JPH0649186A - ポリエステル重合体及びその製造方法 - Google Patents
ポリエステル重合体及びその製造方法Info
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- JPH0649186A JPH0649186A JP22462892A JP22462892A JPH0649186A JP H0649186 A JPH0649186 A JP H0649186A JP 22462892 A JP22462892 A JP 22462892A JP 22462892 A JP22462892 A JP 22462892A JP H0649186 A JPH0649186 A JP H0649186A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 耐熱性があり、光学特性も良く、成形性のよ
い光学材料用新規ポリエステル重合体を提供する。 【構成】 芳香族ジカルボン酸またはそのジエステル誘
導体と９，９−ビス−（４−ヒドロキシエトキシフェニ
ル）−フルオレンを代表例とする特殊ジヒドロキシ化合
物と、エチレングリコ−ルを代表例とする脂肪族ジオ−
ルとを共重合した光学材料用新規ポリエステル重合体で
あり、とりわけ、その製造方法も溶融重合法という容易
な方法を用いることができる。
い光学材料用新規ポリエステル重合体を提供する。 【構成】 芳香族ジカルボン酸またはそのジエステル誘
導体と９，９−ビス−（４−ヒドロキシエトキシフェニ
ル）−フルオレンを代表例とする特殊ジヒドロキシ化合
物と、エチレングリコ−ルを代表例とする脂肪族ジオ−
ルとを共重合した光学材料用新規ポリエステル重合体で
あり、とりわけ、その製造方法も溶融重合法という容易
な方法を用いることができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はポリエステル共重合体に
関し、詳しくは、透明性、耐熱性に優れ、光学的異方性
が小さく、成形性が優れているので、特に光学機器用の
材料として好適に用いる事のできるポリエステル共重合
体に関するものである。
関し、詳しくは、透明性、耐熱性に優れ、光学的異方性
が小さく、成形性が優れているので、特に光学機器用の
材料として好適に用いる事のできるポリエステル共重合
体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、光学材料へのプラスチックの応用
は盛んに行われている。ポリメチルメタクリレート（以
下、ＰＭＭＡ）やポリカーボネート（以下、ＰＣ）はレ
ンズとして実用化され数多く市販されている。ＰＣは自
動車の透明部品の軽量化を狙って用いられる事が多くな
っている。光記録の分野では、レーザー光を用いて音
声、画像、文字等の情報を記録、再生する光ディスクが
急速に開発、販売されている。その基盤材料にはＰＭＭ
Ａ、ＰＣをはじめ非晶性ポリオレフィン（以下、ＡＰ
Ｏ）等が使用されている。
は盛んに行われている。ポリメチルメタクリレート（以
下、ＰＭＭＡ）やポリカーボネート（以下、ＰＣ）はレ
ンズとして実用化され数多く市販されている。ＰＣは自
動車の透明部品の軽量化を狙って用いられる事が多くな
っている。光記録の分野では、レーザー光を用いて音
声、画像、文字等の情報を記録、再生する光ディスクが
急速に開発、販売されている。その基盤材料にはＰＭＭ
Ａ、ＰＣをはじめ非晶性ポリオレフィン（以下、ＡＰ
Ｏ）等が使用されている。
【０００３】光学材料には、透明性、耐熱性に優れ、光
学的異方性が小さいことが要求されている。ＰＭＭＡは
透明性に優れ光学的異方性も小さいが吸湿性が高く、成
形品にしたときに、反り等の変形を起こし易いという欠
点を持ち、耐熱性も十分ではない。ＰＣは耐熱性が高
く、透明性に優れているが、成形性が悪く、光学的異方
性が高い。ＡＰＯは光学的異方性が小さく、耐熱性、寸
法安定性にすぐれるが、成形性が満足とはいえず、また
高価である。
学的異方性が小さいことが要求されている。ＰＭＭＡは
透明性に優れ光学的異方性も小さいが吸湿性が高く、成
形品にしたときに、反り等の変形を起こし易いという欠
点を持ち、耐熱性も十分ではない。ＰＣは耐熱性が高
く、透明性に優れているが、成形性が悪く、光学的異方
性が高い。ＡＰＯは光学的異方性が小さく、耐熱性、寸
法安定性にすぐれるが、成形性が満足とはいえず、また
高価である。
【０００４】ポリエステル共重合体も光学用途の材料と
して、提案されている（特開昭５７−２０８６４号公
報、特開平２−９８８４５号公報、特開平２−３８４２
８号公報）。しかしながら、これらの樹脂は耐熱性が不
足していたり、光学的特性が不十分であったりして必ず
しも満足できる物ではない。
して、提案されている（特開昭５７−２０８６４号公
報、特開平２−９８８４５号公報、特開平２−３８４２
８号公報）。しかしながら、これらの樹脂は耐熱性が不
足していたり、光学的特性が不十分であったりして必ず
しも満足できる物ではない。
【０００５】また特開平３−１６８２１１号公報では
９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、
２，２−ビス（４ヒドロキシフェニル）プロパンとテレ
フタル酸、イソフタル酸からなるポリエステルが種々提
案されている。これら材料のガラス転移点は十分高く、
フィルムを延伸評価した際の光学的異方性も小さいと報
告されている。しかし射出成形された基板の成形品の応
力歪や分子配向による光学的な異方性が大きくなる問題
があり、これらをを小さくするには、樹脂の流動性を良
くし、高温の樹脂温度及び、高温の金型温度条件で射出
成形を行わなければならず、ポリマーの分解、着色や成
形品のひけ等の問題があり、必ずしも満足できるもので
はない。
９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、
２，２−ビス（４ヒドロキシフェニル）プロパンとテレ
フタル酸、イソフタル酸からなるポリエステルが種々提
案されている。これら材料のガラス転移点は十分高く、
フィルムを延伸評価した際の光学的異方性も小さいと報
告されている。しかし射出成形された基板の成形品の応
力歪や分子配向による光学的な異方性が大きくなる問題
があり、これらをを小さくするには、樹脂の流動性を良
くし、高温の樹脂温度及び、高温の金型温度条件で射出
成形を行わなければならず、ポリマーの分解、着色や成
形品のひけ等の問題があり、必ずしも満足できるもので
はない。
【０００６】特公平４−２２９３１号公報では、酸成分
に芳香族ジカルボン酸に加えて、脂肪族ジカルボン酸を
加え、樹脂の機械的特性を改善しフィルム化を行ってい
る。ただし光学材料として利用するという試みの記述は
記載されていない。
に芳香族ジカルボン酸に加えて、脂肪族ジカルボン酸を
加え、樹脂の機械的特性を改善しフィルム化を行ってい
る。ただし光学材料として利用するという試みの記述は
記載されていない。
【０００７】同様に特開平３−７３９０２号公報でも酸
成分に脂肪族ジカルボン酸を配合し、機械的特性を改良
している。キャストして成形したフィルムの光学的異方
性（複屈折率）の記載はあるが、射出成形した場合の記
載がなく、未だ成形が十分であるとはいえない。
成分に脂肪族ジカルボン酸を配合し、機械的特性を改良
している。キャストして成形したフィルムの光学的異方
性（複屈折率）の記載はあるが、射出成形した場合の記
載がなく、未だ成形が十分であるとはいえない。
【０００８】また、前述の特公平４−２２９３１号公
報、特開平３−７３９０２号公報の両ポリエステル材料
は、フェノール性の水酸基とカルボキシル基とが直接結
合しているので高温、加湿条件下では加水分解を起こし
易く、耐湿性が十分であるとはいえない。
報、特開平３−７３９０２号公報の両ポリエステル材料
は、フェノール性の水酸基とカルボキシル基とが直接結
合しているので高温、加湿条件下では加水分解を起こし
易く、耐湿性が十分であるとはいえない。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明の課題
は、透明性に優れ、耐熱性があり、光学的異方性が小さ
く、成形性、寸法安定性に優れたポリエステル重合体を
提供する事にある。
は、透明性に優れ、耐熱性があり、光学的異方性が小さ
く、成形性、寸法安定性に優れたポリエステル重合体を
提供する事にある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記課題
を達成すべく鋭意検討を重ねた結果、特定のポリエステ
ル重合体が、透明で、耐熱性があり、さらに光学的異方
性が小さく、成形性、寸法安定性に優れている事を見い
だし、本発明を完成するに至った。
を達成すべく鋭意検討を重ねた結果、特定のポリエステ
ル重合体が、透明で、耐熱性があり、さらに光学的異方
性が小さく、成形性、寸法安定性に優れている事を見い
だし、本発明を完成するに至った。
【００１１】即ち、本発明は、芳香族ジカルボン酸また
はそのジエステル誘導体と一般式（１）
はそのジエステル誘導体と一般式（１）
【化３】 （Ｒ1は炭素数２から４のアルキル基、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、
及びＲ5は独立に水素または炭素数１から４のアルキル
基）で示されるジヒドロキシ化合物と炭素原子数が２か
ら４の脂肪族グリコールからなる実質的に線上のポリエ
ステル重合体であって、一般式（１）で示されるジヒド
ロキシ化合物が、樹脂中の全グリコール成分の１０モル
％以上であるポリエステル重合体であり、さらに前記ポ
リエステル重合体の極限粘度（フェノール６０重量％、
１，１，２，２，−テトラクロロエタン４０重量％の混
合溶液中、２０℃で測定）が０．３以上である光学材料
用ポリエステル重合体ある光学材料用ポリエステル重合
体を提供するものである。また、本発明は射出成形によ
り、その光学材料を製造する方法を提供するものであ
る。
及びＲ5は独立に水素または炭素数１から４のアルキル
基）で示されるジヒドロキシ化合物と炭素原子数が２か
ら４の脂肪族グリコールからなる実質的に線上のポリエ
ステル重合体であって、一般式（１）で示されるジヒド
ロキシ化合物が、樹脂中の全グリコール成分の１０モル
％以上であるポリエステル重合体であり、さらに前記ポ
リエステル重合体の極限粘度（フェノール６０重量％、
１，１，２，２，−テトラクロロエタン４０重量％の混
合溶液中、２０℃で測定）が０．３以上である光学材料
用ポリエステル重合体ある光学材料用ポリエステル重合
体を提供するものである。また、本発明は射出成形によ
り、その光学材料を製造する方法を提供するものであ
る。
【００１２】以下、本発明を詳しく説明する。本発明の
光学材料用ポリエステルは、芳香族ジカルボン酸または
そのジエステル誘導体と一般式（１）
光学材料用ポリエステルは、芳香族ジカルボン酸または
そのジエステル誘導体と一般式（１）
【化４】 （Ｒ1は炭素数２から４のアルキル基、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、
及びＲ5は独立に水素または炭素数１から４のアルキル
基）で示されるジヒドロキシ化合物と炭素原子数が２か
ら４の脂肪族グリコールからなる実質的に線上のポリエ
ステル重合体であって、一般式（１）で示されるジヒド
ロキシ化合物が、樹脂中の全グリコール成分の１０モル
％以上であるポリエステリエステル重合体である。
及びＲ5は独立に水素または炭素数１から４のアルキル
基）で示されるジヒドロキシ化合物と炭素原子数が２か
ら４の脂肪族グリコールからなる実質的に線上のポリエ
ステル重合体であって、一般式（１）で示されるジヒド
ロキシ化合物が、樹脂中の全グリコール成分の１０モル
％以上であるポリエステリエステル重合体である。
【００１３】前記ポリエステルの一般式（１）で表され
るジヒドロキシ化合物が１０モル％より少ないと、光デ
ィスクが熱により変形しやすくなり、耐熱性が不十分で
あり、光学的異方性も大きくなる。
るジヒドロキシ化合物が１０モル％より少ないと、光デ
ィスクが熱により変形しやすくなり、耐熱性が不十分で
あり、光学的異方性も大きくなる。
【００１４】また、本発明の光学材料用ポリエスエル共
重合体はフェノール６０重量％、１，１，２，２，−テ
トラクロロエタン４０重量％の混合溶液中、２０℃で測
定した極限粘度が０．３以上であり、好ましくは０．４
〜０．８である。極限粘度が０．３以下では成形品の機
械的強度が不十分となる。０．８を越えると、成形時に
分子配向しやすくなる為、成形品の複屈折率が大きくな
り易い。
重合体はフェノール６０重量％、１，１，２，２，−テ
トラクロロエタン４０重量％の混合溶液中、２０℃で測
定した極限粘度が０．３以上であり、好ましくは０．４
〜０．８である。極限粘度が０．３以下では成形品の機
械的強度が不十分となる。０．８を越えると、成形時に
分子配向しやすくなる為、成形品の複屈折率が大きくな
り易い。
【００１５】本発明において、芳香族ジカルボン酸は、
テレフタル酸、イソフタル酸等が挙げられるが、特にテ
レフタル酸が好ましい。
テレフタル酸、イソフタル酸等が挙げられるが、特にテ
レフタル酸が好ましい。
【００１６】本発明において、一般式（１）で表される
ジヒドロキシ化合物は、９，９−ビス−（４−ヒドロキ
シエトキシフェニル）−フルオレン、９，９−ビス−
（４−ヒドロキシプロポキシフェニル）−フルオレン、
９，９−ビス−（４−ヒドロキシブトキシフェニル）−
フルオレン等があるが、特に９，９−ビス−（４−ヒド
ロキシエトキシフェニル）−フルオレンが好ましい。
ジヒドロキシ化合物は、９，９−ビス−（４−ヒドロキ
シエトキシフェニル）−フルオレン、９，９−ビス−
（４−ヒドロキシプロポキシフェニル）−フルオレン、
９，９−ビス−（４−ヒドロキシブトキシフェニル）−
フルオレン等があるが、特に９，９−ビス−（４−ヒド
ロキシエトキシフェニル）−フルオレンが好ましい。
【００１７】９，９−ビス−（４−ヒドロキシエトキシ
フェニル）−フルオレンは、例えば、９，９−ビス−
（４−ヒドロキシフェニル）−フルオレンにエチレンオ
キサイド（以下、ＥＯ）を付加して得られる。この際、
フェノールの両水酸基にエチレンオキサイドが１分子づ
つ付加した２ＥＯ付加体（９，９−ビス−（４−ヒドロ
キシエトキシフェニル）−フルオレン）の他に、さらに
数分子過剰に付加した、３ＥＯ付加体、４ＥＯ付加体等
の不純物が含まれる事がある。３ＥＯ、４ＥＯなどの不
純物が多くなると、ポリエステル重合体の耐熱性を低下
させる事になる。このときの２ＥＯ付加体の純度は８５
％以上有れば良いが、好ましくは９５％以上である。
フェニル）−フルオレンは、例えば、９，９−ビス−
（４−ヒドロキシフェニル）−フルオレンにエチレンオ
キサイド（以下、ＥＯ）を付加して得られる。この際、
フェノールの両水酸基にエチレンオキサイドが１分子づ
つ付加した２ＥＯ付加体（９，９−ビス−（４−ヒドロ
キシエトキシフェニル）−フルオレン）の他に、さらに
数分子過剰に付加した、３ＥＯ付加体、４ＥＯ付加体等
の不純物が含まれる事がある。３ＥＯ、４ＥＯなどの不
純物が多くなると、ポリエステル重合体の耐熱性を低下
させる事になる。このときの２ＥＯ付加体の純度は８５
％以上有れば良いが、好ましくは９５％以上である。
【００１８】９，９−ビス−（４−ヒドロキシプロポキ
シフェニル）−フルオレン、９，９−ビス−（４−ヒド
ロキシブトキシフェニル）−フルオレンは、例えば、
９，９−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−フルオレ
ンに各々、３−クロロ−プロパン−１−オール、４−ク
ロロ−プロパン−１−オールをアルカリ性条件下で反応
させれば得られる。この際の純度も、８５％以上で有れ
ば良く、好ましくは９５％以上である。
シフェニル）−フルオレン、９，９−ビス−（４−ヒド
ロキシブトキシフェニル）−フルオレンは、例えば、
９，９−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−フルオレ
ンに各々、３−クロロ−プロパン−１−オール、４−ク
ロロ−プロパン−１−オールをアルカリ性条件下で反応
させれば得られる。この際の純度も、８５％以上で有れ
ば良く、好ましくは９５％以上である。
【００１９】本発明において、脂肪族グリコールは、エ
チレングリコール、１，３−プロパンジオール、１、２
−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール１，２−
ブタンジオール、１，３−ブタンジオールが挙げられる
が、中でもエチレングリコール、１，４−ブタンジオー
ルが好ましく、特にエチレングリコールが好ましい。
チレングリコール、１，３−プロパンジオール、１、２
−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール１，２−
ブタンジオール、１，３−ブタンジオールが挙げられる
が、中でもエチレングリコール、１，４−ブタンジオー
ルが好ましく、特にエチレングリコールが好ましい。
【００２０】本発明の芳香族ジカルボン酸またはそのジ
エステル誘導体と一般式（１）で示されるジヒドロキシ
化合物と炭素原子数が２から４の脂肪族グリコールから
なるポリエステル共重合体は、例えば、エステル交換
法、直接重合法等の溶融重合法、溶液重合法、界面重合
法等の公知の方法から適宜の方法を選択して製造でき
る。またその際の重合触媒等の反応条件についても従来
通りで良く、公知の方法を用いる事ができる。
エステル誘導体と一般式（１）で示されるジヒドロキシ
化合物と炭素原子数が２から４の脂肪族グリコールから
なるポリエステル共重合体は、例えば、エステル交換
法、直接重合法等の溶融重合法、溶液重合法、界面重合
法等の公知の方法から適宜の方法を選択して製造でき
る。またその際の重合触媒等の反応条件についても従来
通りで良く、公知の方法を用いる事ができる。
【００２１】ところで溶液重合、界面重合等では、一般
に酸成分の活性種として酸クロライドを用いたり、溶媒
としてメチレンクロライド、クロロホルム等が使用され
る。光ディスクや光磁気ディスクとしてポリエステル共
重合体を使用する際は反射膜や記録膜等の金属薄膜を基
板に蒸着、スパッタリング等の方法で、固着するが、基
板内に残留塩素分があると、反射膜、記録膜を腐食し、
光ディスクや光磁気ディスクの寿命や信頼性を低下させ
るので、十分な、洗浄、ろ過等の残留する塩素を除去す
る工程が必要となる。重合方法としては塩素が混入しな
いエステル交換法の方が好ましい。
に酸成分の活性種として酸クロライドを用いたり、溶媒
としてメチレンクロライド、クロロホルム等が使用され
る。光ディスクや光磁気ディスクとしてポリエステル共
重合体を使用する際は反射膜や記録膜等の金属薄膜を基
板に蒸着、スパッタリング等の方法で、固着するが、基
板内に残留塩素分があると、反射膜、記録膜を腐食し、
光ディスクや光磁気ディスクの寿命や信頼性を低下させ
るので、十分な、洗浄、ろ過等の残留する塩素を除去す
る工程が必要となる。重合方法としては塩素が混入しな
いエステル交換法の方が好ましい。
【００２２】エステル交換法で本発明のポリエステル重
合体を製造するには、一般式（１）で表されるジヒドロ
キシ成分は樹脂中のグリコール成分の１０から９５モル
％であることが好ましい。これが、９５モル％より多く
なると、溶融重合反応が進まなかったり、十分な重合度
に達しない。９５モル％より多い場合は溶液重合法また
は界面重合法で製造できる。
合体を製造するには、一般式（１）で表されるジヒドロ
キシ成分は樹脂中のグリコール成分の１０から９５モル
％であることが好ましい。これが、９５モル％より多く
なると、溶融重合反応が進まなかったり、十分な重合度
に達しない。９５モル％より多い場合は溶液重合法また
は界面重合法で製造できる。
【００２３】本発明の光学材料用ポリエステル共重合体
から光学材料を成形する場合には、原料の投入工程を始
め、重合反応、共重合体を冷媒中に押し出してペレット
状またはシート状にする工程では塵埃等が入り込まない
ように留意して行う事が望まれる。このクリーン度は、
通常コンパクトディスク用の場合には１０００以下であ
り、更に高度な情報記録用の場合には１００以下であ
る。
から光学材料を成形する場合には、原料の投入工程を始
め、重合反応、共重合体を冷媒中に押し出してペレット
状またはシート状にする工程では塵埃等が入り込まない
ように留意して行う事が望まれる。このクリーン度は、
通常コンパクトディスク用の場合には１０００以下であ
り、更に高度な情報記録用の場合には１００以下であ
る。
【００２４】光ディスク基板の成形には通常射出圧縮成
形機がよく適合し、成形条件では、特に金型表面温度と
樹脂温度が重要である。ジヒドロキシ成分の組成及び重
合度などにより一概に規定できないが、金型表面温度は
５０℃以上１６０℃以下が好ましく、また、この時の樹
脂温度は２５０℃以上３５０℃以下となるようにするの
が良い。金型表面温度が２５０℃以下の場合には、樹脂
の流動性と転写性が共に悪く、射出成形時に応力歪が残
って、複屈折率が大きくなる傾向があり、また、成形サ
イクルも延びるので経済的でない。金型温度が１６０℃
以上の場合には転写性は良いが、離型時に変形し易い。
また、樹脂温度が３５０℃以上の場合は樹脂の分解が起
こり易く、成形品の強度低下、着色の原因となるので好
ましくない。
形機がよく適合し、成形条件では、特に金型表面温度と
樹脂温度が重要である。ジヒドロキシ成分の組成及び重
合度などにより一概に規定できないが、金型表面温度は
５０℃以上１６０℃以下が好ましく、また、この時の樹
脂温度は２５０℃以上３５０℃以下となるようにするの
が良い。金型表面温度が２５０℃以下の場合には、樹脂
の流動性と転写性が共に悪く、射出成形時に応力歪が残
って、複屈折率が大きくなる傾向があり、また、成形サ
イクルも延びるので経済的でない。金型温度が１６０℃
以上の場合には転写性は良いが、離型時に変形し易い。
また、樹脂温度が３５０℃以上の場合は樹脂の分解が起
こり易く、成形品の強度低下、着色の原因となるので好
ましくない。
【００２５】
【発明の効果】以上述べた如く、本発明の光学材料用
は、透明性、耐熱性が良く、成形性、寸法安定性、耐薬
品性に優れた光学材料を提供でき、産業的に有用なもの
である。更に、この材料からなる光ディスク基盤は、光
学的異方性が小さく産業的に有用なものである。
は、透明性、耐熱性が良く、成形性、寸法安定性、耐薬
品性に優れた光学材料を提供でき、産業的に有用なもの
である。更に、この材料からなる光ディスク基盤は、光
学的異方性が小さく産業的に有用なものである。
【００２６】
【実施例】以下実施例を挙げて本発明を具体的に説明す
る。実施例における共重合体の極限粘度、ガラス転移温
度、複屈折率、全光線透過率は以下に示す方法で測定し
た。
る。実施例における共重合体の極限粘度、ガラス転移温
度、複屈折率、全光線透過率は以下に示す方法で測定し
た。
【００２７】（１）極限粘度 フェノール６０重量％、１，１，２，２，−テトラクロ
ロエタン４０重量％の混合溶液５０ｍｌに共重合体０．
１５〜０．５ｇを８０℃で溶解後、２０℃で粘度を測定
し決定した。
ロエタン４０重量％の混合溶液５０ｍｌに共重合体０．
１５〜０．５ｇを８０℃で溶解後、２０℃で粘度を測定
し決定した。
【００２８】（２）ガラス転移温度 示差走査熱量計（理学電気ＤＳＣ−８２３０）に試料約
１０ｍｇを用いて、１０℃／ｍｉｎの昇温速度で加熱し
て測定した。ＪＩＳ Ｋ ７１２１-1987で定義されて
いる様にして、ガラス転移温度Ｔｍｇ、補外ガラス転移
温度終了温度 Ｔｅｇを求めた。
１０ｍｇを用いて、１０℃／ｍｉｎの昇温速度で加熱し
て測定した。ＪＩＳ Ｋ ７１２１-1987で定義されて
いる様にして、ガラス転移温度Ｔｍｇ、補外ガラス転移
温度終了温度 Ｔｅｇを求めた。
【００２９】（３）複屈折率 カールツアイス社性偏光顕微鏡にて、セラルモン、ベレ
ック、ブレースケラー式コンペンセーターを装着し、５
４６ｎｍの単色光で測定した。
ック、ブレースケラー式コンペンセーターを装着し、５
４６ｎｍの単色光で測定した。
【００３０】（３ー１）フィルムでの評価 樹脂をを２６０〜３００℃で溶融、押し出し成形で、直
径３０ｍｍ、厚さ１ｍｍの円盤状の試験片を作製し、さ
らにその成形試験片を１６０〜２４０℃でプレス成形
し、厚み８０〜１５０μのフィルムを得た。得られたフ
ィルムを４×４０ｍｍの短冊状に切り出し、測定試験片
を得た。補外ガラス転移終了温度 Ｔｅｇ＋１℃の温度
で測定試験片を１０％／ｓｅｃで４０％延伸後、急冷
し、延伸フィルムを得た。これらのフィルムの複屈折率
を測定した。
径３０ｍｍ、厚さ１ｍｍの円盤状の試験片を作製し、さ
らにその成形試験片を１６０〜２４０℃でプレス成形
し、厚み８０〜１５０μのフィルムを得た。得られたフ
ィルムを４×４０ｍｍの短冊状に切り出し、測定試験片
を得た。補外ガラス転移終了温度 Ｔｅｇ＋１℃の温度
で測定試験片を１０％／ｓｅｃで４０％延伸後、急冷
し、延伸フィルムを得た。これらのフィルムの複屈折率
を測定した。
【００３１】（３ー２）ディスクでの評価 射出圧縮成形機にて成形した厚さ１．２ｍｍ、直径１２
０ｍｍのディスクの中心から半径方向５０ｍｍの位置の
レターデーションを測定した。
０ｍｍのディスクの中心から半径方向５０ｍｍの位置の
レターデーションを測定した。
【００３２】（４）全光線透過率 ディスク基盤サンプルを用い自記分光光度計（日立Ｕ−
３４００）にて波長４００−９００ｎ範囲で測定し、そ
の平均値を示した。
３４００）にて波長４００−９００ｎ範囲で測定し、そ
の平均値を示した。
【００３３】（５）転写性評価 射出圧縮成形機にて成形した厚さ１．０ｍｍ、８０ｍｍ
φのディスク板（片面は鏡面、片面はグルーブ溝（間隔
１．４μｍ、深さ０．０９μ、幅０．５μｍのスパイラ
ル））の溝形状を顕微鏡により評価した。
φのディスク板（片面は鏡面、片面はグルーブ溝（間隔
１．４μｍ、深さ０．０９μ、幅０．５μｍのスパイラ
ル））の溝形状を顕微鏡により評価した。
【００３４】以下実施例中の「部」は重量部を意味す
る。 実施例１ テレフタル酸ジメチル ３８部、９，９−ビス−（４−
ヒドロキシエトキシフェニル）−フルオレン ３５部、
エチレングリコール ２７部を原料とし、触媒として、
酢酸カルシルム ０．０４２部を用い、これらを反応槽
に投入し、攪拌しながら常法に従って１９０℃から２３
０℃に徐々に加熱してエステル交換反応を行った。所定
量のメタノールを系外へ抜き出した後、重合触媒である
酸化ゲルマニウム ０．０１２部と、着色を防止するた
め、リン酸トリメチル ０．０３３とを投入して、昇温
と減圧を徐々に行い、発生するエチレングリコールを抜
きながら、加熱槽温度を２８０℃、真空度を１Ｔｏｒｒ
以下に到達させる。この条件を維持し、粘度の上昇を待
ち、攪拌機にかかるトルクが所定の値に達した時点で、
反応を終了し、反応物を水中に押し出してペレットを得
た。
る。 実施例１ テレフタル酸ジメチル ３８部、９，９−ビス−（４−
ヒドロキシエトキシフェニル）−フルオレン ３５部、
エチレングリコール ２７部を原料とし、触媒として、
酢酸カルシルム ０．０４２部を用い、これらを反応槽
に投入し、攪拌しながら常法に従って１９０℃から２３
０℃に徐々に加熱してエステル交換反応を行った。所定
量のメタノールを系外へ抜き出した後、重合触媒である
酸化ゲルマニウム ０．０１２部と、着色を防止するた
め、リン酸トリメチル ０．０３３とを投入して、昇温
と減圧を徐々に行い、発生するエチレングリコールを抜
きながら、加熱槽温度を２８０℃、真空度を１Ｔｏｒｒ
以下に到達させる。この条件を維持し、粘度の上昇を待
ち、攪拌機にかかるトルクが所定の値に達した時点で、
反応を終了し、反応物を水中に押し出してペレットを得
た。
【００３５】この共重合体の極限粘度は０．５５でガラ
ス転移温度は１２４℃であった。樹脂を２９０℃で溶融
成形して、円盤上のサンプルを得た後、２２０℃でプレ
スし、厚さ１２０μのフィルムを得た。１３６℃で延伸
を行うと複屈折率は４１×１０-4であった。また、金型
温度７０℃、樹脂温度２８０℃で射出成形して得られた
ディスクのレターデーションは１３ｎｍ、全光線透過率
は９０％であった。
ス転移温度は１２４℃であった。樹脂を２９０℃で溶融
成形して、円盤上のサンプルを得た後、２２０℃でプレ
スし、厚さ１２０μのフィルムを得た。１３６℃で延伸
を行うと複屈折率は４１×１０-4であった。また、金型
温度７０℃、樹脂温度２８０℃で射出成形して得られた
ディスクのレターデーションは１３ｎｍ、全光線透過率
は９０％であった。
【００３６】実施例２ 原料組成をテレフタル酸ジメチル ２６部、９，９−ビ
ス−（４−ヒドロキシエトキシフェニル）−フルオレン
５６部、エチレングリコール １８部とし、酢酸カル
シウムを０．０２８部、酸化ゲルマニウム ０．００９
部、リン酸トリメチル ０．０２２部に変えた他は同様
に工程を進行させてして、ペレットを得た。
ス−（４−ヒドロキシエトキシフェニル）−フルオレン
５６部、エチレングリコール １８部とし、酢酸カル
シウムを０．０２８部、酸化ゲルマニウム ０．００９
部、リン酸トリメチル ０．０２２部に変えた他は同様
に工程を進行させてして、ペレットを得た。
【００３７】この共重合体の極限粘度は０．４３でガラ
ス転移温度は１５０℃であった。樹脂を２９０℃で溶融
成形して、円盤上のサンプルを得た後、２５０℃でプレ
スし、厚さ１３０μのフィルムを得た。１６１℃で延伸
を行うと複屈折率は１２×１０-4であった。また、金型
温度１００℃、樹脂温度３１０℃で射出成形して得られ
たディスクのレターデーションは８ｎｍ、全光線透過率
は９０％であった。
ス転移温度は１５０℃であった。樹脂を２９０℃で溶融
成形して、円盤上のサンプルを得た後、２５０℃でプレ
スし、厚さ１３０μのフィルムを得た。１６１℃で延伸
を行うと複屈折率は１２×１０-4であった。また、金型
温度１００℃、樹脂温度３１０℃で射出成形して得られ
たディスクのレターデーションは８ｎｍ、全光線透過率
は９０％であった。
【００３８】実施例３〜６、比較例１ 原料組成比を変えた他は実施例１と同様にしてペレット
を得た後、樹脂を２６０〜３１０℃で溶融成形して、円
盤上のサンプルを得た後、２２０〜２５０℃でプレス
し、厚さ１００〜１３０μのフィルムを得た。 また、
金型温度７０〜１１０℃、樹脂温度２６０〜３１０℃で
射出成形してディスクを得た。結果は第１表に示す。
を得た後、樹脂を２６０〜３１０℃で溶融成形して、円
盤上のサンプルを得た後、２２０〜２５０℃でプレス
し、厚さ１００〜１３０μのフィルムを得た。 また、
金型温度７０〜１１０℃、樹脂温度２６０〜３１０℃で
射出成形してディスクを得た。結果は第１表に示す。
【００３９】比較例２ 市販の光ディスク用グレードのポリカーボネート樹脂を
３００℃で溶融成形して、円盤上のサンプルを得た後、
２４０℃でプレスし、厚さ１２０μのフィルムを得た。
１４８℃で延伸を行うと複屈折率は１６８×１０-4であ
った。また、金型温度１００℃、樹脂温度３１０℃で射
出成形して得られたディスクのレターデーションは３０
ｎｍ、全光線透過率は９０％であった。
３００℃で溶融成形して、円盤上のサンプルを得た後、
２４０℃でプレスし、厚さ１２０μのフィルムを得た。
１４８℃で延伸を行うと複屈折率は１６８×１０-4であ
った。また、金型温度１００℃、樹脂温度３１０℃で射
出成形して得られたディスクのレターデーションは３０
ｎｍ、全光線透過率は９０％であった。
【００４０】第１表から明かな様に、比較例１は耐熱性
が低く、結晶性があり、成形性、熱安定性、透明性に悪
影響を与えるので、光学材料としては好ましくない。比
較例２では、一般に用いられているポリカーボネート樹
脂だが光学異方性が大きく成形性に問題があることがあ
る。
が低く、結晶性があり、成形性、熱安定性、透明性に悪
影響を与えるので、光学材料としては好ましくない。比
較例２では、一般に用いられているポリカーボネート樹
脂だが光学異方性が大きく成形性に問題があることがあ
る。
【００４１】以上の事から、本発明の光学材料用は、透
明性、耐熱性が良く、成形性、寸法安定性、耐薬品性に
優れており、光学的異方性が小さく、優れた光学材料で
あることが判る。
明性、耐熱性が良く、成形性、寸法安定性、耐薬品性に
優れており、光学的異方性が小さく、優れた光学材料で
あることが判る。
【表１】
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０３Ｆ 7/032
Claims (7)
- 【請求項１】 芳香族ジカルボン酸またはそのジエステ
ル誘導体と一般式（１） 【化１】 （Ｒ1は炭素数２から４のアルキル基、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、
及びＲ5は独立に水素または炭素数１から４のアルキル
基）で示されるジヒドロキシ化合物と、炭素原子数が２
から４の脂肪族グリコールからなる実質的に線上のポリ
エステル重合体であって、一般式（１）で示されるジヒ
ドロキシ化合物が、樹脂中の全グリコール成分の１０モ
ル％以上であるポリエステル重合体であり、さらに前記
ポリエステル重合体の極限粘度（フェノール６０重量
％、１，１，２，２，−テトラクロロエタン４０重量％
の混合溶液中、２０℃で測定）が０．３以上であること
を特徴とする光学材料用ポリエステル重合体。 - 【請求項２】 芳香族ジカルボン酸がテレフタル酸であ
ることを特徴とする請求項１の光学材料用ポリエステル
重合体。 - 【請求項３】 一般式（１）で示されるジヒドロキシ化
合物が９，９−ビス−（４−ヒドロキシエトキシフェニ
ル）−フルオレンであることを特徴とする請求項１の光
学材料用ポリエステル重合体。 - 【請求項４】 脂肪族グリコールがエチレングリコール
であることを特徴とする請求項１の光学材料用ポリエス
テル重合体。 - 【請求項５】 一般式（１）で示されるジヒドロキシ化
合物と炭素原子数２〜４の脂肪族グリコールの樹脂中の
モル比が２０：８０ないし９５：５であることお特徴と
する請求項１の光学材料用ポリエステル重合体 - 【請求項６】 芳香族ジカルボン酸またはそのジエステ
ル誘導体と一般式（１） 【化２】 （Ｒ1は炭素数２から４のアルキル基、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、
及びＲ5は独立に水素または炭素数１から４のアルキル
基）で示されるジヒドロキシ化合物と、炭素原子数が２
から４の脂肪族グリコールからなる実質的に線上のポリ
エステル共重合体であって、一般式（１）で示されるジ
ヒドロキシ化合物が樹脂中の全グリコール成分の１０モ
ル％以上であるポリエステル重合体であり、さらに前記
ポリエステル重合体の極限粘度（フェノール６０重量
％、１，１，２，２，−テトラクロロエタン４０重量％
の混合溶液中、２０℃で測定）が０．３以上である光学
材料用ポリエステル重合体からなる基材を射出成形する
ことにより光学材料を製造する方法。 - 【請求項７】 光学材料が光ディスク基板である特許請
求の請求項６の光学材料を製造する方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22462892A JP2843215B2 (ja) | 1992-07-30 | 1992-07-30 | ポリエステル重合体およびその成形体並びに成形体の製造方法 |
| US08/374,737 US5530086A (en) | 1992-07-30 | 1993-07-29 | Polyester containing 9,9-bis(4-(2-hydroxyalkoxy)phenyl fluorene |
| DE69323551T DE69323551T2 (de) | 1992-07-30 | 1993-07-29 | Polyester |
| PCT/JP1993/001070 WO1994003521A1 (en) | 1992-07-30 | 1993-07-29 | Polyester polymer |
| EP93916242A EP0653451B1 (en) | 1992-07-30 | 1993-07-29 | Polyester |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22462892A JP2843215B2 (ja) | 1992-07-30 | 1992-07-30 | ポリエステル重合体およびその成形体並びに成形体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0649186A true JPH0649186A (ja) | 1994-02-22 |
| JP2843215B2 JP2843215B2 (ja) | 1999-01-06 |
Family
ID=16816692
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22462892A Expired - Lifetime JP2843215B2 (ja) | 1992-07-30 | 1992-07-30 | ポリエステル重合体およびその成形体並びに成形体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2843215B2 (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07149881A (ja) * | 1993-10-04 | 1995-06-13 | Kanebo Ltd | ポリエステル重合体 |
| JPH08100053A (ja) * | 1994-08-05 | 1996-04-16 | Kanebo Ltd | ポリエステル重合体及びその成形体 |
| JPH09304929A (ja) * | 1996-05-10 | 1997-11-28 | Nippon Steel Chem Co Ltd | アルカリ現像可能な感光性樹脂組成物 |
| US6011648A (en) * | 1997-05-15 | 2000-01-04 | Minolta Co., Ltd. | Optical system having an optical element made of resin |
| US6144499A (en) * | 1998-07-03 | 2000-11-07 | Sekinos Co., Ltd. | Projection lens |
| JP2002284864A (ja) * | 2001-03-26 | 2002-10-03 | Osaka Gas Co Ltd | 低温用成形材料 |
| JP2007270133A (ja) * | 2006-03-08 | 2007-10-18 | Toray Ind Inc | 易表面賦形性シート用組成物、及びそれを用いて形成される易表面賦形性シート、易表面賦形性シート積層体、それを用いた表面賦形方法ならびに成形品。 |
| JP2012007154A (ja) * | 2010-05-26 | 2012-01-12 | Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The | ポリエステル系樹脂、ポリエステル系樹脂の製法、およびポリエステル系樹脂水性液 |
| JP2013049784A (ja) * | 2011-08-31 | 2013-03-14 | Osaka Gas Chem Kk | 共重合ポリエステル樹脂及びその成形体 |
| KR20150095771A (ko) | 2012-12-10 | 2015-08-21 | 타오카 케미컬 컴퍼니 리미티드 | 플루오렌계 중합체, 플루오렌계 디올 화합물 및 그 제조 방법 |
| KR20150099557A (ko) | 2012-12-25 | 2015-08-31 | 타오카 케미컬 컴퍼니 리미티드 | 플루오렌계 중합체, 플루오렌계 디올 화합물 및 그 제조 방법 |
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|---|---|---|---|---|
| WO2004078824A1 (ja) | 2003-03-03 | 2004-09-16 | Kanebo, Ltd. | ポリエステル重合体およびその成形体およびポリエステル重合体の製造方法 |
| JP2010100770A (ja) * | 2008-10-27 | 2010-05-06 | Mitsubishi Gas Chemical Co Inc | 熱可塑性樹脂の製造方法、ポリエステル樹脂及びポリカーボネート樹脂、ならびにそれらの用途 |
| JP5412583B2 (ja) | 2011-03-28 | 2014-02-12 | 帝人株式会社 | フルオレン誘導体からなる熱可塑性樹脂の製造方法 |
-
1992
- 1992-07-30 JP JP22462892A patent/JP2843215B2/ja not_active Expired - Lifetime
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|---|---|---|---|---|
| JPH07149881A (ja) * | 1993-10-04 | 1995-06-13 | Kanebo Ltd | ポリエステル重合体 |
| JPH08100053A (ja) * | 1994-08-05 | 1996-04-16 | Kanebo Ltd | ポリエステル重合体及びその成形体 |
| JPH09304929A (ja) * | 1996-05-10 | 1997-11-28 | Nippon Steel Chem Co Ltd | アルカリ現像可能な感光性樹脂組成物 |
| US6011648A (en) * | 1997-05-15 | 2000-01-04 | Minolta Co., Ltd. | Optical system having an optical element made of resin |
| US6144499A (en) * | 1998-07-03 | 2000-11-07 | Sekinos Co., Ltd. | Projection lens |
| JP2002284864A (ja) * | 2001-03-26 | 2002-10-03 | Osaka Gas Co Ltd | 低温用成形材料 |
| JP2007270133A (ja) * | 2006-03-08 | 2007-10-18 | Toray Ind Inc | 易表面賦形性シート用組成物、及びそれを用いて形成される易表面賦形性シート、易表面賦形性シート積層体、それを用いた表面賦形方法ならびに成形品。 |
| JP2012007154A (ja) * | 2010-05-26 | 2012-01-12 | Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The | ポリエステル系樹脂、ポリエステル系樹脂の製法、およびポリエステル系樹脂水性液 |
| JP2013049784A (ja) * | 2011-08-31 | 2013-03-14 | Osaka Gas Chem Kk | 共重合ポリエステル樹脂及びその成形体 |
| KR20150095771A (ko) | 2012-12-10 | 2015-08-21 | 타오카 케미컬 컴퍼니 리미티드 | 플루오렌계 중합체, 플루오렌계 디올 화합물 및 그 제조 방법 |
| KR20150099557A (ko) | 2012-12-25 | 2015-08-31 | 타오카 케미컬 컴퍼니 리미티드 | 플루오렌계 중합체, 플루오렌계 디올 화합물 및 그 제조 방법 |
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