JPS5877030A - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体およびその製造方法Info
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- JPS5877030A JPS5877030A JP56175315A JP17531581A JPS5877030A JP S5877030 A JPS5877030 A JP S5877030A JP 56175315 A JP56175315 A JP 56175315A JP 17531581 A JP17531581 A JP 17531581A JP S5877030 A JPS5877030 A JP S5877030A
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
- G11B5/7368—Non-polymeric layer under the lowermost magnetic recording layer
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
- G11B5/739—Magnetic recording media substrates
- G11B5/73923—Organic polymer substrates
- G11B5/73927—Polyester substrates, e.g. polyethylene terephthalate
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- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、ポリエステルフィルムを基体として使用す
る磁気記録媒体およびその製造方法に関フィルムと磁性
層との接着性”に優れた磁気記録媒磁気記録！体は、ポ
リエステルフィルムなどの基体上に磁性粉末をバインダ
ーととも岬塗着するか、またはコバルトなどの磁性金属
を真空蒸着したりしてつくられている〇 とこ名が、基体として一般に汎用されているポリエステ
ル７′イルム祉結晶性が高く表面に不純物−および塵埃
等が付着してφるため磁性層との接着 性が弱く、使
用中に磁性層−が剥３離する。おそれがある。これを解
消するため従来令らポリエステルベース。フィルムと磁
性層との間に下塗り層を設けるなどして接着性の改善が
試みられているが未だ充分−満足できる結果は得られて
いない。 この発明者らはかかる現状に鑑み種々検討を行なった結
果、ポリエステルベースフィルムの表面に２０ ｍＡ−
ｓｅｃ／ ｃｔ１以下の印加電流で水との接触角が５０
度以下となるまでプラズマ処理を施こす。 と、ポリエステルベースフィルムの表面に付着した不純
物や塵埃等が充分に除去されるとともにポリエステルベ
ースフィルムの表面が適度にエツチングされ、その結果
この上に磁性層を直接または下地層を介して形成すると
磁性層とポリエステルベースフィルムとの接着性が充分
に向上されることを見いだし、この発明をなすに至った
。 この発明において、ポリエステルベースフィルム表面の
プラズマ処理は、真空槽内で、酸素ガス、アルゴンガス
、ヘリウムガス、ネオンガスまたは窒素ガス雰囲気下に
行なわれ、プラズマ処理に当って使用するガスとしては
これら・のガスがいずれも好適に使用されるが、特に酸
素ガスはポリエステルベースフィルムの表面に活性基を
生成して磁性層との接着性をより良好にするので好適な
ものとして使用される。これらのガスの真空槽内におけ
るガス圧は、１×１０ トールより低くするとプラズマ
が発生せず、１トールより高くすると放電し、安定なプ
ラズマが得られｈい。このため１ｘ ｉ ｏ”’〜１ト
ールの範囲内にするのが好ましい。 このようなガス雰囲気下におけるこの発明のプラズマ処
理は、印加電流を２０ ｍＡ −ｓｅｃ／ ｃｒ＆以下
ルベース７゛イルム表面の水との ５０度以下となるまでワな、うのが好ましく、印加電流
を２０ ｍＡ−ｓｅｃ／ｃ＋Ｊより大きくするとポリエ
ステルベースフィルムの表面色過度にエースフィルムと
の接着性が低下する。またポリエステルベースフィルム
表面の水との接触角、即ち、ポリエステルベースフィル
ム上の直径１〜３ｍｍの水滴をモニターテレビに拡大し
、前進接触角θａと後退接触角θｒを測定して下記の式 ％式％） から求めたθの値は付着した不純物や塵埃等がプラズマ
処理により除去されるに従って小さくなり、接触角が５
０度より大きい間は不純物や塵埃等の除去が充分ではな
いが接触角が５０度以下になるまでプラズマ処理が行な
われると不純物や塵埃等がポリエステルベースフィルム
表面から充分に除去される。従ってポリエステルベース
フィルムの表面に２０ ｍＡ−ｓｅｃ／ ｃｄ引下の印
加電流で水との接触角が５０度引下となるまでプラズマ
処理が施こされると、ポリエステルベースフィルム表面
に付着した不純物や塵埃等が充分に除去されるとともに
ポリエステルベースフィルムの表面が適度にエツチング
され、この上に直接あるいは下地層を介して形成される
磁性層との接着性が充分に向上される。 このようにプラズマ処理が施こされたポリエステルベー
スフィルムの表面に形成される磁性層は、鉄、コバルト
、＝ツケル等の磁性金属またけｉれらの合金を真空蒸着
、イオンプレーティン５グ、スパッタリング、メッキ等
の手段によってポリエステルベースフィルムの表面に被
着して形成される他、磁性粉末、バインダー、有機溶剤
およびその他の必ｊ要成分からなる磁性塗料をぎリエス
テルベースフイルムの表面に塗布、乾燥して形成される
。 また下地層は、アルミニウム、銅、チタン、クロ□ ム
たどの金属を真空蒸着、イオンブレーティング、スパッ
タリング等の手段によってポリエステルベースフィルム
の表面に被着して形成される他、樹脂を適当な有機溶剤
に溶解して得られた下塗り啜溶液をポリエステルベース
フィルムの表面に塗布、乾燥して形成され、このような
下地層を介して磁性層が形成されると、プラズマ処理さ
れたポリエステルベースフィルムと下地層との接着性が
改善されるため下地層を介して形成された磁性層とポリ
エステルベースフィルムの接着性も充分に向上される。 磁性塗料をプラズマ処理されたポリエステルベースフィ
ルム表面に塗布、乾燥して磁性層を形成する際使用され
る磁性粉末としては、ｒ−Ｆｅ２０゜粉末、Ｆ ｅ ５
０４粉末、’Ｃｏ含有ｒ−Ｆｅ２０Ｓ粉＊、Ｃｏ含有Ｆ
ｅＢ ０４粉末、Ｆｅ粉末など従来公知の各種磁性粉
末が広く包含され、バインダーとしては塩化ビニル−酢
酸ビニル−ビニルアルコール共重合体九ポリウレタン系
樹脂など従来一般にバインダーとして使用されるもの°
がいずれも使用される。 ｔ タ有ｍ溶剤もシクロヘキサノン、メチルエチルケト
ン、トルエン等バインダーを溶解するのに一般に使用さ
れているものが−ずれも単独でまたは混合して使用され
る。 一次に、この発明の実施例について説明する。 実施例１ 第１図に示すように、真空槽１内に基板２と上下一対の
リング状の交流電極３および４とを両電極■１に基板２
が位置するように配設し、・かつ下部にＷポート５を配
設してなる装置を使用し、基板２の下面にポリエステル
ベースフィルム６をセットして真空槽下底に配設した排
気系７で嶌空槽１内を１０″″７トールになるまで真゛
空排気した。次二で、真空槽１の側壁う取゛りつけたガ
ス導又管８から酸素ガスを真空槽１内に導−大して誉空
槽ｉ内の酸素ガス圧を０．０３）−ルとし、交流電源９
により約５００ｖの電圧で交流Ｎ、′ｈ’３および４に
０．３ｍ Ａ ／ ｃ−の電流を印加して時間を種々に
変えてプラズマ処理を施こした。第２図のグラフＡはこ
のようにして酸素ガス存在下でプラズマ処理を施こして
得られた多数のポリエステルベースフィルムの水との接
触角とプラズマ処理時間との関係を表わしたものである
。 次に、真空槽１内のＷボート５上にコバルＮ。 をセットし、排気系７で真空槽１内を１０−’）−ルに
なるまで真空排気した。次いでガス導入管８から酸素ガ
スを真空槽１内に導入して真空槽１内の酸素ガス圧をｌ
Ｘｌ０−５）−ルとＬ斥ＳＷボート５を加熱してジバル
ト１０を蒸発させ、前記のプラズマ処理して得られた多
数のポリエステルベースフィルムロの下面にコバルトを
真空蒸着して０．１μ厚のコバルトからなる強磁性金属
薄膜層を４ 形成しへ。次にこれを所定の巾に稜断して
磁気チーてをつくった。 このようにして得られた多数の勝気テープについて接着
力を測定した。接着力の測定は、磁気テープのポリエス
テルベースフィルム側ヲステンレス鋼板にエポキシ樹脂
で接着固定し、磁性層側を引き剥がし用腕杆にエポキシ
樹脂で接着してこの引き剥がし用腕杆の引張力で磁性層
を引き剥がし、磁性層が引き剥がされるときの引張力を
測定し、て行なった。第２図のグラフＢはこのようにし
て得られた多数の磁気テープの接着力とプラズマ処理時
間との関係を表わしたものである。 実施例２ 実施例１におけるプラズマ処理において、電圧を約５０
０ｖから７’００Ｖに代え、酸素ガス圧を０．０１）−
ルとし、印加電流を０．３ ｍＡ ／ ｃＪから０．１
ｍＡ／ｃ−に代えた以外は実施例１と同様にしてプラズ
マ処理を行ない、更に真空蒸着を行なって磁気テープを
つくった。第３図のグラフＡはこのようなプラズマ処理
を施こして得られた多数のポリエステルベースフィルム
の水との接触角とプラズマ処理時間との関係を表わした
ものであり、グラフＢはさらに真空蒸着を行なって得ら
れた多数の磁気テープの接着力とプラズマ処理時間との
関係を表わしたものである。 ゛、 実施例３ ′ 実施例１におけるプラズマ処理において、酸素ガスに代
えてアルゴンガスを同、じガス圧で使用した以外は実施
例１と同様にしてプラズマ処理を行ない、更に真空蒸着
を行なって磁気テープをつくった。第４図のグラフＡは
このよったプラズマ処理を施こして得られた多数のポリ
エステルベースフィルムの水との接触角とプラズマ処理
時間とのであり、グラフ、８社さらに真 空蒸着を行なって得られた多数の磁気テープの接である
。 ：：：におけるプラズマ処理において、酸素ガスに代え
てアルゴンガスを同じガス圧で使用した以外は実施例２
と同様にしてプラズマ処理を行ない、更ＦＣ真空蒸着を
行なって磁気テープをつくった。第５図のグラフＡＩＩ
′ｉこのようなプラズマ処理を施こして得られた多数の
ポリエステルベースフィルムの水との接触角とプラズマ
処理時間との関係を表わしたものであり、グラフＢはさ
らに真空蒸着を行なって得られた多数の磁気テープの接
着力とプラズマ処理時間との関係を表わしたものである
。 グラフＡおよびグラフＢから明らかなように、いずれの
場合において龜プラズマ処理時間が経過すると接触角−
が急激に低下し、接触角が５０度以下では接着力が充分
に良好になっており、このことから接触角が５０度以下
になるまでプラズマ処理−を行なえばポリエステルベー
スフィル−Ａ！ａｌ性層との接着性が充分に向上される
ことがわかる一実施例１において電、圧約５００■で０
．３ｍＡ、／ｃｄの電流を１５秒間印加してプラズマ処
理したポリエステルベースフィルムを使用し、これを真
空蒸着する前に、真空槽１内のＷボート５上にアルミニ
ウムをセラ２トシ、排気系７で真空槽１内を真、空！ト
気した後ボート５を加熱しアルミニウムを然発させ、て
ポリエステルベースフィルム６の下面にアルミニウムか
らなる０、０２μ厚の下地層を形成した。次いで実施例
１と同様にして真空蒸着を行ない０．１μ厚のコバルト
からなる強磁性金Ｆ１４薄膜層を形成し、これを所定の
巾に裁断して磁り、テープをつくった。 実施例６ 。 実施例５におけるプラズマ処理において、醗°素ガスに
代えてアルゴンガスを同じガス圧で使用し、電圧約５０
０■で０．３ｍＡ／ｃｄの一舛を３０秒間印加した以外
は実施例５と同様にしてプラズマ処理を行ない、更にア
ルミニウムからなる下地層を形成した後真叩蒸渣を行な
って磁気テープをつくった。 実施例７ 実施例１におけるプラズマ処理において、酸素ガスに代
えてヘリウムガスを同じガス圧で使用し、をつ、欠った
。。
−２′実施例１．において、プラズマ処理を省いた
以外は実施例１と同様、にして真空、蒸着を７行ない、
０．１μ厚のコバルトからなる強磁細金属薄膜層を形成
した後、所定の巾に裁断して磁気テープをつくった０ 実施例５乃至７においてプラズマ処理されたポリエステ
ルベースフィルムの水との接触角を測定し、また比較例
で使用したポリエステルベースフィルムの水との接触角
を測定して、実施例１で１５秒間プラズマ処理して得ら
れたポリエステルベースフィルムおよび実施例２乃至４
で３０秒間プラズマ処理して得られたポリエステルベー
スフィルムの水との接触角と比較した。また実施例５乃
至７で得られ、た磁気テープおよび比較例で得られた磁
気テープについて実施例１七同じ方法で接着力を測定し
、実施例１で１５秒間プラズマ処理しさらに真空蒸着し
て得られた磁気テープおよび実施例２乃至４で３０秒間
プラズマ処理しさらに真空蒸着して得られた磁気テープ
の接着力と比較した。 下表はその結果である〇 表 上表か゛ら明らかなように、この発明で得られた磁気テ
ープ（実施例１〜７）は従来の磁気テープ（比較例）に
比し、いずれも接触角が５０度以下で小さく、又接着力
が大きく、このことからこの発明によって得られる磁気
記録媒体はポリエステルベースフィルムと磁性層との接
着性が一段と向上されていることがわかる。
る磁気記録媒体およびその製造方法に関フィルムと磁性
層との接着性”に優れた磁気記録媒磁気記録！体は、ポ
リエステルフィルムなどの基体上に磁性粉末をバインダ
ーととも岬塗着するか、またはコバルトなどの磁性金属
を真空蒸着したりしてつくられている〇 とこ名が、基体として一般に汎用されているポリエステ
ル７′イルム祉結晶性が高く表面に不純物−および塵埃
等が付着してφるため磁性層との接着 性が弱く、使
用中に磁性層−が剥３離する。おそれがある。これを解
消するため従来令らポリエステルベース。フィルムと磁
性層との間に下塗り層を設けるなどして接着性の改善が
試みられているが未だ充分−満足できる結果は得られて
いない。 この発明者らはかかる現状に鑑み種々検討を行なった結
果、ポリエステルベースフィルムの表面に２０ ｍＡ−
ｓｅｃ／ ｃｔ１以下の印加電流で水との接触角が５０
度以下となるまでプラズマ処理を施こす。 と、ポリエステルベースフィルムの表面に付着した不純
物や塵埃等が充分に除去されるとともにポリエステルベ
ースフィルムの表面が適度にエツチングされ、その結果
この上に磁性層を直接または下地層を介して形成すると
磁性層とポリエステルベースフィルムとの接着性が充分
に向上されることを見いだし、この発明をなすに至った
。 この発明において、ポリエステルベースフィルム表面の
プラズマ処理は、真空槽内で、酸素ガス、アルゴンガス
、ヘリウムガス、ネオンガスまたは窒素ガス雰囲気下に
行なわれ、プラズマ処理に当って使用するガスとしては
これら・のガスがいずれも好適に使用されるが、特に酸
素ガスはポリエステルベースフィルムの表面に活性基を
生成して磁性層との接着性をより良好にするので好適な
ものとして使用される。これらのガスの真空槽内におけ
るガス圧は、１×１０ トールより低くするとプラズマ
が発生せず、１トールより高くすると放電し、安定なプ
ラズマが得られｈい。このため１ｘ ｉ ｏ”’〜１ト
ールの範囲内にするのが好ましい。 このようなガス雰囲気下におけるこの発明のプラズマ処
理は、印加電流を２０ ｍＡ −ｓｅｃ／ ｃｒ＆以下
ルベース７゛イルム表面の水との ５０度以下となるまでワな、うのが好ましく、印加電流
を２０ ｍＡ−ｓｅｃ／ｃ＋Ｊより大きくするとポリエ
ステルベースフィルムの表面色過度にエースフィルムと
の接着性が低下する。またポリエステルベースフィルム
表面の水との接触角、即ち、ポリエステルベースフィル
ム上の直径１〜３ｍｍの水滴をモニターテレビに拡大し
、前進接触角θａと後退接触角θｒを測定して下記の式 ％式％） から求めたθの値は付着した不純物や塵埃等がプラズマ
処理により除去されるに従って小さくなり、接触角が５
０度より大きい間は不純物や塵埃等の除去が充分ではな
いが接触角が５０度以下になるまでプラズマ処理が行な
われると不純物や塵埃等がポリエステルベースフィルム
表面から充分に除去される。従ってポリエステルベース
フィルムの表面に２０ ｍＡ−ｓｅｃ／ ｃｄ引下の印
加電流で水との接触角が５０度引下となるまでプラズマ
処理が施こされると、ポリエステルベースフィルム表面
に付着した不純物や塵埃等が充分に除去されるとともに
ポリエステルベースフィルムの表面が適度にエツチング
され、この上に直接あるいは下地層を介して形成される
磁性層との接着性が充分に向上される。 このようにプラズマ処理が施こされたポリエステルベー
スフィルムの表面に形成される磁性層は、鉄、コバルト
、＝ツケル等の磁性金属またけｉれらの合金を真空蒸着
、イオンプレーティン５グ、スパッタリング、メッキ等
の手段によってポリエステルベースフィルムの表面に被
着して形成される他、磁性粉末、バインダー、有機溶剤
およびその他の必ｊ要成分からなる磁性塗料をぎリエス
テルベースフイルムの表面に塗布、乾燥して形成される
。 また下地層は、アルミニウム、銅、チタン、クロ□ ム
たどの金属を真空蒸着、イオンブレーティング、スパッ
タリング等の手段によってポリエステルベースフィルム
の表面に被着して形成される他、樹脂を適当な有機溶剤
に溶解して得られた下塗り啜溶液をポリエステルベース
フィルムの表面に塗布、乾燥して形成され、このような
下地層を介して磁性層が形成されると、プラズマ処理さ
れたポリエステルベースフィルムと下地層との接着性が
改善されるため下地層を介して形成された磁性層とポリ
エステルベースフィルムの接着性も充分に向上される。 磁性塗料をプラズマ処理されたポリエステルベースフィ
ルム表面に塗布、乾燥して磁性層を形成する際使用され
る磁性粉末としては、ｒ−Ｆｅ２０゜粉末、Ｆ ｅ ５
０４粉末、’Ｃｏ含有ｒ−Ｆｅ２０Ｓ粉＊、Ｃｏ含有Ｆ
ｅＢ ０４粉末、Ｆｅ粉末など従来公知の各種磁性粉
末が広く包含され、バインダーとしては塩化ビニル−酢
酸ビニル−ビニルアルコール共重合体九ポリウレタン系
樹脂など従来一般にバインダーとして使用されるもの°
がいずれも使用される。 ｔ タ有ｍ溶剤もシクロヘキサノン、メチルエチルケト
ン、トルエン等バインダーを溶解するのに一般に使用さ
れているものが−ずれも単独でまたは混合して使用され
る。 一次に、この発明の実施例について説明する。 実施例１ 第１図に示すように、真空槽１内に基板２と上下一対の
リング状の交流電極３および４とを両電極■１に基板２
が位置するように配設し、・かつ下部にＷポート５を配
設してなる装置を使用し、基板２の下面にポリエステル
ベースフィルム６をセットして真空槽下底に配設した排
気系７で嶌空槽１内を１０″″７トールになるまで真゛
空排気した。次二で、真空槽１の側壁う取゛りつけたガ
ス導又管８から酸素ガスを真空槽１内に導−大して誉空
槽ｉ内の酸素ガス圧を０．０３）−ルとし、交流電源９
により約５００ｖの電圧で交流Ｎ、′ｈ’３および４に
０．３ｍ Ａ ／ ｃ−の電流を印加して時間を種々に
変えてプラズマ処理を施こした。第２図のグラフＡはこ
のようにして酸素ガス存在下でプラズマ処理を施こして
得られた多数のポリエステルベースフィルムの水との接
触角とプラズマ処理時間との関係を表わしたものである
。 次に、真空槽１内のＷボート５上にコバルＮ。 をセットし、排気系７で真空槽１内を１０−’）−ルに
なるまで真空排気した。次いでガス導入管８から酸素ガ
スを真空槽１内に導入して真空槽１内の酸素ガス圧をｌ
Ｘｌ０−５）−ルとＬ斥ＳＷボート５を加熱してジバル
ト１０を蒸発させ、前記のプラズマ処理して得られた多
数のポリエステルベースフィルムロの下面にコバルトを
真空蒸着して０．１μ厚のコバルトからなる強磁性金属
薄膜層を４ 形成しへ。次にこれを所定の巾に稜断して
磁気チーてをつくった。 このようにして得られた多数の勝気テープについて接着
力を測定した。接着力の測定は、磁気テープのポリエス
テルベースフィルム側ヲステンレス鋼板にエポキシ樹脂
で接着固定し、磁性層側を引き剥がし用腕杆にエポキシ
樹脂で接着してこの引き剥がし用腕杆の引張力で磁性層
を引き剥がし、磁性層が引き剥がされるときの引張力を
測定し、て行なった。第２図のグラフＢはこのようにし
て得られた多数の磁気テープの接着力とプラズマ処理時
間との関係を表わしたものである。 実施例２ 実施例１におけるプラズマ処理において、電圧を約５０
０ｖから７’００Ｖに代え、酸素ガス圧を０．０１）−
ルとし、印加電流を０．３ ｍＡ ／ ｃＪから０．１
ｍＡ／ｃ−に代えた以外は実施例１と同様にしてプラズ
マ処理を行ない、更に真空蒸着を行なって磁気テープを
つくった。第３図のグラフＡはこのようなプラズマ処理
を施こして得られた多数のポリエステルベースフィルム
の水との接触角とプラズマ処理時間との関係を表わした
ものであり、グラフＢはさらに真空蒸着を行なって得ら
れた多数の磁気テープの接着力とプラズマ処理時間との
関係を表わしたものである。 ゛、 実施例３ ′ 実施例１におけるプラズマ処理において、酸素ガスに代
えてアルゴンガスを同、じガス圧で使用した以外は実施
例１と同様にしてプラズマ処理を行ない、更に真空蒸着
を行なって磁気テープをつくった。第４図のグラフＡは
このよったプラズマ処理を施こして得られた多数のポリ
エステルベースフィルムの水との接触角とプラズマ処理
時間とのであり、グラフ、８社さらに真 空蒸着を行なって得られた多数の磁気テープの接である
。 ：：：におけるプラズマ処理において、酸素ガスに代え
てアルゴンガスを同じガス圧で使用した以外は実施例２
と同様にしてプラズマ処理を行ない、更ＦＣ真空蒸着を
行なって磁気テープをつくった。第５図のグラフＡＩＩ
′ｉこのようなプラズマ処理を施こして得られた多数の
ポリエステルベースフィルムの水との接触角とプラズマ
処理時間との関係を表わしたものであり、グラフＢはさ
らに真空蒸着を行なって得られた多数の磁気テープの接
着力とプラズマ処理時間との関係を表わしたものである
。 グラフＡおよびグラフＢから明らかなように、いずれの
場合において龜プラズマ処理時間が経過すると接触角−
が急激に低下し、接触角が５０度以下では接着力が充分
に良好になっており、このことから接触角が５０度以下
になるまでプラズマ処理−を行なえばポリエステルベー
スフィル−Ａ！ａｌ性層との接着性が充分に向上される
ことがわかる一実施例１において電、圧約５００■で０
．３ｍＡ、／ｃｄの電流を１５秒間印加してプラズマ処
理したポリエステルベースフィルムを使用し、これを真
空蒸着する前に、真空槽１内のＷボート５上にアルミニ
ウムをセラ２トシ、排気系７で真空槽１内を真、空！ト
気した後ボート５を加熱しアルミニウムを然発させ、て
ポリエステルベースフィルム６の下面にアルミニウムか
らなる０、０２μ厚の下地層を形成した。次いで実施例
１と同様にして真空蒸着を行ない０．１μ厚のコバルト
からなる強磁性金Ｆ１４薄膜層を形成し、これを所定の
巾に裁断して磁り、テープをつくった。 実施例６ 。 実施例５におけるプラズマ処理において、醗°素ガスに
代えてアルゴンガスを同じガス圧で使用し、電圧約５０
０■で０．３ｍＡ／ｃｄの一舛を３０秒間印加した以外
は実施例５と同様にしてプラズマ処理を行ない、更にア
ルミニウムからなる下地層を形成した後真叩蒸渣を行な
って磁気テープをつくった。 実施例７ 実施例１におけるプラズマ処理において、酸素ガスに代
えてヘリウムガスを同じガス圧で使用し、をつ、欠った
。。
−２′実施例１．において、プラズマ処理を省いた
以外は実施例１と同様、にして真空、蒸着を７行ない、
０．１μ厚のコバルトからなる強磁細金属薄膜層を形成
した後、所定の巾に裁断して磁気テープをつくった０ 実施例５乃至７においてプラズマ処理されたポリエステ
ルベースフィルムの水との接触角を測定し、また比較例
で使用したポリエステルベースフィルムの水との接触角
を測定して、実施例１で１５秒間プラズマ処理して得ら
れたポリエステルベースフィルムおよび実施例２乃至４
で３０秒間プラズマ処理して得られたポリエステルベー
スフィルムの水との接触角と比較した。また実施例５乃
至７で得られ、た磁気テープおよび比較例で得られた磁
気テープについて実施例１七同じ方法で接着力を測定し
、実施例１で１５秒間プラズマ処理しさらに真空蒸着し
て得られた磁気テープおよび実施例２乃至４で３０秒間
プラズマ処理しさらに真空蒸着して得られた磁気テープ
の接着力と比較した。 下表はその結果である〇 表 上表か゛ら明らかなように、この発明で得られた磁気テ
ープ（実施例１〜７）は従来の磁気テープ（比較例）に
比し、いずれも接触角が５０度以下で小さく、又接着力
が大きく、このことからこの発明によって得られる磁気
記録媒体はポリエステルベースフィルムと磁性層との接
着性が一段と向上されていることがわかる。
第１図はこの発明の製造方法を実施するために使用する
装置の一実施例を示す概略断面図、第２図乃至第５図は
実施例１乃至４で得られたポリエステルベースフィルム
および磁気テープの接触角および接着力とプラズマ処理
時間との関係図である。 １・・・真空槽、３．４・・・交流電極、５・・・Ｗボ
ート、６・・・ポリエステルベースフィルム 特許出願人 日立マクセル株式会社第１図 第２図 プラズマ処理時間（秒） 第３図 ５ プラズマ処理時間（秒） 、 、第ど図 プラズマ処理時間（秒） 第５図 プラズマ処理時間（秒） 争 手続補正４１（自発） 昭和５７年１月１３日 １、事件の１表示 特願昭５６−１７５３１５号 ２、発明め名称 磁気記録媒体およびその製造方法 ３、補正をする者 。 １１．補正の対象 ５、補正の内容 （１）明細書第１ページ特許請求の範囲の欄を別（２）
明細書第２ページ第１３行目、第３ページ下から２
行目、下から５行目、第４ページ１５行目の記載「２０
ｍＡ−ｓｅｃ／ｄＪをそれぞれ「１２ＱｍＡ、−ｓ ｅ
ｃ ／ｒＡ Ｊと補正スル。 （１） 特許請求の範囲を記載した別紙 １通特許
請求の範囲
装置の一実施例を示す概略断面図、第２図乃至第５図は
実施例１乃至４で得られたポリエステルベースフィルム
および磁気テープの接触角および接着力とプラズマ処理
時間との関係図である。 １・・・真空槽、３．４・・・交流電極、５・・・Ｗボ
ート、６・・・ポリエステルベースフィルム 特許出願人 日立マクセル株式会社第１図 第２図 プラズマ処理時間（秒） 第３図 ５ プラズマ処理時間（秒） 、 、第ど図 プラズマ処理時間（秒） 第５図 プラズマ処理時間（秒） 争 手続補正４１（自発） 昭和５７年１月１３日 １、事件の１表示 特願昭５６−１７５３１５号 ２、発明め名称 磁気記録媒体およびその製造方法 ３、補正をする者 。 １１．補正の対象 ５、補正の内容 （１）明細書第１ページ特許請求の範囲の欄を別（２）
明細書第２ページ第１３行目、第３ページ下から２
行目、下から５行目、第４ページ１５行目の記載「２０
ｍＡ−ｓｅｃ／ｄＪをそれぞれ「１２ＱｍＡ、−ｓ ｅ
ｃ ／ｒＡ Ｊと補正スル。 （１） 特許請求の範囲を記載した別紙 １通特許
請求の範囲
Claims (1)
- １．水と９接触角が５０度以下のポリエステルベースフ
ィルム１に磁性層を直接あるいけ下地層を介して形成し
てなる磁気記ａｍｉｔｘ態ｊ、、’ｊ ’２、 ポリエ
ステルベースフィルムの表面を２−０５０度以下となる
までプラズマ処理し、この上に磁性層を直接あるいは下
地層を介して形成することを特徴とする磁気記録媒体の
製造方法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56175315A JPS5877030A (ja) | 1981-10-31 | 1981-10-31 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56175315A JPS5877030A (ja) | 1981-10-31 | 1981-10-31 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5877030A true JPS5877030A (ja) | 1983-05-10 |
| JPH0480448B2 JPH0480448B2 (ja) | 1992-12-18 |
Family
ID=15993939
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56175315A Granted JPS5877030A (ja) | 1981-10-31 | 1981-10-31 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5877030A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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-
1981
- 1981-10-31 JP JP56175315A patent/JPS5877030A/ja active Granted
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0480448B2 (ja) | 1992-12-18 |
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