JPH0612566B2

JPH0612566B2 - 磁気記録方法

Info

Publication number: JPH0612566B2
Application number: JP59162696A
Authority: JP
Inventors: 正俊中山; 康史高杉; 俊明泉
Original assignee: TDK Corp
Current assignee: TDK Corp
Priority date: 1984-08-01
Filing date: 1984-08-01
Publication date: 1994-02-16
Anticipated expiration: 2009-02-16
Also published as: JPS6139920A

Description

【発明の詳細な説明】Ｉ発明の背景技術分野本発明は、金属薄膜型の磁気記録媒体を用いた磁気記録
方法に関する。

先行技術とその問題点ビデオ用、オーディオ用等の磁気記録媒体として、テー
プ化して巻回したときのコンパクト性から、金属薄膜型
の磁性層を有するものの開発が活発に行われている。

このような金属薄膜型の媒体の磁性層としては、特性
上、基体法線に対し所定の傾斜角にて蒸着を行う、いわ
ゆる斜め蒸着法によって形成したＣｏ系、Ｃｏ−Ｎｉ系
等からなる蒸着膜が好適である。

このような媒体は、スペーシングロスによる特性低下が
大きいので、その表面をできるだけ平滑化する必要があ
る。

しかし、あまり表面を平坦にすると、摩擦が大きくな
り、ヘッドタッチ、走行面で支障が出る。

ところで、金属薄膜型の媒体では、磁性層が０．０５〜
０．５μｍと非常にうすいため、媒体の表面性は基板の
表面性に依存する。

このため、基板表面に比較的なだらかないわゆるしわ
状、ミミズ状等の突起を設ける旨の提案されている（特
開昭53−116115号等）。

また、特開昭53−68227号，同58−110221号には、基体
表面に微粒子を配設して、光学顕微鏡で５０〜４００倍
で観察でき、しかも触針式表面粗さ測定装置で実測でき
る高さの凹凸を設ける旨が提案されている。

しかし、これらでも、走行摩擦、耐久走行性、走行安定
性等の物性や、電磁変換特性の点で未だ不十分である。

一方、特開昭53−88704号等には、強磁性金属薄膜層表
面に、直鎖の飽和脂肪酸からなるトップコート層を設
け、走行摩擦を低減する旨が提案されている。

しかし、脂肪酸を用いるときには、潤滑剤のヘッドへの
付着、ヘッド目づまりが発生し、実用上大きな問題とな
る。

すなわち、現状では、走行摩擦を下げ、しかも走行面で
支障の出ない範囲で、ヘッド付着、ヘッド目づまりを解
消し、かつ電磁変換特性の面でも不都合の生じない技術
は未だ実現していない。

なお、現在のところ、金属薄膜型の媒体では、磁気ヘッ
ドとしてフェライトヘッドを用いれば十分であるとされ
ている。

そして、もっぱらフェライトヘッドを用いたときの耐久
性、信頼性等の向上が図られている。

II発明の目的本発明の目的は、金属薄膜型の磁気記録媒体を用いた磁
気記録方法において、摩擦、耐久性、走行安定性等の物
性を改良し、しかも物性面で支障のない範囲でヘッド付
着や目づまりを解消し、かつ電磁変換特性の面でも何ら
不都合が生じないようにすることにある。

このような目的は、下記の本発明によって達成される。

すなわち本発明は、可とう性基板上にＣｏを主成分とする強磁性金属薄膜層
を設け、この強磁性金属薄膜層上にトップコート膜を設
けてなる磁気記録媒体を用い、磁気ヘッドを用いて記録
再生を行う磁気記録方法において、磁気ヘッドの少なくともギャップ部端面が金属強磁性体
で構成されており、磁気記録媒体の強磁性金属薄膜層が酸素を含んでおり、トップコート膜が、ＲＣＯＯＨ（ここに、Ｒは炭素原子
数１３〜２１の直鎖のアルキル基を表わす）から形成さ
れており、しかもトップコート膜の水との接触角が６０
〜１１０°であり、かつ磁気ヘッドのギャップ長をａμｍとしたとき、ａが
０．１〜０．５であり、磁気記録媒体が表面に１mm²当
り平均１０^５／ａ^２〜１０^９／ａ^２個の突起を有し、し
かも突起が３０〜３００Åの高さを有することを特徴と
する磁気記録方法である。

III発明の具体的構成以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。

本発明における磁性層としての強磁性金属薄膜層は、Ｃ
ｏを主成分とし、これにＯを含み、さらに必要に応じＮ
ｉおよび／またはＣｒが含有される組成を有する。

すなわち、好ましい態様においては、Ｃｏ単独からなっ
てもよく、ＣｏとＮｉからなってもよい。Ｎｉが含まれ
る場合、Ｃｏ／Ｎｉの重量比は、１．５以上であること
が好ましい。

さらに、強磁性金属薄膜層中には、Ｃｒが含有されてい
てもよい。

Ｃｒが含有されると、電磁変換特性が向上し、出力およ
びＳ／Ｎ比が向上し、さらに膜強度も向上する。

このような場合、Ｃｒ／ＣｏあるいはＣｒ／（Ｃｏ＋Ｎ
ｉ）の重量比は０．００１〜０．１、より好ましくは、
０．００５〜０．０５であることが好ましい。

さらに、強磁性金属薄膜中にはＯが含有されるものであ
る。

強磁性金属薄膜中の平均酸素量は、原子比、特にＯ／
（ＣｏまたはＣｏ＋Ｎｉ）の原子比で、０．５以下、よ
り好ましくは０．０５〜０．５であることが好ましい。

この場合、強磁性金属薄膜層の表面では、酸素が強磁性
金属（Ｃｏ，Ｎｉ）と酸化物を形成している。

すなわち、表面部、特に表面から５０〜５００Å、より
好ましくは５０〜２００Åの厚さの範囲には、オージェ
分光分析により、酸化物を示すピークが認められるもの
である。そして、この酸化物層の酸素含有量は、原子比
で０．５〜１．０程度である。

なお、このような強磁性金属薄膜中には、さらに他の微
量成分、特に遷移元素、例えばＦｅ，Ｍｎ，Ｖ，Ｚｒ，
Ｎｂ，Ｔａ，Ｔｉ，Ｚｎ，Ｍｏ，Ｗ，Ｃｕ等が含まれて
いてもよい。

このような強磁性金属薄膜層は、好ましい態様におい
て、上記したＣｏを主成分とする柱状結晶粒の集合体か
らなる。

この場合、強磁性金属薄膜層の厚さは、０．０５〜０．
５μｍ、好ましくは、０．０７〜０．３μｍとされる。

そして、柱状の結晶粒は、薄膜の厚さ方向のほぼ全域に
亘る長さをもち、その長手方向は、基体の主面の法線に
対して、１０〜７０°の範囲にて傾斜していることが好
ましい。

なお、酸素は、表面部の柱状の結晶粒の表面に前記のと
おり化合物の形で存在するものである。

また、強磁性金属薄膜層の酸素の濃度勾配の何如には特
に制限はない。

また、結晶粒の短径は、５０〜５００Å程度の長さをも
つことが好ましい。

このような強磁性金属薄膜層を形成する基板は、非磁性
のものでありさえすれば特に制限はないが、特に可とう
性の基板、特にポリエステル、ポリイミド等の樹脂製の
ものであることが好ましい。

また、その厚さは、種々のものであってよいが、特に５
〜２０μｍであることが好ましい。

この場合、基板の強磁性金属薄膜層形成面の裏面には、
公知の種々のバックコート層が形成されていてもよい。

また、強磁性金属薄膜層表面には、公知の種々のトップ
コート層が形成されていてもよい。

このように構成される本発明の磁気記録媒体の表面に
は、微細な突起が所定の密度で設けられる。

微細な突起は、３０〜３００Å、より好ましくは５０〜
２５０Åの高さを有するものである。

すなわち、本発明の突起は、光学顕微鏡で観察でき、か
つ触針型表面粗さ計で測定できるものではなく、捜査型
電子顕微鏡にて観察できる程度のものである。

突起高さが３００Åをこえ、光学顕微鏡にて観察できる
ものとなると、電磁変換特性の劣化と、走行安定性の低
下をもたらす。

また、５０Å未満となると、物性の向上の実効がない。

そして、その密度は１mm²あたり平均１０^５／ａ^２〜１
０^９／ａ^２個、より好ましくは２×１０^６／ａ^２〜１０
^９／ａ^２個である。

この場合、ａはμｍ単位にて、磁気ヘッドのギャップ長
を表わす。

そして、磁気ヘッド長のギャップ長は、０．５μｍ以
下、特に０．１〜０．５μｍ、より好ましくは０．１〜
０．４μｍとされる。

なお、突起密度が１０^５／ａ^２個／mm²、より好ましく
は２×１０^６／ａ^２個／mm²未満となると、ノイズが増
大し、スチル特性が低下する等物性の低下をきたし、実
用に耐えない。

また、１０^９／ａ^２個／mm²をこえると、物性上の効果
が少なくなってしまう。

このような突起を設けるには、通常、基板上に微粒子を
配設すればよい。

微粒子径は、３０〜３００Å、特に５０〜２５０Åとす
ればよく、これにより微粒子径を対応した微細突起が形
成される。

用いる微粒子としては、通常コロイド粒子として知られ
ているものであって、例えばＳｉＯ_２（コロイダルシリ
カ）、Ａｌ_２Ｏ_３（アルミナゾル）、ＭｇＯ，Ｔｉ
Ｏ_２，ＺｎＯ，Ｆｅ_２Ｏ_３，ジルコニア，ＣｄＯ，Ｎｉ
Ｏ，ＣａＷＯ_４，ＣａＣＯ_３，ＢａＣＯ_３，ＣｏＣ
Ｏ_３，ＢａＴｉＯ_３，Ｔｉ（チタンブラック），Ａｕ，
Ａｇ，Ｃｕ，Ｎｉ，Ｆｅ、各種ヒドロゾルや、樹脂粒子
等が使用可能である。この場合、特に無機物質を用いる
のが好ましい。

このような微粒子は、各種溶媒を用いて塗布液とし、こ
れを基板状に塗布、乾燥してもよく、あるいは塗布液中
に各種水性エマルジョン等の樹脂分を添加したものを塗
布、乾燥してもよい。

なお、場合によっては、これら塗布液を基板上に配設す
るのではなく、トップコート層として配設することもで
きる。

また、樹脂分を用いる場合、これら微粒子にもとづく微
細突起に重畳してゆるやかな突起を設けることもできる
が、通常はこのようにする必要はない。

なお、基板と強磁性金属薄膜層との間には、必要に応
じ、公知の各種下地層を介在させることもできる。

また、もし必要であるならば、強磁性金属薄膜層を複数
に分割して、その間に非強磁性金属薄膜層を介在させて
もよい。

本発明において、磁性層の形成は電解蒸着、イオンプレ
ーティング等を用いることもできるが、いわゆる斜め蒸
着法によって形成されることが好ましい。

この場合、基体法線に対する、蒸着物質の入射角の最小
値は、２０°以上とすることが好ましい。

入射角が２０°未満となると、電磁変換特性が低下す
る。

なお、蒸着雰囲気は、通常、アルゴン、ヘリウム、真空
等の不活性雰囲気に、酸素ガスを含む雰囲気とし、１０
^−５×１０^０Ｐａ程度の圧力とし、また、蒸着距離、基
体搬送方向、キャンやマスクの構造、配置等は公知の条
件と同様にすればよい。

そして、酸素雰囲気での蒸着により、表面に金属酸化物
の皮膜が形成される。なお、金属酸化物が形成される酸
素ガス分圧は、実験から容易に求めることができる。

なお、表面に金属酸化物の皮膜を形成するには、各種酸
化処理が可能である。

適用できる酸化処理としては下記のようなものである。

１）乾式処理ａ．エネルギー粒子処理特願昭58−76640号に記載したように、蒸着の後期に、
イオンガンや中性ガンにより酸素をエネルギー粒子とし
て磁性層にさしむけるもの。

ｂ．グロー処理Ｏ_２，Ｈ_２Ｏ，Ｏ_２＋Ｈ_２Ｏ等とＡｒ，Ｎ_２等の不活性
ガスとを用い、これをグロー放電してプラズマを生じさ
せ、このプラズマ中に磁性膜表面をさらすもの。

Ｃ．酸化性ガスオゾン、加熱水蒸気等の酸化性ガスを吹きつけるもの。

ｄ．加熱処理加熱によって酸化を行うもの。加熱温度は６０〜１５０
℃程度。

２）湿式処理ａ．陽極酸化ｂ．アルカリ処理ｃ．酸処理クロム酸塩処理、過マンガン酸塩処理、リン酸塩処理等
を用いる。

ｄ．酸化剤処理Ｈ_２Ｏ_２等を用いる。

このような磁性層上には、ＲＣＯＯＨからなるトップコ
ート膜が形成される。

ここに、Ｒは炭素原子数１３〜２１の直鎖のアルキル基
である。

Ｒの炭素原子数が１３未満になると、特に高温での走行
耐久性が悪化し、走行摩擦係数が増大する。

一方、２１をこえると、蒸着効率が悪化し、トップコー
ト膜の均一性を保つことがむずかしくなる。また、出力
低下も大きくなる。

なお、炭素原子数は、１３，１５，１７，１９，２１、
特に１５，１７，１９が好適である。

また、Ｒの炭素原子数を上記のような範囲とするだけで
なく、このような組成のトップコート膜の水との接触角
は、６０〜１１０°としければならない。

この場合、接触角が６０°未満では、走行摩擦が大きく
実用に耐えない。また、走行耐久性も悪い。

他方、１１０°をこえると、出力低下が増加し、実用に
耐えない。

なお、従来の直鎖脂肪酸を塗布してなるトップコート膜
では、蒸着によるとそのようなＲＣＯＯＨ分子の配向状
態を制御できないので、水との接触角は通常６０〜１１
０°とはならない。

このようなトップコート膜は、５〜１００Åの厚さとさ
れる。このとき、特性のバランスが保たれる。

そして、このようなトップコート膜は、蒸着、スパッタ
リングないしイオンプレーティング等の気相被着法、特
に蒸着によって形成することが好ましい。

気相被着法によらず、塗布によることには、膜厚をうす
くして、しかも均一な厚さで設層することがむずかし
い。

蒸着等に際しては、対応する脂肪酸を用いればよい。

なお、対応するアリキル基を有するリン酸アルキルエス
テル（モノ、ジ、トリ）ないしその塩を用い、蒸着ない
しスパッリングを行うこともできる。

この場合、脂肪酸ＲＣＯＯＨは、蒸発源の分解生成物に
該当するものである。

なお、蒸着に際してのＲＣＯＯＨの生成堆積と、表面の
接触角は、基体温度、基体−ハース間隔、動作圧力等に
依存する。接触角が変化するのは、ＲＣＯＯＨ分子の配
向状態、すなわち表面に露出するＣＯＯＨとＲとの量比
が異なるからである。そして、その条件は、製造装置ご
とに容易に実験的に求めることができる。

なお、通常は、基体−ハース間隔は１〜２０cm程度、基
体温度は３０℃程度とする。

そして、その磁性層形成面の裏面には、バックコート層
を設層することが好ましい。

他方、用いる磁気ヘッドは、少なくともギャップ部端面
を金属強磁性体で構成したものである。

これにより、きわめて良好な電磁変換特性がえられ、し
かも走行耐久性が良好となり、ヘッド付着やヘッド目づ
まりも減少する。

この場合、コア全体を金属強磁性体から形成することも
でき、必要に応じ、ギャップ部端面を含むコアの一部を
金属強磁性体から形成することもできる。

第１図には、例えばフェライト等の強磁性体からなるコ
ア半体２１，２２のギャップ部端面に、１〜５μｍの厚
さの金属強磁性体３１，３２をスパッタリング等により
被着し、ガラス質等のギャップ４を介して、コア半体２
１，２２をつきあわせて磁気ヘッド１を構成した例が示
される。

そして、その形状、構造等は公知のものであってよい。

ただ、ギャップ長ａは、前記のとおり、通常、０．１〜
０．５μｍ、特に０．１〜０．４μｍ、またトラック巾
は、通常、１０〜５０μｍ、特に１０〜２０μｍとす
る。

用いる金属強磁性体としては、種々のものが可能であ
り、非晶質磁性合金、センダスト、ハードパーマロイ、
パーマロイ等の薄膜、薄板等はいずれも使用可能であ
る。

ただ、これらのうちで、ヘッド目づまりないし付着が特
に少なく、電磁変換特性が良好なのは、Ｃｏを主成分と
する非晶質磁性合金である。

このような非晶質磁性合金としては、Ｃｏ７０〜９５at
％、ガラス化元素として、Ｚｒ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｈｆ，希
土類元素，Ｓｉ，Ｂ，Ｐ，Ｃ，Ａｌ等、特にＺｒおよび
／またはＮｂを５〜２０at％含有するものが好適であ
る。

あるいは、ガラス化元素として１５〜３５at％のＳｉお
よび／またはＢを含むものも好適である。

この場合、さらに１０at％以下のＦｅ、２５at％以下の
Ｎｉ、総計２０at％以下のＣｒ，Ｔｉ，Ｒｕ，Ｗ，Ｍ
ｏ，Ｍｎ等の１種以上が含有されていてもよい。

これら非晶質磁性合金は、スパッタリングや高速急冷法
等を用いて、コア半体ないしギャップ部等として形成さ
れる。

このような磁気ヘッドを用いて、前記した媒体に対して
記録再生を行うには、いわゆるＶＨＳ方式、ベータ方
式、８mmビデオ方式、Ｕ規格方式等公知のビデオ録画シ
ステムに従えばよい。

IV発明の具体的作用効果本発明によれば、走行摩擦がきわめて小さくなり、かつ
安定化する。

また、走行耐久性が格段と向上し、多数回走行後も走行
摩擦の増大がなく、くりかえし録画、再生回数が格段と
向上し、スチル特性が格段と向上する。

そして、走行安定性も高く、高温高湿から低温低湿ま
で、巾広い条件下できわめて高い安定性を示す。

さらに、スペーシングロスにもとづく再生出力の低下も
きわめて小さい。

また、ノイズもきわめて少ない。

そして、ヘッドの目づまりやヘッド付着もきわめて少な
い。

Ｖ発明の具体的実施例以下に、本発明の具体的実施例を示し、本発明をさらに
詳細に説明する。

実施例１実質的に微粒子を含まない平滑なポリエステルフィルム
（１２μｍ厚）上にコロイダルシリカを塗布し、微小突
起を有する基板を得た。

この基板を真空槽中に設けた冷却用ロールに沿わせて走
行させながら、Ｃｏ／Ｎｉの重量比4/1のＣｏＮｉ合金、およびＣｏ／
Ｎｉ／Ｃｒの重量比が75/20/5のＣｏＮｉＣｒ合金を用
い、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム上
に、それぞれ、斜め蒸着法により、磁性層を０．２μｍ
厚にて形成し、サンプルＡ_０およびＢ_０を作製した。

斜め蒸着における入射角は４５°とし、蒸着雰囲気は、Ｐ_Ａｒ＝２×１０^-2Ｐａ、Ｐ_Ｏ _２＝１×１０^-2Ｐａとした。

得られた磁性層は、ともに対応する合金の組成をもち、
ともにＯ／（Ｃｏ＋Ｎｉ）＝０．２（原子比）であり、
基体主面法線に対し、約４０°傾斜した、短径０．０１
μｍの厚さ方向全域に亘って成長した柱状結晶粒子の集
合体であった。

また、イオンエッチングを行いながらオージェ分光分析
を行ったところ、Ｃｏは表面近くで少なく、またＯは化
学シフトしており、しかも表面近くに多いプロファイル
をもち、Ｏが柱状粒子の表面に金属と結合した状態で存
在していることが確認された。

次いで、上記A₀およびB₀の磁性層上に、対応する脂肪酸
を蒸発源として、Ｐ_Ａｒ＝４×１０^-3Ｐａの雰囲気にて、基体温度と基体
−蒸発源距離をかえ、５０Å厚の表１に示される水と接
触角をもつ脂肪酸トップコート膜を形成して、サンプル
A₁〜A₁₅およびB₁〜B₃を得た。

本発明のサンプルでは、光学顕微鏡による観察および触
針型表面粗さ計による測定で、コロイダルシリカ塗布の
効果は検出されなかったが、走査型電子顕微鏡による高
倍率の観察では、磁性膜に突起がみられ、その大小は、
塗布したコロイダルシリカの大小に対応していた。

磁性層表面の突起の高さおよび密度と特性の関係を表
１，表２に示す。

なお、特性、最短記録波長０．７μｍの信号を用いて実
験を行った。

なお、これらの磁性層表面はオージェ分光分析の結果、
１００〜２００Åの酸化物層で覆われていることが判明
した。

なお、サンプルＣｏは酸素を含まない雰囲気での蒸着に
よる、酸素を含まないＣｏ−Ｎｉ磁性層のものである。

また、用いた磁気ヘッドは、第１図に示されるものであ
り、ギャップ長０．２５μｍ、トラック長２０μｍのも
のである。この場合、コア半体２１，２２はフェライト
製、ギャップ端面は、スパッタリングにより形成した３
μｍ厚のＣｏ０．８、Ｎｉ０．１、Ｚｒ０．１（at％）
であり、ギャップ材はガラスとした。

なお、１０^５／ａ^２は1.６×１０^６（mm²）^-1である。

また、比較用の磁気ヘッドとして、フェライトヘッドを
用いた。

なお、トップコート膜組成は、膜をアルコールで溶解し
て、抽出し、ガスクロマトグラムで同定した。

これら各サンプルにつき、以下の測定を行った。

特性の測定方法は以下のとおりである。

１．突起観察ＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）およびＴＥＭ（透過型電子
顕微鏡）を使用２．スチル特性５MHzで記録し、再生出力のスチル特性を測定する。

１０分以上をＯＫレベルとする。

３．目づまり２０℃、相対湿度６０％にて、５０パス走行時の目づま
りを出力低下回数によって計測した。

４．走行摩擦サンプルの動摩擦係数μを、４０℃、相対湿度８０％
で、初期と５０パス後に測定した。

５．走行耐久性各サンプルに対し、５０パス試験を行い、４MHzの信号
の減少量（dB）を測定した。

これらの結果を表２に示す。

表１，表２に示される結果から、本発明による効果があ
きらかである。

なお、上記実施例では、無機微粒子としてコロイダルシ
リカを用いたが、他の物質例えばアルミナゾル、チタン
ブラック、ジルコニアあるいは各種ヒドロゾル等を用い
ても、同等の結果を得た。

また、Ｃｏ−Ｆｅ−Ｒｕ−Ｃｒ−Ｓｉ−Ｂ系非晶質を用
いて作製したヘッドを用いた場合も、同様の結果が得ら
れた。

なお、センダストを用いて作製したヘッドを用いた場
合、上記の場合に比べて若干効果が少なかった。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明に用いる磁気ヘッドの１例を示す正面
図である。１……磁気ヘッド，２１，２２……コア半体，３１，３２……金属強磁性体，４……ギャップ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】可とう性基板上にＣｏを主成分とする強磁
性金属薄膜層を設け、この強磁性金属薄膜層上にトップ
コート膜を設けてなる磁気記録媒体を用い、磁気ヘッド
を用いて記録再生を行う磁気記録方法において、磁気ヘッドの少なくともギャップ部端面が金属強磁性体
で構成されており、磁気記録媒体の強磁性金属薄膜層が酸素を含んでおり、トップコート膜が、ＲＣＯＯＨ（ここに、Ｒは炭素原子
数１３〜２１の直鎖のアルキル基を表わす）から形成さ
れており、しかもトップコート膜の水との接触角が６０
〜１１０°であり、かつ磁気ヘッドのギャップ長をａμｍとしたとき、ａが
０．１〜０．５であり、磁気記録媒体が表面に１mm²当
り平均１０^５／ａ^２〜１０^９／ａ^２個の突起を有し、し
かも突起が３０〜３００Åの高さを有することを特徴と
する磁気記録方法。
【請求項２】金属強磁性体がＣｏを主成分とする非晶質
磁性合金である特許請求の範囲第１項に記載の磁気記録
方法。
【請求項３】トップコート膜が、気相被着によって形成
された膜である特許請求の範囲第１項または第２項に記
載の磁気記録方法。
【請求項４】トップコート膜の厚さが、５〜１００Åで
ある特許請求の範囲第１項ないし第２項のいずれかに記
載の磁気記録方法。
【請求項５】可とう性基板が高分子基板であり、この基
板上に径が３０〜３００Åの大きさを有する微粒子を配
設し、その上に強磁性金属薄膜層を設けてなる特許請求
の範囲第１項ないし第４項のいずれかに記載の磁気記録
方法。
【請求項６】強磁性金属薄膜が表面に強磁性金属の酸化
物層を有する特許請求の範囲第１項ないし第５項のいず
れかに記載の磁気記録方法。
【請求項７】突起個数が１mm²当り平均２×１０^６／ａ
^２〜１×１０^９／ａ^２個である特許請求の範囲第１項な
いし第６項のいずれかに記載の磁気記録方法。
【請求項８】強磁性金属薄膜層が、ＣｏとＯからなる
か、ＣｏとＯとＮｉおよびＣｒのうちの１種または２種
とからなる特許請求の範囲第１項ないし第７項のいずれ
かに記載の磁気記録方法。
【請求項９】強磁性金属薄膜層のＯ／（ＣｏまたはＣｏ
＋Ｎｉ）の原子比が０．５以下である特許請求の範囲第
１項ないし第８項のいずれかに記載の磁気記録方法。