JPH07106902B2 - 薄膜超電導体の製造方法 - Google Patents

薄膜超電導体の製造方法

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JPH07106902B2
JPH07106902B2 JP1118942A JP11894289A JPH07106902B2 JP H07106902 B2 JPH07106902 B2 JP H07106902B2 JP 1118942 A JP1118942 A JP 1118942A JP 11894289 A JP11894289 A JP 11894289A JP H07106902 B2 JPH07106902 B2 JP H07106902B2
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重徳 林
常男 三露
謙太郎 瀬恒
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、高臨界温度を持つ酸化物超電導体の薄膜製造
方法に関するものである。
従来の技術 高い超電導転移温度を持つ酸化物超電導体として、Ba−
La−Cu−O系の超電導体が発見された[ジェイジー・ベ
トノルツ アンド ケー・エー・ミュラー,(ツァイト
シュリフト・フュア・フィジーク ベー)−コンデンス
ト マター(J.G.Bednorzand K.A.Muller,(Zeitshrift
fur Physik B)−Condendsed Matter,vol.64,189−193
(1986))]。これ以来数々の新しい酸化物超電導体が
発見されるに至った。
ところで最近、これら従来の酸化物超電導体とは常電導
状態における電荷搬送担体が異なる、Nd−Ce−Cu−Oに
代表されるNd2CuO4型結晶構造の新しい酸化物超電導体
が発見された[ワイ・トクラ、エイチ・タカギ アンド
エス・ウチダ,(ネイチャー)Y.Tokura,H.Takagi an
d S.Uchida,(Nature)vol.337,345−347(1989)]。
この種の材料の超電導機構の詳細は明らかではないが、
転送温度がさらに高くなる可能性があり、また新しいデ
バイスの実現等の有望な応用が期待される。
発明が解決しようとする課題 しかしながら、Nd−Ce−Cu−O系の材料は、現在の技術
では主として焼結という過程でしか形成できないため、
セラミックの粉末あるいはブロックの形状でしか得られ
ない。一方、この種の材料を実用化する場合、薄膜状に
加工することが強く要望されているが、従来の技術で
は、良好な超電導特性を有する薄膜作製は非常に困難と
されている。
本発明は、このような従来技術の課題を解決することを
目的とする。
課題を解決するための手段 主成分が、Nd2CuO4型結晶構造の(A1-yBy2CuX4で表わ
される複合酸化物の超電導薄膜を作製するための本発明
の製造方法は、薄膜を堆積させた後、10分の1気圧以下
の減圧下で、400℃から1100℃の範囲の温度で熱処理し
た後、5分以内で急激に室温に冷却して得るというもの
である。ここで、AはNd,Sm,Prのうちの少なくとも一
種、BはCe,Thのうちの少なくとも一種、XはO(酸
素),F(フッ素)のうちの少なくとも一種の元素を示
す。またyは、0≦y≦0.2の範囲の数値である。
作用 本発明者らはこのNd2CuO4型結晶構造の酸化物超電導体
薄膜に対して、熱処理条件と出現する超電導性の関係に
ついて詳細に調べた。従来この種のセラミックス材料の
熱処理条件としては、アルゴンと酸素の混合ガスを用
い、酸素分圧を低くした上記ガスを流しながら(1気
圧)、約1000℃程度で行なうのがよいとされていた。し
かしながらこの熱処理においては、10時間程度の長時間
が必要とされた。本発明者らはこの種の薄膜において最
適熱処理条件を探索した結果、10分の1以下の減圧下で
の熱処理の後に急速冷却を行なえば、意外にもわずか1
分から1時間程度の時間で優れた超電導特性の薄膜が再
現性良く得られることを発見した。この理由は現在のと
ころ明らかではないが、体積が少なく表面積の多い薄膜
独自の形状が、減圧下での熱処理に対して非常に効果的
に働き、短時間で超電導性出現を要件を満たしたものと
考えられる。また急速冷却が良い理由は定かではない
が、伝導面の酸素の離脱が途中の温度で顕著になるせい
かも知れない。このように減圧下で超電導性を出現する
という製法は、薄膜成膜プロセスをそのまま利用できる
という点で非常に有効で、例えばこの種の薄膜を成膜し
た後そのまま蒸着用真空容器の中で加熱してもよいし、
また後で他の膜を積層させる際にその蒸着用真空容器の
中で蒸着する前に加熱して超電導性を得ることもでき
る。減圧状態の圧力としては10分の1気圧以下で効果が
現われたが、特に10-1Torr以下であれば10K以上の温度
でゼロ抵抗を示す超電導薄膜が得られることを確認し
た。また熱処理温度も400〜1100℃とした場合に超電導
性出現に効果があったが、特に600〜900℃の熱処理温度
では完全にゼロ抵抗となる温度が20K程度で確認され、
再現性もすぐれていた。
実施例 以下に、本発明の実施例について図面を参照しながら説
明する。
Nd1.85Ce0.15Cu2Oxの酸化物セラミックス焼結体をター
ゲットとして用い、チタン酸ストロンチウム(100)面
の基体上に、高周波プレナーマグネトロンスパッタによ
り薄膜作製を行なった。基体温度を650℃とし、スパッ
タ電力160W、スパッタガスは純アルゴン、ガス圧力3×
10-3Torrの条件のもとで、約1時間スパッタ蒸着するこ
とにより、約0.8μm厚の薄膜が得られらた。成膜の
後、薄膜の組成を調べたところ、金属元素の比率はNd:C
e:Cu=1.84:0.16:1.0とほぼ化学量論比になっていた。
また薄膜の結晶構造は、X線回折法によりc軸が基板に
垂直に配向したNd2CuO4型の結晶構造が主体となってい
ることが判った。作製したままの膜の電気抵抗は温度を
下げるに従い増加する傾向を見せ、超伝導性の兆候が現
れるのはきわめてまれであった。
薄膜作製後再び真空容器の中で加熱し、減圧下の熱処理
を行った。圧力は不純物ガスの影響を避けるため、8×
10-7Torrの高真空とした。900℃で30分の熱処理後、サ
ンプル1は真空中で自然冷却させ約30分で室温に戻し、
サンプル2は1気圧のアルゴンガスを導入して急速に冷
却させ5分以内で室温に戻した。これらの薄膜サンプル
についての電気抵抗の温度依存性を図に示す。曲線11は
減圧熱処理後に自然冷却させたもの(サンプル1)、曲
線12は急速冷却させたもの(サンプル2)である。この
ように成膜後に減圧熱処理を行なうことにより確実にゼ
ロ抵抗を示す超電導特性が出現するようになった。しか
も減圧熱処理後に急速に冷却させると、特性がよいもの
が得られることも確認された。
またこの減圧熱処理をする前い、薄膜の結晶性を完全な
ものとするため、酸素雰囲気中で熱処理を施す実験も行
なった。超電導特性を出現させるには減圧下の熱処理が
有効であったが、結晶性を向上させるにはある程度の酸
素を含む雰囲気中で800〜1200℃の温度での熱処理が有
効であることが判った。本実施例では空中1100℃2時間
の熱処理を行なうことにより、c軸のX線回折強度が3
倍程度強くなり、薄膜の結晶性が向上したことが確認さ
れた。空中熱処理後、サンプル3は炉中での自然冷却、
サンプル4は炉から取り出して5分以内で急速冷却させ
て室温まで戻し、前記と同様の900℃,30分の減圧下熱処
理を行なった後急速冷却させた。これらの薄膜サンプル
の特性も、図にあわせて示す。曲線13は空中熱処理後に
自然冷却して減圧下熱処理を施したもの(サンプル
3)、曲線14は空中熱処理後に急速冷却して減圧下熱処
理を施したもの(サンプル4)である。この特性より、
減圧下熱処理の前に空中熱処理を行なうことにより、超
電導特性が向上していることが確認される。特にこの空
中熱処理後に急速冷却したサンプル4は常電導状態の電
気抵抗率自体も小さく、ゼロ抵抗温度22Kを持つシャー
プな超電導転移を示した。
以上のように、ゼロ抵抗温度20K程度の超電導を示す(N
d,Ce)2CuO4薄膜を再現性よく製造する方法が確立され
た。なおこの結果は、主成分がNd2CuO4型結晶構造の(A
1-yBy2CuX4で表わされる複合酸化物の薄膜において、
A元素としてNd,Sm,Prのうちの少なくとも一種、B元素
としてCe,Thのうちの少なくとも一種、X元素としてO
(酸素),F(フッ素)のうちの少なくとも一種を用いた
場合にも同様に効果があることを確認した。ここでy
は、0≦y≦0.2の範囲の数値である。
発明の効果 以上説明したように、本発明により、良質で高性能なNd
2CuO4型結晶構造の薄膜超電導体を再現性良く得ること
が可能となった。本発明の製造方法は、この種の物質を
用いたデバイス等の応用には必須であり、本発明の工業
的価値は大きい。
【図面の簡単な説明】
図は本発明の一実施例にかかる薄膜超電導体の製造方法
において製造された薄膜超電導体の、電気抵抗の温度依
存性を示すグラフである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 瀬恒 謙太郎 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 和佐 清孝 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (56)参考文献 特開 平2−211678(JP,A)

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】主成分が、Nd2CuO4型結晶構造の(A
    1-yBy2CuX4で表わされる複合酸化物の薄膜を、10分の
    1気圧以下の減圧下で、400℃から1100℃の範囲の温度
    で熱処理した後、5分以内で急激に室温に冷却して得る
    (ここで、AはNd,Sm,Prのうちの少なくとも一種、Bは
    Ce,Thのうちの少なくとも一種、XはO(酸素),F(フ
    ッ素)のうちの少なくとも一種の元素を示す。またy
    は、0≦y≦0.2の範囲の数値である)ことを特徴とす
    る薄膜超電導体の製造方法。
  2. 【請求項2】雰囲気の圧力が、10-1Torr(〜10-4気圧)
    以下であることを特徴する請求項1記載の薄膜超電導体
    の製造方法。
  3. 【請求項3】熱処理温度が600℃から900℃の範囲である
    ことを特徴とする請求項1記載の薄膜超電導体の製造方
    法。
  4. 【請求項4】減圧下での熱処理前に、空中あるいは酸化
    雰囲気中で800℃から1200℃の範囲の温度で熱処理を施
    すことを特徴とする請求項1記載の薄膜超電導体の製造
    方法。
  5. 【請求項5】空中あるいは酸化雰囲気中で800℃から120
    0℃の範囲の温度で熱処理を施した後に、5分以内で急
    激に室温に冷却して得ることを特徴とする請求項4記載
    の薄膜超電導体の製造方法。
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