JPH0693238A - 接着シート - Google Patents

接着シート

Info

Publication number
JPH0693238A
JPH0693238A JP4267853A JP26785392A JPH0693238A JP H0693238 A JPH0693238 A JP H0693238A JP 4267853 A JP4267853 A JP 4267853A JP 26785392 A JP26785392 A JP 26785392A JP H0693238 A JPH0693238 A JP H0693238A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
copper foil
adhesive
layer
adhesive layer
resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4267853A
Other languages
English (en)
Inventor
Masaharu Kobayashi
正治 小林
Yukinori Sakumoto
征則 作本
Takeshi Hashimoto
武司 橋本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tomoegawa Co Ltd
Original Assignee
Tomoegawa Paper Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tomoegawa Paper Co Ltd filed Critical Tomoegawa Paper Co Ltd
Priority to JP4267853A priority Critical patent/JPH0693238A/ja
Publication of JPH0693238A publication Critical patent/JPH0693238A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/05Insulated conductive substrates, e.g. insulated metal substrate

Landscapes

  • Adhesive Tapes (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】熱硬化工程が不必要なリードフレームを汚染す
るガスの発生しない接着強度の経時変化のない接着シー
トを提供すること。 【構成】銅箔とその片面に設けた熱可塑性樹脂の接着剤
層を必須構成要素とし、該銅箔と接着剤層の間に設けた
少なくとも1層からなる耐熱性中間層を任意構成要素と
して積層されている接着シート。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、リ−ドフレ−ムのダイ
パット、セラミックボ−ド、金属板、樹脂回路基板等の
被着体上に接着可能な接着シ−トに関し、特に半導体装
置のワイヤ−ボンディングに使用するための接着シ−ト
に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、半導体装置においては、情報量の
増大にともない、リードフレームを構成するリードピン
の多ピン化が要求され、その一方で実装密度の増大、低
コスト指向にともなう半導体チップの小型化が要求され
るようになってきた。かかる要求に応えるために小型の
半導体チップと多数本のリードピンの先端を信頼性よく
ワイヤーボンディングすることができる半導体装置及び
それに使用する接着シートが特開平3−72585号等
において提案されている。上記従来技術の接着シートの
一例は第7図に示される構造を有する。第7図において
は、耐熱性フィルム1の一面に接着層2を介して銅箔3
が積層されており、また、他面に半硬化状の接着剤層4
及び保護フィルム5が順次設けられている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記半導体装置に使用
される従来技術による接着シートは、ダイパッドと接す
る接着剤層に半硬化状の熱硬化性樹脂が使用されている
ために一定の加熱時間を要するキュアー工程が必要であ
るので接着シートの製造にあたり作業性や生産性に問題
を有するものであった。また、硬化反応時の発生ガスに
よるリ−ドフレーム表面の汚染や、半硬化状接着剤を使
用しているため、接着力の経時変化や、保管や輸送時に
おける貯蔵安定性の問題があった。本発明は、接着シー
トを構成する接着剤層に熱可塑性樹脂を用いる事によ
り、上記諸問題点を解決した接着シートを提供すること
を目的とするものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、銅箔とその片
面に設けた熱可塑性樹脂の接着剤層を必須構成要素と
し、該銅箔と該接着剤層の間に設けた少なくとも1層か
らなる耐熱性中間層を任意構成要素として積層されてい
ることを特徴とする接着シートに関する。
【0005】本発明の接着シ−トの層構成は、次の六つ
の場合が包含される。すなわち、第1の接着シ−トは、
必須構成要素である銅箔と熱可塑性樹脂の接着剤層から
なり、前述の耐熱性中間層のない層構成をもつ。第2の
接着シートは、該耐熱性中間層として耐熱性フィルム
と、銅箔を積層するための接着層とよりなる構成からな
る。第3の接着シートは、該耐熱性中間層が耐熱性樹脂
層からなる。第4の接着シートは、該耐熱性中間層が銅
箔上に形成された耐熱性樹脂層と、接着層と、耐熱性フ
ィルムからなる構成を有する。第5の接着シートは、第
一の銅箔の片面に接着層を介して第二の銅箔および熱可
塑性樹脂剤の接着層が順次積層された構成からなる。第
6の接着シートは、第一の銅箔の片面に耐熱性樹脂層
と、接着層と、第二の銅箔が順次積層され、さらに該第
二の銅箔の表面に耐熱性樹脂層を介して熱可塑性樹脂の
接着層が順次積層された構造からなる。
【0006】次に、本発明の接着シ−トについて、図面
をもとにして説明する。図1ないし図6は、それぞれ、
第1から第6の接着シ−トの層構成を断面図によって示
したものである。図1は、銅箔3上に熱可塑性樹脂の接
着剤層4を設けてある場合を示し、図2は、銅箔3上
に、接着層2、耐熱性フィルム1、熱可塑性樹脂の接着
剤層4とを順次積層させた場合を示し、図3は、銅箔3
上に、キャスティング塗工または押し出し成形法により
耐熱性樹脂層6が形成され、該耐熱性樹脂層の上に熱可
塑性樹脂の接着剤層4とを順次積層させた場合を示し、
図4は、銅箔3上にキャスティング塗工または押し出し
成形法により成形された耐熱性樹脂層6を有する積層体
が接着層2を介して耐熱性フィルム1の一面に形成さ
れ、また該耐熱性フィルムの他面には熱可塑性樹脂の接
着剤層4を順次積層させた場合を示す。また、図5は、
第一の銅箔3aと、熱可塑性樹脂の接着剤層4の間に該
第一の銅箔3aに接する接着層2および第二の銅箔3b
を順次積層させたものである。この場合、図5に示す本
発明の接着シートにおいては接着層2と第二の銅箔3b
の積層単位は、第一の銅箔3aと熱可塑性樹脂の接着剤
層4の間に必要に応じて複数積層単位で繰り返して形成
することもできる。図6は、第一の銅箔3aと熱可塑性
樹脂の接着剤層4の間に耐熱性樹脂層6、接着層2、第
二の銅箔3bを順次積層させ、さらに、該第二の銅箔3
bの表面に耐熱性樹脂層6を介して熱可塑性樹脂の接着
剤層4を設けた場合を示す。なお、図6に示す本発明の
接着シートにおいては、第一の銅箔に隣接する耐熱性樹
脂層6、接着層2、および第二の銅箔3bからなる積層
単位は、第一の銅箔3aと熱可塑性樹脂の接着剤層4に
隣接する耐熱性樹脂層6の間に必要に応じて複数積層単
位で繰り返して形成することもできる。なお、図1〜図
6に示す本発明の接着シートを構成する熱可塑性樹脂の
接着剤層4の表面には必要に応じて図8に示すように保
護フィルム5を設けてもよい。
【0007】図1に示す構造を有するものは、必要最低
限の構成を有し、かつ、銅箔の支持体として熱可塑性樹
脂の接着剤層そのものを用いていることから製造コスト
の低減をはかることができる。図2に示す構造を有する
ものは、電気絶縁性の高い 耐熱性フィルムを使用する
ことにより、電気特性に関する、高い信頼性を得ること
ができる。図3に示す構造を有するものは、キャスティ
ング法、または押し出し成形法が使用できるので製造コ
ストの低減をはかることができ、また、Tgの高い接着
層を設ける必要がないという利点がある。図4に示す構
造を有するものは、形成する耐熱性樹脂層の膜厚が薄す
ぎて作業が困難である時に適用することができる。図
5、図6に示す構造を有するものは、積層構造の中間に
設けた積層単位中の第二の銅箔を導電層、放熱層として
活用することができるので多層リードフレーム用接着シ
ートに適用することができる。
【0008】次に、本発明の接着シ−トの各層を構成す
る材料について説明する。 (銅箔)厚さ3オンス(1平方フィ−ト当たりの銅箔の
重さ、以下省略する)以下、好ましくは1/2オンス以
下の圧延又は電解銅箔又は合金銅箔が使用される。ま
た、銅箔の表面には酸化を抑えるためにクロメ−ト処理
を、裏面には銅箔裏面からの隣接層への銅の拡散を抑え
るためにZn,Ni等のメッキ処理を行う場合もある。
なお、請求項5および請求項6の第一の銅箔、第二の
銅箔についても上記材料が共通に適用できる。
【0009】(接着層)接着層を構成する接着剤として
は、ポリイミド系、ポリアミドイミド系、マレイミド
系、ポリマレイミド系、NBR系、フェノ−ル系、ポリ
アミド系、ポリブチラ−ル系、フェノ−ル系樹脂の接着
剤及びこれらの樹脂を単独、もしくは二つ以上混合させ
て使用することができる。また、これらの樹脂をエポキ
シ変性した接着剤やエポキシ系、ポリエステル系樹脂の
接着剤も使用できる。ポリイミド系樹脂の接着剤として
は、Tgが160℃以上で分子内にイミド環又は縮合し
てイミド環を形成する付加型ポリイミド、縮合型ポリイ
ミド等が用いられる。
【0010】ポリイミド系接着剤の代表的なものとして
は、縮重合反応によってイミド環を形成する化1の構造
式で示される単量体単位を有するポリアミック酸(例え
ば、商品名LARK−TPI)、両末端にアセチレン基
を有するポリイミド(例えば、商品名MC−600、I
P−630、FA−7001等)があげられる。
【0011】
【化1】
【0012】接着層は、この接着剤を耐熱性フィルムの
一面、或いは銅箔表面又は耐熱性樹脂層表面に、乾燥後
の塗布厚が5〜50μm、好ましくは20μm以下にな
るように塗布し、乾燥した後、ラミネ−トされた状態で
完全硬化させることによって形成されるもので、それに
より耐熱性フィルムと銅箔又は耐熱性樹脂層が接着され
る。
【0013】(耐熱性フィルム)厚さ10〜150μ
m、好ましくは25〜75μmの、例えばポリイミド、
ポリエ−テルイミド、ポリフェニレンサルファイド、ポ
リエ−テルエ−テルケトン等の耐熱性フィルムや、エポ
キシ樹脂−ガラスクロス、エポキシ樹脂−ポリイミド−
ガラスクロス等の複合耐熱性フィルムが使用される。ま
た、耐熱性フィルムと隣接する層との接着力を高めるた
めに、コロナ放電処理、プラズマ処理を行うこともでき
る。
【0014】(耐熱性樹脂層)銅箔上にキャスティング
塗工または押し出し成形法により形成されるもので、キ
ャスティング法に使用する耐熱性樹脂としては、ポリイ
ミド系、マレイミド系、ポリマレイミド系、NBR系、
フェノ−ル系、ポリアミド系、ポリブチラ−ル系、フェ
ノ−ル系樹脂及びこれらの樹脂を単独、もしくは二つ以
上混合させて使用することができる。また、これらの樹
脂をエポキシ変性した樹脂、エポキシ系、ポリエステル
系樹脂等も挙げられる。なお耐熱性樹脂層は、キャステ
ィング塗工の代わりに、押し出し塗工を用いて形成する
事もでき、例えばポリフェニレンサルファイド樹脂、ポ
リエ−テルエ−テルケトン樹脂、ポリエーテルイミド樹
脂、ポリアミドイミド樹脂等の樹脂が該塗工法に使用で
きる。
【0015】(熱可塑性樹脂の接着剤層)熱可塑性樹脂
の接着剤層は、ポリイミド系、ポリアミドイミド系、マ
レイミド系、ポリマレイミド系、ポリアリレ−ト系、ポ
リスルホン系、ポリエ−テルスルホン系、ポリエ−テル
イミド系、ポリフェニレンスルフィド系、ポリエ−テル
エ−テルケトン系の各樹脂、ポリオキシベンゾイル共重
合体、または、これらの樹脂の中の1つ以上のものを使
った変性系、もしくは混合系接着剤を塗布することによ
って形成することができる。これらの接着剤には充填剤
が配合されてもよい。
【0016】熱可塑性樹脂のTgは、100〜300
℃、好ましくは120〜250℃であることが望まし
い。100℃以下であると半導体装置使用時の発生熱に
より寸法安定性を失い、300℃以上であると工程に要
する加熱によりコスト高になってしまう。なお、Tgは
動的粘弾性測定器((株)オリエンテック、DDV−2
−EPRHEOVIBRON)によって測定した。
【0017】熱可塑性樹脂の接着剤層の膜厚は、通常3
〜300μm、好ましくは5〜50μmがよい。3μm
以下の場合は塗工が困難であり、また、接着力の低下を
招く。また、300μm以上の場合は生産効率が低下す
る。
【0018】(保護フィルム)保護フィルムは膜厚みが
10〜100μmのポリエチレンテレフタレ−ト、ポリ
プロピレン、フッ素系等のフィルムで、紫外線剥離性の
粘着剤をコ−トしたものが使用される。
【0019】本発明の接着シートは、下記に述べる手順
に従って半導体装置に使用される。すなわち、図1に示
される構造の接着シートの銅箔3をエッチング処理する
ことにより所定の銅箔パタ−ンを形成し、その後、銅箔
パタ−ンにニッケルまたは金メッキを施し、リ−ドフレ
−ムのダイパット部に接着可能な所定の大きさに打ち抜
き加工を行い、図8、図9で示されるような銅箔パタ−
ンが形成された接着シ−ト片を作成する。なお、図8は
断面図、図9は平面図であり、図中1〜5は前記の通り
のものを意味し、5は保護フィルム、3cは銅箔層に形
成された銅箔パターンの半導体チップを載置する部分、
3dは条線を示す。次に、保護フィルム5を剥離した
後、該接着シ−ト片を図10に示すようなリ−ドフレ−
ム7のダイパッド7aに載置し、熱可塑性樹脂の接着剤
層4を加熱して接着する。7bはリ−ドピンを示す。
【0020】
【実施例】次に本発明の接着シ−トについて、実施例を
示す。 実施例1 厚さ1オンスの電解銅箔(日本鉱業社製)にポリイミド
樹脂(商品名;LARK−TPI、三井東圧化学社製、
固形分24%のジメチルアセトアミド溶液)からなる接
着剤を厚さ20μmになるように塗布し、180゜Cで
5分間加熱して、さらに220゜Cで1時間加熱して、
熱可塑性樹脂の接着剤層を設け、さらに、形成された該
接着剤層の表面に、厚さ38μmのポリエチレンテレフ
タレートフィルムからなる保護フィルムを貼り合わせ、
図1に示す構造の本発明の接着シ−トを作成した。
【0021】実施例2 厚さ1オンスの電解銅箔(日本鉱業社製)にポリイミド
樹脂(商品名;LARK−TPI、三井東圧化学社製、
固形分24%のジメチルアセトアミド溶液)を塗布厚1
5μmになるように塗布し、160゜Cで5分間加熱乾
燥して耐熱性接着層を設けた。形成された該接着層の表
面にポリイミドフィルム(商品名;カプトン500V、
東レデュポン社製)からなる耐熱性フィルムをラミネ−
タ−によって160゜C、1m/minの条件で貼り合
わせ、さらに 220゜Cで1時間加熱して、該接着層
を硬化させた。その後、該耐熱性フィルムの表面に、ポ
リイミド樹脂(商品名;LARK−A、三井東圧化学社
製、固形分24%のジメチルアセトアミド溶液)からな
る接着剤を厚さ20μmになるように塗布し、180゜
Cで5分間加熱して、さらに220゜Cで1時間加熱し
て、熱可塑性樹脂の接着剤層を設け、さらに、形成され
た該接着剤層の表面に、厚さ38μmのポリエチレンテ
レフタレートフィルムからなる保護フィルムを貼り合わ
せ、図2に示す構造の本発明の接着シ−トを作成した。
【0022】実施例3 厚さ1/2オンスの電解銅箔にポリイミド樹脂からなる
耐熱性樹脂層が予めキャスティングして設けられた積層
シート(商品名;エスパネックス、新日鉄化学社製)の
該耐熱性樹脂層の表面にポリイミド樹脂(商品名;LA
RK−A、三井東圧化学社製、固形分24%のジメチル
アセトアミド溶液)からなる接着剤を厚さ20μmにな
るように塗布し、180゜Cで5分間加熱して、さらに
220゜Cで1時間加熱して、熱可塑性樹脂の接着剤層
を設け、さらに、形成された該接着剤層の表面に、厚さ
38μmのポリエチレンテレフタレートフィルムからな
る保護フィルムを貼り合わせ、図3に示す構造の本発明
の接着シ−トを作成した。
【0023】実施例4 厚さ1/2オンスの電解銅箔にポリイミド樹脂からなる
耐熱性樹脂層が予めキャスティングされた設けられた積
層シート(商品名;エスパネックス、新日鉄化学社製)
に、エポキシ/ポリアミド系樹脂(商品名;テイサンレ
ジンSG−70L、帝国化学産業社製)からなる接着剤
を塗布厚15μmになるように塗布し、加熱乾燥して接
着層を設けた後、ポリイミドフィルム(商品名;カプト
ン500V、東レデュポン社製)からなる耐熱性フィル
ムをラミネ−タ−によって160゜C、1m/minの
条件で貼り合わせ、さらに 160゜Cで1時間加熱し
て、該接着層を硬化させた。その後、該耐熱性フィルム
の表面に、ポリイミド樹脂(商品名;LARK−A、三
井東圧化学社製、固形分24%のジメチルアセトアミド
溶液)からなる接着剤を厚さ20μmになるように塗布
し、180゜Cで5分間加熱して、さらに220゜Cで
1時間加熱して、熱可塑性樹脂の接着剤層を設け、さら
に、形成された該接着剤層の表面に、厚さ38μmのポ
リエチレンテレフタレートフィルムからなる保護フィル
ムを貼り合わせ、図4に示す構造の本発明の接着シ−ト
を作成した。
【0024】実施例5 厚さ1オンスの第一の電解銅箔(日本鉱業社製)にエポ
キシ/ポリアミド系樹脂(商品名;テイサンレジンSG
−70L、帝国化学産業社製)からなる接着剤を塗布厚
15μmになるように塗布し、加熱乾燥して接着層を設
けた後、厚さ1/2オンスの第二の電解銅箔(日本鉱業
社製)をラミネ−タ−によって160゜C、1m/mi
nの条件で貼り合わせ、さらに 160゜Cで1時間加
熱して、該接着層を硬化させた。その後、第二の電解銅
箔の表面に、ポリイミド樹脂(商品名;LARK−A、
三井東圧化学社製、固形分24%のジメチルアセトアミ
ド溶液)からなる接着剤を厚さ20μmになるように塗
布し、180゜Cで5分間加熱して、さらに220゜C
で1時間加熱して、熱可塑性樹脂の接着剤層を設け、さ
らに、形成された該接着剤層の表面に、厚さ38μmの
ポリエチレンテレフタレートフィルムからなる保護フィ
ルムを貼り合わせ、図5に示す構造の本発明の接着シ−
トを作成した。
【0025】実施例6 厚さ1/2オンスの電解銅箔からなる第一の銅箔にポリ
イミド樹脂からなる耐熱性樹脂層が予めキャスティング
され設けられた第一の積層シート(商品名;エスパネッ
クス、新日鉄化学社製)の耐熱性樹脂層の表面に、エポ
キシ/ポリアミド系樹脂(商品名;テイサンレジンSG
−70L、帝国化学産業社製)からなる接着剤を塗布厚
15μmになるように塗布し、加熱乾燥して接着層を設
けた。一方、別途に前記該積層シートと同一の第二の積
層シートを一枚準備し、前記第一の積層シート上の接着
層と第二の積層シートの第二の銅箔とをラミネ−タ−に
よって160゜C、1m/minの条件で貼り合わせ、
さらに 160゜Cで1時間加熱して、前記接着層を硬
化させた。その後、第二の積層シートの耐熱性樹脂層の
表面に、ポリイミド樹脂(商品名;LARK−A、三井
東圧化学社製、固形分24%のジメチルアセトアミド溶
液)からなる接着剤を厚さ20μmになるように塗布
し、180゜Cで5分間加熱して、さらに220゜Cで
1時間加熱して、熱可塑性樹脂の接着剤層を設け、さら
に、形成された該接着剤層の表面に、厚さ38μmのポ
リエチレンテレフタレートフィルムからなる保護フィル
ムを貼り合わせ、図6に示す構造の本発明の接着シ−ト
を作成した。
【0026】比較例1 厚さ1オンスの電解銅箔(日本鉱業社製)にポリイミド
樹脂(商品名;サーミッドIP−630、カネボーエヌ
エスシー社製、固形分濃度20%のジメチルアセドアミ
ド溶液)を塗布厚15μmになるように塗布し、120
℃で5分間加熱乾燥して接着層を設けた。形成された接
着層の表面にポリイミドフィルム(商品名;カプトン5
00V、東レデュポン社製)からなる耐熱性フィルムを
ラミネーターによって120℃、1m/minの条件で
貼り合わせ、更に160℃で時間加熱して、該接着層を
硬化させた。その後、該耐熱性フィルムに表面に、エポ
キシ/ポリアミド系樹脂(商品名;エスダイン361
1、積水化学社製)からなる接着剤を厚さ20μmにな
るように塗布し、150℃で5分間加熱して、半硬化状
接着層を設けた。さらに、形成された半硬化状の接着剤
層に表面に、厚さ38μmのポリエチレンテレフタレー
トフィルムからなる保護フィルムを貼り合わせ、図7に
示す構造の比較用の接着シートを作成した。
【0027】以上の実施例、比較例で得られた接着シー
トを温度による重量減少をサーマルグラムメトリーアナ
ライザー((株)セイコーエプソン社製、SSC520
0)により10℃/minの条件で測定した。その結果
を表1に示す。また、実施例、比較例で得られた接着シ
ートとを銅箔板とを180゜Cで5分間加熱し、さらに
220゜Cで1時間の条件下で加熱接着し、接着剤層−
銅版間の接着面の接着強度の経時変化を調べるために、
テンシロン((株)島津製作所社製、AGS−100
B)により保存時間ごとにそれぞれの接着強度を測定し
た。その結果を表2に示す。これらの結果を見てもわか
るように、本発明の接着シートは、接着時の温度でガス
を発生することがなく、また、時間の経時変化による接
着強度の劣化も起こらない。
【0028】
【発明の効果】本発明の接着シートは、接着剤層に熱可
塑性樹脂を使用しているため、工程の多さによる高コス
ト化の問題が解消され、また、熱硬化工程が不必要なた
めにガスが発生せず、したがってリードフレームが汚染
されず、さらに、接着剤層中に硬化反応促進剤が入って
いないために接着力の低下が起きず、貯蔵安定性が向上
する。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例1の接着シート
【図2】実施例2の接着シート
【図3】実施例3の接着シート
【図4】実施例4の接着シート
【図5】実施例5の接着シート
【図6】実施例6の接着シート
【図7】比較例1の接着シート
【図8】本発明の銅箔表面に銅箔パターンが形成された
接着シートの断面図
【図9】本発明の銅箔表面に銅箔パターンが形成された
接着シートの平面図
【図10】図8、図9の接着シートをリードフレームに
接着した状態を示す平面図
【符号の説明】
1 耐熱性フィルム 2 接着層 3 銅箔 3a 第一の銅箔 3b 第二の銅箔 3c 半導体チップを載置する部分 3d 条線 4 接着剤層 5 保護フィルム 6 耐熱性樹脂層 7 リードフレーム 7a ダイパッド 7b リードピン
【表1】
【表2】

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 銅箔とその片面に設けた熱可塑性樹脂の
    接着剤層を必須構成要素とし、該銅箔と該接着剤層の間
    に設けた少なくとも1層からなる耐熱性中間層を任意構
    成要素として積層されていることを特徴とする接着シー
    ト。
  2. 【請求項2】該耐熱性中間層が、耐熱性フィルムと、銅
    箔を積層するための接着層とよりなることを特徴とする
    請求項1記載の接着シ−ト。
  3. 【請求項3】該耐熱性中間層が、耐熱性樹脂層からなる
    ことを特徴とする請求項1記載の接着シ−ト。
  4. 【請求項4】該耐熱性中間層が、銅箔上に形成された耐
    熱性樹脂層と、接着層と、耐熱性フィルムからなること
    を特徴とする請求項1記載の接着シ−ト。
  5. 【請求項5】第一の銅箔の片面に接着層を介して第二の
    銅箔および熱可塑性樹脂の接着剤層が順次積層されてい
    ることを特徴とする接着シ−ト。
  6. 【請求項6】第一の銅箔の片面に耐熱性樹脂層、接着
    層、第二の銅箔が順次積層され、さらに該第二の銅箔の
    表面に耐熱性樹脂を介して熱可塑性樹脂の接着剤層が積
    層せれていることを特徴とする接着シ−ト。
  7. 【請求項7】接着シートが半導体のワイヤーボンディン
    グに使用するためのものである請求項1、2、3、4、
    5、もしくは6記載の接着シート。
  8. 【請求項8】熱可塑性樹脂の接着剤層上に保護フィルム
    を設けることを特徴とする請求項1、2、3、4、5、
    6もしくは7記載の接着シート。
JP4267853A 1992-09-11 1992-09-11 接着シート Pending JPH0693238A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4267853A JPH0693238A (ja) 1992-09-11 1992-09-11 接着シート

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4267853A JPH0693238A (ja) 1992-09-11 1992-09-11 接着シート

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0693238A true JPH0693238A (ja) 1994-04-05

Family

ID=17450545

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4267853A Pending JPH0693238A (ja) 1992-09-11 1992-09-11 接着シート

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0693238A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014234493A (ja) * 2013-06-05 2014-12-15 Dic株式会社 粘着シート及び電子機器
WO2017057519A1 (ja) * 2015-09-29 2017-04-06 株式会社巴川製紙所 電子部品用接着テープ

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60132394A (ja) * 1983-12-20 1985-07-15 松下電器産業株式会社 多種配線装置
JPH0372585A (ja) * 1989-05-29 1991-03-27 Tomoegawa Paper Co Ltd 接着シート及び半導体装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60132394A (ja) * 1983-12-20 1985-07-15 松下電器産業株式会社 多種配線装置
JPH0372585A (ja) * 1989-05-29 1991-03-27 Tomoegawa Paper Co Ltd 接着シート及び半導体装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014234493A (ja) * 2013-06-05 2014-12-15 Dic株式会社 粘着シート及び電子機器
WO2017057519A1 (ja) * 2015-09-29 2017-04-06 株式会社巴川製紙所 電子部品用接着テープ
JP2017066233A (ja) * 2015-09-29 2017-04-06 株式会社巴川製紙所 電子部品用接着テープ

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI308382B (en) Package structure having a chip embedded therein and method fabricating the same
KR100962837B1 (ko) 다층 프린트 배선 기판 및 그 제조 방법
WO2007046459A1 (ja) 多層プリント配線基板及びその製造方法
KR100602537B1 (ko) 반도체 접속 기판용 접착제 부착 테이프 및 그것을 사용한동박 적층판
JP2005045150A (ja) 中間接続用配線基材および多層配線基板、ならびにこれらの製造方法
WO2007052584A1 (ja) 積層回路基板の製造方法、回路板およびその製造方法
US8487192B2 (en) Printed wiring board and method for manufacturing the same
JP2783389B2 (ja) フレキシブル金属箔積層板の製造方法
JPH0281495A (ja) フレキシブル両面金属箔積層板
JPH0693238A (ja) 接着シート
JP2007073921A (ja) 半導体用フィルム付複合金属層、半導体用フィルム、これを用いた配線回路付フィルム及び半導体用フィルム付半導体装置、半導体装置並びに半導体装置の製造方法
JPH0955568A (ja) 薄膜配線シート、多層配線基板、およびそれらの製造方法
JPS61224492A (ja) フレキシブルプリント回路基板
JP2946416B2 (ja) 熱圧着性多層押出しポリイミドフィルムおよびその積層法
JP2009241597A (ja) 基板材料及び基板
WO2014021438A1 (ja) ヒートシンク付配線板、ヒートシンク付部品実装配線板及びそれらの製造方法
JP2665988B2 (ja) 接着シート
JP4378949B2 (ja) 多層配線板の製造方法
JP2622768B2 (ja) 接着シート
JPH10144738A (ja) 半導体装置用接着シート
JP4892924B2 (ja) 多層プリント配線基板及びその製造方法
JPH01313998A (ja) 金属複合積層板の製造方法
JP2518716B2 (ja) 接着シ―ト及び半導体装置
JP2014033117A (ja) ヒートシンク付配線板の製造方法、ヒートシンク付部品実装配線板の製造方法、ヒートシンク付配線板及びヒートシンク付部品実装配線板
WO2014021439A1 (ja) ヒートシンク付配線板、ヒートシンク付部品実装配線板及びそれらの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 19980224