JPH0647512B2 - 窯業製品表面模様の形成方法 - Google Patents
窯業製品表面模様の形成方法Info
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- JPH0647512B2 JPH0647512B2 JP2095258A JP9525890A JPH0647512B2 JP H0647512 B2 JPH0647512 B2 JP H0647512B2 JP 2095258 A JP2095258 A JP 2095258A JP 9525890 A JP9525890 A JP 9525890A JP H0647512 B2 JPH0647512 B2 JP H0647512B2
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- Japan
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- glaze
- pattern
- base
- melting point
- melting
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、各種衛生陶器、タイル、陶板等の窯業製品に
装飾模様を施す方法に関する。
装飾模様を施す方法に関する。
〔従来の技術〕 従来から窯業製品の表面に装飾模様を施す方法として、
各種色調を有する釉薬をスクリーン印刷あるいは転写に
よって施釉する方法がある。
各種色調を有する釉薬をスクリーン印刷あるいは転写に
よって施釉する方法がある。
しかしながら、印刷、転写等によって表面模様を形成す
る方法は形成された模様が平坦面であって、窯業製品に
微妙な凹凸を有する表面模様を形成させる多様性を有す
る近年の趣向面からは極めて物足りないものであった。
る方法は形成された模様が平坦面であって、窯業製品に
微妙な凹凸を有する表面模様を形成させる多様性を有す
る近年の趣向面からは極めて物足りないものであった。
また、窯業製品の表面に微妙な凹凸模様を形成させる方
法が特開昭55-90483号公報、特開昭57-100986号公報、
特開昭57-129887号公報、特開昭58-30992号公報等に開
示されている。
法が特開昭55-90483号公報、特開昭57-100986号公報、
特開昭57-129887号公報、特開昭58-30992号公報等に開
示されている。
しかしながら、この従来の凹凸形成法は微妙な凹凸面形
成は可能であっても、その表面の着色模様の形成状態の
制御には限界があり、とくに連続した着色模様の形成に
は都合が悪い。
成は可能であっても、その表面の着色模様の形成状態の
制御には限界があり、とくに連続した着色模様の形成に
は都合が悪い。
とくに、前記各公報に記載の凹凸模様は釉焼時、釉薬中
に含まれる特定組成を化学反応により変化させる、いわ
ゆる窯変方式を採用しているために着色模様、それに凹
凸の程度を制御することが困難であり、微妙な範囲内に
管理された製品を得ることができない。窯業製品の色調
は、雰囲気、焼成温度、焼成時間及び釉薬の組成のわず
かの変化によって敏感に影響されるので、同一の色調を
有する製品を得るのが非常に難しい。
に含まれる特定組成を化学反応により変化させる、いわ
ゆる窯変方式を採用しているために着色模様、それに凹
凸の程度を制御することが困難であり、微妙な範囲内に
管理された製品を得ることができない。窯業製品の色調
は、雰囲気、焼成温度、焼成時間及び釉薬の組成のわず
かの変化によって敏感に影響されるので、同一の色調を
有する製品を得るのが非常に難しい。
本発明の目的は、凹凸面の任意の箇所に模様を形成する
ことができる窯業製品表面への装飾模様の形成方法を提
供することにある。
ことができる窯業製品表面への装飾模様の形成方法を提
供することにある。
本発明は、窯業製品の素地表面にベース釉薬を施し、該
ベース釉薬上の模様を形成すべき箇所に前記ベース釉薬
よりも低融点の釉薬を施し、さらに該低融点釉薬上に前
記ベース釉薬よりも高融点の釉薬あるいは顔料を施した
後、焼成することにより、前記ベース釉薬上に部分的に
低融点釉薬部分を陥没させた凹窪部を形成すると共に、
同凹窪部の特定個所に前記高融点釉薬あるいは顔料によ
る装飾模様を形成することを特徴とする。
ベース釉薬上の模様を形成すべき箇所に前記ベース釉薬
よりも低融点の釉薬を施し、さらに該低融点釉薬上に前
記ベース釉薬よりも高融点の釉薬あるいは顔料を施した
後、焼成することにより、前記ベース釉薬上に部分的に
低融点釉薬部分を陥没させた凹窪部を形成すると共に、
同凹窪部の特定個所に前記高融点釉薬あるいは顔料によ
る装飾模様を形成することを特徴とする。
ベース釉薬としては、従来のブライト釉薬又はマット釉
薬が使用される。
薬が使用される。
低融点釉薬は上記ベース釉薬よりも相対的に低融点の釉
薬を意味し、ベース釉薬と溶け込み易く、また、熱膨張
係数の関連で、鉛(PbO)0〜70重量%又はホウ酸(B2O3)
0〜50重量%を含むフリットで、融点が800〜1100℃
の釉薬が使用され、窯業製品やベース釉薬にもよるが通
常0.01〜0.25mm厚に施釉される。
薬を意味し、ベース釉薬と溶け込み易く、また、熱膨張
係数の関連で、鉛(PbO)0〜70重量%又はホウ酸(B2O3)
0〜50重量%を含むフリットで、融点が800〜1100℃
の釉薬が使用され、窯業製品やベース釉薬にもよるが通
常0.01〜0.25mm厚に施釉される。
さらに、低融点釉薬の上に施釉される高融点釉薬は釉焼
後、製品表面に模様を形成するもので、例えば、ベース
釉薬の融点以上の融点を有する釉薬、あるいは顔料が使
用できる。
後、製品表面に模様を形成するもので、例えば、ベース
釉薬の融点以上の融点を有する釉薬、あるいは顔料が使
用できる。
第1図は本発明の作用を概念的に示す図である。同
(a)図は施焼前の状態を、また、同(b)図は施焼後
の状態を示す。
(a)図は施焼前の状態を、また、同(b)図は施焼後
の状態を示す。
同図を参照して、窯業製品素地1のベース釉薬2の上に
施釉された低融点釉薬3は、ベース釉薬2の釉焼温度に
おいて溶融し、ベース釉薬2と融和して凹窪部4を形成
する。しかしながら、低融点釉薬3上に部分的に施され
た高融点釉薬あるいは顔料5は、溶融釉薬の表面張力に
よって凹窪部4の内面表面に留まることになる。
施釉された低融点釉薬3は、ベース釉薬2の釉焼温度に
おいて溶融し、ベース釉薬2と融和して凹窪部4を形成
する。しかしながら、低融点釉薬3上に部分的に施され
た高融点釉薬あるいは顔料5は、溶融釉薬の表面張力に
よって凹窪部4の内面表面に留まることになる。
したがって、第1図(b)のように、高融点釉薬あるい
は顔料5による模様が凹窪部4に形成されることにな
り、窯業製品表面に従来にない模様が現出する。
は顔料5による模様が凹窪部4に形成されることにな
り、窯業製品表面に従来にない模様が現出する。
本発明を通常の内装壁用タイル表面に波状の模様を形成
するために適用した。
するために適用した。
上記第1図に示す窯業製品素地1の全面に、フリット75
重量%、タルク20重量%、粘土5重量%の組成からな
り、融点が1100℃のベース釉薬2をウォーターフォール
によって、0.50mm厚みに施した。さらに、鉛(PbO)15重
量%、ホウ酸(B2O3)10重量%、シリカ60重量%、アルミ
ナ5重量%、その他塩基成分(アルカリ金属又はアルカ
リ土類金属の酸化物)10重量%の組成からなり、融点が
800℃の低融点釉薬3をベース釉薬2上に波型に0.05〜
0.10mmの厚みにスクリーン印刷で施し、その低融点釉薬
3によって描かれた波型模様の縁部に、フリット90重量
%、長石10重量%の組成からなり、融点が約1200℃の高
融点釉薬5をスクリーン印刷によって0.05〜0.10mmの厚
みに縁取りした。
重量%、タルク20重量%、粘土5重量%の組成からな
り、融点が1100℃のベース釉薬2をウォーターフォール
によって、0.50mm厚みに施した。さらに、鉛(PbO)15重
量%、ホウ酸(B2O3)10重量%、シリカ60重量%、アルミ
ナ5重量%、その他塩基成分(アルカリ金属又はアルカ
リ土類金属の酸化物)10重量%の組成からなり、融点が
800℃の低融点釉薬3をベース釉薬2上に波型に0.05〜
0.10mmの厚みにスクリーン印刷で施し、その低融点釉薬
3によって描かれた波型模様の縁部に、フリット90重量
%、長石10重量%の組成からなり、融点が約1200℃の高
融点釉薬5をスクリーン印刷によって0.05〜0.10mmの厚
みに縁取りした。
このタイルを酸化雰囲気のローラハースキルン炉の中で
1200℃で40分間釉焼した。
1200℃で40分間釉焼した。
第2図は釉焼後、タイル表面に形成された模様を示す。
同図を参照して、6は第1図に示すベース釉薬2によっ
て形成された下地部分を示し、7は同じ低融点釉薬3に
よって形成された波状模様の凹窪部4による波型模様を
示す。8は同波型模様7の縁に沿って形成された上記高
融点釉薬5によって形成された縁部模様を示す。
て形成された下地部分を示し、7は同じ低融点釉薬3に
よって形成された波状模様の凹窪部4による波型模様を
示す。8は同波型模様7の縁に沿って形成された上記高
融点釉薬5によって形成された縁部模様を示す。
同図に示すように、波状模様の凹窪部と、これとは色彩
の異なる同波型模様の凸部が、現出し、それらの片側の
境界には更に色彩の異なった縁部模様が現出し、美麗で
微妙な凹凸を有する表面模様を形成した。
の異なる同波型模様の凸部が、現出し、それらの片側の
境界には更に色彩の異なった縁部模様が現出し、美麗で
微妙な凹凸を有する表面模様を形成した。
本発明によって以下の効果を奏する。
(1)従来にない凹窪部の特定個所に模様を形成した表面
模様を有する窯業製品を得ることができると共に、表面
模様の形成に格別の工程を必要としない。
模様を有する窯業製品を得ることができると共に、表面
模様の形成に格別の工程を必要としない。
第1図は本発明の作用を示す説明図である。第2図は本
発明の実施例によって得たタイルの表面模様を示す。 1:窯業製品素地、2:ベース釉薬 3:低融点釉薬、4:凹窪部 5:高融点釉薬あるいは顔料 6:下地部分、7:波型模様 8:縁部模様
発明の実施例によって得たタイルの表面模様を示す。 1:窯業製品素地、2:ベース釉薬 3:低融点釉薬、4:凹窪部 5:高融点釉薬あるいは顔料 6:下地部分、7:波型模様 8:縁部模様
Claims (1)
- 【請求項1】窯業製品の素地表面にベース釉薬を施し、
該ベース釉薬上の模様を形成すべき箇所に前記ベース釉
薬よりも低融点の釉薬を施し、さらに該低融点釉薬上に
前記ベース釉薬よりも高融点の釉薬を施しあるいは顔料
を施した後、焼成することにより、前記ベース釉薬上に
部分的に低融点釉薬部分を陥没させた凹窪部を形成する
と共に、同凹窪部の特定個所に前記高融点釉薬あるいは
顔料による装飾模様を形成することを特徴とする窯業製
品表面模様の形成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2095258A JPH0647512B2 (ja) | 1990-04-10 | 1990-04-10 | 窯業製品表面模様の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2095258A JPH0647512B2 (ja) | 1990-04-10 | 1990-04-10 | 窯業製品表面模様の形成方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03293467A JPH03293467A (ja) | 1991-12-25 |
JPH0647512B2 true JPH0647512B2 (ja) | 1994-06-22 |
Family
ID=14132741
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2095258A Expired - Lifetime JPH0647512B2 (ja) | 1990-04-10 | 1990-04-10 | 窯業製品表面模様の形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0647512B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105800932A (zh) * | 2016-03-30 | 2016-07-27 | 安徽青花坊瓷业股份有限公司 | 一种高温釉中彩制作用底釉 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05194011A (ja) * | 1992-01-20 | 1993-08-03 | Inax Corp | 衛生陶磁器製品の製造方法 |
JPH05194012A (ja) * | 1992-01-20 | 1993-08-03 | Inax Corp | 焼き物風衛生陶磁器製品の製造方法 |
CN103588507B (zh) * | 2013-11-20 | 2014-12-17 | 江苏省宜兴彩陶工艺厂 | 白点立体装饰釉陶瓷制品及其制备方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4051587A (en) * | 1976-08-02 | 1977-10-04 | Varco International, Inc. | Pile handling apparatus and methods |
JPS623800A (ja) * | 1985-06-27 | 1987-01-09 | Takara Shuzo Co Ltd | アンモニアまたはatpの定量法 |
JPS623043A (ja) * | 1985-06-28 | 1987-01-09 | Inax Corp | タイルの装飾方法 |
-
1990
- 1990-04-10 JP JP2095258A patent/JPH0647512B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105800932A (zh) * | 2016-03-30 | 2016-07-27 | 安徽青花坊瓷业股份有限公司 | 一种高温釉中彩制作用底釉 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH03293467A (ja) | 1991-12-25 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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