JPH06321836A - ９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンの精製方法 - Google Patents
９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンの精製方法Info
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- JPH06321836A JPH06321836A JP11323293A JP11323293A JPH06321836A JP H06321836 A JPH06321836 A JP H06321836A JP 11323293 A JP11323293 A JP 11323293A JP 11323293 A JP11323293 A JP 11323293A JP H06321836 A JPH06321836 A JP H06321836A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 粗９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
フルオレンを８０％以上の回収率で純度９９．８％以上
に精製する。 【構成】 粗９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
フルオレンを室温で酢酸エステル類に完全に溶解させ、
そこにヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶剤を添加して結
晶を析出させる精製方法である。析出した結晶について
は、濾別した後、必要により上記操作を繰り返し、最終
的には１００〜１５０℃で乾燥させて製品とする。 【効果】 従来の方法に比べて簡易な手段により、粗
９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンの
精製を容易にかつ高回収率で行うことができ、工業的に
極めて有利である。
フルオレンを８０％以上の回収率で純度９９．８％以上
に精製する。 【構成】 粗９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
フルオレンを室温で酢酸エステル類に完全に溶解させ、
そこにヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶剤を添加して結
晶を析出させる精製方法である。析出した結晶について
は、濾別した後、必要により上記操作を繰り返し、最終
的には１００〜１５０℃で乾燥させて製品とする。 【効果】 従来の方法に比べて簡易な手段により、粗
９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンの
精製を容易にかつ高回収率で行うことができ、工業的に
極めて有利である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、耐熱性ポリエステル等
の原料として有用な９，９−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）フルオレンの精製方法に関するものである。
の原料として有用な９，９−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）フルオレンの精製方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】フェノールとフルオレンを反応させて
９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンを
合成する方法として、金属塩化物−塩化水素を触媒とし
て使用する方法が知られている〔例えば、P. Morgan, M
acromolecules, 3, 536(1970);米国特許第 4,467,122号
明細書〕。他に、チェンらは、金属塩化物に代えてメル
カプトプロピオン酸−塩化水素を触媒として用い、９，
９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンを合成
したことを報告している〔J. Appl. Polym. Sci., 27
(9), 3289(1982) 〕。
９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンを
合成する方法として、金属塩化物−塩化水素を触媒とし
て使用する方法が知られている〔例えば、P. Morgan, M
acromolecules, 3, 536(1970);米国特許第 4,467,122号
明細書〕。他に、チェンらは、金属塩化物に代えてメル
カプトプロピオン酸−塩化水素を触媒として用い、９，
９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンを合成
したことを報告している〔J. Appl. Polym. Sci., 27
(9), 3289(1982) 〕。
【０００３】また、特開平３−２８２２２号公報には、
９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンを
用いたポリエステル合成において、純度９９．８％以上
のポリマーを使用しなければ、充分な破断点伸びを示す
ポリエステルが得られないことが記載されている。
９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンを
用いたポリエステル合成において、純度９９．８％以上
のポリマーを使用しなければ、充分な破断点伸びを示す
ポリエステルが得られないことが記載されている。
【０００４】ところで、種々の方法によって得られた
９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンの
精製方法として、粗原料をメタノールに溶解させた後、
水を添加し析出させる方法（米国特許第 4,049,721号明
細書）や、アセトン等と錯体を形成させ精製させる方法
（特開昭 62-52,324号公報）が知られている。前者は、
脱色が主目的であってその純度については不明なうえ、
回収率も６０％程度である。また、後者は、本発明者ら
追試によれば後述の比較例１に示すように、その操作だ
けでは純度が９９．８％以上にならないうえ、回収率も
６９．１％であり、従って純度を９９．８％以上にする
ためには更にもう一段階以上別の溶媒で再結晶化するこ
とが必要になり、そのために回収率が５０％未満になっ
てしまう。
９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンの
精製方法として、粗原料をメタノールに溶解させた後、
水を添加し析出させる方法（米国特許第 4,049,721号明
細書）や、アセトン等と錯体を形成させ精製させる方法
（特開昭 62-52,324号公報）が知られている。前者は、
脱色が主目的であってその純度については不明なうえ、
回収率も６０％程度である。また、後者は、本発明者ら
追試によれば後述の比較例１に示すように、その操作だ
けでは純度が９９．８％以上にならないうえ、回収率も
６９．１％であり、従って純度を９９．８％以上にする
ためには更にもう一段階以上別の溶媒で再結晶化するこ
とが必要になり、そのために回収率が５０％未満になっ
てしまう。
【０００５】また、前記特開平３−２８２２２号公報に
は、ジクロロエタンを用いた再結晶による精製法の記載
があるが、本発明者らが追試したところ、純度９９．８
％以上にまで精製するとその時の回収率は比較例２に示
すように７５．６％になって不十分であるほか、ジクロ
ロエタンはハロゲン系の溶媒であるために分解して有害
物質に変化し、地球環境汚染の点においても非常に問題
である。また、工業化する場合においても、再結晶であ
るためにジクロロエタンの沸点まで加温する必要があ
り、操作が煩雑であるほか、パッキン等に特殊なものを
使用しなければならないという問題がある。
は、ジクロロエタンを用いた再結晶による精製法の記載
があるが、本発明者らが追試したところ、純度９９．８
％以上にまで精製するとその時の回収率は比較例２に示
すように７５．６％になって不十分であるほか、ジクロ
ロエタンはハロゲン系の溶媒であるために分解して有害
物質に変化し、地球環境汚染の点においても非常に問題
である。また、工業化する場合においても、再結晶であ
るためにジクロロエタンの沸点まで加温する必要があ
り、操作が煩雑であるほか、パッキン等に特殊なものを
使用しなければならないという問題がある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明者ら
は、目的物として純度９９．８％以上の９，９−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンを得るため、公
知の方法で合成して得られた粗９，９−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）フルオレンを簡単な方法でしかも高い
回収率で精製する方法について鋭意検討した結果、本発
明を完成した。従って、本発明の目的は、これまで知ら
れていた方法により９，９−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）フルオレンを合成し、その精製過程を改善し、簡
易な操作で収率と回収率の向上を図り、高純度の目的物
質である９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フル
オレンを得ることにある。
は、目的物として純度９９．８％以上の９，９−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンを得るため、公
知の方法で合成して得られた粗９，９−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）フルオレンを簡単な方法でしかも高い
回収率で精製する方法について鋭意検討した結果、本発
明を完成した。従って、本発明の目的は、これまで知ら
れていた方法により９，９−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）フルオレンを合成し、その精製過程を改善し、簡
易な操作で収率と回収率の向上を図り、高純度の目的物
質である９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フル
オレンを得ることにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、粗
９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンを
酢酸エステル類に溶解させた後、これに脂肪族炭化水素
系溶剤を添加して９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）フルオレンの結晶を析出させる９，９−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）フルオレンの精製方法である。
９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンを
酢酸エステル類に溶解させた後、これに脂肪族炭化水素
系溶剤を添加して９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）フルオレンの結晶を析出させる９，９−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）フルオレンの精製方法である。
【０００８】本発明は、公知の方法により合成して得ら
れた反応生成物である粗９，９−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）フルオレンを原料とし、反応後にこの反応生
成物に含まれる副生成物の９，９−ビス（２，４−ヒド
ロキシフェニル）フルオレン（式Ｉ）や１つのフェノー
ル環を共用する２量体（式ＩＩ）
れた反応生成物である粗９，９−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）フルオレンを原料とし、反応後にこの反応生
成物に含まれる副生成物の９，９−ビス（２，４−ヒド
ロキシフェニル）フルオレン（式Ｉ）や１つのフェノー
ル環を共用する２量体（式ＩＩ）
【０００９】
【化１】 を除くために、原料の粗９，９−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）フルオレンを酢酸エステル類に一旦溶解さ
せ、更にヘキサン等の脂肪族炭化系溶剤を添加して結晶
を析出させるものであり、この方法を繰り返すことによ
り、容易に純度９９．８％以上の９，９−ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）フルオレンを回収率８０％以上で得
ることができる。
フェニル）フルオレンを酢酸エステル類に一旦溶解さ
せ、更にヘキサン等の脂肪族炭化系溶剤を添加して結晶
を析出させるものであり、この方法を繰り返すことによ
り、容易に純度９９．８％以上の９，９−ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）フルオレンを回収率８０％以上で得
ることができる。
【００１０】本発明を実施するには、先ず、例えば触媒
として塩化水素及びメルカプトプロピオン酸を用い、フ
ルオレンとフェノールにより９，９−ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）フルオレンを合成する。次いで、この反
応により得られた反応混合物の中には、目的物の９，９
−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンのほか、
未反応のフェノールや、触媒の塩化水素及びメルカプト
プロピオン酸等が存在しているので、最初に減圧蒸留や
トルエン等の溶剤を用いて、未反応のフェノールや触媒
のβ−メルカプトプロピオン酸を除去する。
として塩化水素及びメルカプトプロピオン酸を用い、フ
ルオレンとフェノールにより９，９−ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）フルオレンを合成する。次いで、この反
応により得られた反応混合物の中には、目的物の９，９
−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンのほか、
未反応のフェノールや、触媒の塩化水素及びメルカプト
プロピオン酸等が存在しているので、最初に減圧蒸留や
トルエン等の溶剤を用いて、未反応のフェノールや触媒
のβ−メルカプトプロピオン酸を除去する。
【００１１】このようにして得られた反応生成物中に
は、この段階で上記式Ｉや式IIの副生成物等の不純物が
３〜５％の割合で含まれるため、引続き以下のようにし
て精製する。先ず、反応生成物を室温下で酢酸エステル
類に完全に溶解させ、この溶液を攪拌機で攪拌しなが
ら、そこにヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶剤を徐々に
滴下し、結晶を析出させる。
は、この段階で上記式Ｉや式IIの副生成物等の不純物が
３〜５％の割合で含まれるため、引続き以下のようにし
て精製する。先ず、反応生成物を室温下で酢酸エステル
類に完全に溶解させ、この溶液を攪拌機で攪拌しなが
ら、そこにヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶剤を徐々に
滴下し、結晶を析出させる。
【００１２】ここで、溶剤として酢酸エステル類を用い
る理由は、目的物の９，９−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）フルオレンや上記式Ｉや式IIの副生成物に対する
溶解度が高く、溶剤が少量でも比較的大量の粗原料を溶
解でき、回収率が高くなる上、工業化において釜効率に
優れているからである。このような酢酸エステル類とし
ては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等やこれら
の混合溶剤を使用することができ、好ましくは酢酸エチ
ルである。また、使用する脂肪族炭化系溶剤としては、
石油エーテル、ヘキサンヘプタン、石油ベンジン等やこ
れらの混合溶剤を挙げることができる。
る理由は、目的物の９，９−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）フルオレンや上記式Ｉや式IIの副生成物に対する
溶解度が高く、溶剤が少量でも比較的大量の粗原料を溶
解でき、回収率が高くなる上、工業化において釜効率に
優れているからである。このような酢酸エステル類とし
ては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等やこれら
の混合溶剤を使用することができ、好ましくは酢酸エチ
ルである。また、使用する脂肪族炭化系溶剤としては、
石油エーテル、ヘキサンヘプタン、石油ベンジン等やこ
れらの混合溶剤を挙げることができる。
【００１３】脂肪族炭化水素系溶剤を滴下完了後、更に
必要により３０〜１２０分間程度攪拌を継続し、完全に
結晶を析出させる。析出した結晶を濾別した後、必要に
より再び酢酸エステル類に溶解し、再度上記操作を繰り
返す。この操作を適宜回数繰り返すことにより、目的と
する高純度の９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
フルオレンを得ることができる。
必要により３０〜１２０分間程度攪拌を継続し、完全に
結晶を析出させる。析出した結晶を濾別した後、必要に
より再び酢酸エステル類に溶解し、再度上記操作を繰り
返す。この操作を適宜回数繰り返すことにより、目的と
する高純度の９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
フルオレンを得ることができる。
【００１４】最終的には濾別した後、１００〜１５０℃
で乾燥させて製品とする。この精製工程において、その
純度の分析は、好ましくは液体クロマトグラフィーによ
り行うのがよい。
で乾燥させて製品とする。この精製工程において、その
純度の分析は、好ましくは液体クロマトグラフィーによ
り行うのがよい。
【００１５】
【作用】本発明の方法は、ヘキサン等の脂肪族炭化水素
系溶剤に対する目的物の９，９−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）フルオレンと副生成物である９，９−ビス
（２，４−ヒドロキシフェニル）フルオレン（式Ｉ）や
１つのフェノール環を共用する２量体（式ＩＩ）等との
間の溶解度の差を利用したものである。目的物の９，９
−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンに出発原
料や式Ｉや式IIの副生成物が混在していると、最終製品
であるポリマーの重合度低下や、ワニスへの着色の原因
となるが、本発明方法により９５〜９７％程度の純度で
ある粗９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオ
レンを容易に純度９９．８％以上の純度に精製でき、し
かも、その時の回収率をこれまでの６０％程度から８０
％以上に改善できる。
系溶剤に対する目的物の９，９−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）フルオレンと副生成物である９，９−ビス
（２，４−ヒドロキシフェニル）フルオレン（式Ｉ）や
１つのフェノール環を共用する２量体（式ＩＩ）等との
間の溶解度の差を利用したものである。目的物の９，９
−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンに出発原
料や式Ｉや式IIの副生成物が混在していると、最終製品
であるポリマーの重合度低下や、ワニスへの着色の原因
となるが、本発明方法により９５〜９７％程度の純度で
ある粗９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオ
レンを容易に純度９９．８％以上の純度に精製でき、し
かも、その時の回収率をこれまでの６０％程度から８０
％以上に改善できる。
【００１６】
【実施例】以下、実施例及び比較例に基づいて、本発明
の内容をより詳細に説明する。
の内容をより詳細に説明する。
【００１７】実施例１ 原料として純度９６．４％の粗９，９−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）フルオレン２０ｇを使用し、これを室
温で３０分かけて酢酸エチル４０ｇ中に完全に溶解し
た。次いで、このようにして得られた溶液中に３０分か
けてヘキサン１００ｍｌを添加し、結晶を析出させた。
このヘキサン滴下終了後、更に１時間攪拌を継続した。
ロキシフェニル）フルオレン２０ｇを使用し、これを室
温で３０分かけて酢酸エチル４０ｇ中に完全に溶解し
た。次いで、このようにして得られた溶液中に３０分か
けてヘキサン１００ｍｌを添加し、結晶を析出させた。
このヘキサン滴下終了後、更に１時間攪拌を継続した。
【００１８】攪拌終了後、析出した結晶を濾別し、得ら
れた結晶を再び４０ｇの酢酸エチル中に溶解した。この
溶液を室温で３０分間攪拌した後、溶液中にヘキサン１
００ｍｌを滴下し、滴下終了後更に１時間攪拌を継続し
た。析出した結晶を濾別した後、１２０℃で乾燥し、得
られた結晶品の純度を液体クロマトグラフィー（カラ
ム：Nucleosol 50-5、移動層：ヘキサン１３／酢酸エチ
ル３／メタノール１）で測定した。結果は結晶の純度：
９９．８２％及び回収率：８３．３％であった。
れた結晶を再び４０ｇの酢酸エチル中に溶解した。この
溶液を室温で３０分間攪拌した後、溶液中にヘキサン１
００ｍｌを滴下し、滴下終了後更に１時間攪拌を継続し
た。析出した結晶を濾別した後、１２０℃で乾燥し、得
られた結晶品の純度を液体クロマトグラフィー（カラ
ム：Nucleosol 50-5、移動層：ヘキサン１３／酢酸エチ
ル３／メタノール１）で測定した。結果は結晶の純度：
９９．８２％及び回収率：８３．３％であった。
【００１９】実施例２ 原料として純度９６．４％の粗９，９−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）フルオレン２０ｇを使用し、室温で３
０分かけて酢酸ブチル４０ｇ中に完全に溶解した。次い
で、このようにして得られた溶液中に３０分かけて石油
エーテル１００ｍｌを添加し、結晶を析出させた。この
石油エーテル滴下終了後、更に１時間攪拌を継続した。
ロキシフェニル）フルオレン２０ｇを使用し、室温で３
０分かけて酢酸ブチル４０ｇ中に完全に溶解した。次い
で、このようにして得られた溶液中に３０分かけて石油
エーテル１００ｍｌを添加し、結晶を析出させた。この
石油エーテル滴下終了後、更に１時間攪拌を継続した。
【００２０】析出した結晶を濾別した後、得られた結晶
を再び４０ｇの酢酸エチル中に溶解した。この溶液を３
０分攪拌した後、ヘキサン１００ｍｌを滴下し、滴下終
了後更に１時間攪拌を継続した。析出した結晶を濾別し
た後、１２０℃で乾燥し、実施例１と同様に得られた結
晶品の純度を液体クロマトグラフィーで測定した。結果
は、結晶の純度：９９．８１％及び回収率：８０．５％
であった。
を再び４０ｇの酢酸エチル中に溶解した。この溶液を３
０分攪拌した後、ヘキサン１００ｍｌを滴下し、滴下終
了後更に１時間攪拌を継続した。析出した結晶を濾別し
た後、１２０℃で乾燥し、実施例１と同様に得られた結
晶品の純度を液体クロマトグラフィーで測定した。結果
は、結晶の純度：９９．８１％及び回収率：８０．５％
であった。
【００２１】比較例１ 原料として純度９６．４％の粗９，９−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）フルオレン２０ｇを使用し、これをア
セトン４０ｇに加熱溶解させた。その後、室温で放置
し、析出した結晶を濾別し、得られた結晶を１００℃で
乾燥させ、実施例１と同様に液体クロマトグラフィーで
その純度を測定した。結果は、結晶の純度：９８．８２
％及び回収率：６９．１％であった。
ロキシフェニル）フルオレン２０ｇを使用し、これをア
セトン４０ｇに加熱溶解させた。その後、室温で放置
し、析出した結晶を濾別し、得られた結晶を１００℃で
乾燥させ、実施例１と同様に液体クロマトグラフィーで
その純度を測定した。結果は、結晶の純度：９８．８２
％及び回収率：６９．１％であった。
【００２２】比較例２ 原料として純度９６．４％の粗９，９−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）フルオレン２０ｇを使用し、これをジ
クロロエタン７０ｇに加熱溶解させた。３０分間加熱還
流した後、室温で放置し、析出した結晶を濾別した。得
られた結晶を１５０℃で乾燥させ、実施例１と同様に液
体クロマトグラフィーでその純度を測定した。結果は、
結晶の純度：９９．８１％及び回収率：７５．６％であ
った。
ロキシフェニル）フルオレン２０ｇを使用し、これをジ
クロロエタン７０ｇに加熱溶解させた。３０分間加熱還
流した後、室温で放置し、析出した結晶を濾別した。得
られた結晶を１５０℃で乾燥させ、実施例１と同様に液
体クロマトグラフィーでその純度を測定した。結果は、
結晶の純度：９９．８１％及び回収率：７５．６％であ
った。
【００２３】比較例３ 原料として純度９６．４％の粗９，９−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）フルオレン２０ｇを使用し、一般の再
結晶法のように、酢酸エチルとヘキサン１：２の混合溶
液３４０ｍｌに加熱下に溶解させた。その後、３０分間
加熱還流した後、室温で放置し、析出した結晶を濾別し
た。得られた結晶を１５０℃で乾燥させ、実施例１と同
様に液体クロマトグラフィーでその純度を測定した。結
果は、結晶の純度：９９．８０％及び回収率：３３．６
％であった。
ロキシフェニル）フルオレン２０ｇを使用し、一般の再
結晶法のように、酢酸エチルとヘキサン１：２の混合溶
液３４０ｍｌに加熱下に溶解させた。その後、３０分間
加熱還流した後、室温で放置し、析出した結晶を濾別し
た。得られた結晶を１５０℃で乾燥させ、実施例１と同
様に液体クロマトグラフィーでその純度を測定した。結
果は、結晶の純度：９９．８０％及び回収率：３３．６
％であった。
【００２４】
【発明の効果】本発明方法によれば、従来の方法に比べ
て簡易な手段により、粗９，９−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）フルオレンの精製を容易にかつ高回収率で行
うことができ、工業的に極めて有利である。本発明の方
法で精製された９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）フルオレンは、その純度が極めて高いので、耐熱性
を要求される高分子用のモノマーあるいは中間体として
広範に用いることができ、特にポリエステル、ポリカー
ボネート、エポキシ樹脂、ヒドロキシアクリレート等の
原料として有用である。従って、本発明の方法によれ
ば、このように有用な原料を高純度で安価にかつ安定し
て供給できることになり、産業上極めて有意義である。
て簡易な手段により、粗９，９−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）フルオレンの精製を容易にかつ高回収率で行
うことができ、工業的に極めて有利である。本発明の方
法で精製された９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）フルオレンは、その純度が極めて高いので、耐熱性
を要求される高分子用のモノマーあるいは中間体として
広範に用いることができ、特にポリエステル、ポリカー
ボネート、エポキシ樹脂、ヒドロキシアクリレート等の
原料として有用である。従って、本発明の方法によれ
ば、このように有用な原料を高純度で安価にかつ安定し
て供給できることになり、産業上極めて有意義である。
Claims (1)
- 【請求項１】 粗９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）フルオレンを酢酸エステル類に溶解させた後、これ
に脂肪族炭化水素系溶剤を添加して９，９−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）フルオレンの結晶を析出させるこ
とを特徴とする９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）フルオレンの精製方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11323293A JPH06321836A (ja) | 1993-05-14 | 1993-05-14 | ９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンの精製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11323293A JPH06321836A (ja) | 1993-05-14 | 1993-05-14 | ９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンの精製方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06321836A true JPH06321836A (ja) | 1994-11-22 |
Family
ID=14606919
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11323293A Withdrawn JPH06321836A (ja) | 1993-05-14 | 1993-05-14 | ９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンの精製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06321836A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010248176A (ja) * | 2009-03-23 | 2010-11-04 | Honshu Chem Ind Co Ltd | ９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン類の製造方法 |
| KR20150101932A (ko) * | 2014-02-27 | 2015-09-04 | 신닛테츠 수미킨 가가쿠 가부시키가이샤 | 플루오렌 골격 함유 에폭시 수지의 제조 방법, 에폭시 수지 조성물, 및 경화물 |
| JP2015178592A (ja) * | 2014-02-27 | 2015-10-08 | 新日鉄住金化学株式会社 | フルオレン骨格含有エポキシ樹脂の製造方法、エポキシ樹脂組成物、及び硬化物 |
| CN116332730A (zh) * | 2023-03-17 | 2023-06-27 | 三峡大学 | 一种电子级芴类化合物精制纯化方法 |
-
1993
- 1993-05-14 JP JP11323293A patent/JPH06321836A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010248176A (ja) * | 2009-03-23 | 2010-11-04 | Honshu Chem Ind Co Ltd | ９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン類の製造方法 |
| KR20150101932A (ko) * | 2014-02-27 | 2015-09-04 | 신닛테츠 수미킨 가가쿠 가부시키가이샤 | 플루오렌 골격 함유 에폭시 수지의 제조 방법, 에폭시 수지 조성물, 및 경화물 |
| JP2015178592A (ja) * | 2014-02-27 | 2015-10-08 | 新日鉄住金化学株式会社 | フルオレン骨格含有エポキシ樹脂の製造方法、エポキシ樹脂組成物、及び硬化物 |
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