JPH07106350A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JPH07106350A
JPH07106350A JP5265410A JP26541093A JPH07106350A JP H07106350 A JPH07106350 A JP H07106350A JP 5265410 A JP5265410 A JP 5265410A JP 26541093 A JP26541093 A JP 26541093A JP H07106350 A JPH07106350 A JP H07106350A
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JP
Japan
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semiconductor element
tab
concave portion
metal wire
semiconductor device
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Tomoji Murata
智司 村田
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NEC Corp
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 アイランド部に搭載した半導体素子をアイラ
ンド部に接地するための金属ワイヤの長さを短くし、高
周波特性を改善することを可能にする。 【構成】 半導体素子3をマウント材8により搭載する
アイランド部(タブ)2の表面に半導体素子3の底面積
よりも小さい面積の凹状部7を形成し、この凹状部7に
マウント材8を介装し、この凹状部7を覆うように半導
体素子3を搭載する。凹状部7は半導体素子3により覆
われるため、マウント材8が半導体素子3の周辺のタブ
2の表面に流れ出すことが抑制でき、接地用の金属ワイ
ヤ5の長さを短くでき、半導体装置の高周波特性を改善
する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体装置に関し、特に
半導体素子をアイランド部にマウント材で接着しかつア
イランド部に電気接続を行う半導体装置に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に高周波用半導体装置では、半導体
素子の共振を防ぐために、半導体素子を搭載するアイラ
ンド部を接地(グランド)することが多い。また、半導
体素子の接地用電極を接地電位に接続するため、接地用
電極とアイランド部とを金属ワイヤによってボンディン
グを行っている。図5は従来のこの種の半導体装置の一
例を示す図である。Fe−Ni合金、あるいはCu系合
金からなる板材をプレス加工、もしくはエッチング加工
してリードフレーム1を形成し、インナーリード4の先
端と、半導体素子3を搭載するタブ2にAu,Ag等の
貴金属めっきを施している。半導体素子をタブに搭載す
るために接着剤やろう材等のマウント材8を用いてい
る。また、マウントされた半導体素子3をインナーリー
ド4に電気接続するために、Au等の金属ワイヤ5によ
って半導体素子3の電極3aとインナーリード4とを接
続する。同様に、半導体素子3の接地用電極3bをタブ
2に電気接続するために金属ワイヤ5のボンディングを
行っている。
【0003】ところで、このような半導体装置では、半
導体素子3を搭載するタブ2の表面が平坦であるため、
マウント材8が半導体素子3の下面から周囲に流れ出し
易い。このため、半導体素子3の接地用電極3bに接続
された金属ワイヤ5の他端をタブ2に接続しようとした
ときに、その位置にまでマウント材8が流れ出している
と、好適なワイヤボンディングを行うことができなくな
るという問題がある。このため、マウント材8の流れ出
しを制御することが要求されているが、実際にはこの流
れ出す量を制御することは難しい。また、半導体素子3
をマウントするときの位置決めにおいても多少の誤差が
生じるため、このマウント材8の流れ出し量の制御誤差
と、半導体素子3の位置決め誤差によって、金属ワイヤ
5を接続する箇所にマウント材8が存在しないようにす
ることは極めて難しい。
【0004】因みに、マウント材8の流れ出し量は、半
導体素子3の側面からX1=0.2〜0.4mm程度で
あり、半導体素子3のマウント位置誤差はX2= 0.
06〜0.1mm程度である。このため、これらの値を
考慮して金属ワイヤ5のボンディングを行う必要があ
り、結果として接地用の金属ワイヤ5が長くなる。一般
に高周波帯域では、ワイヤはインダクタンスとして等価
されるため、接地用の金属ワイヤが長くなればインダク
タンスが大きくなり、半導体素子の高周波特性を大きく
低下させる原因となる。
【0005】このため、従来では図6に示す半導体装置
が提案されている。この例ではマウント材8が周囲に流
れ出すのを防止するために、タブ1の表面をハーフエッ
チング加工、またはディンプル加工等して半導体素子3
の大きさより大きな凹状部12を形成している。この凹
状部12を設けることにより、マウント材8が凹状部1
2の外側に流れ出ないようにし、凹状部12の外側直近
部位での接地用金属ワイヤ5のボンディングを可能と
し、金属ワイヤ5の短縮化を図っている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この構
成においても、半導体素子3の寸法に対して凹状部12
の寸法に余裕がないと凹状部12の側面部に這い上がっ
たマウント材8が素子の側面部に這い上がり、素子表面
でのショート不良を起こす場合がある。このため、その
余裕寸法X3と、前記した例と同様に半導体素子をマウ
ントするときの位置精度X2との寸法を考慮して凹状部
12の寸法を決定する必要があり、このために凹状部1
2が半導体素子3の寸法に比較して格段に大きくなり、
結果として接地用の金属ワイヤ5の長さを短くすること
が難しくなるという問題がある。長くなる。また、半導
体素子3を凹状部12の底面に搭載するために、タブ2
の表面に対して半導体素子3の高さが低くなり、インナ
ーリード4に接続される金属ワイヤ5が撓んだときに、
金属ワイヤ5がタブ2のエッジに接触して電気的な短絡
が発生し易いという問題もある。本発明の目的は、接地
用の金属ワイヤの長さを短くし、高周波特性を改善する
ことを可能にした半導体装置を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、半導体素子を
マウント材により搭載するアイランド部の表面に半導体
素子の底面積よりも小さい面積の凹状部を形成し、この
凹状部にマウント材を介装し、この凹状部を覆うように
半導体素子を搭載した構成とする。この場合、凹状部は
その縦横寸法が半導体素子の縦横寸法よりも小さくさ
れ、更に凹状部の容積は、マウント材の体積に略等しく
される。また、凹状部は、その一辺以上の辺において半
導体素子の外側に張り出す凹溝部を有する構成としても
よい。
【0008】
【作用】半導体素子をアイランド部の表面上に搭載する
一方で、凹状部によりマウント材が半導体素子の周辺部
に流れ出すことが防止され、金属ワイヤを半導体素子の
直近のタブの表面位置にボンディングでき、金属ワイヤ
の短縮を可能とする。
【0009】
【実施例】次に本発明について図面を参照して説明す
る。図1は本発明の一実施例の半導体装置の要部の構成
を示す断面図であり、リードフレーム1のタブ2上に半
導体素子3を搭載し、この半導体素子3の電極3aとイ
ンナーリード4、及び接地用電極3bとタブ2をそれぞ
れ金属ワイヤ5で接続し、かつこれらを樹脂6で封止し
た構成の半導体装置とされている。図2はその要部を拡
大した平面図とそのA−A線断面図である。前記リード
フレーム1は、Fe−Ni合金あるいはCu系合金から
なる板材をプレス加工もしくはエッチング加工により所
要の形状とし、前記タブ2とインナーリード4を形成す
る。そして、前記タブ2の表面には半導体素子の底面積
よりも小さい凹状部7、即ち、半導体素子3の縦横寸法
よりも小さい縦横寸法の凹状部を形成する。
【0010】この場合、凹状部7は半導体素子3をタブ
2にマウントするときの位置精度のばらつきを考慮し、
マウント位置精度分小さい面積とする。また、この凹状
部7の深さはリードフレーム1の板材の厚さの1/4〜
3/4程度であり、結果として半導体素子3をマウント
する際に用いるマウント材の体積に略等しい容積となる
ようにする。なお、この凹状部7の形成に際しては、プ
レス加工もしくはエッチング加工により設けることがで
き、前記タブ2やインナーリード4の形成と同時に形成
することが可能である。また、タブ2及びインナーリー
ド4の表面には貴金属めっきを施しておく。
【0011】そして、タブ2に半導体素子3をマウント
するために、凹状部7内にマウント材8を流し込む。こ
のとき、マウント材8は表面張力によって凹状部7内に
おいてタブ2の表面上から多少盛り上がる程度の量に制
御する。その後、このマウント材8が盛り上がったとこ
ろに半導体素子3を載置し、マウントする。このとき、
マウント材8は前記した量に制御しているため、半導体
素子3の底面と凹状部7との間から半導体装置3の周囲
に流れ出すマウント材8を最小に抑えることができ、凹
状部7の周囲のタブ表面にマウント材8が大きく広がる
ことはない。
【0012】したがって、半導体素子3の接地用電極3
aを金属ワイヤ5によりタブ2にボンディングを行う場
合、金属ワイヤ5のタブ2への接続箇所を凹状部7の近
傍位置に設定してもマウント材8によりボンディングが
阻害されることがなくなり、結果として最短のワイヤル
ープで接続することができ、金属ワイヤ5の長さを最短
にすることができる。これにより高周波特性を改善する
ことができる。また、この構成では、半導体素子3はタ
ブ2の表面上にマウントできるため、図6に示した凹状
部内にマウントする場合に比較して半導体素子3の表面
高さが低くされることはなく、特にインナーリード4に
接続を行うための金属ワイヤ5が撓んだときにタブ2の
エッジに接触して電気的に短絡することを有効に防止す
る。更に、この構成によれば、タブ2に対する半導体素
子3のマウント位置精度が低くても、半導体素子3が凹
状部7を覆う位置にさえマウントされていれば、前記し
た効果を得ることができ、マウント精度によって金属ワ
イヤ5の長さが影響されることはない。
【0013】図3は本発明の第2実施例の要部の平面図
及びB−B線断面図であり、第1実施例と同一部分には
同一符号を付してある。この実施例ではタブ2の表面に
形成する凹状部7の形状を第1実施例のものとは相違さ
せてある。即ち、凹状部7を半導体素子3の縦横寸法よ
りも小さく形成する点では同じであるが、金属ワイヤ5
を接続しない1つの辺或いは対向する2つの辺に、半導
体素子3の外側にはみ出す凹溝部9を凹状部7に連続し
て形成している。
【0014】この凹溝部9を形成することにより、凹状
部7にマウント材8を盛り上げ、その上に半導体素子3
を載置してマウントを行った際に、マウント材8が凹状
部7の周辺に逃げる際に、マウント材8が凹溝部9に逃
げるようになり、タブ2の表面上に広がることをより有
効に防止できる。これにより、前記実施例に比較してマ
ウント材8の量に多少の誤差が生じている場合でもマウ
ント材8がタブ2の表面上に全く広がらない状態で半導
体素子3をタブ2にマウントすることが可能となり、マ
ウント材8の量の管理が容易になるとともに、タブ2に
接続する金属ワイヤ5の短縮化を更に進めることが可能
となる。なお、前記実施例では樹脂封止型の半導体装置
に本発明を適用した例を示しているが、図4に示すよう
に、セラミックで構成されたベース部10やキャップ部
11で構成されるセラミックパッケージ型の半導体装置
においても本発明を同様に適用でき、これにより接地用
の金属ワイヤを最短ボンディングすることができ、半導
体装置の高周波特性を改善することが可能となる。
【0015】因みに、従来と同一規格の半導体装置に本
発明を適用したところ、従来では金属ワイヤの長さが7
00μmで、そのアイソレーションが−21.5dBで
あったのに対し、本発明においては金属ワイヤの長さを
300μmに短縮でき、かつそのアイソレーションが−
23.5dBに改善されたことが確認された。
【0016】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、アイラン
ド部の表面に半導体素子の底面積よりも小さい面積の凹
状部を形成し、この凹状部にマウント材を介装し、この
凹状部を覆うように半導体素子を搭載しているので、半
導体素子をアイランド部の表面上に搭載して金属ワイヤ
による短絡を防止する一方で、凹状部によりマウント材
が半導体素子の周辺部に流れ出すことが防止され、金属
ワイヤを半導体素子の直近のタブの表面位置にボンディ
ングでき、金属ワイヤの短縮を可能とし、その高周波特
性を改善することができる効果がある。また、凹状部
は、その一辺以上の辺において半導体素子の外側に張り
出す凹溝部を有する構成とすることで、マウント材の量
に多少の誤差が生じている場合でもマウント材がタブの
表面上に全く広がらない状態で半導体素子をタブにマウ
ントすることが可能となり、マウント材の量の管理が容
易になるとともに、タブに接続する金属ワイヤを短縮化
を更に進めることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例の全体構成を示す断面図であ
る。
【図2】図1の要部の平面図とそのA−A線断面図であ
る。
【図3】本発明の第二実施例の要部の平面図とそのB−
B線断面図である。
【図4】本発明が適用可能な他の種類の半導体装置の全
体構成の断面図である。
【図5】従来の半導体装置の一部の断面図である。
【図6】従来の改善された半導体装置の一部の断面図で
ある。
【符号の説明】
1 リードフレーム 2 タブ(アイランド部) 3 半導体素子 4 インナーリード 5 金属ワイヤ 7 凹状部 8 マウント材

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体素子をマウント材によりアイラン
    ド部に搭載し、前記半導体素子の電極とアイランド部と
    を金属ワイヤによりボンディングする半導体装置におい
    て、前記アイランド部の表面に半導体素子の底面積より
    も小さい面積の凹状部を形成し、この凹状部にマウント
    材を介装し、この凹状部を覆うように前記半導体素子を
    搭載したことを特徴とする半導体装置。
  2. 【請求項2】 凹状部はその縦横寸法が半導体素子の縦
    横寸法よりも小さくされてなる請求項1の半導体装置。
  3. 【請求項3】 凹状部の容積は、マウント材の体積に略
    等しい請求項2の半導体装置。
  4. 【請求項4】 凹状部は、その一辺以上の辺において半
    導体素子の外側に張り出す凹溝部を有する請求項1また
    は2の半導体装置。
  5. 【請求項5】 金属ワイヤが半導体素子の直近のタブの
    表面位置にボンディングされてなる請求項1または4の
    いずれかの半導体装置。
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