JPH06252072A - 基板処理装置 - Google Patents

基板処理装置

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Publication number
JPH06252072A
JPH06252072A JP5777093A JP5777093A JPH06252072A JP H06252072 A JPH06252072 A JP H06252072A JP 5777093 A JP5777093 A JP 5777093A JP 5777093 A JP5777093 A JP 5777093A JP H06252072 A JPH06252072 A JP H06252072A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cartridge
substrate
special
immersion tank
tank
Prior art date
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Pending
Application number
JP5777093A
Other languages
English (en)
Inventor
Masaaki Kanehara
正明 金原
Isao Aoki
功 青木
Yoshimitsu Ishibashi
良光 石橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ebara Corp
Original Assignee
Ebara Corp
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Publication date
Application filed by Ebara Corp filed Critical Ebara Corp
Priority to JP5777093A priority Critical patent/JPH06252072A/ja
Publication of JPH06252072A publication Critical patent/JPH06252072A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 人手をかけずに1つの装置内で湿式成膜工程
の全てを完了させることのできる基板処理装置を提供す
ること。 【構成】 標準カートリッヂ3と特殊カートリッヂ4を
並べておいてその内部に収納された基板2をお互いに移
し替える基板移替機1と、基板2を収納した特殊カート
リッヂ4ごと浸漬する成膜槽5,水洗槽6と、基板2を
収納した特殊カートリッヂ4を前記基板移替機1と前記
成膜槽5と水洗槽6の間で運搬するカートリッヂ運搬機
7と、これら基板移替機1と成膜槽5と水洗槽6とカー
トリッヂ運搬機7を収納する1つの枠体8とを具備す
る。カートリッヂ運搬機7は、特殊カートリッヂ4を把
持する把持機構10と、該把持機構10を上下動させる
上下動機構と、このカートリッヂ運搬機7自体を水平移
動させる水平移動機構14とを有する。水平移動機構1
4は天井板17近傍に取り付けられる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体ウエハ等の基板
面上に湿式で成膜せしめる基板処理装置に関するもので
ある。
【0002】
【従来技術】従来、半導体ウエハ等の基板面上に成膜を
行うには、まず標準カートリッヂ内に収納されている基
板を、人手により或いは外部に設置されている基板移替
機によって特殊カートリッヂ内に移し替える。次にこの
特殊カートリッヂを成膜用の装置にセットし、該装置に
よって成膜を行う。そして成膜完了後、該特殊カートリ
ッヂごと人手によって次の工程(乾燥工程)へ運んでい
た。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の方法では、各工程の途中に人手を必要とするため、生
産効率が低くなってしまうばかりか、大気中の微粒子に
よるいわゆるパーティクル汚染を起こしてしまう等の欠
点があった。
【0004】本発明は上述の点に鑑みてなされたもので
あり、その目的は、人手をかけずに1つの装置で湿式成
膜工程の全てを完了させることのできる基板処理装置を
提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
め本発明は、カートリッヂに収納された基板をカートリ
ッヂごと液浸槽中に浸漬して、該基板に成膜,洗浄等の
液侵処理を行う基板処理装置において、標準カートリッ
ヂと特殊カートリッヂを並べておいてその内部に収納さ
れた基板をお互いに移し替える基板移替機と、基板を収
納した特殊カートリッヂごと浸漬する液浸槽と、基板を
収納した特殊カートリッヂを前記基板移替機と前記液浸
槽の間で運搬するカートリッヂ運搬機と、これら基板移
替機と液浸槽とカートリッヂ運搬機を収納する1つの枠
体とを具備し、前記カートリッヂ運搬機は、特殊カート
リッヂを把持する把持機構と、該把持機構を上下動させ
る上下動機構と、このカートリッヂ運搬機自体を水平移
動させる水平移動機構とを有し、該水平移動機構を前記
枠体の少なくとも液浸槽の開口部より低い部分或いは天
井板近傍に取り付けて構成した。
【0006】
【作用】1つの枠体の中に基板移替機,各処理槽,カー
トリッヂ運搬機を組み込むことにより、標準カートリッ
ヂと特殊カートリッヂの間の基板の移動は基板移替機が
行い、特殊カートリッヂの各処理槽への運搬はカートリ
ッヂ運搬機が行う。従って人手に触れずに全自動で基板
成膜の全工程が行える。
【0007】
【実施例】以下、本発明の1実施例を図面に基づいて詳
細に説明する。図1,図2は本発明の第1実施例にかか
る基板処理装置を示す図であり、図1は概略側断面図、
図2は図1のA−A断面矢視図である。
【0008】両図に示すようにこの基板処理装置100
は、枠体8内に、基板移替機1と、成膜槽5と、水洗槽
6と、カートリッヂ運搬機7を組み込んで構成されてい
る。またカートリッヂ運搬機7は、把持機構10と上下
動機構12(図2参照)と水平移動機構14によって構
成されている。以下各構成部分について説明する。
【0009】基板移替機1は、並列に並べられた標準カ
ートリッヂ3と特殊カートリッヂ4の内のいずれか一方
のカートリッヂに収納された基板2を、他方のカートリ
ッヂに移し替えるものである。
【0010】ここで図5は基板移替機1の概略構造を示
す図である。同図に示すようにこの基板移替機1は、そ
の上部に左右に移動可能な支持体21を設けるととも
に、該支持体21に爪22,22を取り付け、また標準
カートリッヂ3と特殊カートリッヂ4の真下にそれぞれ
シリンダー24,24を配設して構成されている。爪2
2,22は基板2を保持するものであり、シリンダー2
4,24は、ロッド25が上昇することによりその先端
の押出し治具23がカートリッヂ3,4内の基板2を押
し上げるものである。
【0011】次に図1,図2に示すようにカートリッヂ
運搬機7の把持機構10は、前記特殊カートリッヂ4を
把持する2組のアーム101,103と該アーム10
1,103の一端に取り付けられる回転ロッド105,
107と、該回転ロッド105,107を回動自在に支
持する支持体11によって構成されている。なお支持体
11は下記する上下動機構12のネジ123に螺合され
ている。
【0012】次にカートリッヂ運搬機7の上下動機構1
2は、モータ121と該モータ121によって回転され
るネジ123によって構成されており、これらは下記す
る移動体141の内部に収納されている。
【0013】次にカートリッヂ運搬機7の水平移動機構
14は、天井板17上に車輪18によって支えられる移
動体141と、該移動体141の背面に取り付けられる
ベルト143と、ベルト143の両端に取り付けられ該
ベルト143を張設して駆動するプーリー15,16に
よって構成されている。
【0014】なおこのカートリッヂ運搬機7は、天井板
17で支えられ、吊り下げられるように構成されている
が、下記する図3,4に示す実施例のように枠体8の底
部で支えて水平方向に動かすように構成してもよい。
【0015】次にこの基板処理装置100の動作を説明
する。まず図1に示すように、基板2を収納した標準カ
ートリッヂ3を人手によって基板移替機1の図示の位置
に置く。そして図示しない起動釦を押すと、該基板移替
機1によって標準カートリッヂ3内の基板2は石英など
で作られた特殊カートリッヂ4内に移し替えられる(そ
の詳細な動作は後述する)。
【0016】次にカートリッヂ運搬機7全体が図1に示
すイの位置まで左方向に水平移動し、次にその把持機構
10が下降し、そのアーム101,103の先端が特殊
カートリッヂ4の外周を挾み、これを上方向に持ち上げ
る。
【0017】そしてこんどはカートリッヂ運搬機7全体
が成膜槽5の真上の位置まで右方向に移動し、把持機構
10を下降させて特殊カートリッヂ4を成膜槽5内に浸
漬し、基板2に成膜を行う。
【0018】成膜後、この特殊カートリッヂ4を持ち上
げ、同様にこれを水洗槽6に入れ、基板2を水洗する。
その後、この特殊カートリッヂ4を持ち上げて、元の基
板移替機1の所定位置(図1に示す位置)に置く。
【0019】次に基板移替機1によって、基板2は特殊
カートリッヂ4から標準カートリッヂ3に移し替えら
れ、これを人手により取り出すことで、一通りの作業が
終了する。
【0020】次に図3,図4は本発明の第2実施例にか
かる基板処理装置を示す図であり、図3は概略側断面
図、図4は図3のB−B断面矢視図である。なおこの実
施例において前記図1,図2に示す実施例と同一部分は
同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。
【0021】両図に示すようにこの基板処理装置200
は、枠体8内に、基板移替機1と、成膜槽5と、水洗槽
6と、乾燥槽19と、カートリッヂ運搬機7′を組み込
んで構成されている。この実施例において前記第1実施
例と相違する点は、乾燥槽19を設けた点と、カートリ
ッヂ運搬機7′の構造が若干相違することの2点なの
で、これらについて説明する。
【0022】乾燥槽19は蓋20付きであり、該乾燥槽
19内に収納した特殊カートリッヂ4をスピン乾燥か温
風乾燥或いはこれらを組み合わせること等によって乾燥
させるものである。
【0023】一方カートリッヂ運搬機7′の前記第1実
施例と相違する点は、その水平移動機構14′が、枠体
8の底部近傍に取り付けられている点である。つまりカ
ートリッヂ運搬機7′を枠体8の底部前部で車輪18′
によって支え、枠体8の底部近傍に設けられたベルト1
43′とプーリー15′,16′によって、水平方向に
移動できるようにした点である。
【0024】なおこのカートリッヂ運搬機7′を図1,
図2に示すような吊り下げ構造としてもよいことは言う
までもない。
【0025】そしてこの基板処理装置200において
は、水洗工程の後に乾燥工程が入っているので、前記第
1実施例と同様に、基板2を収納した特殊カートリッヂ
4を成膜槽5と水洗槽6に漬けて成膜・水洗処理をした
後に、これを乾燥槽19に入れて乾燥する。その後これ
を基板移替機1に戻し、該基板移替機1によって基板2
を標準カートリッヂ3に戻してこれを取り出せば、一通
りの作業が終了する。
【0026】以上のように本発明においては、基板2を
収納した標準カートリッヂ3を基板移替機1の所定位置
に置いて起動釦を押すだけで、基板2の成膜・洗浄処理
(場合によってはさらに乾燥処理)が一切人手に触れず
に全自動で行えることとなる。
【0027】次に基板移替機1の動作を図5,図6を用
いて説明する。まず図5に示すように、標準カートリッ
ヂ3に収納された基板2は、その真下に取り付けられた
シリンダー24のロッド25先端の押出し治具23によ
り、上方に突き上げられ、そこで爪22により挾まれ保
持される。
【0028】次に爪22の支持体21が右方向に移動し
て、図6に示す状態になる。
【0029】次に特殊カートリッヂ4の真下に取り付け
られたシリンダー24のロッド25先端の押出し治具2
3が上方向に伸びて、爪22に挾まれた基板2を受け取
り、爪22は左右に開く。
【0030】そしてシリンダー24のロッド25が下が
って押出し治具23に乗せられた基板2を特殊カートリ
ッヂ4に収納する。
【0031】特殊カートリッヂ4から標準カートリッヂ
3に基板2を移し替えるには、この動作の逆を行えば良
い。
【0032】ところで本発明において、1つの枠体の中
に組み込む基板移替機,成膜槽,水洗槽,乾燥槽の数
は、それぞれ単数でも複数でも良く、処理する基板の量
により決定される。
【0033】基板移替機にセットするカートリッヂの数
量は、基板の処理量,処理時間等を考慮して適当量に設
定すれば良い。
【0034】なお上記基板処理装置で扱う基板として
は、半導体ウエハ等、湿式で成膜せしめられる基板に広
く利用できる。
【0035】
【発明の効果】以上詳細に説明したように本発明にかか
る基板処理装置は、1つの枠体の中に基板移替機,各処
理槽,カートリッヂ運搬機を組み込むことにより、人手
に触れずに全自動でウエハ成膜の全工程を終了させられ
るので、生産効率が上がり、パーティクル汚染も少なく
なり、品質向上が図れるという優れた効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例にかかる基板処理装置を示
す概略側断面図である。
【図2】図1のA−A断面矢視図である。
【図3】本発明の第2実施例にかかる基板処理装置を示
す概略側断面図である。
【図4】図3のB−B断面矢視図である。
【図5】基板移替機1の概略構造を示す図である。
【図6】基板移替機1の動作を説明するための図であ
る。
【符号の説明】
100,200 基板処理装置 1 基板移替機 2 基板 3 標準カートリッヂ 4 特殊カートリッヂ 5 成膜槽 6 水洗槽 7,7′ カートリッヂ運搬機 8 枠体 10 把持機構 12 上下動機構 14,14′ 水平移動機構 17 天井板 19 乾燥槽

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 カートリッヂに収納された基板をカート
    リッヂごと液浸槽中に浸漬して、該基板に成膜,洗浄等
    の液侵処理を行う基板処理装置において、 標準カートリッヂと特殊カートリッヂを並べておいてそ
    の内部に収納された基板をお互いに移し替える基板移替
    機と、 基板を収納した特殊カートリッヂごと浸漬する液浸槽
    と、 基板を収納した特殊カートリッヂを前記基板移替機と前
    記液浸槽の間で運搬するカートリッヂ運搬機と、 これら基板移替機と液浸槽とカートリッヂ運搬機を収納
    する1つの枠体とを具備し、 前記カートリッヂ運搬機は、特殊カートリッヂを把持す
    る把持機構と、該把持機構を上下動させる上下動機構
    と、このカートリッヂ運搬機自体を水平移動させる水平
    移動機構とを有し、該水平移動機構を前記枠体の少なく
    とも液浸槽の開口部より低い部分或いは天井板近傍に取
    り付けたことを特徴とする基板処理装置。
  2. 【請求項2】 カートリッヂに収納された基板をカート
    リッヂごと液浸槽中に浸漬して、該基板に成膜,洗浄等
    の液侵処理を行う基板処理装置において、 標準カートリッヂと特殊カートリッヂを並べておいてそ
    の内部に収納された基板をお互いに移し替える基板移替
    機と、 基板を収納した特殊カートリッヂごと浸漬する液浸槽
    と、 前記液浸槽から取り出した基板入りの特殊カートリッヂ
    を回転させるか或いは温風を吹き付けて乾燥する乾燥槽
    と、 基板を収納した特殊カートリッヂを前記基板移替機と前
    記液浸槽と乾燥槽の間で運搬するカートリッヂ運搬機
    と、 これら基板移替機と液浸槽と乾燥槽とカートリッヂ運搬
    機を収納する1つの枠体とを具備し、 前記カートリッヂ運搬機は、特殊カートリッヂを把持す
    る把持機構と、該把持機構を上下動させる上下動機構
    と、このカートリッヂ運搬機自体を水平移動させる水平
    移動機構とを有し、該水平移動機構を前記枠体の少なく
    とも液浸槽の開口部より低い部分或いは天井板近傍に取
    り付けたことを特徴とする基板処理装置。
JP5777093A 1993-02-23 1993-02-23 基板処理装置 Pending JPH06252072A (ja)

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JP5777093A JPH06252072A (ja) 1993-02-23 1993-02-23 基板処理装置

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JP5777093A JPH06252072A (ja) 1993-02-23 1993-02-23 基板処理装置

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JPH06252072A true JPH06252072A (ja) 1994-09-09

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ID=13065117

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JP5777093A Pending JPH06252072A (ja) 1993-02-23 1993-02-23 基板処理装置

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JP (1) JPH06252072A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003017346A1 (en) * 2001-08-09 2003-02-27 Sharp Kabushiki Kaisha Sheet manufacturing device, sheet manufacturing method, and solar battery
US7186578B2 (en) 2002-06-28 2007-03-06 Sharp Kabushiki Kaisha Thin sheet production method and thin sheet production device
WO2023127051A1 (ja) * 2021-12-27 2023-07-06 東邦化成株式会社 基板処理モジュールおよびそれを備える基板処理装置

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WO2023127051A1 (ja) * 2021-12-27 2023-07-06 東邦化成株式会社 基板処理モジュールおよびそれを備える基板処理装置

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