JP2866732B2 - 大理石模様を有する陶磁器製品の製造方法 - Google Patents
大理石模様を有する陶磁器製品の製造方法Info
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- JP2866732B2 JP2866732B2 JP33449690A JP33449690A JP2866732B2 JP 2866732 B2 JP2866732 B2 JP 2866732B2 JP 33449690 A JP33449690 A JP 33449690A JP 33449690 A JP33449690 A JP 33449690A JP 2866732 B2 JP2866732 B2 JP 2866732B2
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、陶磁器素地の表面に釉薬を施すことによ
り、大理石模様を有する陶磁器製品を製造する方法に関
するものである。
り、大理石模様を有する陶磁器製品を製造する方法に関
するものである。
［従来の技術］ 陶磁器製品の釉薬による装飾法、特に天然石調等の自
然石模様の現出方法としては、 （１）釉薬の溶融粘性を利用して、自然な連続模様を得
る方法、 （２）半透明釉、透明釉、又は明度の異なる釉を複数回
旋釉して、自然な連続模様を得る方法 等が現在までに呈示されてはいるが、商業的な生産はな
されてはいない。
然石模様の現出方法としては、 （１）釉薬の溶融粘性を利用して、自然な連続模様を得
る方法、 （２）半透明釉、透明釉、又は明度の異なる釉を複数回
旋釉して、自然な連続模様を得る方法 等が現在までに呈示されてはいるが、商業的な生産はな
されてはいない。
［発明が解決しようとする課題］ 上記の方法は、いずれも焼成過程を経て、模様を現出
せんとしたものであり、模様の形態は焼成条件に依存せ
ざるを得ない。しかし、釉薬の溶融粘性は焼成温度によ
り大きな影響を受け、透明度も焼成温度や、冷却過程に
左右されるところが大である。
せんとしたものであり、模様の形態は焼成条件に依存せ
ざるを得ない。しかし、釉薬の溶融粘性は焼成温度によ
り大きな影響を受け、透明度も焼成温度や、冷却過程に
左右されるところが大である。
このように、上記方法は模様現出において、十分な焼
成条件のコントロールを必要としており、一般的に普及
できずに至っているのが現状である。
成条件のコントロールを必要としており、一般的に普及
できずに至っているのが現状である。
以上のような現状から、釉薬業界において、焼成条件
に影響されずに安定した模様の現出法が望まれていた。
に影響されずに安定した模様の現出法が望まれていた。
［課題を解決するための手段］ 釉薬スリップの粘性が違うことによって、釉薬を素地
上へ滴下したときの釉滴が、様々に異なる状態になるこ
とは一般に知らている。
上へ滴下したときの釉滴が、様々に異なる状態になるこ
とは一般に知らている。
本発明者はこのことに着目し、更に技術的に発展させ
て特定の模様を得ることに成功したものである。すなわ
ち、複数の釉薬を多層施釉する方法において各々の釉薬
スリップの粘性と拡散度をコントロールすることによっ
て、釉薬により大理石模様を得ることを可能にしたもの
である。
て特定の模様を得ることに成功したものである。すなわ
ち、複数の釉薬を多層施釉する方法において各々の釉薬
スリップの粘性と拡散度をコントロールすることによっ
て、釉薬により大理石模様を得ることを可能にしたもの
である。
第１図は、本発明による釉薬の模様化が進んで行く状
態を模式的に示した図であり、第２図は、第１図を断面
からみた図である。第１図、第２図において、参照番号
１は素地、２は下釉、３は上釉滴、図中（ａ）、（ｂ）
及び（ｃ）の間の矢印は上釉の釉滴が拡散する経時変化
を示している。
態を模式的に示した図であり、第２図は、第１図を断面
からみた図である。第１図、第２図において、参照番号
１は素地、２は下釉、３は上釉滴、図中（ａ）、（ｂ）
及び（ｃ）の間の矢印は上釉の釉滴が拡散する経時変化
を示している。
釉薬スリップの特性、すなわち、粘性と拡散度が、模
様に与える効果について説明すると、 （１）粘性が小さいと滴下した釉滴が、外に向かって拡
がり易く、粘性が大きいと釉滴は拡がり難い。
様に与える効果について説明すると、 （１）粘性が小さいと滴下した釉滴が、外に向かって拡
がり易く、粘性が大きいと釉滴は拡がり難い。
（２）拡散度が大きいと滴下した釉滴は外に向かって拡
がり易く、釉滴は滑らかな凸状態を示し、拡散度が小さ
いと滴下した釉滴は外に向かって拡がり難く、釉滴は突
起様の凸状態を示す。
がり易く、釉滴は滑らかな凸状態を示し、拡散度が小さ
いと滴下した釉滴は外に向かって拡がり難く、釉滴は突
起様の凸状態を示す。
釉薬スリップの特性をコントロールする方法は特に重
要である。
要である。
特性のコントロール法について次に述べる。
釉薬スリップの粘性は、一般に粘性調節剤と呼ばれる
ものを用いてコントロールされる。
ものを用いてコントロールされる。
本発明で使用される釉薬は一般に陶磁器製品に用いら
れるものであればどんなものでもよい。釉薬は特定され
るものではないが、例えば比較的低温焼成用のものとし
て、フリット釉、鉛釉、硼酸釉、アルカリ釉等が使用で
き、比較的高温焼成用のものとして、アルカリ石灰釉、
石灰釉、石灰亜鉛釉、石灰バリウム釉、石灰マグネシア
釉、タルク釉、長石釉等が使用できる。
れるものであればどんなものでもよい。釉薬は特定され
るものではないが、例えば比較的低温焼成用のものとし
て、フリット釉、鉛釉、硼酸釉、アルカリ釉等が使用で
き、比較的高温焼成用のものとして、アルカリ石灰釉、
石灰釉、石灰亜鉛釉、石灰バリウム釉、石灰マグネシア
釉、タルク釉、長石釉等が使用できる。
本発明において、粘性調節剤としては釉薬業界で一般
に使用されているものでよいが、ゴム、ゼラチン、C.M.
C、PVA、アルギン酸ソーダ、ビーガム、可塑性粘土、酸
性白土、ベントナイト及びNaCl、NaCO3、NH4Cl、AlC
l3、CH3COOH、BaCl2、CaCl2等を用いることができる。
界面活性剤としては釉薬スリップの種類、性質等により
一般に知られている種々のものが使用可能であるが、高
級アルコール硫酸エステル、アルキルスルホン酸塩、ア
ルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルリン酸エステル
塩のようなアニオン系界面活性剤、脂肪族アミン塩酸
塩、脂肪族第４級アンモニウム塩、ピリジウム塩、スル
ホニウム塩、ホスホニウム塩のようなカチオン系界面活
性剤、アミノ酸型活性剤、ベタイン型活性剤、硫酸エス
テル塩型活性剤、イミダゾリン型活性剤、リン酸エステ
ル塩型活性剤のような両性界面活性剤、及びポリオキシ
エチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸
エステル、ポリオキシエチレングリコール脂肪酸エセテ
ル、ポリオキシエチレン脂肪酸アミドエーテル、多価ア
ルコール脂肪酸エステルのような非イオン系界面活性剤
を用いることができる。
に使用されているものでよいが、ゴム、ゼラチン、C.M.
C、PVA、アルギン酸ソーダ、ビーガム、可塑性粘土、酸
性白土、ベントナイト及びNaCl、NaCO3、NH4Cl、AlC
l3、CH3COOH、BaCl2、CaCl2等を用いることができる。
界面活性剤としては釉薬スリップの種類、性質等により
一般に知られている種々のものが使用可能であるが、高
級アルコール硫酸エステル、アルキルスルホン酸塩、ア
ルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルリン酸エステル
塩のようなアニオン系界面活性剤、脂肪族アミン塩酸
塩、脂肪族第４級アンモニウム塩、ピリジウム塩、スル
ホニウム塩、ホスホニウム塩のようなカチオン系界面活
性剤、アミノ酸型活性剤、ベタイン型活性剤、硫酸エス
テル塩型活性剤、イミダゾリン型活性剤、リン酸エステ
ル塩型活性剤のような両性界面活性剤、及びポリオキシ
エチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸
エステル、ポリオキシエチレングリコール脂肪酸エセテ
ル、ポリオキシエチレン脂肪酸アミドエーテル、多価ア
ルコール脂肪酸エステルのような非イオン系界面活性剤
を用いることができる。
拡散度は釉薬スリップの粘性と界面活性剤の添加量に
よってコントロールされる。本発明者は検討の結果、大
理石模様を得るのに、釉薬スリップの粘性及び界面活性
剤と拡散度（その大きさを拡散指数で表す）との間に次
の関係があることを見い出した。その関係を第３図に示
す。図中η１、η２及びη３は釉薬スリップの粘度を表
し、η１＜η２＜η３である。第３図から分かるよう
に、釉薬スリップの粘度（η）界面活性剤の添加量
（ｃ）と拡散指数（ａ）の間には ａ＝ｋ・ｆ（ｃ・η） の関係が成り立つ。ただし、ｋは界面活性剤の種類によ
って決まる定数である。
よってコントロールされる。本発明者は検討の結果、大
理石模様を得るのに、釉薬スリップの粘性及び界面活性
剤と拡散度（その大きさを拡散指数で表す）との間に次
の関係があることを見い出した。その関係を第３図に示
す。図中η１、η２及びη３は釉薬スリップの粘度を表
し、η１＜η２＜η３である。第３図から分かるよう
に、釉薬スリップの粘度（η）界面活性剤の添加量
（ｃ）と拡散指数（ａ）の間には ａ＝ｋ・ｆ（ｃ・η） の関係が成り立つ。ただし、ｋは界面活性剤の種類によ
って決まる定数である。
本発明者は、下釉の粘性と上釉の拡散指数を変化させ
て、大理石模様のでき方を調べた結果、ある限界が存在
することを見いだした。粘性と拡散指数及び模様との関
係を表１に示す。
て、大理石模様のでき方を調べた結果、ある限界が存在
することを見いだした。粘性と拡散指数及び模様との関
係を表１に示す。
上記表から分かる様に、下釉粘性は0.5〜12ポイズの
範囲が好ましく、上釉の拡散指数は５〜90が好ましい。
範囲が好ましく、上釉の拡散指数は５〜90が好ましい。
このようにして得た下釉の釉薬スリップと上釉の釉薬
スリップを順に陶磁器素地に施釉する。この際、上釉は
下釉が乾かないうちに施釉する。施釉後、通常の方法で
焼成することにより、所望の大理石模様を有する陶磁器
製品が得られる。
スリップを順に陶磁器素地に施釉する。この際、上釉は
下釉が乾かないうちに施釉する。施釉後、通常の方法で
焼成することにより、所望の大理石模様を有する陶磁器
製品が得られる。
釉薬は着色されていなくてもよいが、上釉と下釉のい
ずれか一方は着色している必要がある。また、着色して
いる場合上釉と下釉の色は必ずしも異なっている必要は
ない。また、上釉と下釉の釉薬の種類は同じでも異なっ
ていてもよい。
ずれか一方は着色している必要がある。また、着色して
いる場合上釉と下釉の色は必ずしも異なっている必要は
ない。また、上釉と下釉の釉薬の種類は同じでも異なっ
ていてもよい。
［実施例］ 以下、実施例により本発明を更に詳細に説明する。各
実施例で使用した素地の種類、釉薬の種類、下釉又は上
釉の粘度、上釉又は下釉の拡散指数を表２、表３に示し
た。
実施例で使用した素地の種類、釉薬の種類、下釉又は上
釉の粘度、上釉又は下釉の拡散指数を表２、表３に示し
た。
実施例１ 乾燥レンガ素地上へ、グレーマット釉（C.M.C.によっ
て粘性調節を行い粘度を0.5ポイズにしたもの）。を下
釉として流し掛けで施釉した。釉薬が乾燥する前に白色
光沢釉（高級アルコール系界面活性剤0.5重量％を添加
することによって拡散指数を36に調節したもの）を、ス
プレーにて滴下して上釉を施釉し、乾燥後に、1100℃、
18時間トンネルキルンにて焼成して、大理石模様の装飾
レンガを得た。
て粘性調節を行い粘度を0.5ポイズにしたもの）。を下
釉として流し掛けで施釉した。釉薬が乾燥する前に白色
光沢釉（高級アルコール系界面活性剤0.5重量％を添加
することによって拡散指数を36に調節したもの）を、ス
プレーにて滴下して上釉を施釉し、乾燥後に、1100℃、
18時間トンネルキルンにて焼成して、大理石模様の装飾
レンガを得た。
実施例２〜６ 実施例１と同様の方法で、材料及び焼成温度を表２及
び表３のように変えて、様々な色調の大理石模様の装飾
陶磁器製品を得た。
び表３のように変えて、様々な色調の大理石模様の装飾
陶磁器製品を得た。
［発明の効果］ 焼成温度等の焼成条件に影響されず、安定した大理石
模様の陶磁器製品が得られる。
模様の陶磁器製品が得られる。
特に工程上装置面の改良を必要とせず、従来の工程、
装置で施釉が可能である。
装置で施釉が可能である。
第１図は、本発明による釉薬の模様化が進んで行く状態
を模式的に示した図であり、第２図は、第１図を断面か
らみた図であり、第３図は拡散指数と界面活性剤添加量
との関係を示す図である。１……素地、 ２……下釉、 ３……上釉滴、 （ａ）……滴下直後の状態、 （ｂ）、（ｃ）……滴下した釉滴が拡散していく状態
を模式的に示した図であり、第２図は、第１図を断面か
らみた図であり、第３図は拡散指数と界面活性剤添加量
との関係を示す図である。１……素地、 ２……下釉、 ３……上釉滴、 （ａ）……滴下直後の状態、 （ｂ）、（ｃ）……滴下した釉滴が拡散していく状態
Claims (3)
- 【請求項１】陶磁器素地上に、粘性調節剤を加えた釉薬
スリップを下釉として施した後、下釉と同色又は異色
の、粘性調節剤を加えた釉薬スリップを上釉として、下
釉が乾く前に、下釉の上に施した後、焼成することから
なり、上釉と下釉のどちらか一方に界面活性剤を含むこ
とを特徴とする、大理石模様を有する陶磁器製品の製造
方法。 - 【請求項２】ゴム、ゼラチン、C.M.C.、PVA、アルギン
酸ソーダ、ビーガム、可塑性粘土、酸性白土、ベントナ
イト、及びNaCl、Na2CO3、NH4Cl、AlCl3、CH3COOH、BaC
l2、CaCl2等の粘性調節剤により、粘度が0.5〜12ポイズ
になるように調節された釉薬スリップを用いる、請求項
１に記載の方法。 - 【請求項３】界面活性剤として、高級アルコール硫酸エ
ステル、アルキルスルホン酸塩、アルキルベンゼンスル
ホン酸塩、アルキルリン酸エステル塩のようなアニオン
系界面活性剤、脂肪族アミン塩酸塩、脂肪族第４級アン
モニウム塩、ピリジウム塩、スルホニウム塩、ホスホニ
ウム塩のようなカチオン系界面活性剤、アミノ酸型活性
剤、ベタイン型活性剤、硫酸エステル塩型活性剤、イミ
ダゾリン型活性剤、リン酸エステル塩型活性剤のような
両性界面活性剤、及びポリオキシエチレンアルキルエー
テル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシ
エチレングリコール脂肪酸エステル、ポリオキシエチレ
ン脂肪酸アミドエーテル、多価アルコール脂肪酸エステ
ルのような非イオン系界面活性剤を用い、拡散指数が５
〜90である釉薬スリップを用いる、請求項１に記載の方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33449690A JP2866732B2 (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 大理石模様を有する陶磁器製品の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33449690A JP2866732B2 (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 大理石模様を有する陶磁器製品の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04202042A JPH04202042A (ja) | 1992-07-22 |
| JP2866732B2 true JP2866732B2 (ja) | 1999-03-08 |
Family
ID=18278054
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33449690A Expired - Lifetime JP2866732B2 (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 大理石模様を有する陶磁器製品の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2866732B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4542232B2 (ja) * | 2000-06-07 | 2010-09-08 | 日本化学工業株式会社 | 釉の安定化剤および釉の安定化方法 |
| CN114804821A (zh) * | 2021-01-27 | 2022-07-29 | 广东宏威陶瓷实业有限公司 | 一种仿自然石瓷砖及其制备工艺 |
-
1990
- 1990-11-30 JP JP33449690A patent/JP2866732B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04202042A (ja) | 1992-07-22 |
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