JPH10125646A - ウエハー洗浄装置 - Google Patents
ウエハー洗浄装置Info
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- JPH10125646A JPH10125646A JP28045496A JP28045496A JPH10125646A JP H10125646 A JPH10125646 A JP H10125646A JP 28045496 A JP28045496 A JP 28045496A JP 28045496 A JP28045496 A JP 28045496A JP H10125646 A JPH10125646 A JP H10125646A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 搬送ロボットのチャックで掴んでウエハーを
薬液槽へ浸漬し、次いで第一水洗槽へ浸漬した後、更に
搬送ロボットのチャックを水洗するための専用のチャッ
ク水洗槽を必要としないウエハー洗浄装置を提供するこ
と。 【解決手段】 薬液槽３、第一水洗槽４、第二水洗槽
５、乾燥機６が並べられたウエハー洗浄装置１０におい
て、搬送ロボット１９のチャック１８が、ウエハーを収
容したキャリア８を薬液槽３へ浸漬する時の薬液中への
チャック１８の挿入深さよりも、キャリア８を第一水洗
槽４へ浸漬する時の水中へのチャック１８の挿入深さが
大になるように、第一水洗槽４の水面レベルｑを薬液槽
３の薬液面レベルｒよりも高くする。搬送ロボット１９
のチャック１８の昇降ストローク長さを一定としたまま
チャック水洗槽を除き得る。
薬液槽へ浸漬し、次いで第一水洗槽へ浸漬した後、更に
搬送ロボットのチャックを水洗するための専用のチャッ
ク水洗槽を必要としないウエハー洗浄装置を提供するこ
と。 【解決手段】 薬液槽３、第一水洗槽４、第二水洗槽
５、乾燥機６が並べられたウエハー洗浄装置１０におい
て、搬送ロボット１９のチャック１８が、ウエハーを収
容したキャリア８を薬液槽３へ浸漬する時の薬液中への
チャック１８の挿入深さよりも、キャリア８を第一水洗
槽４へ浸漬する時の水中へのチャック１８の挿入深さが
大になるように、第一水洗槽４の水面レベルｑを薬液槽
３の薬液面レベルｒよりも高くする。搬送ロボット１９
のチャック１８の昇降ストローク長さを一定としたまま
チャック水洗槽を除き得る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はウエハー洗浄装置に
関するものであり、更に詳しくは搬送ロボットのチャッ
クの水洗槽を省略した洗浄装置に関するものである。
関するものであり、更に詳しくは搬送ロボットのチャッ
クの水洗槽を省略した洗浄装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体装置の製造に当っては、導体や絶
縁体の薄膜を形成させる途中ないしは事前にウエハーを
薬液で洗浄し、次いで水洗することが広く行われてい
る。図５はその洗浄に使用されている従来のウエハー洗
浄装置２０の全体を示す概略側面図である。図５におい
てウエハーを収容するキャリア８は左方から右方へ流れ
る。最上流に、多数枚のウエハーを収容したキャリア８
を搬送ロボット１９に乗せるローダー１があり、以下順
に、搬送ロボット１９のチャック１８を水洗するチャッ
ク水洗槽２、薬液槽３、第一水洗槽４、第二水洗槽５、
乾燥機６、そして最下流に、キャリア８を搬送ロボット
１９から降ろすアンローダー７がそれぞれの架台１ａ、
２ａ、３ａ、４ａ、５ａ、６ａ、７ａ上に設置されてい
る。すなわち、搬送ロボット１９は、ローダー１からア
ンローダー７までの間、レール１１上を走行してキャリ
ア８を搬送する。そしてチャック水洗槽２、薬液槽３、
第１水洗槽４、第２水洗槽５の架台２ａ、３ａ、４ａ、
５ａは同一高さＨに設定されている。また薬液槽３内の
薬液面レベルおよび第１水洗槽４、第２水洗槽の水面レ
ベルは同一高さに設けられている。更には搬送ロボット
１９の昇降ストローク長さは一定である。
縁体の薄膜を形成させる途中ないしは事前にウエハーを
薬液で洗浄し、次いで水洗することが広く行われてい
る。図５はその洗浄に使用されている従来のウエハー洗
浄装置２０の全体を示す概略側面図である。図５におい
てウエハーを収容するキャリア８は左方から右方へ流れ
る。最上流に、多数枚のウエハーを収容したキャリア８
を搬送ロボット１９に乗せるローダー１があり、以下順
に、搬送ロボット１９のチャック１８を水洗するチャッ
ク水洗槽２、薬液槽３、第一水洗槽４、第二水洗槽５、
乾燥機６、そして最下流に、キャリア８を搬送ロボット
１９から降ろすアンローダー７がそれぞれの架台１ａ、
２ａ、３ａ、４ａ、５ａ、６ａ、７ａ上に設置されてい
る。すなわち、搬送ロボット１９は、ローダー１からア
ンローダー７までの間、レール１１上を走行してキャリ
ア８を搬送する。そしてチャック水洗槽２、薬液槽３、
第１水洗槽４、第２水洗槽５の架台２ａ、３ａ、４ａ、
５ａは同一高さＨに設定されている。また薬液槽３内の
薬液面レベルおよび第１水洗槽４、第２水洗槽の水面レ
ベルは同一高さに設けられている。更には搬送ロボット
１９の昇降ストローク長さは一定である。
【０００３】ウエハーの洗浄は次のように行われる。ウ
エハーを収容したキャリア８はローダー１へ戻った搬送
ロボット１９のチャック１８に係止され、搬送ロボット
１９によって先ず薬液槽３へ搬送されて下降され、薬液
に浸漬されてウエハーの薬液洗浄が行われる。次いでキ
ャリア８は引き上げられて、搬送ロボット１９によって
第一水洗槽４へ移動されて水に浸漬され、ウエハーに付
着している薬液やキャリア８に付着している薬液が洗い
落とされる。しかし、薬液浸漬時に搬送ロボット１９の
チャック１８の薬液界面より高い箇所に付着した薬液は
完全には洗浄されずに残り易く、そのまま第二水洗槽５
へ移動してキャリア８を浸漬すると、清浄な第二水洗槽
５が薬液の付着したチャック１８によって汚染されるほ
か、第二水洗槽５以降も汚染される。従って、第一水洗
槽４にキャリア８を残し、チャック１８のみを引き上げ
た後、搬送ロボット１９はチャック水洗槽２へ戻り、チ
ャック１８を水洗した後、搬送ロボット１９を第一水洗
槽４へ帰すことが行われる。水洗が完了すると、搬送ロ
ボット１９はチャック１８と共に第一水洗槽４へ帰って
キャリア８を掴む。次に搬送ロボット１９はキャリア８
を第二水洗槽５へ搬送して水洗する。第二水洗槽５での
水洗が終わるとキャリア８を引き上げ、乾燥機６へ移動
してウエハーをキャリア８と共に乾燥し、乾燥が終わる
とアンローダー７へ移動してキャリア８を降ろす。この
ようにして一連のウエハー洗浄作業が完了する。なお、
搬送ロボット１９のチャック１８は、例えばキャリア８
を薬液槽３に浸漬する場合、キャリア８を薬液槽３内へ
置いた後、チャック１８は一旦、引き上げられ、キャリ
ア８の取り出し時に再度、薬液槽３内へ挿入されるのが
一般であるが、上述の説明では、浸漬途中におけるチャ
ック８の昇降は省略した。以降においても同様とする。
チャック水洗槽２ではチャック１８に水シャワーを掛け
るなどして水洗される。
エハーを収容したキャリア８はローダー１へ戻った搬送
ロボット１９のチャック１８に係止され、搬送ロボット
１９によって先ず薬液槽３へ搬送されて下降され、薬液
に浸漬されてウエハーの薬液洗浄が行われる。次いでキ
ャリア８は引き上げられて、搬送ロボット１９によって
第一水洗槽４へ移動されて水に浸漬され、ウエハーに付
着している薬液やキャリア８に付着している薬液が洗い
落とされる。しかし、薬液浸漬時に搬送ロボット１９の
チャック１８の薬液界面より高い箇所に付着した薬液は
完全には洗浄されずに残り易く、そのまま第二水洗槽５
へ移動してキャリア８を浸漬すると、清浄な第二水洗槽
５が薬液の付着したチャック１８によって汚染されるほ
か、第二水洗槽５以降も汚染される。従って、第一水洗
槽４にキャリア８を残し、チャック１８のみを引き上げ
た後、搬送ロボット１９はチャック水洗槽２へ戻り、チ
ャック１８を水洗した後、搬送ロボット１９を第一水洗
槽４へ帰すことが行われる。水洗が完了すると、搬送ロ
ボット１９はチャック１８と共に第一水洗槽４へ帰って
キャリア８を掴む。次に搬送ロボット１９はキャリア８
を第二水洗槽５へ搬送して水洗する。第二水洗槽５での
水洗が終わるとキャリア８を引き上げ、乾燥機６へ移動
してウエハーをキャリア８と共に乾燥し、乾燥が終わる
とアンローダー７へ移動してキャリア８を降ろす。この
ようにして一連のウエハー洗浄作業が完了する。なお、
搬送ロボット１９のチャック１８は、例えばキャリア８
を薬液槽３に浸漬する場合、キャリア８を薬液槽３内へ
置いた後、チャック１８は一旦、引き上げられ、キャリ
ア８の取り出し時に再度、薬液槽３内へ挿入されるのが
一般であるが、上述の説明では、浸漬途中におけるチャ
ック８の昇降は省略した。以降においても同様とする。
チャック水洗槽２ではチャック１８に水シャワーを掛け
るなどして水洗される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来のウエハー洗浄装
置２０では、上述したように、搬送ロボット１９はキャ
リア８を薬液槽３から第一水洗槽４へ搬送して水洗した
後、全体的なウエハーの流れに逆らってチャック水洗槽
２へ戻している。すなわち、搬送ロボット１９は能率的
には好ましくない動作をしており、生産効率を低下させ
ている。
置２０では、上述したように、搬送ロボット１９はキャ
リア８を薬液槽３から第一水洗槽４へ搬送して水洗した
後、全体的なウエハーの流れに逆らってチャック水洗槽
２へ戻している。すなわち、搬送ロボット１９は能率的
には好ましくない動作をしており、生産効率を低下させ
ている。
【０００５】従って本発明は、搬送ロボット９の動きを
合理化させるなかで、ウエハーを洗浄し得ると共に、搬
送ロボットのチャックをも洗浄し得るウエハー洗浄装置
を提供することを課題とする。
合理化させるなかで、ウエハーを洗浄し得ると共に、搬
送ロボットのチャックをも洗浄し得るウエハー洗浄装置
を提供することを課題とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明のウエハー洗浄装
置（１０）は薬液槽（３）に続く第１水洗槽（４）の水
面レベル（ｑ）を、薬液槽（３）の薬液面レベル（ｒ）
よりも高くしている。そのことによって、ウエハーを収
容したキャリア（８）を掴む搬送ロボット（１９）のチ
ャック（１８）、ないしは直接にウエハーを掴む搬送ロ
ボット（２９）のチャック（２８）に付着している薬液
を洗浄するためのチャック水洗槽（２）が不要となり、
ウエハー洗浄装置の小型化をはかり得ると同時に搬送ロ
ボット（１９、２９）の動作を合理化し得る。
置（１０）は薬液槽（３）に続く第１水洗槽（４）の水
面レベル（ｑ）を、薬液槽（３）の薬液面レベル（ｒ）
よりも高くしている。そのことによって、ウエハーを収
容したキャリア（８）を掴む搬送ロボット（１９）のチ
ャック（１８）、ないしは直接にウエハーを掴む搬送ロ
ボット（２９）のチャック（２８）に付着している薬液
を洗浄するためのチャック水洗槽（２）が不要となり、
ウエハー洗浄装置の小型化をはかり得ると同時に搬送ロ
ボット（１９、２９）の動作を合理化し得る。
【０００７】
【発明の実施の形態】図面を使って本発明の実施の形態
を説明する。
を説明する。
【０００８】図１は実施の形態によるウエハー洗浄装置
１０の全体を示す概略側面図であり、従来例の説明に使
用した図５に対応する図である。すなわち、ウエハー洗
浄装置１０は上流側から、ローダー１、薬液槽３、第１
水洗槽４、第２水洗槽５、乾燥機６、アンローダー７が
それぞれの架台１ａ、３ａ、４ａ、５ａ、６ａ、７ａ上
に設置されている。そして、薬液槽３、第１水洗槽４、
第２水洗槽５の架台３ａ、４ａ、５ａは同一高さＨに設
定されている。図５に示した従来例と較べて、チャック
水洗槽２が省略されていること、及び後述するように第
一水洗槽４の水面レベルが薬液槽３における薬液の液面
レベルより高く設定されていること以外は同様に構成さ
れている。ウエハーはキャリア８に収容され、レール１
１上を走行する搬送ロボット１９によって同様に各槽間
を搬送されて洗浄される。
１０の全体を示す概略側面図であり、従来例の説明に使
用した図５に対応する図である。すなわち、ウエハー洗
浄装置１０は上流側から、ローダー１、薬液槽３、第１
水洗槽４、第２水洗槽５、乾燥機６、アンローダー７が
それぞれの架台１ａ、３ａ、４ａ、５ａ、６ａ、７ａ上
に設置されている。そして、薬液槽３、第１水洗槽４、
第２水洗槽５の架台３ａ、４ａ、５ａは同一高さＨに設
定されている。図５に示した従来例と較べて、チャック
水洗槽２が省略されていること、及び後述するように第
一水洗槽４の水面レベルが薬液槽３における薬液の液面
レベルより高く設定されていること以外は同様に構成さ
れている。ウエハーはキャリア８に収容され、レール１
１上を走行する搬送ロボット１９によって同様に各槽間
を搬送されて洗浄される。
【０００９】図２、図３は薬液槽３と第一水洗槽４との
液面レベルを比較する断面図である。すなわち、図２は
図１における薬液槽３と第一水洗槽４の液面レベルを比
較する断面図であり、図３は図２における薬液槽３と第
一水洗槽４とをそれぞれ上流側から見て液面レベルを並
べ比較した断面図である。図２、図３の何れもキャリヤ
８を浸漬した状態で示している。
液面レベルを比較する断面図である。すなわち、図２は
図１における薬液槽３と第一水洗槽４の液面レベルを比
較する断面図であり、図３は図２における薬液槽３と第
一水洗槽４とをそれぞれ上流側から見て液面レベルを並
べ比較した断面図である。図２、図３の何れもキャリヤ
８を浸漬した状態で示している。
【００１０】図３に示すように、キャリア８は二連が１
ユニットとなっており、搬送ロボット１９によって同時
に搬送される。すなわち、搬送ロボット１９はレール１
１上を自走し、昇降ロッド１２の先端部に取り付けられ
た片持アーム１３にキャリア８を掴む二連のチャック１
８が取り付けられている。キャリア８は薬液槽３に浸漬
された後に第一水洗槽４へ浸漬されるが、薬液槽３と第
１水洗槽４は同一高さＨの架台３ａ、４ａに設置され、
水面レベルｑを薬液槽３の薬液面レベルｒよりも高くし
ている。第一水洗槽４において搬送ロボット１９がキャ
リア８を浸漬した時には、搬送ロボット１９のチャック
１８が水面レベルｑと液面レベルｒとの高低差ｈだけ深
く水中へ入るようになっている。従って、薬液槽３への
キャリア８の浸漬時に薬液が跳ねることによって、チャ
ック１８の薬液面レベルｒよりは高い箇所に付着した薬
液も、続く第一水洗槽４への浸漬時に洗い落とすことが
できるのである。
ユニットとなっており、搬送ロボット１９によって同時
に搬送される。すなわち、搬送ロボット１９はレール１
１上を自走し、昇降ロッド１２の先端部に取り付けられ
た片持アーム１３にキャリア８を掴む二連のチャック１
８が取り付けられている。キャリア８は薬液槽３に浸漬
された後に第一水洗槽４へ浸漬されるが、薬液槽３と第
１水洗槽４は同一高さＨの架台３ａ、４ａに設置され、
水面レベルｑを薬液槽３の薬液面レベルｒよりも高くし
ている。第一水洗槽４において搬送ロボット１９がキャ
リア８を浸漬した時には、搬送ロボット１９のチャック
１８が水面レベルｑと液面レベルｒとの高低差ｈだけ深
く水中へ入るようになっている。従って、薬液槽３への
キャリア８の浸漬時に薬液が跳ねることによって、チャ
ック１８の薬液面レベルｒよりは高い箇所に付着した薬
液も、続く第一水洗槽４への浸漬時に洗い落とすことが
できるのである。
【００１１】上記高低差ｈを付けるには、薬液槽３、第
１水洗槽４をそのままにして単に薬液面レベルｒと水面
レベルｑを変えるだけでもよく、架台４ａの高さは変更
せずに深さを大にした第１水洗槽４としてもよい。上記
の高低差ｈは簡単には搬送ロボット１９のチャック１８
を薬液槽３、第１水洗槽４へ挿入した時の濡れる長さで
知り得る。なお、上記の高低差ｈの大きさはウエハー洗
浄装置の種類、洗浄条件等によって異なるので一概には
定められない。
１水洗槽４をそのままにして単に薬液面レベルｒと水面
レベルｑを変えるだけでもよく、架台４ａの高さは変更
せずに深さを大にした第１水洗槽４としてもよい。上記
の高低差ｈは簡単には搬送ロボット１９のチャック１８
を薬液槽３、第１水洗槽４へ挿入した時の濡れる長さで
知り得る。なお、上記の高低差ｈの大きさはウエハー洗
浄装置の種類、洗浄条件等によって異なるので一概には
定められない。
【００１２】その結果、従来例で使用されていた図５に
示すチャック水洗槽２を省略することが可能となり、図
１に示すように、従来例のウエハー洗浄装置２０の上流
端ｅ2 と本発明のウエハー洗浄装置１０の上流端ｅ1 と
比較して、本発明のウエハー洗浄装置１０は長さＬだけ
全長が短くなり、従来は設置することができなかったス
ペースにも設置が可能となった。
示すチャック水洗槽２を省略することが可能となり、図
１に示すように、従来例のウエハー洗浄装置２０の上流
端ｅ2 と本発明のウエハー洗浄装置１０の上流端ｅ1 と
比較して、本発明のウエハー洗浄装置１０は長さＬだけ
全長が短くなり、従来は設置することができなかったス
ペースにも設置が可能となった。
【００１３】チャック水洗槽２を省略して第一水洗槽４
だけで搬送ロボット１９のチャック１８を水洗するに
は、本発明の方法以外に、第一水洗槽４の底面を下げ、
搬送ロボット１９によるキャリア８の浸漬深さを薬液槽
３における浸漬深さよりも深くすることによっても可能
であるが、その方法による場合には、チャック１８の昇
降ストローク長さを可変にした搬送ロボット１９’が必
要になり、その様な搬送ロボット１９’はそれだけ高額
である。それに較べて第一水洗槽４の水面ｑを薬液槽３
の薬液面ｒよりも高くする本発明のウエハー洗浄装置
は、はるかに低コストで実施が可能であるという特長が
ある。
だけで搬送ロボット１９のチャック１８を水洗するに
は、本発明の方法以外に、第一水洗槽４の底面を下げ、
搬送ロボット１９によるキャリア８の浸漬深さを薬液槽
３における浸漬深さよりも深くすることによっても可能
であるが、その方法による場合には、チャック１８の昇
降ストローク長さを可変にした搬送ロボット１９’が必
要になり、その様な搬送ロボット１９’はそれだけ高額
である。それに較べて第一水洗槽４の水面ｑを薬液槽３
の薬液面ｒよりも高くする本発明のウエハー洗浄装置
は、はるかに低コストで実施が可能であるという特長が
ある。
【００１４】以上、本発明の実施の形態について説明し
たが、勿論、本発明はこれに限られることなく、本発明
の技術的思想に基づいて種々の変形が可能である。
たが、勿論、本発明はこれに限られることなく、本発明
の技術的思想に基づいて種々の変形が可能である。
【００１５】例えば本実施の形態においては薬液槽３と
第１水洗槽４とを同一高さＨの架台に設置したが、水面
レベルｑが薬液レベルｒよりも高低差ｈだけ高く設定さ
れ、キャリア８の浸漬ないしはウエハーの洗浄が保証さ
れる限りにおいて、薬液槽３と第１水洗槽４の底面高さ
は同一高さでなくてもよい。
第１水洗槽４とを同一高さＨの架台に設置したが、水面
レベルｑが薬液レベルｒよりも高低差ｈだけ高く設定さ
れ、キャリア８の浸漬ないしはウエハーの洗浄が保証さ
れる限りにおいて、薬液槽３と第１水洗槽４の底面高さ
は同一高さでなくてもよい。
【００１６】また本実施の形態においては、洗浄すべき
ウエハーがキャリア８に収容されており、そのキャリア
を搬送対象とする搬送ロボット１９を備えたウエハー洗
浄装置１０について説明したが、本発明のウエハー洗浄
装置は、搬送ロボットのチャックが薬液槽内に挿入さ
れ、その後に水洗槽に挿入されるものである限りにおい
て、ウエハーがキャリアに収容されることは必要事項で
はない。例えば図４はキャリア８を使用しないウエハー
洗浄装置２０、いわゆるキャリアレス洗浄装置における
搬送ロボット２９の斜視図である。レール２１に沿って
移動する搬送ロボット２９の昇降ロッド２２の先端部か
ら側方へ延びるアーム２３には、多数枚のウエハーＷを
直接にかかえ込むチャック２８が取り付けられている。
このチャック２８も薬液槽内へ挿入された後に水洗槽へ
挿入され、薬液面レベルと水面レベルとが同一であると
ウエハーチャック２８に薬液の付着が残り易く、専用の
チャック水洗槽を必要とするものである。
ウエハーがキャリア８に収容されており、そのキャリア
を搬送対象とする搬送ロボット１９を備えたウエハー洗
浄装置１０について説明したが、本発明のウエハー洗浄
装置は、搬送ロボットのチャックが薬液槽内に挿入さ
れ、その後に水洗槽に挿入されるものである限りにおい
て、ウエハーがキャリアに収容されることは必要事項で
はない。例えば図４はキャリア８を使用しないウエハー
洗浄装置２０、いわゆるキャリアレス洗浄装置における
搬送ロボット２９の斜視図である。レール２１に沿って
移動する搬送ロボット２９の昇降ロッド２２の先端部か
ら側方へ延びるアーム２３には、多数枚のウエハーＷを
直接にかかえ込むチャック２８が取り付けられている。
このチャック２８も薬液槽内へ挿入された後に水洗槽へ
挿入され、薬液面レベルと水面レベルとが同一であると
ウエハーチャック２８に薬液の付着が残り易く、専用の
チャック水洗槽を必要とするものである。
【００１７】
【発明の効果】本発明は以上に説明したような形態で実
施され、次に記載するような効果を奏する。
施され、次に記載するような効果を奏する。
【００１８】従来のウエハー洗浄装置２０では搬送ロボ
ット１９のチャック１８に付着した薬液を落とすために
専用のチャック水洗槽２を要したが、本発明のウエハー
洗浄装置１０は第一水洗槽４の水面レベルｑを薬液槽３
の薬液面レベルｒよりも高低差ｈだけ高くすることによ
って、チャック１８を水洗し、チャック水洗槽２を不要
としている。そのことによって、ウエハー洗浄装置は小
型化され、従来設置し得なかったスペースにも設置が可
能である。また、ウエハー洗浄装置の製造コストが低下
する上、搬送ロボットの搬送動作も合理化されることか
ら、ウエハー洗浄のランニング・コストの低減が達成さ
れる。
ット１９のチャック１８に付着した薬液を落とすために
専用のチャック水洗槽２を要したが、本発明のウエハー
洗浄装置１０は第一水洗槽４の水面レベルｑを薬液槽３
の薬液面レベルｒよりも高低差ｈだけ高くすることによ
って、チャック１８を水洗し、チャック水洗槽２を不要
としている。そのことによって、ウエハー洗浄装置は小
型化され、従来設置し得なかったスペースにも設置が可
能である。また、ウエハー洗浄装置の製造コストが低下
する上、搬送ロボットの搬送動作も合理化されることか
ら、ウエハー洗浄のランニング・コストの低減が達成さ
れる。
【図１】本発明の実施の形態によるウエハー洗浄装置の
概略図である。
概略図である。
【図２】図１における薬液槽と第一水洗槽との液面レベ
ルを比較した図である。
ルを比較した図である。
【図３】図２における薬液槽と第一水洗槽を上流側から
見て液面レベルを比較した図である。
見て液面レベルを比較した図である。
【図４】変形例としての、キャリアレス洗浄装置におけ
る搬送ロボットの斜視図である。
る搬送ロボットの斜視図である。
【図５】従来例のウエハー洗浄装置の概略図である。
１……ローダー、２……チャック水洗槽、３……薬液
槽、４……第一水洗槽、５……第二水洗槽、６……乾燥
機、７……アンローダー、８……キャリア、１０……実
施の形態のウエハー洗浄装置、１８……チャック、１９
……搬送ロボット、２０……従来例のウエハー洗浄装
置、ｑ……水面、ｒ……薬液面。
槽、４……第一水洗槽、５……第二水洗槽、６……乾燥
機、７……アンローダー、８……キャリア、１０……実
施の形態のウエハー洗浄装置、１８……チャック、１９
……搬送ロボット、２０……従来例のウエハー洗浄装
置、ｑ……水面、ｒ……薬液面。
Claims (4)
- 【請求項１】 ウエハーが少なくとも薬液槽、第一水洗
槽、および第二水洗槽を順に搬送されて処理されるウエ
ハー洗浄装置において、 前記ウエハーを保持し搬送する搬送ロボットの昇降スト
ロークが一定のチャックが前記ウエハーを前記薬液槽へ
浸漬する時の薬液中への前記チャックの挿入深さより
も、前記ウエハーを前記第一水洗槽へ浸漬する時の水中
への前記チャックの挿入深さが大となるように、前記第
一水洗槽の水面レベルが前記薬液槽の薬液面レベルより
も高く設定されており、 前記チャックを前記薬液槽の前記薬液中へ挿入した時に
前記チャックの前記薬液面より高い位置に付着した前記
薬液が、前記チャックを前記第一水洗槽の前記水中へ挿
入した時に洗い落とされて前記第二水洗槽以降の工程を
前記薬液で汚染させないことを特徴とするウエハー洗浄
装置。 - 【請求項２】 少なくとも前記薬液槽と前記第１水洗槽
とが同一底面高さに設定されていることを特徴とする請
求項１に記載のウエハー洗浄装置。 - 【請求項３】 前記ウエハー洗浄装置における前記ウエ
ハーの搬送、前記薬液槽への浸漬、および前記第一水洗
槽への浸漬が前記ウエハーを収容し、前記搬送ロボット
の前記チャックに係止されたキャリアを介して行なわれ
ることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のウ
エハー洗浄装置。 - 【請求項４】 前記ウエハー洗浄装置における前記ウエ
ハーの搬送、前記薬液槽への浸漬、および前記第一水洗
槽への浸漬が前記ウエハーを直接に保持する前記搬送ロ
ボットの前記チャックによって行われることを特徴とす
る請求項１または請求項２に記載のウエハー洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28045496A JPH10125646A (ja) | 1996-10-23 | 1996-10-23 | ウエハー洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28045496A JPH10125646A (ja) | 1996-10-23 | 1996-10-23 | ウエハー洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10125646A true JPH10125646A (ja) | 1998-05-15 |
Family
ID=17625293
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28045496A Pending JPH10125646A (ja) | 1996-10-23 | 1996-10-23 | ウエハー洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10125646A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102688864A (zh) * | 2012-05-22 | 2012-09-26 | 江苏华机环保设备有限责任公司 | 一种新型秸秆水洗器 |
| CN116093005A (zh) * | 2023-02-16 | 2023-05-09 | 北京聚睿众邦科技有限公司 | 碳化硅晶圆清洗装置及方法 |
-
1996
- 1996-10-23 JP JP28045496A patent/JPH10125646A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102688864A (zh) * | 2012-05-22 | 2012-09-26 | 江苏华机环保设备有限责任公司 | 一种新型秸秆水洗器 |
| CN116093005A (zh) * | 2023-02-16 | 2023-05-09 | 北京聚睿众邦科技有限公司 | 碳化硅晶圆清洗装置及方法 |
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