JPH065462A - 積層セラミック電子部品の製造方法 - Google Patents
積層セラミック電子部品の製造方法Info
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- JPH065462A JPH065462A JP16562892A JP16562892A JPH065462A JP H065462 A JPH065462 A JP H065462A JP 16562892 A JP16562892 A JP 16562892A JP 16562892 A JP16562892 A JP 16562892A JP H065462 A JPH065462 A JP H065462A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 Niからなる内部電極に電気的に接続される
ように、セラミック積層体の端面上にNiからなる外部
下層電極を形成し、次いでAgからなる外部上層電極を
形成する、各工程を備える積層セラミック電子部品の製
造方法において、外部上層電極の固着強度を高める。 【構成】 セラミック積層体11の焼成を外部下層電極
14の焼付けと同時に行なった後、セラミック積層体1
1の稜部の面とりを行ない、次いで外部上層電極16を
形成する。 【効果】 Agからなる外部上層電極がセラミック積層
体の少なくとも稜部の面とり部において接触するため、
Niからなる外部下層電極との接合強度が弱くても、外
部上層電極はセラミック積層体に対して強固に固着され
る。
ように、セラミック積層体の端面上にNiからなる外部
下層電極を形成し、次いでAgからなる外部上層電極を
形成する、各工程を備える積層セラミック電子部品の製
造方法において、外部上層電極の固着強度を高める。 【構成】 セラミック積層体11の焼成を外部下層電極
14の焼付けと同時に行なった後、セラミック積層体1
1の稜部の面とりを行ない、次いで外部上層電極16を
形成する。 【効果】 Agからなる外部上層電極がセラミック積層
体の少なくとも稜部の面とり部において接触するため、
Niからなる外部下層電極との接合強度が弱くても、外
部上層電極はセラミック積層体に対して強固に固着され
る。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、積層セラミック電子
部品の製造方法に関するもので、特に、下層電極と上層
電極とを有する外部電極を備える積層セラミック電子部
品の製造方法に関するものである。
部品の製造方法に関するもので、特に、下層電極と上層
電極とを有する外部電極を備える積層セラミック電子部
品の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】積層セラミック電子部品では、実装時に
要求される安定した半田付け性を確保するため、Agを
主体とする外部電極が使われることが多い。
要求される安定した半田付け性を確保するため、Agを
主体とする外部電極が使われることが多い。
【0003】他方、近年、積層セラミック電子部品の生
産コストを下げるために、その内部電極の材料として卑
金属を用いることが多い。Niはその一例である。
産コストを下げるために、その内部電極の材料として卑
金属を用いることが多い。Niはその一例である。
【0004】ところが、NiとAgとは相互固溶しにく
いため、相互接合強度が十分でない。その結果、Niか
らなる内部電極とAgからなる外部電極との間での接続
の信頼性が不十分であるという問題がある。
いため、相互接合強度が十分でない。その結果、Niか
らなる内部電極とAgからなる外部電極との間での接続
の信頼性が不十分であるという問題がある。
【0005】そこで、Ni内部電極の引出し面に予めN
i層をコートして外部下層電極を形成した後、この外部
下層電極上にAgからなる外部上層電極を形成すること
が提案されている。この方法によれば、NiとAgとの
接触面積が大きくなるため、接合信頼性がある程度改善
される。図2には、この方法による積層セラミック電子
部品の製造方法が示されている。
i層をコートして外部下層電極を形成した後、この外部
下層電極上にAgからなる外部上層電極を形成すること
が提案されている。この方法によれば、NiとAgとの
接触面積が大きくなるため、接合信頼性がある程度改善
される。図2には、この方法による積層セラミック電子
部品の製造方法が示されている。
【0006】図2を参照して、まず、(a)に示すよう
に、セラミック積層体1が用意される。セラミック積層
体1の内部には、端面2において露出するように内部電
極3が形成されている。このようなセラミック積層体1
は、バレル研磨工程に付され、その稜部が面とりされ
る。(a)において、いくつかの面とり部4が図示され
ている。このように面とりが行なわれるのは、積層セラ
ミック電子部品の実装時における稜部への応力集中によ
り発生し得るチッピングやクラックを防止しようとする
ためである。
に、セラミック積層体1が用意される。セラミック積層
体1の内部には、端面2において露出するように内部電
極3が形成されている。このようなセラミック積層体1
は、バレル研磨工程に付され、その稜部が面とりされ
る。(a)において、いくつかの面とり部4が図示され
ている。このように面とりが行なわれるのは、積層セラ
ミック電子部品の実装時における稜部への応力集中によ
り発生し得るチッピングやクラックを防止しようとする
ためである。
【0007】次に、図2(b)に示すように、外部下層
電極5が、セラミック積層体1の端面2上に形成され
る。外部下層電極5は、このとき、内部電極3に電気的
に接続される。外部下層電極5は、電極ペーストを塗布
し、次いで焼付けることによって形成されるが、この外
部下層電極5の焼付けと同時に、セラミック積層体1の
焼成が行なわれる。
電極5が、セラミック積層体1の端面2上に形成され
る。外部下層電極5は、このとき、内部電極3に電気的
に接続される。外部下層電極5は、電極ペーストを塗布
し、次いで焼付けることによって形成されるが、この外
部下層電極5の焼付けと同時に、セラミック積層体1の
焼成が行なわれる。
【0008】次に、図2(c)に示すように、外部下層
電極5を挟んでセラミック積層体2の端面を覆うよう
に、外部上層電極6が形成される。
電極5を挟んでセラミック積層体2の端面を覆うよう
に、外部上層電極6が形成される。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】上述した製造方法にお
いて、外部下層電極5はNiによって与えられ、外部上
層電極6はAgによって与えられるが、互いの接触面積
が大きいため、接合信頼性の改善をある程度期待できる
が、前述したように、NiとAgとは相互接合強度が十
分でないため、外部下層電極5と外部上層電極6との機
械的接合強度がなおも低いという問題がある。
いて、外部下層電極5はNiによって与えられ、外部上
層電極6はAgによって与えられるが、互いの接触面積
が大きいため、接合信頼性の改善をある程度期待できる
が、前述したように、NiとAgとは相互接合強度が十
分でないため、外部下層電極5と外部上層電極6との機
械的接合強度がなおも低いという問題がある。
【0010】それゆえに、この発明の目的は、上述した
外部下層電極と外部上層電極との接合強度の不十分さを
解消することができる積層セラミック電子部品の製造方
法を提供しようとすることである。
外部下層電極と外部上層電極との接合強度の不十分さを
解消することができる積層セラミック電子部品の製造方
法を提供しようとすることである。
【0011】
【課題を解決するための手段】この発明は、セラミック
積層体と、前記セラミック積層体の端面において露出す
るようにセラミック積層体の内部に形成される内部電極
と、前記内部電極に電気的に接続されるように前記端面
上に形成される外部下層電極と、前記外部下層電極を挟
んで前記端面を覆うように形成される外部上層電極とを
備える、積層セラミック電子部品の製造方法に向けられ
るものであって、上述した技術的課題を解決するため、
前記セラミック積層体の焼成を前記外部下層電極の焼付
けと同時に行なった後、前記セラミック積層体の稜部の
面とりを行ない、次いで前記外部上層電極を形成するこ
とを特徴としている。
積層体と、前記セラミック積層体の端面において露出す
るようにセラミック積層体の内部に形成される内部電極
と、前記内部電極に電気的に接続されるように前記端面
上に形成される外部下層電極と、前記外部下層電極を挟
んで前記端面を覆うように形成される外部上層電極とを
備える、積層セラミック電子部品の製造方法に向けられ
るものであって、上述した技術的課題を解決するため、
前記セラミック積層体の焼成を前記外部下層電極の焼付
けと同時に行なった後、前記セラミック積層体の稜部の
面とりを行ない、次いで前記外部上層電極を形成するこ
とを特徴としている。
【0012】
【作用】この発明において、セラミック積層体の稜部の
面とりを行なえば、これら稜部上に形成された外部下層
電極も同時に除去される。そのため、その後に形成され
る外部上層電極とセラミック積層体の表面とは、少なく
とも稜部の面とり部においても互いに接触するようにな
る。
面とりを行なえば、これら稜部上に形成された外部下層
電極も同時に除去される。そのため、その後に形成され
る外部上層電極とセラミック積層体の表面とは、少なく
とも稜部の面とり部においても互いに接触するようにな
る。
【0013】
【発明の効果】したがって、この発明によれば、外部上
層電極が、少なくとも稜部の面とり部においてセラミッ
ク積層体の表面に対して接合されるため、外部下層電極
との間での接合強度の大小にかかわりなく、外部上層電
極とセラミック積層体との間で強固な接合状態が達成さ
れることができる。特に、外部上層電極が焼付けにより
形成されるものである場合には、それを構成する電極ペ
ースト中に含まれるガラスフリットがセラミック中に拡
散することが促進されるため、外部上層電極のセラミッ
ク積層体に対する固着強度が一層向上される。
層電極が、少なくとも稜部の面とり部においてセラミッ
ク積層体の表面に対して接合されるため、外部下層電極
との間での接合強度の大小にかかわりなく、外部上層電
極とセラミック積層体との間で強固な接合状態が達成さ
れることができる。特に、外部上層電極が焼付けにより
形成されるものである場合には、それを構成する電極ペ
ースト中に含まれるガラスフリットがセラミック中に拡
散することが促進されるため、外部上層電極のセラミッ
ク積層体に対する固着強度が一層向上される。
【0014】また、上述したように外部上層電極の接合
強度を高めるために行なわれる外部下層電極の稜部にお
ける除去は、セラミック積層体の面とりを行なうことに
よって達成される。他方、このセラミック積層体の面と
りは、前述したように、チッピングやクラックの発生を
防止するために必ず行なわなければならない。したがっ
て、外部下層電極の稜部における除去のために特別な工
程が必要ではなく、それゆえに、この発明による方法を
実施するにあたって、生産コストが従来より上昇するこ
とはない。
強度を高めるために行なわれる外部下層電極の稜部にお
ける除去は、セラミック積層体の面とりを行なうことに
よって達成される。他方、このセラミック積層体の面と
りは、前述したように、チッピングやクラックの発生を
防止するために必ず行なわなければならない。したがっ
て、外部下層電極の稜部における除去のために特別な工
程が必要ではなく、それゆえに、この発明による方法を
実施するにあたって、生産コストが従来より上昇するこ
とはない。
【0015】なお、この発明を適用したとしても、たと
えば、Niからなる内部電極にNiからなる外部下層電
極が高い信頼性をもって電気的に接続され、その上にA
gからなる外部上層電極が形成されることによって安定
した半田付け性が得られる、という効果は、そのまま保
有される。
えば、Niからなる内部電極にNiからなる外部下層電
極が高い信頼性をもって電気的に接続され、その上にA
gからなる外部上層電極が形成されることによって安定
した半田付け性が得られる、という効果は、そのまま保
有される。
【0016】
【実施例】図1に、この発明の一実施例による積層セラ
ミック電子部品の製造方法が示されている。この実施例
で得ようとする積層セラミック電子部品10は、図1
(c)に示した断面図からわかるように、たとえば積層
セラミックコンデンサである。
ミック電子部品の製造方法が示されている。この実施例
で得ようとする積層セラミック電子部品10は、図1
(c)に示した断面図からわかるように、たとえば積層
セラミックコンデンサである。
【0017】まず、図1(a)に示すように、セラミッ
ク積層体11が用意される。このセラミック積層体11
の内部には、内部電極12が形成され、これら内部電極
12は、セラミック積層体11の端面13において露出
している。内部電極12は、たとえばNiから構成され
る。
ク積層体11が用意される。このセラミック積層体11
の内部には、内部電極12が形成され、これら内部電極
12は、セラミック積層体11の端面13において露出
している。内部電極12は、たとえばNiから構成され
る。
【0018】上述したセラミック積層体11の端面13
上には、たとえばNiからなる外部下層電極14が、内
部電極12に電気的に接続されるように形成される。外
部下層電極14は、電極ペーストを塗布し、次いで焼付
けることにより形成されるものである。この外部下層電
極14の焼付けと同時に、セラミック積層体11の焼成
が行なわれる。
上には、たとえばNiからなる外部下層電極14が、内
部電極12に電気的に接続されるように形成される。外
部下層電極14は、電極ペーストを塗布し、次いで焼付
けることにより形成されるものである。この外部下層電
極14の焼付けと同時に、セラミック積層体11の焼成
が行なわれる。
【0019】次に、図1(b)に示すように、セラミッ
ク積層体11が、たとえばバレル研磨に付される。これ
によって、セラミック積層体11の稜部の面とりが行な
われる。図1(b)において、いくつかの面とり部15
が図示されている。この面とりによって、外部下層電極
14は、稜部において除去される。したがって、面とり
部15では、セラミック積層体11の素材となるセラミ
ックが現われる。
ク積層体11が、たとえばバレル研磨に付される。これ
によって、セラミック積層体11の稜部の面とりが行な
われる。図1(b)において、いくつかの面とり部15
が図示されている。この面とりによって、外部下層電極
14は、稜部において除去される。したがって、面とり
部15では、セラミック積層体11の素材となるセラミ
ックが現われる。
【0020】次に、図1(c)に示すように、たとえば
Agからなる外部上層電極16が形成される。外部上層
電極16は、たとえば、電極ペーストを塗布し、次いで
焼付けることにより形成される。外部上層電極16は、
少なくとも上述した面とり部15においてセラミック積
層体11に接触している。また、焼付けに際して、外部
上層電極16に含まれるガラスフリットがセラミック積
層体11のセラミック中に拡散する。このようにして、
外部上層電極16は、外部下層電極14との間での接合
強度の大小にかかわりなく、セラミック積層体11に対
して強固に固着される。
Agからなる外部上層電極16が形成される。外部上層
電極16は、たとえば、電極ペーストを塗布し、次いで
焼付けることにより形成される。外部上層電極16は、
少なくとも上述した面とり部15においてセラミック積
層体11に接触している。また、焼付けに際して、外部
上層電極16に含まれるガラスフリットがセラミック積
層体11のセラミック中に拡散する。このようにして、
外部上層電極16は、外部下層電極14との間での接合
強度の大小にかかわりなく、セラミック積層体11に対
して強固に固着される。
【0021】この発明は、上述した積層セラミックコン
デンサ以外の積層セラミック電子部品の製造方法にも適
用することができる。
デンサ以外の積層セラミック電子部品の製造方法にも適
用することができる。
【0022】また、セラミック積層体の稜部の面とり
は、バレル研磨以外の方法によってもよい。
は、バレル研磨以外の方法によってもよい。
【0023】また、外部上層電極は、塗布および焼付け
工程を含む方法以外の方法で形成されてもよい。
工程を含む方法以外の方法で形成されてもよい。
【図1】この発明の一実施例による積層セラミック電子
部品の製造方法に含まれるいくつかの工程を示す図であ
る。
部品の製造方法に含まれるいくつかの工程を示す図であ
る。
【図2】従来の積層セラミック電子部品の製造方法に含
まれるいくつかの工程を示す図である。
まれるいくつかの工程を示す図である。
10 積層セラミック電子部品 11 セラミック積層体 12 内部電極 13 端面 14 外部下層電極 15 面とり部 16 外部上層電極
Claims (1)
- 【請求項1】 セラミック積層体と、前記セラミック積
層体の端面において露出するようにセラミック積層体の
内部に形成される内部電極と、前記内部電極に電気的に
接続されるように前記端面上に形成される外部下層電極
と、前記外部下層電極を挟んで前記端面を覆うように形
成される外部上層電極とを備える、積層セラミック電子
部品の製造方法において、 前記セラミック積層体の焼成を前記外部下層電極の焼付
けと同時に行なった後、前記セラミック積層体の稜部の
面とりを行ない、次いで前記外部上層電極を形成するこ
とを特徴とする、積層セラミック電子部品の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16562892A JPH065462A (ja) | 1992-06-24 | 1992-06-24 | 積層セラミック電子部品の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16562892A JPH065462A (ja) | 1992-06-24 | 1992-06-24 | 積層セラミック電子部品の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH065462A true JPH065462A (ja) | 1994-01-14 |
Family
ID=15815979
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16562892A Withdrawn JPH065462A (ja) | 1992-06-24 | 1992-06-24 | 積層セラミック電子部品の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH065462A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003007561A (ja) * | 2001-06-26 | 2003-01-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | モールド型積層セラミック電子部品 |
JP2009218354A (ja) * | 2008-03-10 | 2009-09-24 | Tdk Corp | 表面実装型電子部品及び表面実装型電子部品アレイ |
WO2012053313A1 (ja) * | 2010-10-18 | 2012-04-26 | 株式会社村田製作所 | チップ型セラミック電子部品およびその製造方法 |
-
1992
- 1992-06-24 JP JP16562892A patent/JPH065462A/ja not_active Withdrawn
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003007561A (ja) * | 2001-06-26 | 2003-01-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | モールド型積層セラミック電子部品 |
JP2009218354A (ja) * | 2008-03-10 | 2009-09-24 | Tdk Corp | 表面実装型電子部品及び表面実装型電子部品アレイ |
WO2012053313A1 (ja) * | 2010-10-18 | 2012-04-26 | 株式会社村田製作所 | チップ型セラミック電子部品およびその製造方法 |
CN103168332A (zh) * | 2010-10-18 | 2013-06-19 | 株式会社村田制作所 | 芯片型陶瓷电子部件及其制造方法 |
US9078359B2 (en) | 2010-10-18 | 2015-07-07 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Chip-type ceramic electronic component and producing method thereof |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990831 |