JPH06144970A - 陶磁器の製造方法 - Google Patents
陶磁器の製造方法Info
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- JPH06144970A JPH06144970A JP32117992A JP32117992A JPH06144970A JP H06144970 A JPH06144970 A JP H06144970A JP 32117992 A JP32117992 A JP 32117992A JP 32117992 A JP32117992 A JP 32117992A JP H06144970 A JPH06144970 A JP H06144970A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/009—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone characterised by the material treated
-
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- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/52—Multiple coating or impregnating multiple coating or impregnating with the same composition or with compositions only differing in the concentration of the constituents, is classified as single coating or impregnation
- C04B41/526—Multiple coating or impregnation with materials having the same composition but different characteristics
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Materials Engineering (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
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- Aftertreatments Of Artificial And Natural Stones (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本タイルの製造方法は、簡単な方法で、自然
な凹凸状の施釉面を形成することができる。 【構成】 タイル素地１０上に下釉１２を施し、その下
釉１２の一部に下釉１２より高い融点の上釉１４を施
す。下釉１２の融点以上で焼成すると、下釉１２が溶融
し、上釉１４が一部共融解状態となって浮遊する。下釉
１２がほぼ溶融した後に冷却すると、上釉１４のある下
釉１２部分の融点が共融で高くなっているから、この部
分から凝固し、外表面に露出している下釉１２部分が凝
固収縮を行ないながら最後に凝固する。よって、上釉１
４の部分が凸部に、外表面に露出している下釉１２部分
が凹部になる。
な凹凸状の施釉面を形成することができる。 【構成】 タイル素地１０上に下釉１２を施し、その下
釉１２の一部に下釉１２より高い融点の上釉１４を施
す。下釉１２の融点以上で焼成すると、下釉１２が溶融
し、上釉１４が一部共融解状態となって浮遊する。下釉
１２がほぼ溶融した後に冷却すると、上釉１４のある下
釉１２部分の融点が共融で高くなっているから、この部
分から凝固し、外表面に露出している下釉１２部分が凝
固収縮を行ないながら最後に凝固する。よって、上釉１
４の部分が凸部に、外表面に露出している下釉１２部分
が凹部になる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、タイルや陶板等の施釉
面に凹凸を形成する陶磁器の製造方法に関する。
面に凹凸を形成する陶磁器の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、タイル等の施釉面に凹凸を形成す
る方法として、タイル素地上に下釉を施し、この下釉面
に、スプレー法やモットル法等を用いて、下釉と同じ材
料の上釉を部分的に施して、その後焼成する方法があ
る。この方法により製造された陶磁器では、上釉を施し
た部分が下釉に対して凸状に形成され、凹凸のある施釉
面となる。
る方法として、タイル素地上に下釉を施し、この下釉面
に、スプレー法やモットル法等を用いて、下釉と同じ材
料の上釉を部分的に施して、その後焼成する方法があ
る。この方法により製造された陶磁器では、上釉を施し
た部分が下釉に対して凸状に形成され、凹凸のある施釉
面となる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来の方
法では、上釉を施した部分が平面状の下釉上にそのまま
の形状で焼成されてしまい、その形状や輪郭が明瞭に識
別することができ、それ以外の部分に凹凸が生じないか
ら、人工的な凹凸模様となる。例えば、ディスクモット
ル法で上釉を散布した場合には、上釉の付着量に応じた
凸部が散点状に形成される。このため、深みのあり、か
つ自然な凹凸感のある施釉面にならないという問題があ
った。
法では、上釉を施した部分が平面状の下釉上にそのまま
の形状で焼成されてしまい、その形状や輪郭が明瞭に識
別することができ、それ以外の部分に凹凸が生じないか
ら、人工的な凹凸模様となる。例えば、ディスクモット
ル法で上釉を散布した場合には、上釉の付着量に応じた
凸部が散点状に形成される。このため、深みのあり、か
つ自然な凹凸感のある施釉面にならないという問題があ
った。
【０００４】本発明は、上記従来の技術の問題点を解決
するものであり、簡単な方法で、自然な凹凸状の施釉面
を形成することができる陶磁器の製造方法を提供するこ
とを目的とする。
するものであり、簡単な方法で、自然な凹凸状の施釉面
を形成することができる陶磁器の製造方法を提供するこ
とを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
になされた本発明は、陶磁器の施釉面に凹凸を形成する
陶磁器の製造方法において、陶磁器素地上に、下釉を施
す工程と、該下釉上の一部に、上記下釉より高い融点の
上釉を施す工程と、上記下釉及び上釉を施した素地を、
下釉の融点以上の温度にて焼成する工程と、焼成工程の
後に、下釉及び上釉を冷却固化する工程と、を備えたこ
とを特徴とする。
になされた本発明は、陶磁器の施釉面に凹凸を形成する
陶磁器の製造方法において、陶磁器素地上に、下釉を施
す工程と、該下釉上の一部に、上記下釉より高い融点の
上釉を施す工程と、上記下釉及び上釉を施した素地を、
下釉の融点以上の温度にて焼成する工程と、焼成工程の
後に、下釉及び上釉を冷却固化する工程と、を備えたこ
とを特徴とする。
【０００６】
【作用】素地上に下釉を施した後に、下釉上の一部に上
釉を施し、下釉の融点以上の温度で焼成すると、下釉が
溶融し、下釉に上釉が浮遊した状態になる。下釉が溶融
した後に冷却する過程では、上釉のある下釉の部分から
凝固を始め、上釉のない下釉の部分が遅れて凝固する。
このような凝固過程をとるのは、上釉と接する下釉部分
は、共融となって下釉の融点が上昇しているから最初に
凝固し、上釉のない下釉部分は、純粋な組成で融点の上
昇がないから遅れて凝固することになる。こうした凝固
過程によると、上釉のある下釉部分は、その高さ位置を
維持し、最後に凝固する下釉部分は、凝固収縮により、
その高さ位置が低くなる。よって、上釉のある部分が凸
部に、下釉の露出している部分が凹部になって、凹凸形
状の施釉面となる。
釉を施し、下釉の融点以上の温度で焼成すると、下釉が
溶融し、下釉に上釉が浮遊した状態になる。下釉が溶融
した後に冷却する過程では、上釉のある下釉の部分から
凝固を始め、上釉のない下釉の部分が遅れて凝固する。
このような凝固過程をとるのは、上釉と接する下釉部分
は、共融となって下釉の融点が上昇しているから最初に
凝固し、上釉のない下釉部分は、純粋な組成で融点の上
昇がないから遅れて凝固することになる。こうした凝固
過程によると、上釉のある下釉部分は、その高さ位置を
維持し、最後に凝固する下釉部分は、凝固収縮により、
その高さ位置が低くなる。よって、上釉のある部分が凸
部に、下釉の露出している部分が凹部になって、凹凸形
状の施釉面となる。
【０００７】
【実施例】以上説明した本発明の構成・作用を一層明ら
かにするために、以下本発明の好適な実施例として、タ
イルに適用した場合について説明する。ここで、本実施
例に係るタイルは、以下の工程を経ることにより作成さ
れるが、これを各工程に分けて説明する。
かにするために、以下本発明の好適な実施例として、タ
イルに適用した場合について説明する。ここで、本実施
例に係るタイルは、以下の工程を経ることにより作成さ
れるが、これを各工程に分けて説明する。
【０００８】（１） 素地の形成工程 タイル素地１０を形成する（図１（Ａ））。タイル素地
１０は、通常の材料及び成形方法を用いることができ、
生素地または締焼きした素地であってもよい。すなわ
ち、陶石５０重量部、石灰石２０重量部、粘土３０重量
部からなる原料粉を所定量調量し、これをプレス成形し
たり、仮焼成したりして成形する。
１０は、通常の材料及び成形方法を用いることができ、
生素地または締焼きした素地であってもよい。すなわ
ち、陶石５０重量部、石灰石２０重量部、粘土３０重量
部からなる原料粉を所定量調量し、これをプレス成形し
たり、仮焼成したりして成形する。
【０００９】（２） 施釉工程 次に、タイル素地１０上に下釉１２を施した後に（図１
（Ｂ））、下釉１２の一部に上釉１４を施す（図１
（Ｃ））。下釉１２は、上釉１４と比較して、その融点
を低くすることが必要である。これは、後述するよう
に、凝固時期の差に応じて凹凸模様を形成するためであ
り、その作用を得るには、５０℃〜３００℃の融点差を
有することが望ましく、それ以下の温度差であると、十
分な効果が得られず、一方、融点差が大きすぎると、上
釉１４が全く融けずに、それが汚れやゴミの原因となる
からである。
（Ｂ））、下釉１２の一部に上釉１４を施す（図１
（Ｃ））。下釉１２は、上釉１４と比較して、その融点
を低くすることが必要である。これは、後述するよう
に、凝固時期の差に応じて凹凸模様を形成するためであ
り、その作用を得るには、５０℃〜３００℃の融点差を
有することが望ましく、それ以下の温度差であると、十
分な効果が得られず、一方、融点差が大きすぎると、上
釉１４が全く融けずに、それが汚れやゴミの原因となる
からである。
【００１０】下釉１２及び上釉１４の原料は、上述した
融点差があれば、通常の釉薬原料を用いることができ、
透明釉、乳濁釉、マット釉等の各種の釉薬や、これに着
色剤を加えた色釉であってもよい。色釉を用いた場合に
は、凹凸に加えて絵柄を加えた模様となる。長石、珪石
等を釉薬の主原料とする場合には、アルミナやフリット
の添加量を変えることにより溶融温度を変えることがで
きる。すなわち、アルミナを増量すると、その融点を上
げる作用があり、フリットを増量すると、その融点を下
げる作用がある。したがって、アルミナ及びフリットを
融点の調製剤としてその量を調製する。
融点差があれば、通常の釉薬原料を用いることができ、
透明釉、乳濁釉、マット釉等の各種の釉薬や、これに着
色剤を加えた色釉であってもよい。色釉を用いた場合に
は、凹凸に加えて絵柄を加えた模様となる。長石、珪石
等を釉薬の主原料とする場合には、アルミナやフリット
の添加量を変えることにより溶融温度を変えることがで
きる。すなわち、アルミナを増量すると、その融点を上
げる作用があり、フリットを増量すると、その融点を下
げる作用がある。したがって、アルミナ及びフリットを
融点の調製剤としてその量を調製する。
【００１１】下釉１２の施釉方法として、幕掛け法、デ
ィスクモットル法、スプレー法等の通常の方法を用いる
ことができるが、下釉１２を基礎釉として用いる場合に
は、均一な厚さで塗布できる幕掛け法が望ましい。ま
た、上釉１４の施釉方法としては、下釉１２の一部に施
釉することが必要であればよく、ゴムローラ等を用いて
斑点模様を形成するモットル法、スプレー法の他に、ス
クリーン印刷法を用いてもよい。
ィスクモットル法、スプレー法等の通常の方法を用いる
ことができるが、下釉１２を基礎釉として用いる場合に
は、均一な厚さで塗布できる幕掛け法が望ましい。ま
た、上釉１４の施釉方法としては、下釉１２の一部に施
釉することが必要であればよく、ゴムローラ等を用いて
斑点模様を形成するモットル法、スプレー法の他に、ス
クリーン印刷法を用いてもよい。
【００１２】（３） 焼成工程 下釉１２及び上釉１４を施した後に、焼成を行なう。焼
成工程は、通常の焼成炉にて長時間焼成するほか、ロー
ラハースキルンで迅速焼成を行なってもよい。焼成温度
は、下釉１２の融点と上釉１４の融点との間の温度にて
焼成する。これにより、図１（Ｅ）及び図２（Ｂ）に示
すように、深い凹凸模様を形成することができる。な
お、上釉１４は、焼成時に溶融しても下釉１２よりも早
く凝固すればよく、この条件を満たす限り、焼成温度
は、上釉１４の融点より高くすることも可能である。
成工程は、通常の焼成炉にて長時間焼成するほか、ロー
ラハースキルンで迅速焼成を行なってもよい。焼成温度
は、下釉１２の融点と上釉１４の融点との間の温度にて
焼成する。これにより、図１（Ｅ）及び図２（Ｂ）に示
すように、深い凹凸模様を形成することができる。な
お、上釉１４は、焼成時に溶融しても下釉１２よりも早
く凝固すればよく、この条件を満たす限り、焼成温度
は、上釉１４の融点より高くすることも可能である。
【００１３】上記工程を経て製造されたタイルは、タイ
ル素地１０上に下釉１２及び上釉１４を施した後に、下
釉１２の融点以上であって上釉１４の融点以下にて焼成
する。焼成時に、下釉１２が溶融し、上釉１４が一部共
融状態となって浮遊する（図２（Ａ））。下釉１２がほ
ぼ溶融した後に冷却すると、上釉１４のある下釉１２部
分は、その融点が高くなっているから、この部分から凝
固を始め、上釉１４のない下釉１２部分が最後に凝固す
る。つまり、下釉１２と上釉１４との間の境界付近は、
共融状態となって融点が上昇しているから最初に凝固す
る（図２（Ｂ））。したがって、上釉１４のある下釉１
２部分が最初に凝固して、その位置を維持し、最後に凝
固する下釉１２部分は、凝固収縮によりその位置が低く
なる。その結果、上釉１４の部分が凸部に、外表面への
露出部分の下釉１２の部分が凹部になって、凹凸形状の
３次元的な施釉面を有するタイルが形成される。
ル素地１０上に下釉１２及び上釉１４を施した後に、下
釉１２の融点以上であって上釉１４の融点以下にて焼成
する。焼成時に、下釉１２が溶融し、上釉１４が一部共
融状態となって浮遊する（図２（Ａ））。下釉１２がほ
ぼ溶融した後に冷却すると、上釉１４のある下釉１２部
分は、その融点が高くなっているから、この部分から凝
固を始め、上釉１４のない下釉１２部分が最後に凝固す
る。つまり、下釉１２と上釉１４との間の境界付近は、
共融状態となって融点が上昇しているから最初に凝固す
る（図２（Ｂ））。したがって、上釉１４のある下釉１
２部分が最初に凝固して、その位置を維持し、最後に凝
固する下釉１２部分は、凝固収縮によりその位置が低く
なる。その結果、上釉１４の部分が凸部に、外表面への
露出部分の下釉１２の部分が凹部になって、凹凸形状の
３次元的な施釉面を有するタイルが形成される。
【００１４】また、上記工程によると、上釉１４の凸部
だけでなく、下釉１２を施した部分も凹部となり、しか
も、その凹凸は、上釉１４を施した部分を中心に形成さ
れるから、多様かつ深い凹凸を形成することができる。
だけでなく、下釉１２を施した部分も凹部となり、しか
も、その凹凸は、上釉１４を施した部分を中心に形成さ
れるから、多様かつ深い凹凸を形成することができる。
【００１５】＜実験例＞まず、タイル基材を作成した。
タイル基材の材料としては、陶石５０重量部、石灰石２
０重量部、粘土３０重量部からなる原料粉を２００ｍｍ
×２００ｍｍ×７ｍｍにプレス成形し、１１５０℃で２
４時間トンネルキルンで焼成し、タイル基材を成形し
た。続いて、下釉を幕掛け法によりタイル基材の表面に
均一に０．５ｍｍの厚さに塗布した。下釉の原料は、長
石３０重量部、珪石７重量部、カオリン７重量部、アル
ミナ７重量部、珪灰石７重量部、ジルコット１５重量
部、フリット１５重量部で調製した。その融点は、９７
０℃〜９８０℃である。
タイル基材の材料としては、陶石５０重量部、石灰石２
０重量部、粘土３０重量部からなる原料粉を２００ｍｍ
×２００ｍｍ×７ｍｍにプレス成形し、１１５０℃で２
４時間トンネルキルンで焼成し、タイル基材を成形し
た。続いて、下釉を幕掛け法によりタイル基材の表面に
均一に０．５ｍｍの厚さに塗布した。下釉の原料は、長
石３０重量部、珪石７重量部、カオリン７重量部、アル
ミナ７重量部、珪灰石７重量部、ジルコット１５重量
部、フリット１５重量部で調製した。その融点は、９７
０℃〜９８０℃である。
【００１６】次に、下釉上に上釉をモットル法で斑点状
に塗布した。上釉の原料は、長石３０重量部、珪石７重
量部、カオリン７重量部、アルミナ１７重量部、珪灰石
７重量部、ジルコット１５重量部、フリット１０重量部
で調製した。その融点は、１０４０℃〜１０５０℃であ
る。よって、上釉は、下釉に比べて融点が約７０℃高い
ことになる。その後、ローラーハースキルンで１０００
℃〜１２００℃で約３５分焼成した。
に塗布した。上釉の原料は、長石３０重量部、珪石７重
量部、カオリン７重量部、アルミナ１７重量部、珪灰石
７重量部、ジルコット１５重量部、フリット１０重量部
で調製した。その融点は、１０４０℃〜１０５０℃であ
る。よって、上釉は、下釉に比べて融点が約７０℃高い
ことになる。その後、ローラーハースキルンで１０００
℃〜１２００℃で約３５分焼成した。
【００１７】なお、上記実施例では、上釉及び下釉は、
それぞれ１種類だけ用いたが、これに限らず、上釉及び
下釉に融点の僅かに異なる複数の釉薬を用いることによ
り、一層複雑な凹凸面を形成することができる。
それぞれ１種類だけ用いたが、これに限らず、上釉及び
下釉に融点の僅かに異なる複数の釉薬を用いることによ
り、一層複雑な凹凸面を形成することができる。
【００１８】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の陶磁器の
製造方法によれば、下釉の凝固時期が上釉のある部分と
下釉だけの部分とで異なり、この凝固時期の差に応じた
凹凸が施釉面上に形成されるので、自然なかつ深みのあ
る凹凸感を有する陶磁器を得ることができる。
製造方法によれば、下釉の凝固時期が上釉のある部分と
下釉だけの部分とで異なり、この凝固時期の差に応じた
凹凸が施釉面上に形成されるので、自然なかつ深みのあ
る凹凸感を有する陶磁器を得ることができる。
【図１】本発明の一実施例に係るタイルの製造工程を説
明する説明図。
明する説明図。
【図２】図１（Ｄ）及び図１（Ｆ）を拡大した説明図。
１０…タイル素地 １２…下釉 １４…上釉
Claims (1)
- 【請求項１】 陶磁器の施釉面に凹凸を形成する陶磁器
の製造方法において、 陶磁器素地上に、下釉を施す工程と、 該下釉上の一部に、上記下釉より高い融点の上釉を施す
工程と、 上記下釉及び上釉を施した素地を、下釉の融点以上の温
度にて焼成する工程と、 焼成工程の後に、下釉及び上釉を冷却固化する工程と、 を備えたことを特徴とする陶磁器の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32117992A JPH06144970A (ja) | 1992-11-04 | 1992-11-04 | 陶磁器の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32117992A JPH06144970A (ja) | 1992-11-04 | 1992-11-04 | 陶磁器の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06144970A true JPH06144970A (ja) | 1994-05-24 |
Family
ID=18129677
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32117992A Pending JPH06144970A (ja) | 1992-11-04 | 1992-11-04 | 陶磁器の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06144970A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002274984A (ja) * | 2001-03-21 | 2002-09-25 | Noritake Co Ltd | 装飾陶磁器及び転写紙 |
| KR20040004952A (ko) * | 2002-07-06 | 2004-01-16 | 이석 | 기능성 도자기 및 그 제조방법 |
-
1992
- 1992-11-04 JP JP32117992A patent/JPH06144970A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002274984A (ja) * | 2001-03-21 | 2002-09-25 | Noritake Co Ltd | 装飾陶磁器及び転写紙 |
| KR20040004952A (ko) * | 2002-07-06 | 2004-01-16 | 이석 | 기능성 도자기 및 그 제조방법 |
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