JPH04113515A - 磁気ディスク - Google Patents
磁気ディスクInfo
- Publication number
- JPH04113515A JPH04113515A JP23069990A JP23069990A JPH04113515A JP H04113515 A JPH04113515 A JP H04113515A JP 23069990 A JP23069990 A JP 23069990A JP 23069990 A JP23069990 A JP 23069990A JP H04113515 A JPH04113515 A JP H04113515A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- disk
- head
- magnetic
- floating
- recessed parts
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 16
- 230000007423 decrease Effects 0.000 abstract description 3
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 3
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
【産業上の利用分野〕
本発明はコンピュータの外部記憶装置として用いられて
いる磁気ディスク装置用の磁気ディスクに係り、特に高
記録密度化に適した表面形状に関する。
いる磁気ディスク装置用の磁気ディスクに係り、特に高
記録密度化に適した表面形状に関する。
従来から高記録密度用の磁気記録媒体として、スパッタ
リング法、メツキ法で金属磁性膜を形成した、いわゆる
薄膜磁気ディスクが知られている。
リング法、メツキ法で金属磁性膜を形成した、いわゆる
薄膜磁気ディスクが知られている。
これらの磁気ディスクは一般に、Ｎ１−Ｐメツキを施し
たアルミ合金基板上に、テクスチャ加工と呼ばれる研磨
テープ等による円周方向への面荒し加工が行われ、この
上にＣｒ中間膜、Ｃｏ系磁性膜。
たアルミ合金基板上に、テクスチャ加工と呼ばれる研磨
テープ等による円周方向への面荒し加工が行われ、この
上にＣｒ中間膜、Ｃｏ系磁性膜。
Ｃ，５ｉ０２等の保護膜をスパッタ、あるいはメツキし
て形成される。
て形成される。
前記テクスチャ加工の主な目的は、ディスク表面を粗く
して、ディスク装置停止時のヘッドとディスクの接触面
積を低減し、吸着現象を防ぐことにある。また最近では
、従来のテクスチャ加工では砥粒を用いて機械的にディ
スク表面に傷を付ける為、傷の大きさや分布等の調整が
きわめて難しいとのことから、特開平１−１９１３２２
に示されているような、リソグラフィ技術等による高精
度な溝を形成する方法も提案されはじめている。
して、ディスク装置停止時のヘッドとディスクの接触面
積を低減し、吸着現象を防ぐことにある。また最近では
、従来のテクスチャ加工では砥粒を用いて機械的にディ
スク表面に傷を付ける為、傷の大きさや分布等の調整が
きわめて難しいとのことから、特開平１−１９１３２２
に示されているような、リソグラフィ技術等による高精
度な溝を形成する方法も提案されはじめている。
磁気ディスク装置の高記録密度化に対しては、磁気ヘッ
ドの低浮上化が必須となってくる。＠在のヘッドは、デ
ィスク回転に伴って発生する気流によってヘッド浮上ス
ライダ面が気体軸受の原理で一定浮上量を維持する方式
（いわゆるコンタクト・スタートストップ方式）を採っ
ている為、ディスク周速の影響が大きく、ディスク内外
周で浮上量に大きな差が生じてしまう。例えば、５イン
チディスク装置の内周（Ｒ＝ ３０ｍｍ）で浮上量が０
．２μｍとすると外周（Ｒ６０ａ＋ｍ）での浮上量は約
０．３μｍと大幅に上昇してしまい、今後さらに高密度
化、低浮上化を達成していく上で大きな障害となる。
ドの低浮上化が必須となってくる。＠在のヘッドは、デ
ィスク回転に伴って発生する気流によってヘッド浮上ス
ライダ面が気体軸受の原理で一定浮上量を維持する方式
（いわゆるコンタクト・スタートストップ方式）を採っ
ている為、ディスク周速の影響が大きく、ディスク内外
周で浮上量に大きな差が生じてしまう。例えば、５イン
チディスク装置の内周（Ｒ＝ ３０ｍｍ）で浮上量が０
．２μｍとすると外周（Ｒ６０ａ＋ｍ）での浮上量は約
０．３μｍと大幅に上昇してしまい、今後さらに高密度
化、低浮上化を達成していく上で大きな障害となる。
本発明の目的は、磁気ディスク内外周でのヘッド浮上量
差を低減し、低浮上可能で高密度化に適した磁気ディス
クを提供することを目的とする。
差を低減し、低浮上可能で高密度化に適した磁気ディス
クを提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、磁気ディスクの表面形状を
、凸部と、凹部より構成し凹部の面積の割合が、内周か
ら外周になるほど大きくしたものである。また、凹部の
深さを内周から外周になるほど深くすることでも同様の
目的を達成できる。
、凸部と、凹部より構成し凹部の面積の割合が、内周か
ら外周になるほど大きくしたものである。また、凹部の
深さを内周から外周になるほど深くすることでも同様の
目的を達成できる。
さらに上記凹部面積の増加と深さの増加を組合せること
も可能である。
も可能である。
また凹部及び凸部は例えば同心円状に形成されていても
良いし、あるいは、個々に独立した形状にパターン化さ
れていても良い。
良いし、あるいは、個々に独立した形状にパターン化さ
れていても良い。
磁気ヘッドは前述の様に、ディスク回転に伴い、ヘッド
浮上スライダ面が気体軸受の原理で浮上するため、ディ
スク表面の形状・粗さの影響を大きく受ける。ディスク
表面の凹部弁の占める割合や、凹部深さが大きくなると
、磁気ヘッドの浮上スライダ面での圧力が低下し、ヘッ
ド浮上量は下がってくる。そこで、均一な表彰形状・粗
さを有するディスク表面であれば、ヘッド浮上量は周速
の影響で、ディスク内周から外周へいくほど高くなるが
、ディスク表面の凹部の割合や深さを外周になるほど増
加することにより、ヘッド浮上量の上昇つまりヘッド浮
上量の内外周差を小さくすることが可能となる。
浮上スライダ面が気体軸受の原理で浮上するため、ディ
スク表面の形状・粗さの影響を大きく受ける。ディスク
表面の凹部弁の占める割合や、凹部深さが大きくなると
、磁気ヘッドの浮上スライダ面での圧力が低下し、ヘッ
ド浮上量は下がってくる。そこで、均一な表彰形状・粗
さを有するディスク表面であれば、ヘッド浮上量は周速
の影響で、ディスク内周から外周へいくほど高くなるが
、ディスク表面の凹部の割合や深さを外周になるほど増
加することにより、ヘッド浮上量の上昇つまりヘッド浮
上量の内外周差を小さくすることが可能となる。
以下、本発明の実施例を図により説明する。第１図は本
発明による磁気ディスクの一実施例を断面模式図で示し
たものである。第１図において基板１はアルミニウム合
金サブストレートの表面にＮ１−Ｐ膜を１５μ閣程度無
電解メツキ法により形成したものである。もしくはアル
ミニウム合金サブストレート表面をアルマイト処理した
ものあるいは、セラミック、ガラス等の非金属材料でも
良い。
発明による磁気ディスクの一実施例を断面模式図で示し
たものである。第１図において基板１はアルミニウム合
金サブストレートの表面にＮ１−Ｐ膜を１５μ閣程度無
電解メツキ法により形成したものである。もしくはアル
ミニウム合金サブストレート表面をアルマイト処理した
ものあるいは、セラミック、ガラス等の非金属材料でも
良い。
この基板１をポリッシングによりＲａ（平均粗さ）２ｎ
ｍ程度の表面粗さに仕上げる。しかる後、この基板を回
転させ、クロステープに砥粒を供給しながら所定の圧力
で基板に押し付は基板表面に凹凸をつける。この時、基
板回転数、押付圧力、砥粒径、加工時間を変えることに
より、種々の形状の表面を得ることができる。第１図に
示すような、ディスク外周はど溝のピッチを小さく、つ
まり、凹部の専有面積が大きな形状を得るには、内周か
ら外周の加工に移るにつれて、ディスク回転数（周速）
を落とし、テープヘッド送り速度を遅くすれば良い。こ
の基板１の上に、ＤＣスパッタリング法により、基板温
度１５０℃、アルゴン圧力１０ｍＴｏｒｒＤＣ投入電力
５ Ｗ／ｆｆｌでＣｒ下地膜２を２００ｎｍの厚さに形
成した。さらに同条件でＧｏ６□７Ｎｉｏ。
ｍ程度の表面粗さに仕上げる。しかる後、この基板を回
転させ、クロステープに砥粒を供給しながら所定の圧力
で基板に押し付は基板表面に凹凸をつける。この時、基
板回転数、押付圧力、砥粒径、加工時間を変えることに
より、種々の形状の表面を得ることができる。第１図に
示すような、ディスク外周はど溝のピッチを小さく、つ
まり、凹部の専有面積が大きな形状を得るには、内周か
ら外周の加工に移るにつれて、ディスク回転数（周速）
を落とし、テープヘッド送り速度を遅くすれば良い。こ
の基板１の上に、ＤＣスパッタリング法により、基板温
度１５０℃、アルゴン圧力１０ｍＴｏｒｒＤＣ投入電力
５ Ｗ／ｆｆｌでＣｒ下地膜２を２００ｎｍの厚さに形
成した。さらに同条件でＧｏ６□７Ｎｉｏ。
の合金ターゲットを用いて厚さ４０ｎｍの磁性膜を形成
し、その上に同条件で、カーボン保護膜４（厚さ４０ｎ
＋ｍ）を形成した。この段階でカーボン保護膜の表面形
状は、各膜厚がナノメータオーダであるため、基板１の
表面形状をほぼ正確に再現している。本実施例では、表
面の凹凸を基板表面で形成したが、第２図に示すように
、保護膜４表面に直接形成しても同様な効果を得られる
。
し、その上に同条件で、カーボン保護膜４（厚さ４０ｎ
＋ｍ）を形成した。この段階でカーボン保護膜の表面形
状は、各膜厚がナノメータオーダであるため、基板１の
表面形状をほぼ正確に再現している。本実施例では、表
面の凹凸を基板表面で形成したが、第２図に示すように
、保護膜４表面に直接形成しても同様な効果を得られる
。
第３図、第４図に本発明の別の実施例を示す。
第３図においては、第１図と同様に基板１上凹凸を設け
るが、前述の加工条件を変えてディスクの内周から外周
になるほど溝深さを大きくなるような形状にしたもので
ある。第４図は保護膜表面に第３図同様な溝を設けたも
のである。
るが、前述の加工条件を変えてディスクの内周から外周
になるほど溝深さを大きくなるような形状にしたもので
ある。第４図は保護膜表面に第３図同様な溝を設けたも
のである。
なお、上記４つの実施例では示してないが、保護膜表面
に、耐摩耗性改善の為に潤滑剤を塗布することも有効で
ある。
に、耐摩耗性改善の為に潤滑剤を塗布することも有効で
ある。
また表面の凹凸の形成方法として、本実施例の方法以外
に、フォトレジストに目的とする凹凸の形状をパターン
ニングした後エツチングして形成するリングラフィ技術
等を用いても良い。第５図。
に、フォトレジストに目的とする凹凸の形状をパターン
ニングした後エツチングして形成するリングラフィ技術
等を用いても良い。第５図。
第６図は凹凸を同心円状にパターンニングしたディスク
の断面模式図である。また、凹凸のパターンは連続であ
る必要はなく、孤立していても良い。
の断面模式図である。また、凹凸のパターンは連続であ
る必要はなく、孤立していても良い。
第７図、第８図に各種の溝専有面積、溝深さで試作した
ディスクの浮上量低下率の関係を示す。
ディスクの浮上量低下率の関係を示す。
これらの結果より、ディスクの内周より外周の溝専有面
積、溝深さを大きくすることで、ディスク外周でのヘッ
ド浮上量の増加を低減することができる。
積、溝深さを大きくすることで、ディスク外周でのヘッ
ド浮上量の増加を低減することができる。
本発明によれば、ディスク外周での磁気ヘッドの浮上量
の増加を抑制して、浮上量の内外周差を低減することが
できるので、ヘッド低浮上による高密度の記録可能な磁
気ディスクを得ることができる。
の増加を抑制して、浮上量の内外周差を低減することが
できるので、ヘッド低浮上による高密度の記録可能な磁
気ディスクを得ることができる。
第１図〜第６図は本発明の実施例の磁気ディスクの断面
模式図、第７図、第８図はヘッド浮上量低下率に対する
溝比率、溝深さ比率の関係図である。 １・・・基板、 ２・・・下地膜、３・・・
磁性膜、 ４・・・保護膜。
模式図、第７図、第８図はヘッド浮上量低下率に対する
溝比率、溝深さ比率の関係図である。 １・・・基板、 ２・・・下地膜、３・・・
磁性膜、 ４・・・保護膜。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、非磁性基板上に磁性膜を有する磁気ディスクにおい
て、その表面が、凸部と、凹部より成っており、磁気デ
ィスクの内周から外周になるほど前記凹部の専有面積が
大きくなる構成としたことを特徴とする磁気ディスク。 ２、磁気ディスクの内周から外周になるほど前記凹部が
深くなる構成としたことを特徴とする請求項１記載の磁
気ディスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23069990A JPH04113515A (ja) | 1990-09-03 | 1990-09-03 | 磁気ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23069990A JPH04113515A (ja) | 1990-09-03 | 1990-09-03 | 磁気ディスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04113515A true JPH04113515A (ja) | 1992-04-15 |
Family
ID=16911933
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23069990A Pending JPH04113515A (ja) | 1990-09-03 | 1990-09-03 | 磁気ディスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04113515A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH064859A (ja) * | 1992-06-19 | 1994-01-14 | Hitachi Ltd | 磁気ディスク装置及び磁気ディスク |
| US7662264B2 (en) | 2005-04-19 | 2010-02-16 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method for producing magnetic recording medium |
| US7826176B2 (en) | 2006-03-30 | 2010-11-02 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetic recording medium with thicker protective film in edge areas and magnetic recording apparatus using the medium |
| US7898768B2 (en) | 2006-03-16 | 2011-03-01 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Patterned medium with magnetic pattern depth relationship |
-
1990
- 1990-09-03 JP JP23069990A patent/JPH04113515A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH064859A (ja) * | 1992-06-19 | 1994-01-14 | Hitachi Ltd | 磁気ディスク装置及び磁気ディスク |
| US7662264B2 (en) | 2005-04-19 | 2010-02-16 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method for producing magnetic recording medium |
| US7898768B2 (en) | 2006-03-16 | 2011-03-01 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Patterned medium with magnetic pattern depth relationship |
| US8257560B2 (en) | 2006-03-16 | 2012-09-04 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Patterned media and method of manufacturing the same, and magnetic recording apparatus |
| US7826176B2 (en) | 2006-03-30 | 2010-11-02 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetic recording medium with thicker protective film in edge areas and magnetic recording apparatus using the medium |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5635037A (en) | Method of texture by in-situ masking and etching for thin film magnetic recording medium | |
| JPS63249933A (ja) | 磁気デイスク媒体 | |
| US6706238B2 (en) | Magnetic recording medium substrate, method of producing the same, and method of evaluating magnetic recording medium | |
| JPH04113515A (ja) | 磁気ディスク | |
| US5223304A (en) | Process for fabricating magnetic disks | |
| JPH077508B2 (ja) | 磁気ディスクの製造方法 | |
| US20020008078A1 (en) | Method of making substrate with micro-protrusions or micro-cavities | |
| US5225955A (en) | Disk-shaped magnetic recording medium having novel textured surface | |
| JPH03252922A (ja) | 磁気デイスク装置と磁気記録媒体および磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH03127327A (ja) | 磁気デイスクとその製造法及び磁気デイスク装置 | |
| JP2681299B2 (ja) | 記録媒体用基板のテクスチャー加工装置 | |
| JP2819214B2 (ja) | ディスクおよびその製造方法 | |
| JP2970466B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH09326115A (ja) | 磁気デイスク装置及び磁気ディスクの製造方法 | |
| JP3051851B2 (ja) | 磁気ディスク用基板 | |
| JP2764829B2 (ja) | 磁気デイスク | |
| KR20010040843A (ko) | 패턴화된 기판을 가진 자기 기록 매체 | |
| JP2681300B2 (ja) | 磁気記録媒体用基板のテクスチャー加工方法 | |
| JPH1040539A (ja) | 磁気記録媒体及びその表面加工方法 | |
| JPH04349218A (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
| JPH0554360A (ja) | 磁気記録媒体用基板、磁気記録媒体およびその基板の製造方法 | |
| JPH08235580A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH06274867A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH076360A (ja) | 磁気記録媒体及び製造方法 | |
| JPH02246018A (ja) | 磁気ディスク |