JPS5987626A - 磁気デイスクの製造方法 - Google Patents
磁気デイスクの製造方法Info
- Publication number
- JPS5987626A JPS5987626A JP19608782A JP19608782A JPS5987626A JP S5987626 A JPS5987626 A JP S5987626A JP 19608782 A JP19608782 A JP 19608782A JP 19608782 A JP19608782 A JP 19608782A JP S5987626 A JPS5987626 A JP S5987626A
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- Japan
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- magnetic
- head
- tape
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- magnetic film
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
Landscapes
- Paints Or Removers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（１）発明の技術分野
本発明は磁気ディスクの製造方法、特に、磁気ディスク
の磁性塗膜の表面仕上げを行なう方法に係る。
の磁性塗膜の表面仕上げを行なう方法に係る。
（２）従来技術と問題点
磁気ディスクは電子計算機、情報処理装置等の記憶媒体
として利用されるが、アルミニウム基板上に磁性粉を含
む磁性塗料を塗布して成るものが従来一般に用いられて
いる。そのような磁気ディスクは、アルミニウム基板に
磁性粉、樹脂及び溶剤を混練してなる磁性塗料を塗布し
、熱処理して樹脂を硬化させた後、■磁性膜を所定の膜
厚まで削るとともに表面あらさを良くするためにパフ又
は研摩テープによシ研摩しくポリッシュ工程）、■ポリ
ッシュ工程における研摩カス、加工変質層を除くために
洗浄しく洗浄工程）、■アルミナなどの硬質材で作った
低浮上ヘッドを円板上に浮上させ、塵埃や付着物などの
浮上障害物を取シ去る（バーニラシ一工程）という複雑
な表面仕上げ工程を経ることによシ製造されている。又
、特にポリッシュ工程では表面にスクラッチなどの欠陥
が生じることがらシ、製造歩留！低下させる原因にもな
っている。
として利用されるが、アルミニウム基板上に磁性粉を含
む磁性塗料を塗布して成るものが従来一般に用いられて
いる。そのような磁気ディスクは、アルミニウム基板に
磁性粉、樹脂及び溶剤を混練してなる磁性塗料を塗布し
、熱処理して樹脂を硬化させた後、■磁性膜を所定の膜
厚まで削るとともに表面あらさを良くするためにパフ又
は研摩テープによシ研摩しくポリッシュ工程）、■ポリ
ッシュ工程における研摩カス、加工変質層を除くために
洗浄しく洗浄工程）、■アルミナなどの硬質材で作った
低浮上ヘッドを円板上に浮上させ、塵埃や付着物などの
浮上障害物を取シ去る（バーニラシ一工程）という複雑
な表面仕上げ工程を経ることによシ製造されている。又
、特にポリッシュ工程では表面にスクラッチなどの欠陥
が生じることがらシ、製造歩留！低下させる原因にもな
っている。
（３）発明の目的
本発明は、以上の如き従来技術の現状に鑑み、磁性塗膜
の表面仕上げ工程を簡略化すると共に製造歩留シを向上
することを目的とする。
の表面仕上げ工程を簡略化すると共に製造歩留シを向上
することを目的とする。
（４）発明の構成
そして、上記目的を達成する本発明は、アルミニウム基
板に磁性粉、樹脂及び溶剤を混練してなる磁性塗料を塗
布し、該樹脂を熱硬化させるために熱処理を施した後、
表面仕上げを行なって磁気ディスクを製造する方法にお
いて、前記表面仕上げが摺動面に砥粒層を設けたヘッド
を回転する前記磁気塗料塗布面に接触させるパーニッシ
ュ処理のみからなることを特徴とする。
板に磁性粉、樹脂及び溶剤を混練してなる磁性塗料を塗
布し、該樹脂を熱硬化させるために熱処理を施した後、
表面仕上げを行なって磁気ディスクを製造する方法にお
いて、前記表面仕上げが摺動面に砥粒層を設けたヘッド
を回転する前記磁気塗料塗布面に接触させるパーニッシ
ュ処理のみからなることを特徴とする。
従来技術においてポリンシ一工程は磁性塗膜の膜厚の制
御と、塗膜表面から微小な間隔（０，３〜１μｍ）で浮
上する磁気ヘッドが安定に浮上するような表面あらさに
表面を改良するという役割を持っている。しかし、ヘッ
ド浮上性全詳細に検討したところ、ヘッド浮上性は表面
ららさの要素のうち、平均表面あらさＲａには依存せず
、平均的高さの標差面からの突起高さＲ＋ に依存す
ることｍａｘ が判明した。そして、アルミナなどの硬質材を用いた低
浮上ヘッドによる従来のパーニッシ二法に代えて、より
効果的に浮上障害物を取り去る”突起域シバーニッシエ
法”、即ち、摺動面にラッピングテープ金貼付するなど
して砥粒層を設けたヘッドを回転する磁性塗膜表面に接
触させる・々−ニッシー法を適用すれば、表面の突起が
効率良く取。
御と、塗膜表面から微小な間隔（０，３〜１μｍ）で浮
上する磁気ヘッドが安定に浮上するような表面あらさに
表面を改良するという役割を持っている。しかし、ヘッ
ド浮上性全詳細に検討したところ、ヘッド浮上性は表面
ららさの要素のうち、平均表面あらさＲａには依存せず
、平均的高さの標差面からの突起高さＲ＋ に依存す
ることｍａｘ が判明した。そして、アルミナなどの硬質材を用いた低
浮上ヘッドによる従来のパーニッシ二法に代えて、より
効果的に浮上障害物を取り去る”突起域シバーニッシエ
法”、即ち、摺動面にラッピングテープ金貼付するなど
して砥粒層を設けたヘッドを回転する磁性塗膜表面に接
触させる・々−ニッシー法を適用すれば、表面の突起が
効率良く取。
シ除かれることも判明した（但し、この際Ｒａは殆んど
変化しない）。従って、表面仕上げにおいてポリッシ具
処理を行なわなくても突起取り・々−ニッシェ処理だけ
で磁気ヘッドを安定に浮上させることができ、磁性塗料
を塗布する際に所定の膜厚に調整しておけば、表面仕上
は工程からポリンシ一工程及び洗浄工程を省略すること
が可能である。本発明はこのような事実の発見に基礎を
おくものである。
変化しない）。従って、表面仕上げにおいてポリッシ具
処理を行なわなくても突起取り・々−ニッシェ処理だけ
で磁気ヘッドを安定に浮上させることができ、磁性塗料
を塗布する際に所定の膜厚に調整しておけば、表面仕上
は工程からポリンシ一工程及び洗浄工程を省略すること
が可能である。本発明はこのような事実の発見に基礎を
おくものである。
（５）発明の実施例
以下、本発明の実施例に基づいて説明する。
アルミニウム基板に針状磁性体粒子（γ−Ｆｅ２０３針
状比７〜８、長軸長さ０．３〜０．５μｍ）約１２重量
％、樹脂（エポキシ樹脂、フェノール樹脂、アクリル樹
脂）約８重量％、シンナー（トルエン、ブタノール、セ
ロソルブ）約８０重量％に混練して成る磁性塗料をスピ
ンコートシ、約２００℃で３０分間熱処理して樹脂を硬
化させ、膜厚的０．８μｍの磁性塗膜を得た。この磁性
塗膜の表面あらさ試験の結果を第１図に示す。平均表面
あらさ０．０４５μｍ Ｒａ ｓ突起高さＲ”ｍａｘ
＝約０．６μｍの程度であり、表面に突起が無数にある
のでこのままでは磁気ヘッドは浮上せず、すぐに摩耗し
てしまう。次に、第２図を参照すると、粒度９μｍのア
ルミナによるラッピングテープ１全ランプロードヘツド
２に貼り付け、磁性塗膜（アルミニウム基板）３を約５
０ Ｏｒｐｍで回転させつつそれにラッピングチーｆｌ
”ｋ接触させ、半径方向（図のＦ方向）に数往復させた
。ラッピングテープ１の寸法ハ８ ｒａｎ Ｘ １０
ｔｔｒｍ 、ランプロードヘッド２の荷ｆｉｉ３００，
９．ランプロードヘッド２のＦ方向速度は約１０ ”／
ｓで、ラッピングテープ１を最初の１往復後交換し、
次いで交換なしで４往復させた。このパーニッシュ処理
の結果得られた磁性塗膜の表面あらさ試験の結果を第３
図に示す。平均表面あらさ０．０３〜０−０４μｍＲａ
、突起高さＲ＋＝約０．１μｍで、表面突起が取シ除か
れてｍａｘ いる。
状比７〜８、長軸長さ０．３〜０．５μｍ）約１２重量
％、樹脂（エポキシ樹脂、フェノール樹脂、アクリル樹
脂）約８重量％、シンナー（トルエン、ブタノール、セ
ロソルブ）約８０重量％に混練して成る磁性塗料をスピ
ンコートシ、約２００℃で３０分間熱処理して樹脂を硬
化させ、膜厚的０．８μｍの磁性塗膜を得た。この磁性
塗膜の表面あらさ試験の結果を第１図に示す。平均表面
あらさ０．０４５μｍ Ｒａ ｓ突起高さＲ”ｍａｘ
＝約０．６μｍの程度であり、表面に突起が無数にある
のでこのままでは磁気ヘッドは浮上せず、すぐに摩耗し
てしまう。次に、第２図を参照すると、粒度９μｍのア
ルミナによるラッピングテープ１全ランプロードヘツド
２に貼り付け、磁性塗膜（アルミニウム基板）３を約５
０ Ｏｒｐｍで回転させつつそれにラッピングチーｆｌ
”ｋ接触させ、半径方向（図のＦ方向）に数往復させた
。ラッピングテープ１の寸法ハ８ ｒａｎ Ｘ １０
ｔｔｒｍ 、ランプロードヘッド２の荷ｆｉｉ３００，
９．ランプロードヘッド２のＦ方向速度は約１０ ”／
ｓで、ラッピングテープ１を最初の１往復後交換し、
次いで交換なしで４往復させた。このパーニッシュ処理
の結果得られた磁性塗膜の表面あらさ試験の結果を第３
図に示す。平均表面あらさ０．０３〜０−０４μｍＲａ
、突起高さＲ＋＝約０．１μｍで、表面突起が取シ除か
れてｍａｘ いる。
比較のために、第４図に従来技術通りのポリッシユ、洗
浄及びパーニッシュ処理金紗て得られた磁性塗膜の表面
あらさ試験の結果を示す。平均表面あらさ０．０１０〜
０．０１５μｍＲａ、突起高さＲ＋＝約０．１μｍであ
る。磁気ヘッドの浮上性１ＬＸ （磁気ディスクに必要な特性）という観点からすると、
第３図のものと第４図のものとは殆んど変わらない。
浄及びパーニッシュ処理金紗て得られた磁性塗膜の表面
あらさ試験の結果を示す。平均表面あらさ０．０１０〜
０．０１５μｍＲａ、突起高さＲ＋＝約０．１μｍであ
る。磁気ヘッドの浮上性１ＬＸ （磁気ディスクに必要な特性）という観点からすると、
第３図のものと第４図のものとは殆んど変わらない。
次に、本発明の上記実施例と同様にして、但し、磁性塗
料の樹脂を熱処理した後、Ｃ８Ｓ （ＣｏｎｔａｃｔＳ
ｔａｒｔ ５ｔｏｐ ）ディスク用の潤滑剤を塗布して
からバーニラシー処理することによって、磁気ディスク
を製造した。こうして得られた磁気ディスクも、上記実
施例同様に表面突起がな（，０，３〜０．５の低いヘッ
ド浮上に耐える磁性塗膜を有した。
料の樹脂を熱処理した後、Ｃ８Ｓ （ＣｏｎｔａｃｔＳ
ｔａｒｔ ５ｔｏｐ ）ディスク用の潤滑剤を塗布して
からバーニラシー処理することによって、磁気ディスク
を製造した。こうして得られた磁気ディスクも、上記実
施例同様に表面突起がな（，０，３〜０．５の低いヘッ
ド浮上に耐える磁性塗膜を有した。
（６）発明の効果
以上の説明から明らかなように、本発明に依れば、従来
技術におけるポリン７．−及び洗浄工程を省略した簡略
な表面仕上げ工程で磁気ディスクに必要な特性を満足さ
せることができるので、製造コストヲ低減し、又製造歩
留Ｌａ−向上させることができる。
技術におけるポリン７．−及び洗浄工程を省略した簡略
な表面仕上げ工程で磁気ディスクに必要な特性を満足さ
せることができるので、製造コストヲ低減し、又製造歩
留Ｌａ−向上させることができる。
第１図は表面仕上げ前の磁性塗膜の表面あらさを示す図
、第２図は本発明による突起数シバーニッシュ法の操作
を示す側面図、第３図は本発明に依る突起数９ノぐ一ニ
ッシェ処理後の磁性塗膜の表面あらさを示す図、第４図
は従来技術におけるポリッシー、洗浄及びパーニッシュ
処理後の磁性塗膜の表面あらさを示す図である。 １・・・ラッピングテープ、２・・・ランゾロードヘッ
ド、３・・・磁性塗膜塗布アルミニウム基板。
、第２図は本発明による突起数シバーニッシュ法の操作
を示す側面図、第３図は本発明に依る突起数９ノぐ一ニ
ッシェ処理後の磁性塗膜の表面あらさを示す図、第４図
は従来技術におけるポリッシー、洗浄及びパーニッシュ
処理後の磁性塗膜の表面あらさを示す図である。 １・・・ラッピングテープ、２・・・ランゾロードヘッ
ド、３・・・磁性塗膜塗布アルミニウム基板。
Claims (1)
- １、アルミニウム基板に磁性粉、樹脂及び溶剤を混練し
てなる磁性塗料全塗布し、該樹脂を熱硬化させるために
熱処理を施した後、表面仕上げを行なって磁気ディスク
を製造する方法において、前記表面仕上げが摺動面に砥
粒層を設けたヘッドを回転する前記磁気塗料膜表面に接
触させるパーニッシニ処理のみからなることを特徴とす
る磁気ディスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19608782A JPS5987626A (ja) | 1982-11-10 | 1982-11-10 | 磁気デイスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19608782A JPS5987626A (ja) | 1982-11-10 | 1982-11-10 | 磁気デイスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5987626A true JPS5987626A (ja) | 1984-05-21 |
Family
ID=16351986
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19608782A Pending JPS5987626A (ja) | 1982-11-10 | 1982-11-10 | 磁気デイスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5987626A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6252782A (ja) * | 1985-08-31 | 1987-03-07 | Fujitsu Ltd | 密閉型固定磁気デイスク装置の製造方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5156602A (ja) * | 1974-11-13 | 1976-05-18 | Fujitsu Ltd | Banitsushusochi |
| JPS56130836A (en) * | 1980-03-14 | 1981-10-14 | Fujitsu Ltd | Manufacture for magnetic recording medium |
-
1982
- 1982-11-10 JP JP19608782A patent/JPS5987626A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5156602A (ja) * | 1974-11-13 | 1976-05-18 | Fujitsu Ltd | Banitsushusochi |
| JPS56130836A (en) * | 1980-03-14 | 1981-10-14 | Fujitsu Ltd | Manufacture for magnetic recording medium |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6252782A (ja) * | 1985-08-31 | 1987-03-07 | Fujitsu Ltd | 密閉型固定磁気デイスク装置の製造方法 |
| JPH0430674B2 (ja) * | 1985-08-31 | 1992-05-22 |
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