JPH06162493A - 磁気ディスク用基板 - Google Patents
磁気ディスク用基板Info
- Publication number
- JPH06162493A JPH06162493A JP4308404A JP30840492A JPH06162493A JP H06162493 A JPH06162493 A JP H06162493A JP 4308404 A JP4308404 A JP 4308404A JP 30840492 A JP30840492 A JP 30840492A JP H06162493 A JPH06162493 A JP H06162493A
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- JP
- Japan
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- magnetic disk
- substrate
- plating
- magnetic
- projecting parts
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- Withdrawn
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/8404—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers manufacturing base layers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
- G11B5/739—Magnetic recording media substrates
- G11B5/73911—Inorganic substrates
- G11B5/73913—Composites or coated substrates
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- G11B5/739—Magnetic recording media substrates
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- G11B5/73917—Metallic substrates, i.e. elemental metal or metal alloy substrates
- G11B5/73919—Aluminium or titanium elemental or alloy substrates
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 無電解めっき法または電気めっき法によって
表面に微小な半球状の凸部を全面的に形成する。 【効果】 これを用いて製造した磁気ディスクの摩擦係
数を低減させることが可能になり、従って磁気ヘッドの
磁気ディスクによる吸着を防止できる。
表面に微小な半球状の凸部を全面的に形成する。 【効果】 これを用いて製造した磁気ディスクの摩擦係
数を低減させることが可能になり、従って磁気ヘッドの
磁気ディスクによる吸着を防止できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は磁気ディスク用基板に関
し、特に高密度記録用の磁気ディスクの基板に関する。
し、特に高密度記録用の磁気ディスクの基板に関する。
【０００２】
【従来の技術】最近の磁気ディスク装置用の記録媒体
（磁気ディスク）のうち、特に高密度記録用の磁気ディ
スクは、めっき法またはスパッタ法または蒸着法によっ
て形成した磁性薄膜を磁気記録層とするいわゆる薄膜磁
気ディスクが主流となっている。
（磁気ディスク）のうち、特に高密度記録用の磁気ディ
スクは、めっき法またはスパッタ法または蒸着法によっ
て形成した磁性薄膜を磁気記録層とするいわゆる薄膜磁
気ディスクが主流となっている。
【０００３】このような薄膜磁気ディスクでは、磁気ヘ
ッドと磁気ディスクとの吸着を防止するため、表面を機
械的に研磨した基板を用いており、特に、機械的な研磨
加工によって円周方向に研磨目を形成させるテキスチャ
リングと呼ばれる研磨方法を採用したものが一般的であ
る。
ッドと磁気ディスクとの吸着を防止するため、表面を機
械的に研磨した基板を用いており、特に、機械的な研磨
加工によって円周方向に研磨目を形成させるテキスチャ
リングと呼ばれる研磨方法を採用したものが一般的であ
る。
【０００４】テキスチャリング法は、基板の表面に円周
方向に研磨目を形成させるための技術であり、砥粒と加
工との条件によって表面の状態を制御することができ
る。
方向に研磨目を形成させるための技術であり、砥粒と加
工との条件によって表面の状態を制御することができ
る。
【０００５】このように、従来の磁気ディスクは、基板
の表面に同心円状に研磨目を形成しているが、磁気ヘッ
ドと磁気ディスクとのコンタクトスタートストップ（Ｃ
ＳＳ）動作を繰返えすことによって、磁気ヘッドが磁気
ディスクに吸着される頻度が高くなる傾向がある。この
ため、研磨目の方向を同心円状からやゝ偏心させること
によってランダマイズし、吸着の改善を図っている。
の表面に同心円状に研磨目を形成しているが、磁気ヘッ
ドと磁気ディスクとのコンタクトスタートストップ（Ｃ
ＳＳ）動作を繰返えすことによって、磁気ヘッドが磁気
ディスクに吸着される頻度が高くなる傾向がある。この
ため、研磨目の方向を同心円状からやゝ偏心させること
によってランダマイズし、吸着の改善を図っている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上述したように、従来
の磁気ディスクは、基板の表面の研磨目の方向を、同心
円状からやゝ偏心させてランダマイズすることによって
磁気ヘッドと磁気ディスクとの接触面積を減少させて吸
着の改善を図っているが、このような手段による接触面
積の減少には限度がある。従って、磁気ヘッドの吸着を
防止するためには、基板の表面の粗さ（研磨筋の深さ）
を相当に大きくする必要があり、基板の表面の粗さを大
きくすると、磁気ディスクから情報を読取るときにエラ
ーが発生したり、磁気ディスクの耐久性が低下するとい
う問題を発生する。
の磁気ディスクは、基板の表面の研磨目の方向を、同心
円状からやゝ偏心させてランダマイズすることによって
磁気ヘッドと磁気ディスクとの接触面積を減少させて吸
着の改善を図っているが、このような手段による接触面
積の減少には限度がある。従って、磁気ヘッドの吸着を
防止するためには、基板の表面の粗さ（研磨筋の深さ）
を相当に大きくする必要があり、基板の表面の粗さを大
きくすると、磁気ディスクから情報を読取るときにエラ
ーが発生したり、磁気ディスクの耐久性が低下するとい
う問題を発生する。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の磁気ディスク用
基板は、無電解めっき法または電気めっき法によって表
面に微小な半球状の凸部を全面的に形成したものであ
り、更に、電気めっき法による場合に、パラジュウムま
たは金または銀または銅を含むめっき核を用いて半球状
の凸部を形成したものである。
基板は、無電解めっき法または電気めっき法によって表
面に微小な半球状の凸部を全面的に形成したものであ
り、更に、電気めっき法による場合に、パラジュウムま
たは金または銀または銅を含むめっき核を用いて半球状
の凸部を形成したものである。
【０００８】本発明の磁気ディスク用基板の凸部の高さ
および大きさおよび形状および密度については、磁気デ
イスクが使用される条件によってそれらの値が異り、磁
気ヘッドの種類、磁気ヘッドの構造および材質、磁気ヘ
ッドの浮上量、磁気ディスクの回転数、磁気ディスクの
保護膜および潤滑膜の種類および膜厚等の条件に応じて
最適な値が選択される。また、基板の表面の凹凸形状
は、触媒を付与する無電解めっき、およびその後に施す
無電解Ｎｉめっきの条件によって決まる。
および大きさおよび形状および密度については、磁気デ
イスクが使用される条件によってそれらの値が異り、磁
気ヘッドの種類、磁気ヘッドの構造および材質、磁気ヘ
ッドの浮上量、磁気ディスクの回転数、磁気ディスクの
保護膜および潤滑膜の種類および膜厚等の条件に応じて
最適な値が選択される。また、基板の表面の凹凸形状
は、触媒を付与する無電解めっき、およびその後に施す
無電解Ｎｉめっきの条件によって決まる。
【０００９】
【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。
て説明する。
【００１０】図１は本発明の一実施例を製造工程順に示
す断面図、図２は図１の実施例を用いた磁気ディスクを
製造工程順に示す断面図である。
す断面図、図２は図１の実施例を用いた磁気ディスクを
製造工程順に示す断面図である。
【００１１】本発明の磁気ディスク用基板は、図１
（ａ）に示すように、アルミニウム基板１の上に１０〜
１５μｍの厚さのＮｉ−Ｐめっきを施してＮｉ−Ｐ中間
層２を形成し、これを機械加工で仕上げ、図１（ｂ）に
示すように、表１のめっき液に浸漬することによってパ
ラジュウムめっきを行ってＰｄめっき層３を形成し、さ
らにその上に、Ｎｉ−Ｐめっき層４を形成することによ
って表面に全面的に微小な半球状の凸部を形成したもの
である。
（ａ）に示すように、アルミニウム基板１の上に１０〜
１５μｍの厚さのＮｉ−Ｐめっきを施してＮｉ−Ｐ中間
層２を形成し、これを機械加工で仕上げ、図１（ｂ）に
示すように、表１のめっき液に浸漬することによってパ
ラジュウムめっきを行ってＰｄめっき層３を形成し、さ
らにその上に、Ｎｉ−Ｐめっき層４を形成することによ
って表面に全面的に微小な半球状の凸部を形成したもの
である。
【００１２】
【表１】
【００１３】磁気ディスクは、図２（ａ）に示すよう
に、図１の基板の上に無電解めっき法によって磁性膜で
あるＣｏ−Ｐ磁性めっき層５を形成し、さらに、図２
（ｂ）に示すように、テトラヒドロキシシランを溶解さ
せたイソプロピルアルコール溶液スピンコート法によっ
て約６００オングストロムの厚さに塗布して焼成するこ
とにより、ＳｉＯ2 保護膜６を形成し、この保護膜の上
に弗素オイル系の潤滑剤をスピンコートすることによっ
て潤滑膜層７を形成して完成する。
に、図１の基板の上に無電解めっき法によって磁性膜で
あるＣｏ−Ｐ磁性めっき層５を形成し、さらに、図２
（ｂ）に示すように、テトラヒドロキシシランを溶解さ
せたイソプロピルアルコール溶液スピンコート法によっ
て約６００オングストロムの厚さに塗布して焼成するこ
とにより、ＳｉＯ2 保護膜６を形成し、この保護膜の上
に弗素オイル系の潤滑剤をスピンコートすることによっ
て潤滑膜層７を形成して完成する。
【００１４】上述のように本実施例の基板を用いて製造
した磁気ディスクの摩擦係数と、従来の基板を用いて製
造した磁気ディスクの摩擦係数とを測定した結果を表２
に示す。この測定は、Ｍｎ−Ｚｎフェライト製の磁気ヘ
ッドを使用し、磁気ヘッドを磁気ディスクにロードした
直後と、ロードしてから４８時間放置した後の静摩擦係
数を測定したものである。
した磁気ディスクの摩擦係数と、従来の基板を用いて製
造した磁気ディスクの摩擦係数とを測定した結果を表２
に示す。この測定は、Ｍｎ−Ｚｎフェライト製の磁気ヘ
ッドを使用し、磁気ヘッドを磁気ディスクにロードした
直後と、ロードしてから４８時間放置した後の静摩擦係
数を測定したものである。
【００１５】
【表２】
【００１６】表２から明らかにように、本実施例の基板
を用いて製造した磁気ディスクの摩擦係数は、特に４８
時間放置した後において、従来の基板を用いて製造した
磁気ディスクの摩擦係数よりも小さな値を示し、吸着防
止効果が顕著であることを示している。
を用いて製造した磁気ディスクの摩擦係数は、特に４８
時間放置した後において、従来の基板を用いて製造した
磁気ディスクの摩擦係数よりも小さな値を示し、吸着防
止効果が顕著であることを示している。
【００１７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の磁気ディ
スク用基板は、無電解めっき法または電気めっき法によ
って表面に微小な半球状の凸部を全面的に形成すること
により、これを用いて製造した磁気ディスクの摩擦係数
を低減させることが可能になるという効果があり、従っ
て磁気ヘッドの磁気ディスクによる吸着を防止できると
いう効果がある。
スク用基板は、無電解めっき法または電気めっき法によ
って表面に微小な半球状の凸部を全面的に形成すること
により、これを用いて製造した磁気ディスクの摩擦係数
を低減させることが可能になるという効果があり、従っ
て磁気ヘッドの磁気ディスクによる吸着を防止できると
いう効果がある。
【図１】本発明の一実施例を製造工程順に示す断面図で
ある。
ある。
【図２】図１の実施例を用いた磁気ディスクを製造工程
順に示す断面図である。
順に示す断面図である。
１ アルミニウム基板 ２ Ｎｉ−Ｐ中間層 ３ Ｐｄめっき層 ４ Ｎｉ−Ｐめっき層 ５ Ｃｏ−Ｐ磁性めっき層 ６ ＳｉＯ2 保護膜 ７ 潤滑膜層
Claims (3)
- 【請求項１】 無電解めっき法によって表面に全面的に
形成した微小な半球状の凸部を有することを特徴とする
磁気ディスク用基板。 - 【請求項２】 電気めっき法によって表面に全面的に形
成した微小な半球状の凸部を有することを特徴とする磁
気ディスク用基板。 - 【請求項３】 パラジュウムまたは金または銀または銅
を含むめっき核を用いて形成した半球状の凸部を有する
ことを特徴とする請求項２記載の磁気ディスク用基板。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4308404A JPH06162493A (ja) | 1992-11-18 | 1992-11-18 | 磁気ディスク用基板 |
| CA002102145A CA2102145C (en) | 1992-11-18 | 1993-11-01 | Substrate for magnetic disk |
| AU50766/93A AU671153B2 (en) | 1992-11-18 | 1993-11-17 | Substrate for magnetic disk |
| US08/369,337 US5466481A (en) | 1992-11-18 | 1995-01-06 | Substrate for magnetic disk |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4308404A JPH06162493A (ja) | 1992-11-18 | 1992-11-18 | 磁気ディスク用基板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06162493A true JPH06162493A (ja) | 1994-06-10 |
Family
ID=17980658
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4308404A Withdrawn JPH06162493A (ja) | 1992-11-18 | 1992-11-18 | 磁気ディスク用基板 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5466481A (ja) |
| JP (1) | JPH06162493A (ja) |
| AU (1) | AU671153B2 (ja) |
| CA (1) | CA2102145C (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB9320305D0 (en) * | 1993-10-01 | 1993-11-17 | Kodak Ltd | Production of carriers for surface plasmin resonance |
| US6977030B2 (en) * | 2000-11-21 | 2005-12-20 | Leonard Nanis | Method of coating smooth electroless nickel on magnetic memory disks and related memory devices |
| US8022190B2 (en) * | 2001-06-19 | 2011-09-20 | Technion Research & Development Foundation Ltd. | Immuno-molecules containing viral proteins, compositions thereof and methods of using |
| JP2006031875A (ja) * | 2004-07-20 | 2006-02-02 | Fujitsu Ltd | 記録媒体基板および記録媒体 |
| CN104057366A (zh) * | 2014-06-06 | 2014-09-24 | 上海大学 | 一种经过边缘修形的表面凸起织构及其加工方法 |
| CN104044016B (zh) * | 2014-06-06 | 2018-03-06 | 上海大学 | 一种经过边缘修形的表面凹坑织构及其加工方法 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1929687A1 (de) * | 1969-06-11 | 1971-01-07 | Siemens Ag | Verfahren zum Herstellen von magnetischen Zylinderschichten fuer Speicherzwecke mit uniaxialer Anisotropie der Magnetisierung |
| JPS5151908A (ja) * | 1974-11-01 | 1976-05-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | |
| JPS5968815A (ja) * | 1982-10-12 | 1984-04-18 | Sony Corp | 磁気記録媒体 |
| JPS60127527A (ja) * | 1983-12-15 | 1985-07-08 | Saiteku Kk | 膜状積重磁気記録媒体およびその製造方法 |
| JPH0297639A (ja) * | 1988-09-30 | 1990-04-10 | Furukawa Alum Co Ltd | メツキ性に優れた磁気デイスク基板用アルミニウム合金 |
| EP0421120B1 (en) * | 1989-10-05 | 1996-10-30 | International Business Machines Corporation | Thin film magnetic storage medium and method for the manufacture thereof |
| US5405646A (en) * | 1992-10-14 | 1995-04-11 | Nanis; Leonard | Method of manufacture thin film magnetic disk |
-
1992
- 1992-11-18 JP JP4308404A patent/JPH06162493A/ja not_active Withdrawn
-
1993
- 1993-11-01 CA CA002102145A patent/CA2102145C/en not_active Expired - Fee Related
- 1993-11-17 AU AU50766/93A patent/AU671153B2/en not_active Ceased
-
1995
- 1995-01-06 US US08/369,337 patent/US5466481A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CA2102145A1 (en) | 1994-05-19 |
| AU5076693A (en) | 1994-06-02 |
| US5466481A (en) | 1995-11-14 |
| CA2102145C (en) | 1999-03-09 |
| AU671153B2 (en) | 1996-08-15 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20000201 |