JPH0644560A - 磁気ディスクおよびその製造方法 - Google Patents
磁気ディスクおよびその製造方法Info
- Publication number
- JPH0644560A JPH0644560A JP9574192A JP9574192A JPH0644560A JP H0644560 A JPH0644560 A JP H0644560A JP 9574192 A JP9574192 A JP 9574192A JP 9574192 A JP9574192 A JP 9574192A JP H0644560 A JPH0644560 A JP H0644560A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- magnetic disk
- polishing
- tape
- arrow
- Prior art date
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- Withdrawn
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 磁気ディスク基板の表面の微細溝の交叉角を
一定にし、微細溝の交叉点を磁気ディスク基板の全面に
亘って均一に分布するように形成する。 【効果】 摺動時および浮上時の磁気ヘッドの姿勢の安
定させかつ潤滑剤の分散状態を均一にできるため、磁気
ディスクおよび磁気ヘッドの耐久性とグライドハイト特
性とを向上させることができる
一定にし、微細溝の交叉点を磁気ディスク基板の全面に
亘って均一に分布するように形成する。 【効果】 摺動時および浮上時の磁気ヘッドの姿勢の安
定させかつ潤滑剤の分散状態を均一にできるため、磁気
ディスクおよび磁気ヘッドの耐久性とグライドハイト特
性とを向上させることができる
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、コンピュータの外部記
憶装置として使用される磁気ディスク装置に用いる磁気
ディスクおよびその製造方法に関し、特に、スパッタ法
によって薄膜磁性層を形成した磁気ディスクおよびその
製造方法に関する。
憶装置として使用される磁気ディスク装置に用いる磁気
ディスクおよびその製造方法に関し、特に、スパッタ法
によって薄膜磁性層を形成した磁気ディスクおよびその
製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、コンピュータシステムにおいて
は、ファイル記憶装置としての外部記憶装置に使用され
る磁気ディスク装置の重要性が増大し、その記録密度
は、年々著しい向上が図られつつある。このような磁気
ディスク装置の記憶媒体として用いられる磁気ディスク
は、メッキ法によって薄膜磁性層を形成したいわゆるメ
ッキ薄膜媒体から、スパッタ法によって薄膜磁性層を形
成したいわゆるスパッタ薄膜媒体に移りつつある。スパ
ッタ薄膜媒体の特徴は、円板状の基板の表面の円周方向
に同心円状に形成した研磨溝（テクスチャ）を有するこ
とと、磁性層がコバルト合金系の連続膜であることと、
カーボンや酸化珪素等の保護膜を有することである。
は、ファイル記憶装置としての外部記憶装置に使用され
る磁気ディスク装置の重要性が増大し、その記録密度
は、年々著しい向上が図られつつある。このような磁気
ディスク装置の記憶媒体として用いられる磁気ディスク
は、メッキ法によって薄膜磁性層を形成したいわゆるメ
ッキ薄膜媒体から、スパッタ法によって薄膜磁性層を形
成したいわゆるスパッタ薄膜媒体に移りつつある。スパ
ッタ薄膜媒体の特徴は、円板状の基板の表面の円周方向
に同心円状に形成した研磨溝（テクスチャ）を有するこ
とと、磁性層がコバルト合金系の連続膜であることと、
カーボンや酸化珪素等の保護膜を有することである。
【０００３】基板の表面に研磨溝を設けるのは、磁性層
における磁性粒子の配向特性と、磁気ヘッドの吸着・摩
擦特性の向上のためであり、最近では、特に、後者の特
性を満足させるため、研磨溝同志が円周方向に並びなが
ら、しかも相互に交叉した形状としたものが多くなって
きている。
における磁性粒子の配向特性と、磁気ヘッドの吸着・摩
擦特性の向上のためであり、最近では、特に、後者の特
性を満足させるため、研磨溝同志が円周方向に並びなが
ら、しかも相互に交叉した形状としたものが多くなって
きている。
【０００４】その理由は、研磨溝同志が交叉した形状と
することにより、磁気ヘッドとの接触面積を減少させる
ことができるため、磁気ディスクの表面の摩擦計数の低
減が期待できるからである。また、磁気ディスクの表面
に設けてある潤滑剤は、磁気ヘッドとの接触によって部
分的に減少するが、研磨溝が交叉していると、その減少
部分の周囲から容易に移動してきて、部分的な枯渇を防
止できる。
することにより、磁気ヘッドとの接触面積を減少させる
ことができるため、磁気ディスクの表面の摩擦計数の低
減が期待できるからである。また、磁気ディスクの表面
に設けてある潤滑剤は、磁気ヘッドとの接触によって部
分的に減少するが、研磨溝が交叉していると、その減少
部分の周囲から容易に移動してきて、部分的な枯渇を防
止できる。
【０００５】図３は従来の磁気ディスクの一例を示す平
面図で、（ａ）は全体を示す図、（ｂ）はＢ部を拡大し
て示す図、図４は従来の磁気ディスクの製造方法の一例
に使用する研磨装置を示す図で、（ａ）は正面図、
（ｂ）は側面図である。
面図で、（ａ）は全体を示す図、（ｂ）はＢ部を拡大し
て示す図、図４は従来の磁気ディスクの製造方法の一例
に使用する研磨装置を示す図で、（ａ）は正面図、
（ｂ）は側面図である。
【０００６】図３および図４において、磁気ディスク基
板１１は、時計方向（矢印Ｃ方向）に５０rpm で回転し
ている。この磁気ディスク基板１に、幅４９mmの研磨テ
ープ１２を研磨ローラ１３によって加圧力２．０kgで押
圧し、研磨テープ２と研磨ローラ３を、偏心カムによっ
て３mmの振幅で平均速度７００mm/minで往復運動（矢印
Ｆ方向）させ、３０秒間研磨を行うと、微細溝１４が形
成される。微細溝１４の交叉角度は一定でなく、また交
叉点の分布状態も不均一である。
板１１は、時計方向（矢印Ｃ方向）に５０rpm で回転し
ている。この磁気ディスク基板１に、幅４９mmの研磨テ
ープ１２を研磨ローラ１３によって加圧力２．０kgで押
圧し、研磨テープ２と研磨ローラ３を、偏心カムによっ
て３mmの振幅で平均速度７００mm/minで往復運動（矢印
Ｆ方向）させ、３０秒間研磨を行うと、微細溝１４が形
成される。微細溝１４の交叉角度は一定でなく、また交
叉点の分布状態も不均一である。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上述したように、従来
の磁気ディスクは、研磨溝同志が円周方向に並びなが
ら、しかも互いに交叉した形状となっているが、交叉角
度が一定でなく、また交叉点の分布状態も不均一である
ため、潤滑剤の分散状態が不均一であり、また、摺動時
および浮上時の磁気ヘッドの姿勢の安定性にも欠けると
いう欠点を有している。。このため、磁気ディスクおよ
び磁気ヘッドのＣＳＳ耐久性およびグライドハイト特性
に対して悪影響を及ぼすという問題点を有している。
の磁気ディスクは、研磨溝同志が円周方向に並びなが
ら、しかも互いに交叉した形状となっているが、交叉角
度が一定でなく、また交叉点の分布状態も不均一である
ため、潤滑剤の分散状態が不均一であり、また、摺動時
および浮上時の磁気ヘッドの姿勢の安定性にも欠けると
いう欠点を有している。。このため、磁気ディスクおよ
び磁気ヘッドのＣＳＳ耐久性およびグライドハイト特性
に対して悪影響を及ぼすという問題点を有している。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の磁気ディスク
は、円板状の基板の表面に相互に交叉する微細溝を形成
した磁気ディスクにおいて、前記微細溝の交叉角度を一
定にし、かつ、交叉点を前記基板の表面に均一に分布さ
せたものである。
は、円板状の基板の表面に相互に交叉する微細溝を形成
した磁気ディスクにおいて、前記微細溝の交叉角度を一
定にし、かつ、交叉点を前記基板の表面に均一に分布さ
せたものである。
【０００９】また、本発明の磁気ディスクの製造方法
は、円板状の基板の表面に相互に交叉する微細溝を形成
した磁気ディスクの製造方法であって、前記基板を等速
で回転させながら前記基板の表面に幅の狭い研磨テープ
をローラによって押圧しながら前記研磨テープおよび前
記ローラを前記基板の内周側から外周側へまたは外周側
から内周側へのいずれか一方の方向にのみ一定の速度で
移動させ、前記基板の回転方向を反転させて交互に反復
して研磨することを含んでいる。
は、円板状の基板の表面に相互に交叉する微細溝を形成
した磁気ディスクの製造方法であって、前記基板を等速
で回転させながら前記基板の表面に幅の狭い研磨テープ
をローラによって押圧しながら前記研磨テープおよび前
記ローラを前記基板の内周側から外周側へまたは外周側
から内周側へのいずれか一方の方向にのみ一定の速度で
移動させ、前記基板の回転方向を反転させて交互に反復
して研磨することを含んでいる。
【００１０】
【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。
て説明する。
【００１１】図１は本発明の磁気ディスクの一実施例を
示す平面図で、（ａ）は全体を示す図、（ｂ）はＡ部を
拡大して示す図、図２は本発明の磁気ディスクの製造方
法の一実施例に使用する研磨装置を示す図で、（ａ）は
正面図、（ｂ）は側面図である。
示す平面図で、（ａ）は全体を示す図、（ｂ）はＡ部を
拡大して示す図、図２は本発明の磁気ディスクの製造方
法の一実施例に使用する研磨装置を示す図で、（ａ）は
正面図、（ｂ）は側面図である。
【００１２】図１および図２において、磁気ディスク基
板１は、時計方向（矢印Ｃ方向）に５０rpm で回転して
いる。この磁気ディスク基板１の内周部分に、幅５mmの
研磨テープ２を研磨ローラ３によって加圧力０．５kgで
押圧し、この点を起点として、研磨テープ２を研磨ロー
ラ３と共に磁気ディスク基板１の半径方向（矢印Ｄ方
向）に、磁気ディスク基板１の外周部分に向って７００
mm/minの速度で定速で移動させ、研磨テープ２が磁気デ
ィスク基板１を離れるまで研磨を行う。この工程が第一
研磨工程である。
板１は、時計方向（矢印Ｃ方向）に５０rpm で回転して
いる。この磁気ディスク基板１の内周部分に、幅５mmの
研磨テープ２を研磨ローラ３によって加圧力０．５kgで
押圧し、この点を起点として、研磨テープ２を研磨ロー
ラ３と共に磁気ディスク基板１の半径方向（矢印Ｄ方
向）に、磁気ディスク基板１の外周部分に向って７００
mm/minの速度で定速で移動させ、研磨テープ２が磁気デ
ィスク基板１を離れるまで研磨を行う。この工程が第一
研磨工程である。
【００１３】研磨テープ２が磁気ディスク基板１を離れ
ると、磁気ディスク基板１の回転を停止し、研磨テープ
２を研磨ローラ３と共に第一研磨工程の出発地点（研磨
開始地点）まで戻す。この工程においては、磁気ディス
ク基板１の研磨は行われない。
ると、磁気ディスク基板１の回転を停止し、研磨テープ
２を研磨ローラ３と共に第一研磨工程の出発地点（研磨
開始地点）まで戻す。この工程においては、磁気ディス
ク基板１の研磨は行われない。
【００１４】研磨テープ２および研磨ローラ３が第一研
磨工程の研磨開始地点まで戻ると、磁気ディスク基板１
の回転方向を反転させて反時計方向（矢印Ｅ方向）と
し、第一研磨工程と同じ条件で研磨を行う。この工程が
第二研磨工程である。
磨工程の研磨開始地点まで戻ると、磁気ディスク基板１
の回転方向を反転させて反時計方向（矢印Ｅ方向）と
し、第一研磨工程と同じ条件で研磨を行う。この工程が
第二研磨工程である。
【００１５】第一研磨工程と第二研磨工程とを交互に実
行しながら複数回反復すると、磁気ディスク基板１の表
面に微細溝４を形成することができる。この基板を洗浄
して乾燥した後、スパタリング法によってクロム膜およ
びコバルト合金膜およびカーボン膜を順次に形成し、最
後に潤滑剤を塗布することによって磁気ディスクが完成
する。上記の条件で形成した微細溝４は、２０度の角度
で交叉しており、交叉点は、磁気ディスク基板１の表面
の全面に亘って均一に分布している。
行しながら複数回反復すると、磁気ディスク基板１の表
面に微細溝４を形成することができる。この基板を洗浄
して乾燥した後、スパタリング法によってクロム膜およ
びコバルト合金膜およびカーボン膜を順次に形成し、最
後に潤滑剤を塗布することによって磁気ディスクが完成
する。上記の条件で形成した微細溝４は、２０度の角度
で交叉しており、交叉点は、磁気ディスク基板１の表面
の全面に亘って均一に分布している。
【００１６】上述の磁気ディスクと、図３の磁気ディス
ク基板１１を用いて製作した磁気ディスクとの耐久性お
よびグライドハイト特性は、次の通りである。
ク基板１１を用いて製作した磁気ディスクとの耐久性お
よびグライドハイト特性は、次の通りである。
【００１７】耐久性は、０．１mmTorrの装置内において
磁気ディスクを３６００rpm で回転させ、半径２５mmの
点において薄膜ヘッドを摺動させて表面にスクラッチ傷
ができるまでの時間を測定することによって判定する。
この結果は、従来の磁気ディスクが平均３１６秒である
のに対し、本実施例は平均５２２秒であり、約１．６倍
の耐久性を有する。
磁気ディスクを３６００rpm で回転させ、半径２５mmの
点において薄膜ヘッドを摺動させて表面にスクラッチ傷
ができるまでの時間を測定することによって判定する。
この結果は、従来の磁気ディスクが平均３１６秒である
のに対し、本実施例は平均５２２秒であり、約１．６倍
の耐久性を有する。
【００１８】グライドハイト特性は、従来の磁気ディス
クの浮上保証高さが、平均０．０７３μｍであるのに対
し、本実施例は平均０．０６８μｍであり、約７％向上
する。
クの浮上保証高さが、平均０．０７３μｍであるのに対
し、本実施例は平均０．０６８μｍであり、約７％向上
する。
【００１９】なお、従来の磁気ディスクの中心線におけ
る平均粗さの値は、６２．０オングストロムであるのに
対して、本実施例は６２．３オングストロムであり、両
者の差はない。
る平均粗さの値は、６２．０オングストロムであるのに
対して、本実施例は６２．３オングストロムであり、両
者の差はない。
【００２０】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の磁気ディ
スクおよびその製造方法は、磁気ディスク基板の表面の
微細溝の交叉角を一定にし、微細溝の交叉点を磁気ディ
スク基板の全面に亘って均一に分布するように形成する
ことにより、摺動時および浮上時の磁気ヘッドの姿勢の
安定させかつ潤滑剤の分散状態を均一にできるため、磁
気ディスクおよび磁気ヘッドの耐久性とグライドハイト
特性とを向上させることができるという効果がある。
スクおよびその製造方法は、磁気ディスク基板の表面の
微細溝の交叉角を一定にし、微細溝の交叉点を磁気ディ
スク基板の全面に亘って均一に分布するように形成する
ことにより、摺動時および浮上時の磁気ヘッドの姿勢の
安定させかつ潤滑剤の分散状態を均一にできるため、磁
気ディスクおよび磁気ヘッドの耐久性とグライドハイト
特性とを向上させることができるという効果がある。
【図１】本発明の磁気ディスクの一実施例を示す平面図
で、（ａ）は全体を示す図、（ｂ）はＡ部を拡大して示
す図である。
で、（ａ）は全体を示す図、（ｂ）はＡ部を拡大して示
す図である。
【図２】本発明の磁気ディスクの製造方法の一実施例に
使用する研磨装置を示す図で、（ａ）は正面図、（ｂ）
は側面図である。
使用する研磨装置を示す図で、（ａ）は正面図、（ｂ）
は側面図である。
【図３】従来の磁気ディスクの一例を示す平面図で、
（ａ）は全体を示す図、（ｂ）はＢ部を拡大して示す図
である。
（ａ）は全体を示す図、（ｂ）はＢ部を拡大して示す図
である。
【図４】従来の磁気ディスクの製造方法の一例に使用す
る研磨装置を示す図で、（ａ）は正面図、（ｂ）は側面
図である。
る研磨装置を示す図で、（ａ）は正面図、（ｂ）は側面
図である。
１・１１ 磁気ディスク基板 ２・１２ 研磨テープ ３・１３ 研磨ローラ ４・１４ 微細溝
Claims (2)
- 【請求項１】 円板状の基板の表面に相互に交叉する微
細溝を形成した磁気ディスクにおいて、前記微細溝の交
叉角度を一定にし、かつ、交叉点を前記基板の表面に均
一に分布させたことを特徴とする磁気ディスク。 - 【請求項２】 円板状の基板の表面に相互に交叉する微
細溝を形成した磁気ディスクの製造方法であって、前記
基板を等速で回転させながら前記基板の表面に幅の狭い
研磨テープをローラによって押圧しながら前記研磨テー
プおよび前記ローラを前記基板の内周側から外周側へま
たは外周側から内周側へのいずれか一方の方向にのみ一
定の速度で移動させ、前記基板の回転方向を反転させて
交互に反復して研磨することを含むことを特徴とする磁
気ディスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9574192A JPH0644560A (ja) | 1992-04-16 | 1992-04-16 | 磁気ディスクおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9574192A JPH0644560A (ja) | 1992-04-16 | 1992-04-16 | 磁気ディスクおよびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0644560A true JPH0644560A (ja) | 1994-02-18 |
Family
ID=14145919
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9574192A Withdrawn JPH0644560A (ja) | 1992-04-16 | 1992-04-16 | 磁気ディスクおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0644560A (ja) |
-
1992
- 1992-04-16 JP JP9574192A patent/JPH0644560A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990706 |