JPH0667937B2 - ジヒドロリゼルグ酸メチル及びメトキシルミリゼルグ酸メチルのn−メチル誘導体の製法 - Google Patents

ジヒドロリゼルグ酸メチル及びメトキシルミリゼルグ酸メチルのn−メチル誘導体の製法

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JPH0667937B2
JPH0667937B2 JP61160972A JP16097286A JPH0667937B2 JP H0667937 B2 JPH0667937 B2 JP H0667937B2 JP 61160972 A JP61160972 A JP 61160972A JP 16097286 A JP16097286 A JP 16097286A JP H0667937 B2 JPH0667937 B2 JP H0667937B2
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    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D457/00Heterocyclic compounds containing indolo [4, 3-f, g] quinoline ring systems, e.g. derivatives of ergoline, of the formula:, e.g. lysergic acid
    • C07D457/04Heterocyclic compounds containing indolo [4, 3-f, g] quinoline ring systems, e.g. derivatives of ergoline, of the formula:, e.g. lysergic acid with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached in position 8

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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、ジヒドロリゼルグ酸メチル(methyl dihydr
olysergate)およびメトキシルミリゼルグ酸メチルのN
−メチル誘導体類の製造に関するものである。
これらのN−メチル誘導体類は米国特許3,228,943中に
記されている製薬学的生成物類の合成における有用な中
間生成物類である。
先行技術は、エルゴリン誘導体類のインゾール窒素原子
のメチル化は、例えばハロゲン化メチルまたは硫酸メチ
ルの如きメチル化剤を使用して、F.トロクスラー(Trio
xler)著、ヘルヴェチカ・シミカ・アクタ(Helv.Chim.
Acta)、40、1721(1957)に従うと液体アンモニア中の
例えばカリウムアミドの如き塩基の存在下でそしてスイ
ス特許386,441または米国特許3,113,133に従うと液体ア
ンモニア中のナトリウムアミドの存在下で実施しなけれ
ばならないことを教示している。これらの方法はナトリ
ウムまたはカリウムの使用および−40℃付近の温度の維
持を必要とし、このことは工業的観点からすると相当な
財政上の投資を意味する。さらに、これらの方法はメチ
ル化の副生物類を生じる可能性がある。
ヨーロッパ特許出願番号553は、液体/液体相転移触媒
中で使用される45%強度水酸化ナトリウムの存在下にお
けるルミリゼルグ酸メチルのメチル化を記している。そ
のような反応はメチルエステル基の鹸化を避けるために
注意深く調節しなければならない。
ヨーロッパ特許出願番号4664は、ジメチルスルホキシド
中での10−α−メトキシルミリゼルゴールのメチル化を
記しているが、反応は選択的でなくそして相当な部分の
メチルエーテルが第一級アルコール基から製造される。
未置換のインドールを、水素化ナトリウムの存在下でヘ
キサメチルホスホロトリアミド中で(G.H.ルボットム
(Rubottom)およびJ.C.チャバラ(Chabala)著、シン
セシス(Synethesis)、566(1973))またはナトリウ
ムアミド、リチウムアミドもしくはエチルマグネシウム
ブロマイドの存在下でテトラヒドロフラン、エーテル、
ベンゼンもしくはヘキサメチルホスホロトリアミド中で
(M.G.ライネッケ(Reineck)他著、ザ・ジャーナル・
オブ・ケミストリイ(J.Org.Chem.)、37(20)3066(2
977))メチル化することは既知である。
本発明は、式: [式中、 Rは水素原子またはメトキシ基を示す] のジヒドロリゼルグ酸メチルおよびメトキシルミリゼル
グ酸メチルのN−メチル誘導体類の製造方法において、
メチル化剤を、液/固相移転触媒としての第四級塩の存
在下で、式CH−OM(III)[式中、Mはアルカリ金属
原子、例えばナトリウムもしくはカリウム原子、を示
す]の固体の金属アルコレートまたはアルカリ金属水素
化物の存在下で、そして式R−COO−CH(IV)[式
中、Rは水素原子またはアルキル、アルキルオキシ、
アルキルオキシカルボニルもしくはアリール基を示す]
または式 R−C(OCH(V)[式中、Rは水素原子、
アルキル基またはアリール基を示す]の脱水剤の存在下
で、式: [式中、 Rは上記の如く定義されている] の化合物と反応させることからなる方法を提供する。
本発明に従う方法では、メチル化剤は液/固相転移触媒
の存在下で式(IV)または(V)の脱水剤と一緒にそし
て非−エステル交換用塩基の存在下で使用できる。
該方法は一般に−10〜80℃の温度において実施され、そ
して特殊な技術を使用する必要はない。
更に、式(IV)又は(V)の脱水剤の使用は、反応剤中
に痕跡の水分が存在する場合でさえ、非本質的な鹸化反
応を制御することを可能とする。
一般に、本発明に従う方法は非プロトン性有機溶媒、例
えばテトラヒドロフラン、ジオキサンもしくは1,2−ジ
メトキシエタン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエ
ーテル、ジブチルエーテルまたはメチルターシャリー−
ブチルエーテルの如きエーテル、例えば酢酸メチル、プ
ロピオン酸メチル、炭酸メチル、蟻酸メチル、安息香酸
メチルもしくはオルト蟻酸メチルの如きエルテル、また
は例えばアセトニトリルの如きニトリル、或いはそれら
の混合物類、中で実施される。
脱水剤は例えば、蟻酸メチル、酢酸メチル、安息香酸メ
チル、炭酸メチル、シュウ酸メチルまたはオルト蟻酸メ
チルの如きエルテルであることができる。例えばマグネ
シウムまたはジメトキシマグネシウムの如き供−脱水剤
を有することもできる。脱水剤を溶媒として使用するこ
ともできる。
液/固相転移触媒は一般に、第四級アンモニウム塩類、
例えばテトラブチルアンモニウムクロライドの如きハロ
ゲン化もしくは硫酸テトラアルキルアンモニウム、また
はホスホニウム塩である。
塩基は、一般にアルカリアルコレート、例えばナトリウ
ムもしくはカリウムメチレートまたはターシャリー−ブ
チレート、或いはカリウム金属水素化物、例えば水素化
ナトリウムまたはカリウム、である。
メチル化剤は一般にハロゲン化メチル、硫酸メチル、メ
タンスルホン酸メチル、p−トルエンスルホン酸メチル
または燐酸メチルである。
メチル化しようとする化合物類に関して、過剰の塩基が
一般的に1:2〜1:10のモル比で使用され、過剰の式(I
V)または(V)の脱水剤が一般的に1:1〜1:500のモル
比で使用され、そして相転移触媒が一般的に1:0.05〜1:
2のモル比で使用される。わずかに過剰のメチル化剤を
使用することが特に有利である。
式(I)の化合物類は反応混合物から一般的技術により
単離できる。
下記の実施例は本発明の実施方法を示している。
実施例1 10α−メトキシルミリゼルグ酸メチル(1.758g;5.6ミリ
モル)、無水テトラヒドロフラン(115cc)、安息香酸
メチル(15cc;120.5ミリモル)およびテトラブチルアン
モニウムクロライド(1.574g;5.6ミリモル)を水分から
遮断されて保たれている反応器に加えた。溶解の完了後
に、粉末状ナトリウムメチレート(2.5g;46.3ミリモ
ル)を攪拌しながら加えた。5分間の攪拌後に、硫酸ジ
メチル(0.776g;6.16ミリモル)の無水テトラヒドロフ
ラン中溶液を5時間にわたり加えた。
反応混合物を0℃の保たれている0.65N硫酸(86cc)中
に注いだ。水相(pH2)を酢酸エチル(35cc)で洗浄
し、アンモニウム溶液を添加によりpH9までアルカリ性
とし、そして次に酢酸エチル(4×70cc)で抽出した。
一緒にした有機相を乾燥した。溶媒の蒸発後に、10α−
メトキシ−メチルルミリゼルグ酸メチルが80−85%の収
率で得られ、高性能液体クロマトグラフィおよび酸滴定
により測定された該生成物の滴定値は99%より高かっ
た。
実施例2 10α−メトキシルミリゼルグ酸メチル(0.314g;1ミリモ
ル) 安息香酸メチル(51.5g;378.6ミリモル) テトラブチルアンモニウムクロライド(0.277g;1ミリモ
ル) ナトリウムメチレート(0.432g;8ミリモル)および 硫酸ジメチル(0.315g;2.5ミリモル)を使用したこと以
外は、実施例1の工程を繰り返した。
反応混合物を20℃付近の温度において17時間攪拌した後
に、硫酸ジメチルを加えた。
10α−メトキシルミリゼルグ酸メチルの転化率は92%で
あった。
10α−メトキシ−1−メチルルミリゼルグ酸メチルの収
率は81%であった。
実施例3 10α−メトキシルミリゼルグ酸メチル(0.314g;1ミリモ
ル) 溶媒としてのテトラヒドロフラン/酢酸メチル(1:1容
量)混合物(11.1cc) テトラブチルアンモニウムクロライド(0.27g;1ミリモ
ル) 酢酸メチル(7.4g;0.1モル) ナトリウムメチレート(0.432g;8ミリモル)および 硫酸ジメチル(0.441g;0.0035ミリモル) を使用したこと以外は、実施例1の工程を繰り返した。
反応混合物を20℃付近の温度において2時間20分にわた
り攪拌した後に、硫酸ジメチルを加えた。
10α−メトキシルミリゼルグ酸メチルの転化率は92%で
あった。
10α−メトキシ−1−メチルルミリゼルグ酸メチルの収
率は80%であった。
実施例4 10α−メトキシルミリゼルグ酸メチル(0.314g;1モリモ
ル) 溶媒としてのテトラヒドロフラン/酢酸メチル(1:1容
量)混合物(22.2cc) テトラブチルアンモニウムクロライド(0.27g;1ミリモ
ル) 炭酸メチル(4.5g;50ミリモル) 炭酸メチル(4.5g;50ミリモル) ジメトキシマグネシウム(0.11g;2ミリモル) ナトリウムメチレート(0.432g;8ミリモル)および 硫酸ジメチル(0.167g;1.33ミリモル) を使用したこと以外は、実施例1の工程を繰り返した。
混合物を20℃付近の温度において2時間攪拌した後に、
硫酸ジメチルを加えた。
10α−メトキシルミリゼルグ酸メチルの転化率は93%で
あった。
10α−メトキシ−1−メチルルミリゼルグ酸メチルの収
率は82%であった。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】式: [式中、 Rは水素原子またはメトキシ基を示す] のジヒドロリゼルグ酸メチルおよびメトキシルミリゼル
    グ酸メチルのN−メチル誘導体の製造方法において、メ
    チル化剤を、第四級塩の存在下で、式CH−OM[式中、
    Mはアルカリ金属原子を示す]の固体の金属アルコレー
    トまたはアルカリ金属水素化物の存在下で、そして式R
    −COO−CH[式中、Rは水素原子またはアルキ
    ル、アルキルオキシ、アルキルオキシカルボニルもしく
    はアリール基を示す]または式R−C(OCH
    [式中、Rは水素原子、アルキル基またはアリール
    基を示す]の脱水剤の存在下で、式: [式中、 Rは上記の如く定義されている] の化合物と反応させることからなる方法。
  2. 【請求項2】反応をエーテル、エステルまたはニトリル
    である非プロトン性溶媒中で実施する、特許請求の範囲
    第1項記載の方法。
  3. 【請求項3】脱水剤が蟻酸メチル、酢酸メチル、安息香
    酸メチル、炭酸メチル、シュウ酸メチルまたはオルト蟻
    酸メチルである、特許請求の範囲第1または2項に記載
    の方法。
  4. 【請求項4】第四級塩がアンモニウムまたはホスホニウ
    ム塩である、特許請求の範囲第1〜3項のいずれかに記
    載の方法。
  5. 【請求項5】メチル化剤がハロゲン化メチル、硫酸メチ
    ル、メタンスルホン酸メチル、p−トルエンスルホン酸
    メチルまたは燐酸メチルである、特許請求の範囲第1〜
    4項のいずれかに記載の方法。
JP61160972A 1985-07-11 1986-07-10 ジヒドロリゼルグ酸メチル及びメトキシルミリゼルグ酸メチルのn−メチル誘導体の製法 Expired - Fee Related JPH0667937B2 (ja)

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ATE49967T1 (de) 1990-02-15
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GR861784B (en) 1986-11-10
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EP0211728A1 (fr) 1987-02-25
EP0211728B1 (fr) 1990-01-31
DE3668620D1 (de) 1990-03-08
PT82936B (pt) 1989-01-30
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FR2584721A1 (fr) 1987-01-16

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