JPH07106902B2 - 薄膜超電導体の製造方法 - Google Patents
薄膜超電導体の製造方法Info
- Publication number
- JPH07106902B2 JPH07106902B2 JP1118942A JP11894289A JPH07106902B2 JP H07106902 B2 JPH07106902 B2 JP H07106902B2 JP 1118942 A JP1118942 A JP 1118942A JP 11894289 A JP11894289 A JP 11894289A JP H07106902 B2 JPH07106902 B2 JP H07106902B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- heat treatment
- temperature
- reduced pressure
- range
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E40/00—Technologies for an efficient electrical power generation, transmission or distribution
- Y02E40/60—Superconducting electric elements or equipment; Power systems integrating superconducting elements or equipment
Landscapes
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Superconductor Devices And Manufacturing Methods Thereof (AREA)
- Superconductors And Manufacturing Methods Therefor (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、高臨界温度を持つ酸化物超電導体の薄膜製造
方法に関するものである。
方法に関するものである。
従来の技術 高い超電導転移温度を持つ酸化物超電導体として、Ba−
La−Cu−O系の超電導体が発見された[ジェイジー・ベ
トノルツ アンド ケー・エー・ミュラー,(ツァイト
シュリフト・フュア・フィジーク ベー)−コンデンス
ト マター(J.G.Bednorzand K.A.Muller,(Zeitshrift
fur Physik B)−Condendsed Matter,vol.64,189−193
(1986))]。これ以来数々の新しい酸化物超電導体が
発見されるに至った。
La−Cu−O系の超電導体が発見された[ジェイジー・ベ
トノルツ アンド ケー・エー・ミュラー,(ツァイト
シュリフト・フュア・フィジーク ベー)−コンデンス
ト マター(J.G.Bednorzand K.A.Muller,(Zeitshrift
fur Physik B)−Condendsed Matter,vol.64,189−193
(1986))]。これ以来数々の新しい酸化物超電導体が
発見されるに至った。
ところで最近、これら従来の酸化物超電導体とは常電導
状態における電荷搬送担体が異なる、Nd−Ce−Cu−Oに
代表されるNd2CuO4型結晶構造の新しい酸化物超電導体
が発見された[ワイ・トクラ、エイチ・タカギ アンド
エス・ウチダ,(ネイチャー)Y.Tokura,H.Takagi an
d S.Uchida,(Nature)vol.337,345−347(1989)]。
この種の材料の超電導機構の詳細は明らかではないが、
転送温度がさらに高くなる可能性があり、また新しいデ
バイスの実現等の有望な応用が期待される。
状態における電荷搬送担体が異なる、Nd−Ce−Cu−Oに
代表されるNd2CuO4型結晶構造の新しい酸化物超電導体
が発見された[ワイ・トクラ、エイチ・タカギ アンド
エス・ウチダ,(ネイチャー)Y.Tokura,H.Takagi an
d S.Uchida,(Nature)vol.337,345−347(1989)]。
この種の材料の超電導機構の詳細は明らかではないが、
転送温度がさらに高くなる可能性があり、また新しいデ
バイスの実現等の有望な応用が期待される。
発明が解決しようとする課題 しかしながら、Nd−Ce−Cu−O系の材料は、現在の技術
では主として焼結という過程でしか形成できないため、
セラミックの粉末あるいはブロックの形状でしか得られ
ない。一方、この種の材料を実用化する場合、薄膜状に
加工することが強く要望されているが、従来の技術で
は、良好な超電導特性を有する薄膜作製は非常に困難と
されている。
では主として焼結という過程でしか形成できないため、
セラミックの粉末あるいはブロックの形状でしか得られ
ない。一方、この種の材料を実用化する場合、薄膜状に
加工することが強く要望されているが、従来の技術で
は、良好な超電導特性を有する薄膜作製は非常に困難と
されている。
本発明は、このような従来技術の課題を解決することを
目的とする。
目的とする。
課題を解決するための手段 主成分が、Nd2CuO4型結晶構造の(A1-yBy)2CuX4で表わ
される複合酸化物の超電導薄膜を作製するための本発明
の製造方法は、薄膜を堆積させた後、10分の1気圧以下
の減圧下で、400℃から1100℃の範囲の温度で熱処理し
た後、5分以内で急激に室温に冷却して得るというもの
である。ここで、AはNd,Sm,Prのうちの少なくとも一
種、BはCe,Thのうちの少なくとも一種、XはO(酸
素),F(フッ素)のうちの少なくとも一種の元素を示
す。またyは、0≦y≦0.2の範囲の数値である。
される複合酸化物の超電導薄膜を作製するための本発明
の製造方法は、薄膜を堆積させた後、10分の1気圧以下
の減圧下で、400℃から1100℃の範囲の温度で熱処理し
た後、5分以内で急激に室温に冷却して得るというもの
である。ここで、AはNd,Sm,Prのうちの少なくとも一
種、BはCe,Thのうちの少なくとも一種、XはO(酸
素),F(フッ素)のうちの少なくとも一種の元素を示
す。またyは、0≦y≦0.2の範囲の数値である。
作用 本発明者らはこのNd2CuO4型結晶構造の酸化物超電導体
薄膜に対して、熱処理条件と出現する超電導性の関係に
ついて詳細に調べた。従来この種のセラミックス材料の
熱処理条件としては、アルゴンと酸素の混合ガスを用
い、酸素分圧を低くした上記ガスを流しながら(1気
圧)、約1000℃程度で行なうのがよいとされていた。し
かしながらこの熱処理においては、10時間程度の長時間
が必要とされた。本発明者らはこの種の薄膜において最
適熱処理条件を探索した結果、10分の1以下の減圧下で
の熱処理の後に急速冷却を行なえば、意外にもわずか1
分から1時間程度の時間で優れた超電導特性の薄膜が再
現性良く得られることを発見した。この理由は現在のと
ころ明らかではないが、体積が少なく表面積の多い薄膜
独自の形状が、減圧下での熱処理に対して非常に効果的
に働き、短時間で超電導性出現を要件を満たしたものと
考えられる。また急速冷却が良い理由は定かではない
が、伝導面の酸素の離脱が途中の温度で顕著になるせい
かも知れない。このように減圧下で超電導性を出現する
という製法は、薄膜成膜プロセスをそのまま利用できる
という点で非常に有効で、例えばこの種の薄膜を成膜し
た後そのまま蒸着用真空容器の中で加熱してもよいし、
また後で他の膜を積層させる際にその蒸着用真空容器の
中で蒸着する前に加熱して超電導性を得ることもでき
る。減圧状態の圧力としては10分の1気圧以下で効果が
現われたが、特に10-1Torr以下であれば10K以上の温度
でゼロ抵抗を示す超電導薄膜が得られることを確認し
た。また熱処理温度も400〜1100℃とした場合に超電導
性出現に効果があったが、特に600〜900℃の熱処理温度
では完全にゼロ抵抗となる温度が20K程度で確認され、
再現性もすぐれていた。
薄膜に対して、熱処理条件と出現する超電導性の関係に
ついて詳細に調べた。従来この種のセラミックス材料の
熱処理条件としては、アルゴンと酸素の混合ガスを用
い、酸素分圧を低くした上記ガスを流しながら(1気
圧)、約1000℃程度で行なうのがよいとされていた。し
かしながらこの熱処理においては、10時間程度の長時間
が必要とされた。本発明者らはこの種の薄膜において最
適熱処理条件を探索した結果、10分の1以下の減圧下で
の熱処理の後に急速冷却を行なえば、意外にもわずか1
分から1時間程度の時間で優れた超電導特性の薄膜が再
現性良く得られることを発見した。この理由は現在のと
ころ明らかではないが、体積が少なく表面積の多い薄膜
独自の形状が、減圧下での熱処理に対して非常に効果的
に働き、短時間で超電導性出現を要件を満たしたものと
考えられる。また急速冷却が良い理由は定かではない
が、伝導面の酸素の離脱が途中の温度で顕著になるせい
かも知れない。このように減圧下で超電導性を出現する
という製法は、薄膜成膜プロセスをそのまま利用できる
という点で非常に有効で、例えばこの種の薄膜を成膜し
た後そのまま蒸着用真空容器の中で加熱してもよいし、
また後で他の膜を積層させる際にその蒸着用真空容器の
中で蒸着する前に加熱して超電導性を得ることもでき
る。減圧状態の圧力としては10分の1気圧以下で効果が
現われたが、特に10-1Torr以下であれば10K以上の温度
でゼロ抵抗を示す超電導薄膜が得られることを確認し
た。また熱処理温度も400〜1100℃とした場合に超電導
性出現に効果があったが、特に600〜900℃の熱処理温度
では完全にゼロ抵抗となる温度が20K程度で確認され、
再現性もすぐれていた。
実施例 以下に、本発明の実施例について図面を参照しながら説
明する。
明する。
Nd1.85Ce0.15Cu2Oxの酸化物セラミックス焼結体をター
ゲットとして用い、チタン酸ストロンチウム(100)面
の基体上に、高周波プレナーマグネトロンスパッタによ
り薄膜作製を行なった。基体温度を650℃とし、スパッ
タ電力160W、スパッタガスは純アルゴン、ガス圧力3×
10-3Torrの条件のもとで、約1時間スパッタ蒸着するこ
とにより、約0.8μm厚の薄膜が得られらた。成膜の
後、薄膜の組成を調べたところ、金属元素の比率はNd:C
e:Cu=1.84:0.16:1.0とほぼ化学量論比になっていた。
また薄膜の結晶構造は、X線回折法によりc軸が基板に
垂直に配向したNd2CuO4型の結晶構造が主体となってい
ることが判った。作製したままの膜の電気抵抗は温度を
下げるに従い増加する傾向を見せ、超伝導性の兆候が現
れるのはきわめてまれであった。
ゲットとして用い、チタン酸ストロンチウム(100)面
の基体上に、高周波プレナーマグネトロンスパッタによ
り薄膜作製を行なった。基体温度を650℃とし、スパッ
タ電力160W、スパッタガスは純アルゴン、ガス圧力3×
10-3Torrの条件のもとで、約1時間スパッタ蒸着するこ
とにより、約0.8μm厚の薄膜が得られらた。成膜の
後、薄膜の組成を調べたところ、金属元素の比率はNd:C
e:Cu=1.84:0.16:1.0とほぼ化学量論比になっていた。
また薄膜の結晶構造は、X線回折法によりc軸が基板に
垂直に配向したNd2CuO4型の結晶構造が主体となってい
ることが判った。作製したままの膜の電気抵抗は温度を
下げるに従い増加する傾向を見せ、超伝導性の兆候が現
れるのはきわめてまれであった。
薄膜作製後再び真空容器の中で加熱し、減圧下の熱処理
を行った。圧力は不純物ガスの影響を避けるため、8×
10-7Torrの高真空とした。900℃で30分の熱処理後、サ
ンプル1は真空中で自然冷却させ約30分で室温に戻し、
サンプル2は1気圧のアルゴンガスを導入して急速に冷
却させ5分以内で室温に戻した。これらの薄膜サンプル
についての電気抵抗の温度依存性を図に示す。曲線11は
減圧熱処理後に自然冷却させたもの(サンプル1)、曲
線12は急速冷却させたもの(サンプル2)である。この
ように成膜後に減圧熱処理を行なうことにより確実にゼ
ロ抵抗を示す超電導特性が出現するようになった。しか
も減圧熱処理後に急速に冷却させると、特性がよいもの
が得られることも確認された。
を行った。圧力は不純物ガスの影響を避けるため、8×
10-7Torrの高真空とした。900℃で30分の熱処理後、サ
ンプル1は真空中で自然冷却させ約30分で室温に戻し、
サンプル2は1気圧のアルゴンガスを導入して急速に冷
却させ5分以内で室温に戻した。これらの薄膜サンプル
についての電気抵抗の温度依存性を図に示す。曲線11は
減圧熱処理後に自然冷却させたもの(サンプル1)、曲
線12は急速冷却させたもの(サンプル2)である。この
ように成膜後に減圧熱処理を行なうことにより確実にゼ
ロ抵抗を示す超電導特性が出現するようになった。しか
も減圧熱処理後に急速に冷却させると、特性がよいもの
が得られることも確認された。
またこの減圧熱処理をする前い、薄膜の結晶性を完全な
ものとするため、酸素雰囲気中で熱処理を施す実験も行
なった。超電導特性を出現させるには減圧下の熱処理が
有効であったが、結晶性を向上させるにはある程度の酸
素を含む雰囲気中で800〜1200℃の温度での熱処理が有
効であることが判った。本実施例では空中1100℃2時間
の熱処理を行なうことにより、c軸のX線回折強度が3
倍程度強くなり、薄膜の結晶性が向上したことが確認さ
れた。空中熱処理後、サンプル3は炉中での自然冷却、
サンプル4は炉から取り出して5分以内で急速冷却させ
て室温まで戻し、前記と同様の900℃,30分の減圧下熱処
理を行なった後急速冷却させた。これらの薄膜サンプル
の特性も、図にあわせて示す。曲線13は空中熱処理後に
自然冷却して減圧下熱処理を施したもの(サンプル
3)、曲線14は空中熱処理後に急速冷却して減圧下熱処
理を施したもの(サンプル4)である。この特性より、
減圧下熱処理の前に空中熱処理を行なうことにより、超
電導特性が向上していることが確認される。特にこの空
中熱処理後に急速冷却したサンプル4は常電導状態の電
気抵抗率自体も小さく、ゼロ抵抗温度22Kを持つシャー
プな超電導転移を示した。
ものとするため、酸素雰囲気中で熱処理を施す実験も行
なった。超電導特性を出現させるには減圧下の熱処理が
有効であったが、結晶性を向上させるにはある程度の酸
素を含む雰囲気中で800〜1200℃の温度での熱処理が有
効であることが判った。本実施例では空中1100℃2時間
の熱処理を行なうことにより、c軸のX線回折強度が3
倍程度強くなり、薄膜の結晶性が向上したことが確認さ
れた。空中熱処理後、サンプル3は炉中での自然冷却、
サンプル4は炉から取り出して5分以内で急速冷却させ
て室温まで戻し、前記と同様の900℃,30分の減圧下熱処
理を行なった後急速冷却させた。これらの薄膜サンプル
の特性も、図にあわせて示す。曲線13は空中熱処理後に
自然冷却して減圧下熱処理を施したもの(サンプル
3)、曲線14は空中熱処理後に急速冷却して減圧下熱処
理を施したもの(サンプル4)である。この特性より、
減圧下熱処理の前に空中熱処理を行なうことにより、超
電導特性が向上していることが確認される。特にこの空
中熱処理後に急速冷却したサンプル4は常電導状態の電
気抵抗率自体も小さく、ゼロ抵抗温度22Kを持つシャー
プな超電導転移を示した。
以上のように、ゼロ抵抗温度20K程度の超電導を示す(N
d,Ce)2CuO4薄膜を再現性よく製造する方法が確立され
た。なおこの結果は、主成分がNd2CuO4型結晶構造の(A
1-yBy)2CuX4で表わされる複合酸化物の薄膜において、
A元素としてNd,Sm,Prのうちの少なくとも一種、B元素
としてCe,Thのうちの少なくとも一種、X元素としてO
(酸素),F(フッ素)のうちの少なくとも一種を用いた
場合にも同様に効果があることを確認した。ここでy
は、0≦y≦0.2の範囲の数値である。
d,Ce)2CuO4薄膜を再現性よく製造する方法が確立され
た。なおこの結果は、主成分がNd2CuO4型結晶構造の(A
1-yBy)2CuX4で表わされる複合酸化物の薄膜において、
A元素としてNd,Sm,Prのうちの少なくとも一種、B元素
としてCe,Thのうちの少なくとも一種、X元素としてO
(酸素),F(フッ素)のうちの少なくとも一種を用いた
場合にも同様に効果があることを確認した。ここでy
は、0≦y≦0.2の範囲の数値である。
発明の効果 以上説明したように、本発明により、良質で高性能なNd
2CuO4型結晶構造の薄膜超電導体を再現性良く得ること
が可能となった。本発明の製造方法は、この種の物質を
用いたデバイス等の応用には必須であり、本発明の工業
的価値は大きい。
2CuO4型結晶構造の薄膜超電導体を再現性良く得ること
が可能となった。本発明の製造方法は、この種の物質を
用いたデバイス等の応用には必須であり、本発明の工業
的価値は大きい。
図は本発明の一実施例にかかる薄膜超電導体の製造方法
において製造された薄膜超電導体の、電気抵抗の温度依
存性を示すグラフである。
において製造された薄膜超電導体の、電気抵抗の温度依
存性を示すグラフである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 瀬恒 謙太郎 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 和佐 清孝 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (56)参考文献 特開 平2−211678(JP,A)
Claims (5)
- 【請求項1】主成分が、Nd2CuO4型結晶構造の(A
1-yBy)2CuX4で表わされる複合酸化物の薄膜を、10分の
1気圧以下の減圧下で、400℃から1100℃の範囲の温度
で熱処理した後、5分以内で急激に室温に冷却して得る
(ここで、AはNd,Sm,Prのうちの少なくとも一種、Bは
Ce,Thのうちの少なくとも一種、XはO(酸素),F(フ
ッ素)のうちの少なくとも一種の元素を示す。またy
は、0≦y≦0.2の範囲の数値である)ことを特徴とす
る薄膜超電導体の製造方法。 - 【請求項2】雰囲気の圧力が、10-1Torr(〜10-4気圧)
以下であることを特徴する請求項1記載の薄膜超電導体
の製造方法。 - 【請求項3】熱処理温度が600℃から900℃の範囲である
ことを特徴とする請求項1記載の薄膜超電導体の製造方
法。 - 【請求項4】減圧下での熱処理前に、空中あるいは酸化
雰囲気中で800℃から1200℃の範囲の温度で熱処理を施
すことを特徴とする請求項1記載の薄膜超電導体の製造
方法。 - 【請求項5】空中あるいは酸化雰囲気中で800℃から120
0℃の範囲の温度で熱処理を施した後に、5分以内で急
激に室温に冷却して得ることを特徴とする請求項4記載
の薄膜超電導体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1118942A JPH07106902B2 (ja) | 1989-05-12 | 1989-05-12 | 薄膜超電導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1118942A JPH07106902B2 (ja) | 1989-05-12 | 1989-05-12 | 薄膜超電導体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02296723A JPH02296723A (ja) | 1990-12-07 |
JPH07106902B2 true JPH07106902B2 (ja) | 1995-11-15 |
Family
ID=14749051
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1118942A Expired - Lifetime JPH07106902B2 (ja) | 1989-05-12 | 1989-05-12 | 薄膜超電導体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07106902B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5098802B2 (ja) * | 2008-05-20 | 2012-12-12 | 新日鐵住金株式会社 | バルク酸化物超伝導材料及びその製造方法 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2785299B2 (ja) * | 1989-02-10 | 1998-08-13 | ソニー株式会社 | 超伝導金属酸化物材料の製造方法 |
-
1989
- 1989-05-12 JP JP1118942A patent/JPH07106902B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH02296723A (ja) | 1990-12-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3188358B2 (ja) | 酸化物超電導体薄膜の製造方法 | |
JPS6161556B2 (ja) | ||
JPH07106902B2 (ja) | 薄膜超電導体の製造方法 | |
JPH01166419A (ja) | 超電導薄膜の作製方法 | |
JPH02311312A (ja) | 薄膜超電導体の製造方法 | |
JPH02252618A (ja) | Bi系超電導薄膜の製造方法 | |
JP3353871B2 (ja) | 酸化物超電導体薄膜積層体及び酸化物超電導体薄膜積層体の製造方法 | |
JPH02311396A (ja) | 薄膜超伝導体とその製造方法 | |
JPH07106904B2 (ja) | 薄膜超電導体の製造方法 | |
JP2961852B2 (ja) | 薄膜超電導体の製造方法 | |
JPH02175613A (ja) | 酸化物超伝導薄膜の作製方法 | |
JP2616986B2 (ja) | Tl系超電導体積層膜の製造法 | |
JPH0492816A (ja) | 薄膜超伝導体の製造方法 | |
JPH01208328A (ja) | スパッタリング用ターゲットおよび超電導薄膜の製造方法 | |
JPH0317253A (ja) | 薄膜超電導体の製造方法 | |
JPH01212215A (ja) | 高温酸化物超電導体薄膜の製造方法 | |
JP2532986B2 (ja) | 酸化物超電導線材及びそれを用いたコイル | |
JPH0388716A (ja) | 酸化物系超電導薄膜の製造方法 | |
JPS63257127A (ja) | 薄膜超電導体の製造方法 | |
JPH01105416A (ja) | 薄膜超電導体の製造方法 | |
JPS63310519A (ja) | 酸化物超電導材料からなる薄膜の製造方法 | |
JPH01167218A (ja) | 超電導薄膜の作製方法 | |
JPH01286926A (ja) | 超電導体薄膜の製造方法 | |
JPS63276824A (ja) | 高温超電導薄膜の製造方法 | |
Klein et al. | Plasma Oxidation of Y-Ba-Cu-O Precursor Filaments |