JP3041960B2 - 磁気記録ディスクの製造方法 - Google Patents
磁気記録ディスクの製造方法Info
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- JP3041960B2 JP3041960B2 JP02401090A JP40109090A JP3041960B2 JP 3041960 B2 JP3041960 B2 JP 3041960B2 JP 02401090 A JP02401090 A JP 02401090A JP 40109090 A JP40109090 A JP 40109090A JP 3041960 B2 JP3041960 B2 JP 3041960B2
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- recording disk
- disk
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録ディスクの表
面保護膜を研磨する最終研磨工程に関し、特に、高記録
密度の磁気記録ディスクの製造に好適な研磨条件に関す
る。
面保護膜を研磨する最終研磨工程に関し、特に、高記録
密度の磁気記録ディスクの製造に好適な研磨条件に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、磁気記録ディスクは、一般にアル
ミニウム合金等からなる非磁性基板の表面にＮｉ−Ｐの
無電界メッキを施し、このメッキ表面を所定の表面粗さ
となるように研磨処理した後、その表面上に下地層、Ｃ
ｏ合金等の磁性層、及びカーボン、酸化シリコン等の表
面保護膜をスパッタ法、スピンコート法等によって形成
するようにしている。
ミニウム合金等からなる非磁性基板の表面にＮｉ−Ｐの
無電界メッキを施し、このメッキ表面を所定の表面粗さ
となるように研磨処理した後、その表面上に下地層、Ｃ
ｏ合金等の磁性層、及びカーボン、酸化シリコン等の表
面保護膜をスパッタ法、スピンコート法等によって形成
するようにしている。
【０００３】この場合、出来上がった磁気記録ディスク
には、Ｎｉ−Ｐのメッキ表面に形成した所定の表面粗さ
を反映してその表面保護膜上に一定の凹凸が形成され
る。この凹凸は、磁気記録ディスクの磁気性能及び磁気
ヘッドの滑走性能を所定の特性に維持するために必要な
ものであるが、これを一定の表面粗さに形成し、磁気記
録ディスクの特性を揃えるために、従来、磁気記録ディ
スクの表面保護膜をＦＴＰ（ファイナル・テープ・ポリ
ッシング）装置を用いて研磨することが行われていた。
には、Ｎｉ−Ｐのメッキ表面に形成した所定の表面粗さ
を反映してその表面保護膜上に一定の凹凸が形成され
る。この凹凸は、磁気記録ディスクの磁気性能及び磁気
ヘッドの滑走性能を所定の特性に維持するために必要な
ものであるが、これを一定の表面粗さに形成し、磁気記
録ディスクの特性を揃えるために、従来、磁気記録ディ
スクの表面保護膜をＦＴＰ（ファイナル・テープ・ポリ
ッシング）装置を用いて研磨することが行われていた。
【０００４】この研磨方法は、図１（ａ）に示すよう
に、磁気記録ディスク１を所定の回転数で図中の矢印Ａ
の方向に回転させ、この状態で、研磨砥粒の固着された
研磨テープ２を図中の矢印Ｂの方向に少しずつ送りなが
ら、研磨テープ２をガス供給部３から噴出される圧縮空
気又はＮ2 ガスによって磁気記録ディスク１の表面に押
し付けて研磨するものである。ここで、図１（ｂ）に示
すように、ガス供給部３の吹き出し口３ａはスリット状
になっており、噴出ガスの圧力によって、研磨テープ２
が磁気記録ディスク１の表面上にその送り方向に対して
垂直な線状の接触部を形成するようになっている。
に、磁気記録ディスク１を所定の回転数で図中の矢印Ａ
の方向に回転させ、この状態で、研磨砥粒の固着された
研磨テープ２を図中の矢印Ｂの方向に少しずつ送りなが
ら、研磨テープ２をガス供給部３から噴出される圧縮空
気又はＮ2 ガスによって磁気記録ディスク１の表面に押
し付けて研磨するものである。ここで、図１（ｂ）に示
すように、ガス供給部３の吹き出し口３ａはスリット状
になっており、噴出ガスの圧力によって、研磨テープ２
が磁気記録ディスク１の表面上にその送り方向に対して
垂直な線状の接触部を形成するようになっている。
【０００５】この装置を用いて、従来は、例えば、図３
に示すように、磁気記録ディスク１の外縁部上に研磨テ
ープ２を配置した状態でガス供給を開始することによっ
て研磨テープ２を磁気記録ディスク１の表面上に接触
（以下、ロードという。）させて研磨を開始するととも
に、研磨テープ２の位置を磁気記録ディスク１の内縁部
に向けて一定速度で移動（シーク）させる。このとき、
研磨テープ２の径方向の移動に従って磁気記録ディスク
１の全面に亘りほぼ均一に研磨するために、研磨テープ
２の接触する部分の周速度が常に一定となるように研磨
位置に依ってディスクの回転数を変化させる。研磨テー
プ２が移動して内縁部に到達すると、その位置で一定時
間ｔs の間研磨テープ２の移動を停止し、この停止時間
ｔs の経過後、再び外縁部に向かって移動させる。最後
に、外縁部において所定の停止時間ｔs ′の間研磨テー
プ２を固定状態にして研磨し、停止時間ｔs ′の経過
後、ガス供給を停止することによって研磨テープ２を浮
上させて研磨テープ２と磁気記録ディスクの表面とを離
反（以下、アンロードという。）させて研磨を終了す
る。
に示すように、磁気記録ディスク１の外縁部上に研磨テ
ープ２を配置した状態でガス供給を開始することによっ
て研磨テープ２を磁気記録ディスク１の表面上に接触
（以下、ロードという。）させて研磨を開始するととも
に、研磨テープ２の位置を磁気記録ディスク１の内縁部
に向けて一定速度で移動（シーク）させる。このとき、
研磨テープ２の径方向の移動に従って磁気記録ディスク
１の全面に亘りほぼ均一に研磨するために、研磨テープ
２の接触する部分の周速度が常に一定となるように研磨
位置に依ってディスクの回転数を変化させる。研磨テー
プ２が移動して内縁部に到達すると、その位置で一定時
間ｔs の間研磨テープ２の移動を停止し、この停止時間
ｔs の経過後、再び外縁部に向かって移動させる。最後
に、外縁部において所定の停止時間ｔs ′の間研磨テー
プ２を固定状態にして研磨し、停止時間ｔs ′の経過
後、ガス供給を停止することによって研磨テープ２を浮
上させて研磨テープ２と磁気記録ディスクの表面とを離
反（以下、アンロードという。）させて研磨を終了す
る。
【０００６】
【発明が解決しようとする手段】近年、磁気記憶ディス
ク１の高記録密度を達成するために磁気ヘッドの低浮上
量（磁気ヘッドと磁気記録ディスク１との間の滑走間
隔）化が要求されているが、この低浮上量化を図るに
は、磁気ヘッドと磁気記録ディスク１との焼きつき岩礁
やヘッドクラッシュを防止するため、従来よりも確実に
浮上量以上の高さを有する磁気記憶ディスク１上の微小
突起を除去する必要がある。
ク１の高記録密度を達成するために磁気ヘッドの低浮上
量（磁気ヘッドと磁気記録ディスク１との間の滑走間
隔）化が要求されているが、この低浮上量化を図るに
は、磁気ヘッドと磁気記録ディスク１との焼きつき岩礁
やヘッドクラッシュを防止するため、従来よりも確実に
浮上量以上の高さを有する磁気記憶ディスク１上の微小
突起を除去する必要がある。
【０００７】しかしながら、上記の研磨方法にあって
は、研磨後の磁気記録ディスク１の表面のうち、その内
縁部及び外縁部において、表面上の微小突起の除去が困
難であるという問題点がある。これは、磁性層形成前の
Ｎｉ−Ｐメッキ表面のテクスチャー工程において径方向
に表面粗さの分布が発生することから、該テクスチャー
の上にスパッタ形成される磁性層や表面保護膜上にその
分布が増幅され、特に、ディスク内縁部では不必要な高
さを備えた微小突起が数多く形成される一方、外縁部で
は表面の面垂れや対面側の研磨テープとの相互干渉によ
る研磨不良が発生するためである。この問題を解決する
ために只単に研磨サイクル数を増加すると、磁気記録デ
ィスク１の表面を却って荒らすこととなる。
は、研磨後の磁気記録ディスク１の表面のうち、その内
縁部及び外縁部において、表面上の微小突起の除去が困
難であるという問題点がある。これは、磁性層形成前の
Ｎｉ−Ｐメッキ表面のテクスチャー工程において径方向
に表面粗さの分布が発生することから、該テクスチャー
の上にスパッタ形成される磁性層や表面保護膜上にその
分布が増幅され、特に、ディスク内縁部では不必要な高
さを備えた微小突起が数多く形成される一方、外縁部で
は表面の面垂れや対面側の研磨テープとの相互干渉によ
る研磨不良が発生するためである。この問題を解決する
ために只単に研磨サイクル数を増加すると、磁気記録デ
ィスク１の表面を却って荒らすこととなる。
【０００８】そこで、本発明はこの問題点を解決するた
めに、最終研磨工程の研磨テープ２の移動サイクル、即
ち、図１（ａ）の矢印Ｃの方向への移動方法の最適構成
及びその構成時間の最適設定値を見出すことによって、
ディスク内縁部及び外縁部の微小突起を効率良く除去
し、ディスク全表面に対する均一な処理を可能とし、磁
気ヘッドの低浮遊量化に対応した高品質かつ均質な磁気
記録ディスクを提供することにある。
めに、最終研磨工程の研磨テープ２の移動サイクル、即
ち、図１（ａ）の矢印Ｃの方向への移動方法の最適構成
及びその構成時間の最適設定値を見出すことによって、
ディスク内縁部及び外縁部の微小突起を効率良く除去
し、ディスク全表面に対する均一な処理を可能とし、磁
気ヘッドの低浮遊量化に対応した高品質かつ均質な磁気
記録ディスクを提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
めに、回転する磁気記録ディスクの表面保護層上に接触
する研磨部材を磁気記録ディスクの動径方向に移動させ
ながら表面保護層の表面状態を調整するための研磨工程
を有する磁気記録ディスクの製造方法において、本発明
が講じた第１の手段は、研磨部材を磁気ディスクの内縁
部に接触させて所定時間固定する段階と、この内縁部か
ら磁気記録ディスクの外縁部に向けて研磨部材を移動さ
せながら研磨する段階と、その研磨部材を上記外縁部に
接触させた状態で上記磁気ディスクの動径方向外側に移
動させることにより当該磁気ディスクから離脱させる段
階とを有することを特徴とする。ここに、研磨部材を粒
径平均が１μｍの砥粒が固着された研磨テープとする場
合があり、この場合には、磁気記録ディスクの周速５０
ｍ／ｍｉｎ、研磨テープの移動速度５００ｃｍ／ｍｉ
ｎ、研磨テープの送り速度１０ｍｍ／ｍｉｎの研磨条件
で、研磨テープの接触、移動及び離脱までのサイクルを
３回繰り返すことが望ましい。
めに、回転する磁気記録ディスクの表面保護層上に接触
する研磨部材を磁気記録ディスクの動径方向に移動させ
ながら表面保護層の表面状態を調整するための研磨工程
を有する磁気記録ディスクの製造方法において、本発明
が講じた第１の手段は、研磨部材を磁気ディスクの内縁
部に接触させて所定時間固定する段階と、この内縁部か
ら磁気記録ディスクの外縁部に向けて研磨部材を移動さ
せながら研磨する段階と、その研磨部材を上記外縁部に
接触させた状態で上記磁気ディスクの動径方向外側に移
動させることにより当該磁気ディスクから離脱させる段
階とを有することを特徴とする。ここに、研磨部材を粒
径平均が１μｍの砥粒が固着された研磨テープとする場
合があり、この場合には、磁気記録ディスクの周速５０
ｍ／ｍｉｎ、研磨テープの移動速度５００ｃｍ／ｍｉ
ｎ、研磨テープの送り速度１０ｍｍ／ｍｉｎの研磨条件
で、研磨テープの接触、移動及び離脱までのサイクルを
３回繰り返すことが望ましい。
【００１０】また、第２の手段は、研磨部材が磁気記録
ディスクの内縁部及び外縁部に接触する時間を内縁部と
外縁部との間の位置に接触する時間よりも長く設定して
おり、上記研磨工程は、上記研磨部材を上記外縁部に接
触させて上記内縁部に向けて移動させる段階と、上記研
磨部材を上記内縁部で所定時間固定する段階と、上記研
磨部材を上記内縁部から上記外縁部に向けて移動させる
段階と、上記研磨部材を上記外縁部で所定時間固定させ
た後錠記研磨部材を前記磁気記録ディスクから離脱させ
る段階とを有することを特徴とする。この場合、研磨部
材を粒径平均が０．５〜２．０μｍの範囲内の砥粒が固
着された研磨テープとすることが望ましく、磁気ディス
クの周速１２０ｍ／ｍｉｎ、研磨テープの移動速度５０
０ｃｍ／ｍｉｎ、研磨テープの送り速度２０ｍｍ／ｍｉ
ｎの研磨条件で、所定時間を２秒とすることが好まし
い。
ディスクの内縁部及び外縁部に接触する時間を内縁部と
外縁部との間の位置に接触する時間よりも長く設定して
おり、上記研磨工程は、上記研磨部材を上記外縁部に接
触させて上記内縁部に向けて移動させる段階と、上記研
磨部材を上記内縁部で所定時間固定する段階と、上記研
磨部材を上記内縁部から上記外縁部に向けて移動させる
段階と、上記研磨部材を上記外縁部で所定時間固定させ
た後錠記研磨部材を前記磁気記録ディスクから離脱させ
る段階とを有することを特徴とする。この場合、研磨部
材を粒径平均が０．５〜２．０μｍの範囲内の砥粒が固
着された研磨テープとすることが望ましく、磁気ディス
クの周速１２０ｍ／ｍｉｎ、研磨テープの移動速度５０
０ｃｍ／ｍｉｎ、研磨テープの送り速度２０ｍｍ／ｍｉ
ｎの研磨条件で、所定時間を２秒とすることが好まし
い。
【００１１】
【作用】まず、第１の手段によれば、磁気記録ディスク
の内縁部において所定時間研磨部材を固定することによ
り、この位置での研磨時間を増加させ、表面上の微小突
起の除去率を向上させるとともに、磁気記録ディスクの
外縁部でアンロードさせるのではなく、研磨部材を外縁
部に接触させた状態で磁気ディスクの動径方向外側に移
動させることにより当該磁気ディスクから離脱させるも
のであるから、ディスク外縁部の面垂れの影響を最小限
に抑えて微小突起を除去することができる。
の内縁部において所定時間研磨部材を固定することによ
り、この位置での研磨時間を増加させ、表面上の微小突
起の除去率を向上させるとともに、磁気記録ディスクの
外縁部でアンロードさせるのではなく、研磨部材を外縁
部に接触させた状態で磁気ディスクの動径方向外側に移
動させることにより当該磁気ディスクから離脱させるも
のであるから、ディスク外縁部の面垂れの影響を最小限
に抑えて微小突起を除去することができる。
【００１２】また、第２の手段によれば、ディスク内縁
部及び外縁部における研磨時間が他の表面部分の研磨時
間よりも長くなるので、内縁部に集中して形成される微
小突起と外縁部の除去困難な微小突起とを除去しつつ他
の表面部分の荒れを抑えることができる。
部及び外縁部における研磨時間が他の表面部分の研磨時
間よりも長くなるので、内縁部に集中して形成される微
小突起と外縁部の除去困難な微小突起とを除去しつつ他
の表面部分の荒れを抑えることができる。
【００１３】
【実施例】以下に、本発明の磁気記録ディスクの製造方
法の実施例を説明する。
法の実施例を説明する。
【００１４】（第１実施例） 前記図１に示したＦＴＰ装置に平均粒径１μｍのＡｌ2
Ｏ3 砥粒を固着した研磨テープ２を用いて３．５インチ
の磁気記録ディスク１の表面保護膜（スパッタ法により
形成したアモルファスカーボン膜）を研磨した。この時
の研磨条件を表１に示す。
Ｏ3 砥粒を固着した研磨テープ２を用いて３．５インチ
の磁気記録ディスク１の表面保護膜（スパッタ法により
形成したアモルファスカーボン膜）を研磨した。この時
の研磨条件を表１に示す。
【００１５】
【表１】
【００１６】ここで、ディスクの周速とは磁気記録ディ
スク１の表面上における研磨テープ２が接触する部分の
回転速度をいい、移動速度とは研磨テープ２が磁気記録
ディスク１の径方向に移動する速度をいう。また、送り
速度とは研磨テープ２をその延長方向に動かす速度を指
すものであって、これによって、常時研磨テープ２の新
しい面が磁気記録ディスク１の表面と接触し研磨効率が
一定に維持されるようになっている。圧縮空気圧は、研
磨テープ２を一定の圧力でディスク表面に押圧するため
のものであり、その値を流出率で示している。
スク１の表面上における研磨テープ２が接触する部分の
回転速度をいい、移動速度とは研磨テープ２が磁気記録
ディスク１の径方向に移動する速度をいう。また、送り
速度とは研磨テープ２をその延長方向に動かす速度を指
すものであって、これによって、常時研磨テープ２の新
しい面が磁気記録ディスク１の表面と接触し研磨効率が
一定に維持されるようになっている。圧縮空気圧は、研
磨テープ２を一定の圧力でディスク表面に押圧するため
のものであり、その値を流出率で示している。
【００１７】上記表１の条件で、研磨テープ２を磁気記
録ディスク１の動径方向に移動させる方法（以下、シー
ク方法という。）を以下の表２に示すように、４種設定
してそれぞれ実験を行った。
録ディスク１の動径方向に移動させる方法（以下、シー
ク方法という。）を以下の表２に示すように、４種設定
してそれぞれ実験を行った。
【００１８】
【表２】
【００１９】ここで、条件１は、研磨テープ２をディス
クの内縁部（３．５インチディスク上における半径２０
〜２８ｍｍの部分）にロードし外縁部（同半径３６〜４
４ｍｍの部分）に向かってシークして、外縁部において
アンロードするが、条件２では、外縁部においてアンロ
ードすることなく、研磨接触状態でそのままディスク外
周外側に研磨テープ２を引き抜いて研磨を終了させてい
る。条件３は条件１とは逆に外縁部でロードし内縁部で
アンロードしており、条件４は外縁部でロードし内縁部
で折り返して再び外縁部に戻った状態でアンロードする
ものである。
クの内縁部（３．５インチディスク上における半径２０
〜２８ｍｍの部分）にロードし外縁部（同半径３６〜４
４ｍｍの部分）に向かってシークして、外縁部において
アンロードするが、条件２では、外縁部においてアンロ
ードすることなく、研磨接触状態でそのままディスク外
周外側に研磨テープ２を引き抜いて研磨を終了させてい
る。条件３は条件１とは逆に外縁部でロードし内縁部で
アンロードしており、条件４は外縁部でロードし内縁部
で折り返して再び外縁部に戻った状態でアンロードする
ものである。
【００２０】この４つのシーク方法でそれぞれシーク回
数を１回に限定して最終研磨工程を行った。これらの各
磁気記録ディスク１の表面状態を知るために、バーニッ
シュヘッドを用いて表面の塵埃等を除去した後、ヘッド
浮上量を０．１０μｍに設定してヘッド滑走特性検査
（グライドハイトテスト；Glide Hight Test）を実施し
た。この結果として得た０．１０μｍ以上の接触突起数
を各条件別に表３に示す。
数を１回に限定して最終研磨工程を行った。これらの各
磁気記録ディスク１の表面状態を知るために、バーニッ
シュヘッドを用いて表面の塵埃等を除去した後、ヘッド
浮上量を０．１０μｍに設定してヘッド滑走特性検査
（グライドハイトテスト；Glide Hight Test）を実施し
た。この結果として得た０．１０μｍ以上の接触突起数
を各条件別に表３に示す。
【００２１】
【表３】
【００２２】この表３に示すように、内縁部及び外縁部
双方で最も接触突起数が少ないシーク方法は、条件２で
あることが判明した。この条件２のシーク方法を図２
（ａ）に示す。
双方で最も接触突起数が少ないシーク方法は、条件２で
あることが判明した。この条件２のシーク方法を図２
（ａ）に示す。
【００２３】次に、上記第１実施例における条件２のシ
ーク方法では、外縁部の突起数は効率良く除去できてい
るものの、内縁部における突起の除去は必ずしも充分で
ない。そこで、条件２において、内縁部で一時研磨テー
プ２を停止することとし、この停止時間ｔS を変化させ
るとともに、シーク回数を１回から４回までの範囲で変
更して研磨を行った。この結果として各研磨工程を行っ
た場合の磁気記録ディスク１の内縁部及び外縁部の接触
突起数の和を図４に示す。
ーク方法では、外縁部の突起数は効率良く除去できてい
るものの、内縁部における突起の除去は必ずしも充分で
ない。そこで、条件２において、内縁部で一時研磨テー
プ２を停止することとし、この停止時間ｔS を変化させ
るとともに、シーク回数を１回から４回までの範囲で変
更して研磨を行った。この結果として各研磨工程を行っ
た場合の磁気記録ディスク１の内縁部及び外縁部の接触
突起数の和を図４に示す。
【００２４】この図に示すように、内縁部における研磨
テープ２の停止時間は１秒が最適であり、これを越える
と特にシーク回数が多い場合に内縁部における表面の荒
れを誘発する。また、一般にシーク回数も３回を越える
と却ってディスク表面の荒れが全体的に高まることがわ
かる。
テープ２の停止時間は１秒が最適であり、これを越える
と特にシーク回数が多い場合に内縁部における表面の荒
れを誘発する。また、一般にシーク回数も３回を越える
と却ってディスク表面の荒れが全体的に高まることがわ
かる。
【００２５】以上の実験の結果、最終研磨工程における
最適条件は、条件２のシーク方法で内縁部の停止時間を
１秒とし、更にこのシーク動作を３回行うものであるこ
とが見出された。
最適条件は、条件２のシーク方法で内縁部の停止時間を
１秒とし、更にこのシーク動作を３回行うものであるこ
とが見出された。
【００２６】（第２実施例） 本発明の第２実施例として、固着されているＡｌ2 Ｏ3
砥粒の平均粒径が０．５、１．０及び２．０μｍの５種
類の研磨テープ２を用い、表４に示す条件５〜条件８の
各条件により第１実施例と同様のディスクの最終研磨工
程を行った。
砥粒の平均粒径が０．５、１．０及び２．０μｍの５種
類の研磨テープ２を用い、表４に示す条件５〜条件８の
各条件により第１実施例と同様のディスクの最終研磨工
程を行った。
【００２７】
【表４】
【００２８】ここに、シーク方法は表２に示す条件４を
採用しており、図２（ｂ）に示す内縁部における停止時
間ｔS 及び外縁部における停止時間ｔS ′を磁気記録デ
ィスク１の全表面上における研磨時間が均一となる従来
通りの０．４秒と、これに対して内縁部及び外縁部にお
ける研磨時間がこれらの中間部分に対する研磨時間より
も長くなるようにした２．０秒との２種類のサイクルを
実施した。
採用しており、図２（ｂ）に示す内縁部における停止時
間ｔS 及び外縁部における停止時間ｔS ′を磁気記録デ
ィスク１の全表面上における研磨時間が均一となる従来
通りの０．４秒と、これに対して内縁部及び外縁部にお
ける研磨時間がこれらの中間部分に対する研磨時間より
も長くなるようにした２．０秒との２種類のサイクルを
実施した。
【００２９】この各研磨テープによる各条件５〜８の最
終研磨工程を施された磁気記録ディスク１の表面状態を
調べるために、第１実施例と同様にヘッド浮上量０．１
０μｍ均一でグライドハイトテストによりその接触突起
数を検査した。その結果を表５に示す。
終研磨工程を施された磁気記録ディスク１の表面状態を
調べるために、第１実施例と同様にヘッド浮上量０．１
０μｍ均一でグライドハイトテストによりその接触突起
数を検査した。その結果を表５に示す。
【００３０】
【表５】
【００３１】ここで、接触突起数比とは、粒径０．５μ
ｍの研磨テープを用い、条件５（ディスクの周速８０ｍ
／ｍｉｎ、停止時間ｔS 及びｔS′が０．４秒）によっ
て研磨した場合の接触突起数を１．０として算出した値
である。また、内外縁／全面とは、全ディスク表面の接
触突起数に対する内縁部と外縁部の接触突起数和の比の
値を示している。
ｍの研磨テープを用い、条件５（ディスクの周速８０ｍ
／ｍｉｎ、停止時間ｔS 及びｔS′が０．４秒）によっ
て研磨した場合の接触突起数を１．０として算出した値
である。また、内外縁／全面とは、全ディスク表面の接
触突起数に対する内縁部と外縁部の接触突起数和の比の
値を示している。
【００３２】上記表５に示されるように、内縁部及び外
縁部における停止時間ｔS 及びｔＳ ′を長くすること
によって、内縁部及び外縁部の微小突起を効率良く除去
することができ、特に周速１２０ｍ／ｍｉｎの場合に
は、その効果が顕著である。
縁部における停止時間ｔS 及びｔＳ ′を長くすること
によって、内縁部及び外縁部の微小突起を効率良く除去
することができ、特に周速１２０ｍ／ｍｉｎの場合に
は、その効果が顕著である。
【００３３】以上説明した第２実施例においては、第１
実施例と同様に外縁部においてアンロードすることなく
ディスクの外周側にそのまま引き抜いてサイクルを終了
させることも可能であり、また、第１実施例において、
外縁部にシークした時点で研磨テープを一時停止するこ
とも可能であって、これらの場合にも上記各実施例とほ
ぼ同様の効果が得られる。
実施例と同様に外縁部においてアンロードすることなく
ディスクの外周側にそのまま引き抜いてサイクルを終了
させることも可能であり、また、第１実施例において、
外縁部にシークした時点で研磨テープを一時停止するこ
とも可能であって、これらの場合にも上記各実施例とほ
ぼ同様の効果が得られる。
【００３４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の磁気記録
ディスクの製造方法は、次の効果を奏する。 本発明
では、磁気記録ディスクの内縁部において所定時間研磨
部材を固定することにより、この位置での研磨時間を増
加させ、内縁部の微小突起の除去率を向上させるととも
に、磁気記録ディスクの外縁部でアンロードさせるので
はなく、研磨部材を外縁部に接触させた状態で磁気ディ
スクの動径方向外側に移動させることにより当該磁気デ
ィスクから離脱させるものであるから、ディスク外縁部
の面垂れの影響を最小限に抑えて微小突起を除去するこ
とができる。これにより、磁気ヘッドの低浮上量化が達
成され、高密度記録に適した磁気記録ディスクの安定的
な供給が可能となり、ひいては、磁気記録装置の高性能
化及び高信頼性を図ることができる。 また本発明で
は、研磨工程が、研磨部材を外縁部に接触させて内縁部
に向けて移動させる段階と、研磨部材を内縁部で所定時
間固定する段階と、研磨部材を内縁部から外縁部に向け
て移動させる段階と、研磨部材を外縁部で所定時間固定
させた後研磨部材を磁気記録ディスクから離脱させる段
階とを有し、研磨部材が磁気記録ディスクの内縁部及び
外縁部に接触する時間を内縁部と外縁部との間の位置に
接触する時間よりも長く設定しているため、内縁部に集
中して形成される微小突起と外縁部の除去困難な微小突
起とを除去しつつ他の表面部分の荒れを抑えることがで
きる。これにより、磁気ヘッドの低浮上量化が達成さ
れ、高密度記録に適した磁気磁気ディスクの安定的な供
給が可能となり、ひいては、磁気記録装置の高性能化及
び高信頼性を図ることができる。
ディスクの製造方法は、次の効果を奏する。 本発明
では、磁気記録ディスクの内縁部において所定時間研磨
部材を固定することにより、この位置での研磨時間を増
加させ、内縁部の微小突起の除去率を向上させるととも
に、磁気記録ディスクの外縁部でアンロードさせるので
はなく、研磨部材を外縁部に接触させた状態で磁気ディ
スクの動径方向外側に移動させることにより当該磁気デ
ィスクから離脱させるものであるから、ディスク外縁部
の面垂れの影響を最小限に抑えて微小突起を除去するこ
とができる。これにより、磁気ヘッドの低浮上量化が達
成され、高密度記録に適した磁気記録ディスクの安定的
な供給が可能となり、ひいては、磁気記録装置の高性能
化及び高信頼性を図ることができる。 また本発明で
は、研磨工程が、研磨部材を外縁部に接触させて内縁部
に向けて移動させる段階と、研磨部材を内縁部で所定時
間固定する段階と、研磨部材を内縁部から外縁部に向け
て移動させる段階と、研磨部材を外縁部で所定時間固定
させた後研磨部材を磁気記録ディスクから離脱させる段
階とを有し、研磨部材が磁気記録ディスクの内縁部及び
外縁部に接触する時間を内縁部と外縁部との間の位置に
接触する時間よりも長く設定しているため、内縁部に集
中して形成される微小突起と外縁部の除去困難な微小突
起とを除去しつつ他の表面部分の荒れを抑えることがで
きる。これにより、磁気ヘッドの低浮上量化が達成さ
れ、高密度記録に適した磁気磁気ディスクの安定的な供
給が可能となり、ひいては、磁気記録装置の高性能化及
び高信頼性を図ることができる。
【図１】 （ａ）はＦＴＰ装置による研磨方法を示す平面図、
（ｂ）はその方法による研磨テープの接触部分を示す断
面図である。
（ｂ）はその方法による研磨テープの接触部分を示す断
面図である。
【図２】 （ａ）は本発明に係る第１実施例のシーク方法を示すグ
ラフ図、（ｂ）は第２実施例のシーク方法を示すグラフ
図である。
ラフ図、（ｂ）は第２実施例のシーク方法を示すグラフ
図である。
【図３】従来のシーク方法を示すグラフ図である。
【図４】第１実施例による各条件での研磨工程を経た磁
気記録ディスクの表面突起数とシーク回数との関係を示
すグラフ図である。
気記録ディスクの表面突起数とシーク回数との関係を示
すグラフ図である。
１ 磁気記録ディスク ２ 研磨テープ ３ ガス供給部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭59−209760（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−34656（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−105723（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G11B 5/84
Claims (6)
- 【請求項１】 回転する磁気記録ディスクの表面保護層
上に接触する研磨部材を該磁気記録ディスクの動径方向
に移動させながら前記表面保護層の表面凹凸を調整する
ための研磨工程を有する磁気記録ディスクの製造方法に
おいて、 前記研磨工程は、前記研磨部材を前記磁気ディスクの内
縁部に接触させて所定時間固定する段階と、該内縁部か
ら前記磁気記録ディスクの外縁部に向けて前記研磨部材
を移動させながら研磨する段階と、前記研磨部材を前記
外縁部に接触させた状態で前記磁気ディスクの動径方向
外側に移動させることにより当該磁気ディスクから離脱
させる段階とを有することを特徴とする磁気記録ディス
クの製造方法。 - 【請求項２】 請求項第１項に記載の磁気記録ディスク
の製造方法において、前記研磨部材は粒径平均が１μｍ
の砥粒が固着された研磨テープであることを特徴とする
磁気記録ディスクの製造方法。 - 【請求項３】 請求項第２項に記載の磁気記録ディスク
の製造方法において、前記磁気記録ディスクの周速５０
ｍ／ｍｉｎ、前記研磨テープの移動速度５００ｃｍ／ｍ
ｉｎ、前記研磨テープの送り速度１０ｍｍ／ｍｉｎの研
磨条件で、前記研磨テープの接触、移動及び離脱までの
サイクルを３回繰り返すことを特徴とする磁気記録ディ
スクの製造方法。 - 【請求項４】 回転する磁気記録ディスクの表面保護層
上に接触する研磨部材を該磁気記録ディスクの動径方向
に移動させながら前記表面保護層の表面凹凸を調整する
ための研磨工程を有する磁気記録ディスクの製造方法に
おいて、 前記研磨工程では、前記研磨部材が前記磁気記録ディス
クの内縁部及び外縁部に接触する時間を該内縁部と外縁
部との間の位置に接触する時間よりも長く設定してお
り、前記研磨工程は、前記研磨部材を前記外縁部に接触
させて前記内縁部に向けて移動させる段階と、前記研磨
部材を前記内縁部で所定時間固定する段階と、前記研磨
部材を前記内縁部から前記外縁部に向けて移動させる段
階と、前記研磨部材を前記外縁部で所定時間固定させた
後前記研磨部材を前記磁気記録ディスクから離脱させる
段階とを有することを特徴とする磁気記録ディスクの製
造方法。 - 【請求項５】 請求項第４項に記載の磁気記録ディスク
の製造方法において、前記研磨部材は粒径平均が０．５
〜２．０μｍの範囲内の砥粒が固着された研磨テープで
あることを特徴とする磁気ディスクの製造方法。 - 【請求項６】 請求項第５項に記載の磁気ディスクの製
造方法において、前記磁気ディスクの周速１２０ｍ／ｍ
ｉｎ、前記研磨テープの移動速度５００ｃｍ／ｍｉｎ、
前記研磨テープの送り速度２０ｍｍ／ｍｉｎの条件で研
磨を施し、前記所定時間を２秒とすることを特徴とする
磁気記録ディスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02401090A JP3041960B2 (ja) | 1990-12-10 | 1990-12-10 | 磁気記録ディスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02401090A JP3041960B2 (ja) | 1990-12-10 | 1990-12-10 | 磁気記録ディスクの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04214222A JPH04214222A (ja) | 1992-08-05 |
| JP3041960B2 true JP3041960B2 (ja) | 2000-05-15 |
Family
ID=18510948
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP02401090A Expired - Lifetime JP3041960B2 (ja) | 1990-12-10 | 1990-12-10 | 磁気記録ディスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3041960B2 (ja) |
-
1990
- 1990-12-10 JP JP02401090A patent/JP3041960B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04214222A (ja) | 1992-08-05 |
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