001乃至1kg間、好ましくは
0.005乃至5kg/ha間である。
【0101】本発明による活性化合物の製造及び使用は
次の実施例から知ることができる。
【0102】
【実施例】製造実施例実施例1
【0103】
【化25】
【0104】ナトリウムメチラート1.1g(0.02
モル)を20℃でメタノール50ml中の7−フルオロ
−6−[3−(1−エトキシ−1−メトキシ−カルボニ
ルイミノ−メチル)−ウレイド]−4−プロピル−1,
4−ベンゾキサジン−3−オン8.0g(0.02モ
ル)の溶液に加え、そして混合物を16時間還流させ
た。
【0105】次に溶媒を水流ポンプの真空下で留去し、
残渣を氷−水中に置き、そして混合物を2N塩酸を用い
て酸性にした。この工程中に結晶状で得られた生成物を
濾過により単離した。
【0106】融点210℃の3−(7−フルオロ−3−
オキソ−4−プロピル−1,4−ベンゾキサジン−6−
イル)−6−エトキシ−(1H,3H)−1,3,5−
トリアジン−2,4−ジオン5.0g(理論値の69
%)が得られた。
【0107】実施例2
【0108】
【化26】
【0109】炭酸カリウム1.4g(10ミリモル)及
びヨウ化メチル0.7g(5ミリモル)を20℃で順次
ジメチルスルホキシド30ml中の3−(7−フルオロ
−3−オキソ−4−プロピル−1,4−ベンゾキサジン
−6−イル)−6−エトキシ−(1H,3H)−1,
3,5−トリアジン−2,4−ジオン1.8g(5ミリ
モル)の溶液に加え、そして混合物を20℃で20時間
撹拌した。
【0110】処理のために、混合物をその容量の約2倍
に水で希釈し、2N塩酸を用いて酸性にし、そして塩化
メチレンを用いて抽出した。抽出した生成物をカラムク
ロマトグラフィー(シリカゲル、塩化メチレン/メタノ
ール、40/1容量)により精製した。
【0111】融点94℃の3−(7−フルオロ−3−オ
キソ−4−プロピル−1,4−ベンゾキサジン−6−イ
ル)−6−エトキシ−1−メチル−(1H,3H)−
1,3,5−トリアジン−2,4−ジオン0.7g(理
論値の37%)が得られた。
【0112】実施例3
【0113】
【化27】
【0114】トリエチルアミン1滴をトルエン20ml
中の3−(7−フルオロ−3−オキソ−4−エチル−
1,4−ベンゾキサジン−6−イル)−6−エトキシ−
(1H,3H)−1,3,5−トリアジン−2,4−ジ
オン0.5g(1.3ミリモル)の溶液に加え、そして
混合物を16時間還流させた。
【0115】揮発成分を順次水流ポンプの真空下及び次
にオイルポンプの真空下で注意して留去した。
【0116】融点91℃の3−(7−フルオロ−3−オ
キソ−4−エチル−1,4−ベンゾキサジン−6−イ
ル)−1−エチル−5−メチル−(1H,3H,5H)
−1,3,5−トリアジン−2,4,6−トリオン0.
42g(理論値の81%)が得られた。
【0117】実施例1〜3と同様に、そして本発明によ
る製造方法の一般的記載に従って製造し得る式(I)ま
たは式(IA)及び(IB)の化合物の他の例は下の表
1に示すものである。
【0118】
【化28】
【0119】
【表13】
【0120】式(II)の出発物質 実施例(II−1)
【0121】
【化29】
【0122】クロロギ酸トリクロロメチル4.0g
(0.02モル)を70℃で撹拌しながら酢酸エチル5
0ml中の6−アミノ−7−フルオロ−4−(n−プロ
ピル)−(2H)−1,4−ベンゾキサジン−3−オン
4.4g(0.02モル)の溶液に加え、続いて混合物
を2時間還流させた。続いて溶媒を留去し、残渣をジク
ロロメタン100ml中に取り入れ、N−(1−エトキ
シ−1−イミノ−メチル)−カルバミン酸メチル3.0
g(0.02モル)を加え、そして混合物を20℃で1
6時間撹拌した。処理のために、分別した沈殿を濾別
し、濾液を真空中で濃縮し、そして残渣を石油エーテル
で砕解した。
【0123】融点84℃のN−(7−フルオロ−3−オ
キソ−4−(n−プロピル)−(2H)−1,4−ベン
ゾキサジン−6−イル)−N′−(1−エトキシ−1−
メトキシカルボニルイミノ−メチル)−ウレア7.5g
(理論値の95%)が得られた。
【0124】実施例(II−1)と同様に製造し得る式
(II)の化合物の例は下の表2に示すものである。
【0125】
【表14】
【0126】実施例A 発芽前試験 溶 媒: アセトン5重量部 乳化剤: アルキルアリールポリグリコールエーテル 1重量部 活性化合物の適当な調製物を製造するために、活性化合
物1重量部を上記量の溶媒と混合し、上記量の乳化剤を
加え、この濃厚物を水で希釈して所望の濃度にした。
【0127】試験植物の種子を通常の土壌中にまき、2
4時間後、活性化合物の調製物を液剤散布した。単位面
積当りの水の量を一定に保持することが適当である。調
製物中の活性化合物の濃度は重要ではなく、単位面積当
り施用した活性化合物の量のみが決めてとなる。3週間
後、植物に対する損傷の程度を、未処理対照植物の発育
と比較して、%損傷として評価した。数字は次の意味す
る: 0%=作用なし(未処理対照と同様) 100%=全て撲滅 この試験に置いて、例えば製造実施例4の化合物によ
り、作物植物例えば大麦による良好な許容性と共に雑草
に対する極めて有効な活性が示された。その結果を表A
に示す。
【0128】
【表15】
【0129】実施例B 発芽後試験 溶 媒: アセトン5重量部 乳化剤: アルキルアリールポリグリコールエーテル 1重量部 活性化合物の適当な調製物を製造するために、活性化合
物1重量部を上記量の溶媒と混合し、上記量の乳化剤を
加え、この濃厚物を水で希釈して所望の濃度にした。
【0130】高さ5〜15cmの試験植物に、単位面積
当り所望の活性化合物の特定の量が施用されるように、
活性化合物の調製物を噴霧した。噴霧液の濃度を所望の
活性化合物の特定の量が1ヘクタール当り水2000
lとして施用されるように選定した。3週間後、植物に
対する損傷の程度を未処理対照植物の発育と比較して%
損傷として評価した。数字は次の意味する: 0%=作用なし(未処理対照と同様) 100%=全て撲滅 この試験に置いて、例えば製造実施例2,4,5,6,
7及び8の化合物により、ある場合に作物植物例えば大
麦及び大豆による良好な許容性と共に雑草に対する有効
な活性が示された。その結果を表Bに示す。
【0131】
【表16】
【0132】
【表17】
【0133】
【表18】
【0134】本発明の主なる特徴及び態様は以下のとお
りである。
【0135】1.一般式(I)
【0136】
【化30】
【0137】式中、Rは水素またはハロゲンを表わ
し、Rは水素、ヒドロキシル或いは各々随時置換され
ていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニル、シク
ロアルキル、シクロアルキルアルキル、アルコキシ、ア
ルケニルオキシ、アリールアルキルまたはアリールアル
キルオキシよりなる群からの基を表わし、Rは水素、
シアノ或いは随時置換されていてもよいアルキル、アル
ケニルまたはアルキニルよりなる群からの基を表わし、
Aは基−O−CO−、−S−CO−、−O−C(R4,R
5)−CO−、−C(R4,R5)−O−CO−、−C(R4
5)−CO−、−O−CO−C(R4,R5)−、−C
(R4,R5)−C(R4,R5)−、−N(R6)−C(R4
5)−CO−、
【0138】
【化31】
【0139】の1つを表わし、ここにR4、R及びR
は同一もしくは相異なり、かつ水素またはアルキルを
表わすか、或いは一緒になってアルカンジイルを表わ
し、Eは基
【0140】
【化32】
【0141】の1つを表わし、ここにQは酸素または硫
黄を表わし、そしてRは水素または随時置換されてい
てもよいアルキルを表わす、の複素環式ベンゾ複素環。
【0142】2.Rが水素、フッ素、塩素または臭素
を表わし、Rが水素、ヒドロキシル、随時ハロゲン、
シアノ、C1〜C4−アルコキシ、C1〜C4−アルキル−
カルボニルまたはC1〜C4−アルコキシ−カルボニルで
置換されていてもよい炭素原子1〜6個を有するアルキ
ル、各々炭素原子2〜6個を有し、かつ各々随時ハロゲ
ンで置換されていてもよいアルケニルまたはアルキニ
ル、各々シクロアルキル部分に炭素原子3〜6個及び適
当ならばアルキル部分に炭素原子1〜4個を有し、かつ
各々随時ハロゲンまたはC1〜C4−アルキルで置換され
ていてもよいシクロアルキルまたはシクロアルキルアル
キル、各々随時ハロゲンで置換されていてもよいアルコ
キシまたはアルケニルオキシ、或いは各々随時ハロゲ
ン、シアノ、C1〜C4−アルキル、C1〜C4−ハロゲノ
アルキル、C1〜C4−アルコキシまたはC1〜C4−ハロ
ゲノアルコキシで置換されていてもよいベンジルまたは
ベンジルオキシを表わし、Rが水素、随時ハロゲン、
シアノ、C1〜C4−アルコキシ、C1〜C4−アルキルカ
ルボニルまたはC1〜C4−アルコキシカルボニルで置換
されていてもよい炭素原子1〜6個を有するアルキル、
或いは各々炭素原子2〜6個を有し、かつ各々随時ハロ
ゲンで置換されていてもよいアルケニルまたはアルキニ
ルを表わし、Aが基−O−CO−、−S−CO−、−O
−C(R4,R5)−CO−、−C(R4,R5)−O−CO
−、−C(R4,R5)−C(R4,R5)−、−C(R4)=C
(R4)−、−C(R4,R5)−CO−、−N(R6)−C
(R4,R5)−CO−、C(R4)=N−、−O−CO−C
(R4,R5)−の1つを表わし、ここにR及びRが同
一もしくは相異なり、かつ個々に水素または炭素原子1
〜6個を有するアルキルを表わすか、或いは一緒になっ
て炭素原子2〜6個を有するアルカンジイルを表わし、
が水素または炭素原子1〜6個を有するアルキルを
表わし、Eが基
【0143】
【化33】
【0144】の1つを表わし、ここにQが酸素または硫
黄を表わし、そしてRが水素または炭素原子1〜6個
を有する随時置換されていてもよいアルキルを表わす、
上記1に記載の一般式(I)の複素環式ベンゾ複素環。
【0145】3.Rが水素、フッ素または塩素を表わ
し、Rが水素を表わすか、Rが更に各々随時フッ
素、塩素、シアノ、メトキシ、エトキシ、n−もしくは
i−プロポキシ、アセチル、プロピオニル、n−もしく
はi−ブチロイル、メトキシカルボニル、エトキシカル
ボニル、n−もしくはi−プロポキシカルボニルで置換
されていてもよいメチル、エチル、n−もしくはi−プ
ロピル及びn−、i−、s−もしくはt−ブチルを表わ
し、Rが更に各々随時フッ素、塩素または臭素で置換
されていてもよいアリル、1−メチル−2−プロペン−
1−イル、1,1−ジメチル−2−プロペン−1−イ
ル、2−ブテン−1−イル、プロパルギル、1−メチル
−2−プロピン−1−イル、1,1−ジメチル−2−プ
ロピン−1−イルまたは2−ブチル−1−イル、或いは
各々随時フッ素、塩素、臭素、メチル、エチル、n−も
しくはi−プロピル及びn−、i−、s−もしくはt−
ブチルで置換されていてもよいシクロプロピル、シクロ
ブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロプロ
ピルメチル、シクロブチルメチル、シクロペンチルメチ
ルまたはシクロヘキシルメチルを表わすか、Rが更に
各々随時フッ素または塩素で置換されていてもよいメト
キシ、エトキシ、n−もしくはi−プロポキシ、n−、
i−、s−もしくはt−ブトキシ、アリルオキシまたは
2−ブテン−1−イル−オキシを表わすか、或いはR
が更に各々随時フッ素、塩素、臭素、シアノ、メチル、
エチル、n−もしくはi−プロピル、n−、i−、s−
もしくはt−ブチル、トリフルオロメチル、メトキシ、
エトキシ、n−もしくはi−プロポキシ、ジフルオロメ
トキシまたはトリフルオロメトキシで置換されていても
よいベンジルまたはベンジルオキシを表わし、Rが水
素を表わすか、Rが更に各々随時フッ素、塩素、シア
ノ、メトキシ、エトキシ、n−もしくはi−プロポキ
シ、アセチル、プロピオニル、n−もしくはi−ブチロ
イル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、n−
もしくはi−プロポキシカルボニルで置換されていても
よいメチル、エチル、n−もしくはi−プロピル及びn
−、i−、s−もしくはt−ブチルを表わすか、或いは
が更に各々随時フッ素、塩素または臭素で置換され
ていてもよいアリル、1−メチル−2−プロペン−1−
イル、1,1−ジメチル−2−プロペン−1−イル、2
−ブテン−1−イル、プロパルギル、1−メチル−2−
プロピン−1−イル、1,1−ジメチル−2−プロピン
−1−イルまたは2−ブチン−1−イルを表わし、Aが
基−O−CO−、−S−CO−、−O−C(R4,R5)−
CO−、−C(R4,R5)−O−CO−、−O−CO−C
(R4,R5)−、−C(R4,R5)−C(R4,R5)−、−C
(R4)=C(R4)−、−C(R4,R5)−CO−、−N
(R6)−C(R4,R5)−CO−、−C(R4)=N−の1つ
を表わし、ここにR及びRが同一もしくは相異な
り、かつ個々に水素、メチル、エチル、n−もしくはi
−プロピルを表わすか、或いは一緒になってエタン−
1,2−ジイルを表わし、Rが水素、メチル、エチル
またはn−もしくはi−プロピルを表わし、Eが基
【0146】
【化34】
【0147】の1つを表わし、ここにQが酸素または硫
黄を表わし、そしてRが水素、メチル、エチル、n−
もしくはi−プロピルまたはn−、i−、s−もしくは
t−ブチルを表わす、上記1に記載の一般式(I)の複
素環式ベンゾ複素環。
【0148】4.一般式(I)
【0149】
【化35】
【0150】式中、R1、R2、R3、A及びEは上記1
に記載の意味を有する、の複素環式ベンゾ複素環を製造
する際に、一般式(II)
【0151】
【化36】
【0152】式中、R1、R2、R7、A及びQは上記1
に記載の意味を有し、そしてRはアルキルまたはアリ
ールを表わす、の置換されたウレイドベンゾ複素環を適
当ならば反応補助剤の存在下及び適当ならば希釈剤の存
在下で環化させ、生じる一般式(IB1)
【0153】
【化37】
【0154】式中、R1、R2、R7、A及びQは上記1
に記載の意味を有する、の複素環式ベンゾ複素環を適当
ならば続いての第2の反応工程において適当ならば反応
補助剤の存在下及び適当ならば希釈剤の存在下で式(I
II) X−R3-1 (III) 式中、R3-1は随時置換されていてもよいアルキルを表
わし、そしてXはハロゲンまたは基−O−SO2−O−
3-1を表わす、のアルキル化剤とか、またはハロゲン
化シアノゲンと反応させ、そして適当ならば生じる式
(IB)の化合物を適当ならば第3の反応工程において
適当ならば反応補助剤の存在下及び適当ならば希釈剤の
存在下で常法例えば熱異性化により式(IA)の化合物
に転化することを特徴とする、一般式(I)の複素環式
ベンゾ複素環の製造方法。
【0155】5.少なくとも1つの上記1または2に記
載の式(I)の複素環式ベンゾ複素環を含むことを特徴
とする、除草剤組成物。
【0156】6.上記1〜4のいずれかに記載の一般式
(I)の複素環式ベンゾ複素環を植物及び/またはその
環境上に作用させることを特徴とする、望ましくない植
物の防除方法。
【0157】7.望ましくない植物を防除する際の上記
1〜4のいずれかに記載の一般式(I)の複素環式ベン
ゾ複素環の使用。
【0158】8.上記1〜4のいずれかに記載の一般式
(I)の複素環式ベンゾ複素環を増量剤及び/または表
面活性物質と混合することを特徴とする、除草剤組成物
の製造方法。
【0159】9.一般式(II)
【0160】
【化38】
【0161】式中、Rは水素またはハロゲンを表わ
し、Rは水素、ヒドロキシル或いは各々随時置換され
ていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニル、シク
ロアルキル、シクロアルキルアルキルう、アルコキシ、
アルケニルオキシ、アリールアルキルまたはアリールア
ルキルオキシよりなる群からの基を表わし、Aは基−O
−CO−、−S−CO−、−O−C(R4,R5)−CO
−、−C(R4,R5)−O−CO−、−C(R4,R5)−C
O−、−O−CO−C(R4,R5)−、−C(R4,R5)−
C(R4,R5)−、−N(R6)−C(R4,R5)−CO−、
【0162】
【化39】
【0163】の1つを表わし、ここにR4、R及びR
は同一もしくは相異なり、かつ水素またはアルキルを
表わすか、或いは一緒になってアルカンジイルを表わ
し、Qは酸素または硫黄を表わし、Rは水素または随
時置換されていてもよいアルキルを表わし、そしてR
はアルキルまたはアリールを表わす、の置換されたウレ
イドベンゾ複素環。
【0164】10.一般式(IV)
【0165】
【化40】
【0166】式中、Rは水素またはハロゲンを表わ
し、Rは水素、ヒドロキシル或いは各々随時置換され
ていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニル、シク
ロアルキル、シクロアルキルアルキル、アルコキシ、ア
ルケニルオキシ、アリールアルキルまたはアリールアル
キルオキシよりなる群からの基を表わし、Aは基−O−
CO−、−S−CO−、−O−C(R4,R5)−CO−、
−C(R4,R5)−O−CO−、−C(R4,R5)−CO
−、−O−CO−C(R4,R5)−、−C(R4,R5)−C
(R4,R5)−、−N(R6)−C(R4,R5)−CO−、
【0167】
【化41】
【0168】の1つを表わし、ここにR4、R及びR
は同一もしくは相異なり、かつ水素またはアルキルを
表わすか、或いは一緒になってアルカンジイルを表わ
す、のイソシアナトベンゾ複素環。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 A01N 43/86 101 C07D 209/08 8217−4C 209/34 8217−4C 231/56 241/44 263/58 265/14 265/36 277/68 403/04 417/04 //(C07D 413/04 251:34 263:58) (C07D 413/04 251:34 265:14) (C07D 413/04 251:34 265:36) (C07D 403/04 209:08 251:34) (C07D 403/04 209:34 251:34) (C07D 403/04 231:56 251:34) (C07D 403/04 241:44 251:34) (C07D 417/04 251:34 277:68) (72)発明者 マルクス・ドリンガー ドイツ51381レーフエルクーゼン・ブルシ ヤイダーシユトラーセ154ベー

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式(I) 【化1】 式中、Rは水素またはハロゲンを表わし、Rは水
    素、ヒドロキシル或いは各々随時置換されていてもよい
    アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、
    シクロアルキルアルキル、アルコキシ、アルケニルオキ
    シ、アリールアルキルまたはアリールアルキルオキシよ
    りなる群からの基を表わし、Rは水素、シアノ或いは
    随時置換されていてもよいアルキル、アルケニルまたは
    アルキニルよりなる群からの基を表わし、Aは基−O−
    CO−、−S−CO−、−O−C(R4,R5)−CO−、
    −C(R4,R5)−O−CO−、−C(R4,R5)−CO
    −、−O−CO−C(R4,R5)−、−C(R4,R5)−C
    (R4,R5)−、−N(R6)−C(R4,R5)−CO−、 【化2】 の1つを表わし、ここにR4、R及びRは同一もし
    くは相異なり、かつ水素またはアルキルを表わすか、或
    いは一緒になってアルカンジイルを表わし、Eは基 【化3】 の1つを表わし、ここにQは酸素または硫黄を表わし、
    そしてRは水素または随時置換されていてもよいアル
    キルを表わす、の複素環式ベンゾ複素環。
  2. 【請求項2】 一般式(I) 【化4】 式中、R1、R2、R3、A及びEは請求項1に記載の意
    味を有する、の複素環式ベンゾ複素環を製造する際に、
    一般式(II) 【化5】 式中、R1、R2、R7、A及びQは請求項1に記載の意
    味を有し、そしてRはアルキルまたはアリールを表わ
    す、の置換されたウレイドベンゾ複素環を適当ならば反
    応補助剤の存在下及び適当ならば希釈剤の存在下で環化
    させ、生じる一般式(IB1) 【化6】 式中、R1、R2、R7、A及びQは請求項1に記載の意
    味を有する、の複素環式ベンゾ複素環を適当ならば続い
    ての第2の反応工程において適当ならば反応補助剤の存
    在下及び適当ならば希釈剤の存在下で式(III) X−R3-1 (III) 式中、R3-1は随時置換されていてもよいアルキルを表
    わし、そしてXはハロゲンまたは基−O−SO2−O−
    3-1を表わす、のアルキル化剤とか、またはハロゲン
    化シアノゲンと反応させ、そして適当ならば生じる式
    (IB)の化合物を適当ならば第3の反応工程において
    適当ならば反応補助剤の存在下及び適当ならば希釈剤の
    存在下で常法例えば熱異性化により式(IA)の化合物
    に転化することを特徴とする、一般式(I)の複素環式
    ベンゾ複素環の製造方法。
  3. 【請求項3】 少なくとも1つの請求項1または2に記
    載の式(I)の複素環式ベンゾ複素環を含むことを特徴
    とする、除草剤組成物。
  4. 【請求項4】 請求項1または2に記載の一般式(I)
    の複素環式ベンゾ複素環を植物及び/またはその環境上
    に作用させることを特徴とする、望ましくない植物の防
    除方法。
  5. 【請求項5】 請求項1または2に記載の一般式(I)
    の複素環式ベンゾ複素環を増量剤及び/または表面活性
    物質と混合することを特徴とする、除草剤組成物の製造
    方法。
  6. 【請求項6】 一般式(II) 【化7】 式中、Rは水素またはハロゲンを表わし、Rは水
    素、ヒドロキシル或いは各々随時置換されていてもよい
    アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、
    シクロアルキルアルキル、アルコキシ、アルケニルオキ
    シ、アリールアルキルまたはアリールアルキルオキシよ
    りなる群からの基を表わし、Aは基−O−CO−、−S
    −CO−、−O−C(R4,R5)−CO−、−C(R4,R
    5)−O−CO−、−C(R4,R5)−CO−、−O−CO
    −C(R4,R5)−、−C(R4,R5)−C(R4,R5)−、
    −N(R6)−C(R4,R5)−CO−、 【化8】 の1つを表わし、ここにR4、R及びRは同一もし
    くは相異なり、かつ水素またはアルキルを表わすか、或
    いは一緒になってアルカンジイルを表わし、Qは酸素ま
    たは硫黄を表わし、Rは水素または随時置換されてい
    てもよいアルキルを表わし、そしてRはアルキルまた
    はアリールを表わす、の置換されたウレイドベンゾ複素
    環。
  7. 【請求項7】 一般式(IV) 【化9】 式中、Rは水素またはハロゲンを表わし、Rは水
    素、ヒドロキシル或いは各々随時置換されていてもよい
    アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、
    シクロアルキルアルキル、アルコキシ、アルケニルオキ
    シ、アリールアルキルまたはアリールアルキルオキシよ
    りなる群からの基を表わし、Aは基−O−CO−、−S
    −CO−、−O−C(R4,R5)−CO−、−C(R4,R
    5)−O−CO−、−C(R4,R5)−CO−、−O−CO
    −C(R4,R5)−、−C(R4,R5)−C(R4,R5)−、
    −N(R6)−C(R4,R5)−CO−、 【化10】 の1つを表わし、ここにR4、R及びRは同一もし
    くは相異なり、かつ水素またはアルキルを表わすか、或
    いは一緒になってアルカンジイルを表わす、のイソシア
    ナトベンゾ複素環。
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