JPH0687300B2 - 磁気記録方法 - Google Patents

磁気記録方法

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JPH0687300B2
JPH0687300B2 JP59163249A JP16324984A JPH0687300B2 JP H0687300 B2 JPH0687300 B2 JP H0687300B2 JP 59163249 A JP59163249 A JP 59163249A JP 16324984 A JP16324984 A JP 16324984A JP H0687300 B2 JPH0687300 B2 JP H0687300B2
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Description

【発明の詳細な説明】 Ｉ発明の背景 技術分野 本発明は、磁気記録媒体、特に金属薄膜型の磁気記録媒
体を用いた磁気記録方法に関する。
先行技術とその問題点 ビデオ用、オーディオ用等の磁気記録媒体として、テー
プ化して巻回したときのコンパクト性から、可とう性基
板上に金属薄膜型の磁性層を有するものの開発が活発に
行なわれている。
このような連続薄膜型の媒体の磁性層としては、特性
上、基体法線に対し所定の傾斜角にて蒸着を行なう、い
わゆる斜め蒸着法によって形成したCo系、Co−Ni系等か
らなる蒸着膜が好適である。
これらの磁気記録媒体においては、特に磁気テープおよ
び磁気ディスクの用途では、摩擦係数が小さく、円滑で
安定な走行性を示すこと、耐摩耗性に優れ、長時間にわ
たって安定走行を行ないうること、置かれた環境条件に
対して安定でいつでも確実な再生ができること、耐久性
のあること等が強く求められる。
従来より、耐久性を改善する目的で、種々の可とう性基
板に対する前処理が行なわれてきた。
前処理としては、薬液処理、コーティング処理、コロナ
放電処理等がある。
薬液処理法としては、酸、アルカリ処理がある。もっと
も効果的な薬液処理方法としては、クロム酸処理液のよ
うな強酸／強酸剤の薬液を用いて表面を酸化させ、カル
ボニル基やカルボキシル基を導入して表面をエッチング
するものがある。
しかしながら、薬液処理方法においては、フィルム表面
の洗浄、乾燥が必要のみならず、廃液処理に多大な投資
を必要とすることが欠点である。特に、クロム酸処理
は、廃液が公害規制の対象となるので、今日では利用が
少なくなってきている。
フィルムのコーティング法においては、アンダーコート
に含まれるバインダー系と磁性層との相互作用が必要で
ある。
すなわち、磁性層のバインダー、顔料の組成の変更があ
れば、それに最適なアンダーコーティング組成の選択が
必要である。コーティング法においては、このようなソ
フト技術が必要のみならず、塗布、乾燥のプロセスを準
備することを必要とし、また、コーティング原材料を消
費するため製品のコストアップが避けられない。
コロナ放電処理は、ドライプロセスであるため、洗浄、
乾燥や廃液処理のプロセスを必要としないことが有利で
ある。
このコロナ処理は、古くから行なわれており、接着性、
ぬれ特性、印刷性の改善効果がある。
しかし、コロナ処理では、今後ますます要求が厳しくな
る高性能な磁気記録媒体の特性を満足できないという問
題がある。
その他の方法としては、火炎処理があるが寸法安定性の
要求が厳しく磁気記録媒体には利用できない。
このような実状からベースフィルムに対するプラズマ処
理の提案がなされている。
プラズマ処理法は、一工程のみから成り、ドライプロセ
スであるので乾燥、廃液処理が必要でなく、バインダー
等の原材料を消費しないという利点がある。さらに、プ
ラズマ処理法は、高速での連続生産が可能であるため。
磁気記録媒体製造工程に容易に組み込むことができ、そ
の生産性を阻害しない。
ベースフィルムに対するプラズマ処理としては、例え
ば、特公昭57-42889号には、空気、酸素、窒素、水素、
ヘリウム、アルゴン等を処理ガスとして、ラジオ波ある
いはマイクロ波の周波数のプラズマで処理する技術が開
示されている。
また、特開昭58-77030号には、酸素、アルゴン、ヘリウ
ム、ネオン、あるいは窒素を処理ガスとして、商用周波
数にて所定の印加電流でプラズマ処理する技術が開示さ
れている。
これらプラズマ処理によれば、磁性層との接着力が向上
し、耐久性が向上する。
しかし、接着強度および耐久性の点では未だ不十分であ
る。
他方、強磁性金属薄膜型磁性層を有する磁気記録媒体
は、スペーシングロスによる特性低下が大きいので、そ
の表面をできるたけ平滑化する必要がある。
しかし、あまり表面を平坦にすると、摩擦が大きくな
り、ヘッドタッチ、走行面で支障が出る。
ところで、金属薄膜型の媒体では、磁性層が0.05〜0.5
μｍと非常にうすいため、媒体の表面性は基板の表面性
に依存する。
このため、基板表面に比較的なだらかな、いわゆるしわ
状、ミミズ状等の突起を設ける旨が提案されている（特
開昭53-116115号等）。
また、特開昭58-68227号、同58-100221号には、基体表
面に微粒子を配設して、光学顕微鏡で50〜400倍で観察
でき、しかも触針式表面粗さ測定装置で高さが実測でき
る凹凸（高さ100〜2000Å）を設ける旨が提案されてい
る。
そして、これらにより、走行摩擦、走行耐久性、走行安
定性等の物性や、電磁変換特性が改良されるものであ
る。
ところで、磁性層としての強磁性金属薄膜層の形成を所
定の分圧の酸素の存在下で行なう等により、磁性層中に
酸素を含有させ、とりわけ強磁性金属薄膜層表面に、強
磁性金属（Co,Ni）の酸化物の被膜を形成すると、各種
物性、電磁変換特性等が向上する。
このように、特に磁性層表面に酸化物を形成する場合、
前記した、しわ状等のなだらかな突起では、その効果は
ほとんどない。
一方、特開昭58-68227号の微小突起密度は、たかだか１
mm2あたり106程度である。この場合、ビデオレコーダー
では、最短記録波長が１μｍ未満、例えば0.7μｍ程度
であり、このような記録波長では、酸化物被膜が磁性層
表面に存在する場合、物性、電磁変換特性とも不十分で
ある。
他方、特開昭58-100221号の実施例1,2では、300〜500Å
の高さの微小突起を１mm2あたり104〜106個配設した例
が示される。しかし、この場合には、磁性層表面に酸化
物が形成されていないと思われ、磁性層表面に酸化物被
膜を形成したときと異なる走行耐久性の挙動を示し、酸
化物被膜を形成するときには、微小突起のより最適なサ
イズと密度との関係が必要とされる。
すなわち、従来の金属薄膜型の媒体は、耐久性、接着強
度、物性、電磁変換特性とも、すべて良好な特性を示す
には至っていない。
II発明の目的 本発明の目的は、耐久性と磁性層の接着強度とが格段と
向上した、プラズマ処理を施した可とう性基板を用いた
磁気記録媒体で、さらに物性、電磁変換性とも最適な特
性をうることのできる微小突起のサイズと密着とを有す
る金属薄膜型の磁気記録媒体を用いた磁気記録方法を提
供することにある。
このような目的は下記の本発明によって達成される。
すなわち本発明は、 可とう性基板上にCoを主成分とする強磁性金属薄膜層を
設けてなる磁気記録媒体を用いて、磁気ヘッドにより記
録再生を行う磁気記録方法において、 平均粒径が30〜300Åの微粒子を配設し、この面上に酸
素を含む処理ガスを用いて、10kHz〜200kHzの周波数の
プラズマ処理を施した可とう性基板上に、酸素を含む強
磁性金属薄膜層を有し、しかも用いる磁気ヘッドのギャ
ップ長をａμｍとしたとき、ａが0.1〜0.5であり、表面
に１mm2あたり平均105／a2〜109／a2個以上で高さ30〜3
00Åの突起を有する磁気記録媒体を用意し、これに少な
くともギャップ部端面が、金属強磁性体で構成されてい
る磁気ヘッドで記録再生を行うことを特徴とする磁気記
録方法である。
III発明の具体的構成 以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。
本発明の磁気記録媒体の表面には、微細な突起が所定の
密度で設けられる。
微細な突起は、30〜300Å、より好ましくは50〜250Åの
高さを有するものである。
すなわち、本発明の突起は、光学顕微鏡で観察でき、か
つ触針型表面粗さ計で測定できるものではなく、走査型
電子顕微鏡にて観察できる程度のものである。
突起高さが300Åをこえ、光学顕微鏡にて観察できるも
のとなると、電磁変換特性の劣化と、走行安定性の低下
をもたらす。
また、50Å未満となると、物性の向上の実効がない。
そして、その密度は１mm2あたり平均105／a2〜109／a2
個、より好ましくは２×106／a2〜１×109／a2個であ
る。
この場合、ａはμｍ単位にて、磁気ヘッドのギャップ長
を表わす。
そして、磁気ヘッドのギャップ長は、0.1〜0.5μｍ、特
に0.1〜0.4μｍとされる。
なお、突起密度が105／a2個／mm2、より好ましくは２×
106／a2個／mm2未満となると、ノイズが増大し、スチル
特性が低下する等物性の低下をきたし、実用に耐えな
い。
また、109／a2個／mm2をこえると、物性上の効果が少な
くなってしまう。
このような突起を設けるには、通常、基板上に微粒子を
配設する。微粒子径は、30〜300Å、特に50〜250Åとす
る。これにより微粒子径と対応した微細突起が形成され
る。
用いる微粒子としては、通常コロイド粒子として知られ
ているものであって、例えばSiO2（コロイダルシリ
カ）、Al2O3（アルミナゾル）、MgO,TiO2,ZnO,Fe2O3，
ジルコニア,CdO,NiO,CaWO4，CaCO3，RaCO3，CoCO3，BaT
iO3,Ti（チタンブラック）,Au,Ag,Cu,Ni,Fe,各種ヒドロ
ゾルや、樹脂粒子等が使用可能である。この場合、特に
無機物質を用いるのが好ましい。
このような微粒子は、各種溶媒を用いて塗布液とし、こ
れを基板状に塗布、乾燥してもよく、あるいは塗布液中
に各種水性エマルジョン等の樹脂分を添加したものを塗
布、乾燥してもよい。
なお、本発明においては、基板上に、上記塗布液を塗布
後、プラズマ処理する。
このように、微粒子を少なくとも一方の面に配設した可
とう性基板の少なくとも磁性層形成面には、プラズマ処
理が施される。
プラズマ処理法は、処理ガスとして無機ガスを用い、こ
のガスの放電プラズマを可とう性基板に接触させること
により可とう性基板表面をプラズマ処理するものであ
る。
原理について概説すると、気体を低圧に保ち電場を作用
させると、気体中に少量存在する自由電子は、常圧に比
べ分子距離が非常に大きいため、電界加速を受け５〜10
eVの運動エネルギー（電子温度）を獲得する。
この加速電子が原子や分子に衝突すると、原子軌道や分
子軌道を分断し、これらを電子、イオン、中性ラジカル
など、通常の状態では不安定の化学種に解離させる。
解離した電子は再び電界加速を受けて、別の原子や分子
を解離させるが、この連鎖作用で気体はたちまち高度の
電離状態となる。そしてこれはプラズマガスと呼ばれて
いる。
気体分子は電子との衝突の機会が少ないのでエネルギー
をあまり吸収せず、常温に近い温度に保たれている。
このように、電子の運動エネルギー（電子温度）と、分
子の熱運動（ガス温度）が分離した系は低温プラズマと
呼ばれ、ここでは化学種が比較的原理を保ったまま重合
等の加成的化学反応を進めうる状況を創出しており、本
発明はこの状況を利用して可とう性基板をプラズマ処理
しようとするものである。なお低温プラズマを利用する
ため、可とう性基板の熱影響は全くない。
プラズマにより、可とう性基板表面を処理する装置例が
第１図に示してある。第１図は、周波数可変型の電源を
用いたプラズマ処理装置である。
第１図において、反応容器Ｒには、処理ガス源511また
は512から処理ガスがそれぞれマスフローコントローラ5
21および522を経て供給される。ガス源１または２から
別々のガスを供給する場合は、混合器53において混合し
て供給する。
処理ガスは、各々１〜250ml/分の流量範囲をとりうる。
反応容器Ｒ内には、被処理体である微粒子を配設した可
とう性基板の支持装置が設置され、ここでは磁気テープ
用のフィルムの処理を目的として、繰出しロール561と
巻取りロール562とが示してある。
被処理磁気記録媒体用可とう性基板の形態に応じて様々
の支持装置が使用でき、例えば載置式の回転支持装置が
使用されうる。
被処理可とう性基板を間に挟んで対向する電極551,552
が設けられており、一方の電極551は周波数可変型の電
源54に接続され、他方の電極552は接地されている。
さらに、反応容器Ｒ内には、容器内を排気するための真
空系統が配備され、そしてこれは液体窒素トラップ57、
油回転ポンプ58および真空コントローラ59を含む。これ
ら真空系統は反応容器内を0.01〜10Torrの真空度の範囲
に維持する。
操作においては、反応容器Ｒ内がまず10-3Torr以下にな
るまで油回転ポンプにより容器内を排気し、その後処理
ガスが所定の流量において容器内に混合状態で供給され
る。
このとき、反応容器内の真空は0.01〜10Torrの範囲に管
理される。
被処理可とう性基板の移行速度ならびに処理ガスの流量
が安定すると、周波数可変型電源がオンにされる。こう
して、移行中のベースフィルムがプラズマ処理される。
このようなプラズマ処理において、処理ガスとしては、
酸素を含む無機ガスを用いる。
無機ガス中の酸素含有量は５〜100％である。これは、
５％未満となると、本発明の実効がなくなるからであ
る。
なお、無機ガス中に酸素以外のガスが含まれる場合、含
有ガスは、アルゴン、ネオン、ヘリウム、窒素、水素等
の１種ないし２種以上いずれであってもよい。また、無
機ガスとして空気を用いてもよい。
さらに、電源の周波数は、10KHz〜200KHzとされる。
周波数が、10KHzより小、ないし200KHzより大となる
と、耐久性が急激に減少し、接着強度が急激に低くな
る。
なお、印加電流、処理時間等は通常の条件とすればよ
い。
以上のようにプラズマ処理を施される可とう性基板の厚
さは、種々のものであってよいが、特に５〜20μｍであ
ることが好ましい。
本発明の磁気記録媒体に用いる可とう性基板の材質とし
ては、非磁性プラスチックであれば特に制限はないが、
通常は、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル
等を用いる。また、その形状、寸法、厚さには制限はな
く、用途に応じたものとすればよい。
なお、微粒子配設に際し、樹脂分を用いる場合、これら
微粒子にもとづく微細突起に重畳してゆるやかな突起を
設けることもできるが、通常はこのようにする必要はな
い。
また、基板と強磁性金属薄膜層との間には、必要に応
じ、公知の各種下地層を介在させることもできる。
そして、基板の強磁性金属薄膜層形成面の裏面には、公
知の種々のバックコート層が形成されていてもよい。
また、強磁性金属薄膜層表面には、公知の種々のトップ
コート層が形成されていてもよい。
本発明における磁性層としての強磁性金属薄膜層は、Co
を主成分とし、これにＯを含み、さらに必要に応じNiお
よび／またはCrが含有される組成を有する。
すなわち、好ましい態様においては、Co単独からなって
もよく、CoとNiからなってもよい。Niが含まれる場合、
Co/Niの重量比は、1.5以上であることが好ましい。
さらに、強磁性金属薄膜層中には、Crが含有されていて
もよい。
Crが含有されると、電磁変換特性が向上し、出力および
S/N比が向上し、さらに膜強度も向上する。
このような場合、Cr/CoあるいはCr/（Co＋Ni）の重量比
は0.001〜0.1、より好ましくは、0.005〜0.05であるこ
とが好ましい。
さらに、強磁性金属薄膜中にはＯが含有されるものであ
る。
強磁性金属薄膜中の平均酸素量は、原子比、特にO/（Co
またはCo＋Ni）の原子比で、0.5以下、より好ましくは
0.05〜0.5であることが好ましい。
この場合、強磁性金属薄膜層の表面では、酸素が強磁性
金属（Co,Ni）と酸化物を形成している。
すなわち、表面部、特に表面から50〜500Å、より好ま
しくは50〜200Åの厚さの範囲には、オージェ分光分析
により、酸化物を示すピークが認められるものである。
そして、この酸化物層の酸素含有量は、原子比で0.5〜
1.0程度である。
なお、このような強磁性金属薄膜中には、さらに他の微
量成分、特に遷移元素、例えばFe,Mn,V,Zr,Nb,Ta,Ti,Z
n,Mo,W,Cu等が含まれていてもよい。
このような強磁性金属薄膜層は、好ましい態様におい
て、上記したCoを主成分とする柱状結晶粒の集合体から
なる。
この場合、強磁性金属薄膜層の厚さは、0.05〜0.5μ
ｍ、好ましくは、0.07〜0.3μｍとされる。
そして、柱状の結晶粒は、薄膜の厚さ方向のほぼ全域に
亘る長さをもち、その長手方向は、基体の主面の法線に
対して、10〜70°の範囲にて傾斜していることが好まし
い。
なお、酸素は、表面部の柱状の結晶粒の表面に前記のと
おり化合物の形で存在するものである。
また、強磁性金属薄膜層の酸素の濃度勾配の何如には特
に制限はない。
また、結晶粒の短径は、50〜500Å程度の長さをもつこ
とが好ましい。
また、もし必要であるならば、強磁性金属薄膜層を複数
に分割して、その間に非強磁性金属薄膜層を介在させて
もよい。
本発明において、磁性層の形成は電解蒸着、イオンプレ
ーティング、メッキ等を用いることもできるが、いわゆ
る斜め蒸着法によって形成されることが好ましい。
この場合、基体法線に対する、蒸着物質の入射角の最小
値は、20°以上とすることが好ましい。
入射角が20°未満となると、電磁変換特性が低下する。
なお、蒸着雰囲気は、通常、アルゴン、ヘリウム、真空
等の不活性雰囲気に、酸素ガスを含む雰囲気とし、10-5
〜100Pa程度の圧力とし、また、蒸着距離、基体搬送方
向、キャンやマスクの構造、配置等は公知の条件と同様
にすればよい。
そして、酸素雰囲気での蒸着により、表面に金属酸化物
の被膜が形成される。なお、金属酸化物が形成される酸
素ガス分圧は、実験から容易に求めることができる。
なお、表面に金属酸化物の被膜を形成するには、各種酸
化処理が可能である。
適用できる酸化処理としては下記のようなものがある。
１）乾式処理 a.エネルギー粒子処理 特願昭58-76640号に記載したように、蒸着の後期に、イ
オンガンや中性ガンにより酸素をエネルギー粒子として
磁性層にさしむけるもの。
b.グロー処理 O2，H2O，O2＋H2O等とAr,N2等の不活性ガスとを用い、
これをグロー放電してプラズマを生じさせ、このプラズ
マ中に磁性膜表面をさらすもの。
c.酸化性ガス オゾン、加熱水蒸気等の酸化性ガスを吹きつけるもの。
d.加熱処理 加熱によって酸化を行うもの。加熱温度は60〜150℃程
度。
２）湿式処理 a.陽極酸化 b.アルカリ処理 c.酸処理 クロム酸塩処理、過マンガン酸塩処理、リン酸塩処理等
を用いる。
d.酸化剤処理 H2O2等を用いる。
他方、用いる磁気ヘッドは、少なくともギャップ部端面
を金属強磁性体で構成したものである。
このとき諸特性が向上する。
この場合、コア全体を金属強磁性体から形成することも
でき、必要に応じ、ギャップ部端面を含むコアの一部を
金属強磁性体から形成することもできる。
第２図には、例えばフェライト等の強磁性体からなるコ
ア半体21,22のギャップ部端面に、１〜５μｍの厚さの
金属強磁性体31,32をスパッタリング等により被着し、
ガラス質等のギャップ４を介して、コア半体21,22をつ
きあわせて磁気ヘッド１を構成した例が示される。
そして、その形状、構造等は公知のものであってよい。
ただ、ギャップ長ａは、前記のとおり、0.1〜0.5μｍ、
特に0.1〜0.4μｍ、またトラック幅は、通常、10〜50μ
ｍ、特に10〜20μｍとする。
用いる金属強磁性体としては、種々のものが可能であ
り、非晶質磁性合金、センダスト、ハードパーマロイ、
パーマロイ等の薄膜、薄板等はいずれも使用可能であ
る。
ただ、これらのうちで、ヘッド目づまりないし付着が特
に少なく、電磁変換特性が良好なのは、Coを主成分とす
る非晶質磁性合金である。
このような非晶質磁性合金としては、Co70〜95at％で、
ガラス化元素として、Zr,Nb,Ta,Hf,希土類元素,Si,B,P,
C,Al等、特にZrおよび／またはNbを５〜20at％含有する
ものが好適である。
あるいは、ガラス化元素として15〜35at％のSiおよび／
またはＢを含むものも好適である。
この場合、さらに10at％以下のFe,25at％以下のNi,総計
20at％以下のCr,Ti,Ru,W,Mo,Ti,Mu等の１種以上が含有
されていてもよい。
これら非晶質磁性合金は、スパッタリングや高速急冷法
等を用いて、コア半体ないしギャップ部等として形成さ
れる。
このような磁気ヘッドを用いて、前記した媒体に対して
記録再生を行なうには、いわゆるVHS方式、ベータ方
式、8mmビデオ方式、Ｕ規格方式等公知のビデオ録画シ
ステムに従えばよい。
IV発明の具体的作用効果 本発明の磁気記録媒体は、各種の用途に用いられる。
磁気ヘッドのギャップ長をａμｍとしたとき、磁気記録
媒体が、表面に１mm2当り平均105／a2〜109／a2個の突
起を有し、しかも突起が30〜300Åの高さを有するの
で、走行摩擦が安定して小さくなる。
さらに、処理ガス中の酸素分圧とプラズマ周波数を特定
範囲に制御したプラズマ処理を行うので、耐久性が臨界
的に向上する。
特に、スチル特性が格段と向上し耐久走行性が格段と向
上する。
また、直接ないし下地層を介して設層される各種磁性層
との接着強度も格段と向上する。
また、走行耐久性が格段と向上し、多数回走行後も走行
摩擦の増大がなく、くりかえし録画、再生回数が格段と
向上し、スチル特性が格段と向上する。
そして、走行安定性も高く、高温高湿から低温低湿ま
で、巾広い条件下できわめて高い安定性を示す。
さらに、スペーシングロスにもとづく再生出力の低下も
きわめて少ない。
また、ノイズもきわめて少ない。
そして、ヘッドのめづまりも少ない。
Ｖ発明の具体的実施例 以下、本発明の具体的実施例、比較例、実験例を示し、
本発明をさらに詳細に説明する。
実施例１ 10μｍのポリエチレンテレフタレート（PET）製の基板
に対して、コロイダルシリカを塗布し、微小突起を有す
る基板を得た。
これを、アルゴン、酸素およびこれらの混合ガスを処理
ガスとしてプラズマ処理した。
プラズマ処理条件は次の通りとした。
ガス流量:100ml/分 Ar,O2の単独ガス、ArとO2の混合ガスのいずれにても1
00ml/分の一定量とする。
真 空 度:0.5Torr 電 源:60Hz〜2.45GHz、 直流200W 基板走行速度:30m/分 この処理されたポリエステルフィルムを、真空槽中に設
けた冷却用ロールに沿わせて走行させながら、Co−Ni合
金をEBガンで加熱しO2を導入しつつ蒸着した。
この場合バックグラウンドの圧力は、５×10-5Torr、O2
導入後の圧力は２×10-4Torr、とした。
また、蒸着の入射角は、90°から30°まで連続的に減少
させた。
組成は、Co80−Ni20（重量比）であり、膜厚は約1500Å
とした。
本発明のサンプルでは、光学顕微鏡による観察および触
針型表面粗さ計による測定で、コロイダルシリカ塗布の
効果は検出されなかったが、走査型電子顕微鏡による高
倍率の観察では、磁性膜に突起がみられ、その大小は、
塗布したコロイダルシリカの大小に対応していた。
また、用いた磁気ヘッドは、フェライトヘッドと第２図
に示されるものであり、ギャップ長0.25μｍ、トラック
長20μｍのものである。
この場合、コア半体21,22はフェライト製、ギャップ端
面は、スパッタリングにより形成した３μｍ厚のCo0.8,
Ni0.1,Zn0.1（at％）であり、ギャップ材はガラスとし
た。
磁性層表面の突起の高さおよび密度と特性の関係を表１
に示す。
なお、特性、最短記録波長0.7μｍの信号を用いて実験
を行なった。
これらの結果から、本発明の効果があきらかである。
なお、105／a2は1.6×106（mm2）-1である。
なお、特性の測定方法は以下のとおりである。
（１）突起観察 SEM（走査型電子顕微鏡）およびTEM（透過型電子顕微
鏡）を使用 （２）スチル特性 5MHzで記録し、再生出力が最初の80％となる時間をスチ
ル特性として測定する。
（３）耐久走行テスト後の面状態 50パス走行後のテープ面の状態を光学顕微鏡で観察す
る。
◎：キズまったくなし ○：ヘッド走行面積の20％未満にキズ発生 △：ヘッド走行面積の20％以上にキズ発生 ×：磁性層欠落 なお、これらの磁性層表面はオージェ分光分析の結果、
100〜200Åの酸化物層で覆われていることが判明した。
なお、上記実施例では、無機微粒子としてコロイダルシ
リカを用いたが、外の物質例えばアルミナゾル，チタン
ブラック，ジルコニアあるいは各種ヒドロゾル等を用い
ても、同等の結果を得た。
また、サンプルNo.15では、上記と同サイズのフェライ
トヘッドを用いた。
表１に示される結果から、本発明の効果があきらかであ
る。
そこで、プラズマ処理されたポリエステルフィルムの接
触角を測定した。
10〜200KHzにてプラズマ処理する際の処理ガス中の酸素
の含有量が５％以上になると、官能基の生成が著しくな
り、接触角が低下しぬれやすくなることが分る。また、
プラズマ処理により表面が浄化され、WBL(Weak Boundar
y Layer)が除去される。
これらの効果により、接着力、スチル時間が大幅に改善
される。
この結果、フィルム表面の接触角の急激な低下により、
表面のぬれ性が向上され、それがプラズマ処理による表
面の浄化と相俟って接着強度を向上させ、スチル時間を
延長させていることが判明した。
実施例２ 突起高さ100Å、密度２×108個／mm2として、プラズマ
周波数およびO2量と、スチル時間との関係を測定した。
磁性層およびヘッドは実施例１と同一とした。
結果を第３図、第４図に示す。
これらの結果から、本発明の効果があきらかである。
【図面の簡単な説明】
第１図は直流、交流および周波数可変型電源を使用した
プラズマ処理装置の概略図、第２図は用いる磁気ヘッド
の例を示す部分正面図、第３図は本発明および従来技術
で処理されたベースフィルムを用いる磁気記録媒体の処
理ガス中の酸素含有量とスチル時間との関係を示すプロ
ット図、第４図はプラズマ周波数とスチル時間との関係
を示すプロット図である。 １……磁気ヘッド、４……ギャップ、 21,22……コア半体、 31,32……強磁性金属、 53……混合器、 54……直流、交流および周波数可変型電源、 57……液体窒素トラップ、 58……油回転ポンプ、 511,512……処理ガス源、 521,522……マスフローコントローラ、 561,562……繰出しおよび巻取りロール
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭59−94227（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−100221（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−90231（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−164431（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−127924（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−155513（ＪＰ，Ａ)

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】可とう性基板上にCoを主成分とする強磁性
    金属薄膜層を設けてなる磁気記録媒体を用いて、磁気ヘ
    ッドにより記録再生を行う磁気記録方法において、 平均粒径が30〜300Åの微粒子を配設し、この面上に酸
    素を含む処理ガスを用いて、10kHz〜200kHzの周波数の
    プラズマ処理を施した可とう性基板上に、酸素を含む強
    磁性金属薄膜層を有し、しかも用いる磁気ヘッドのギャ
    ップ長をａμｍとしたとき、ａが0.1〜0.5であり、表面
    に１mm2あたり平均105／a2〜109／a2個以上で高さ30〜3
    00Åの突起を有する磁気記録媒体を用意し、これに少な
    くともギャップ部端面が、金属強磁性体で構成されてい
    る磁気ヘッドで記録再生を行うことを特徴とする磁気記
    録方法。
  2. 【請求項２】金属強磁性体がCoを主成分とする非晶質磁
    性合金である特許請求の範囲第１項に記載の磁気記録方
    法。
  3. 【請求項３】プラズマ処理の処理ガス中の酸素の含有量
    が５〜100at％である特許請求の範囲第１項または第２
    項に記載の磁気記録方法。
  4. 【請求項４】強磁性金属薄膜が表面に強磁性金属の酸化
    物層を有する特許請求の範囲第１項ないし第３項のいず
    れかに記載の磁気記録方法。
  5. 【請求項５】強磁性金属薄膜層が、CoとＯとからなる
    か、CoとＯとNiおよびCrのうちの１種または２種とから
    なる特許請求の範囲第１項ないし第４項のいずれかに記
    載の磁気記録方法。
  6. 【請求項６】強磁性金属薄膜のO/（CoまたはCo＋Ni）の
    原子比が0.5以下である特許請求の範囲第１項ないし第
    ５項のいずれかに記載の磁気記録方法。
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