JPH06244451A - 超格子構造の増幅層を有するアバランシュフォトダイオード - Google Patents
超格子構造の増幅層を有するアバランシュフォトダイオードInfo
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- H01L31/035236—Superlattices; Multiple quantum well structures
Abstract
幅層として用いたアバランシュフォトダイオードを提
供。 【構成】 n+型InP基板10と、基板10上にバッ
ファ層として形成されたn+型InP型エピタキシャル
層11と、エピタキシャル層11上に形成されたn型I
n1-xAlxAs層12と、In1-xAlxAs層12より
不純物濃度が相対的に大きくして層12上に形成された
n+型In1-xAlxAs層13と、層13上に形成され
たIn0.53Ga0.47As/In1-xAlxAsの超格子構
造を有する増幅層14と、増幅層14上に順次形成され
たp型In1-xAlxAs層15,16と、層16上に形
成されたIn0.53Ga0.47Asでなる吸収層17と吸収
層17上に順次形成された表面漏泄電流量減少用p型I
nP層18とオーミック接合用In0.53Ga0.47As層
19を含む。
Description
ained)超格子構造を増幅層として利用したAPD
(Avalanche Photodiode)の構造
に関するものである。
APDは、内部利得を有しているので、受信感度面にお
いては、PIN−PDに比べて有利である。
光通信において、更に脚光を浴びる素子である。APD
を大別すれば、構造的に吸収層と増幅層とで構成され、
特に、吸収層では、光信号を吸収して電子−正孔対を形
成する。
n)された電子−正孔対は、内部電場により分離され、
この中の一種類のキャリア(carrier)である電
子或いは正孔が増幅層に注入される。この注入されたキ
ャリアは、増幅層に印加された高い電場により加速エネ
ルギを得て、価電帯の電子と衝突することにより、新た
な電子と正孔対を形成するようになる。
ためには、内部利得が得られる増幅層に印加される電場
の強度を大きくするため、APDに高い電圧が印加され
る。この時、バンドギャップが小さな物質で形成された
場合には、内部利得のためのアバランシュ増幅(ava
lanche multiplication)と共に
トンネリング(tunneling)現象が多く生じ
る。
わらず印加された電場の強度により生じるので、APD
の雑音を増加することになり、かつ、APDの動作特性
を非常に低下させる。
光通信で用いる波長帯域である1.3mm〜1.55m
mの光を吸収しなければならないため、バンドギャップ
が小さいIn0.53Ga0.47As(0.76eV)を用い
るようになり、これによって、トンネリング問題が深刻
になる。
増幅が生じるようにするSAM(sequential
access memory)構造が提案された。
ンドギャップが大きいInPでなされるようになって、
トンネリングが減少するようになり、これにより、増幅
率の増加等の長所を得られる。しかし、InP物質の特
性上、電子と正孔に対するイオン化係数比(ioniz
ation coefficient ratio;b
/a ratio a>b)が似通っているので、増幅
による剰余雑音が大きくなる現象が生じて、APDの性
能中、受信感度(sensitivity)を大いに減
少させる。
為的に小さくして、増幅による剰余雑音を減少させるた
めの努力が多くなされている。種々の方案中、代表的な
例が、InPに格子整合されるInGaAs(P)/I
nAlAs超格子構造を増幅層として用いるADPであ
る。
は、伝導帯不連続値(DEC conduction b
and discontinuity)が大きい反面、
価電帯不連続値(DEV valence band d
iscontinuity)が小さいため、増幅層で電
子が電場によるエネルギ以外にも伝導帯不連続値DEC
によるエネルギの供給を受けることができるので、有効
イオン化係数比が向上される。
AlAs超格子構造を増幅層とする、APDの構造を例
示している。
は、バッファ層(buffer layer)として成
長されたn型InP(1×1018cm-3,2μm)エピ
タキシャル層である。3は前記エピタキシャル層2のI
nPに格子整合されたn+型In0.52Al0.48As層
で、増幅層(multiplication laye
r)に高い電場を印加するため、高い不純物濃度を有す
る。
ion layer:6)から入力された光信号により
光励起(photo excitation)された正
孔(hole)がインパクトイオン化(impact
ionization)により、複数の電子と正孔を生
成する。
s/In0.52Al0.48Asの超格子(superlat
tice)を用いるが、In0.53Ga0.47Asのバンド
ギャップが小さいため、トンネリング現象(tunne
ling)による暗電流の増加に因りAPDの特性が低
下するという問題が生じた。
Ga0.47Asの代りに、InPに格子整合され、1.0
ev程度のバンドギャップを有するInGaAsPを用
いた超格子構造の増幅層が、さらに提案された。
大きな電場が印加されると共に、吸収層6に小さな電場
が印加されバンドギャップが小さい吸収層6でトンネリ
ング現象による暗電流の増加を防ぐため、高い不純物濃
度を有する。
孔を造り出す吸収層で、バンドギャップが小さいIn
0.53Ga0.47Asを用いる。
ic)接合用金属層等であり、9は入射光信号を示す。
As(P)/In0.52Al0.48As超格子構造の増幅層
4を有するAPDを製造する場合、InGaAsPとI
n0.52Al0.48Asの超格子成長時、AsとPを含む化
合物半導体の成長が必要であるため、厚さとドーピング
濃度の調節において、公知のMBE(Molecula
r Beam Epitaxy)では成長することがで
きない。然し、最近開発されているガス源(Gas S
ource)MBE又はCBE(Chemical B
eam Epitaxy)を用いて超格子構造を成長す
ることはできるが、装備上に多くの制約を受ける。
PとIn0.52Al0.48Asを代わりに成長させなければ
ならないので、このためPとAsの供給源として用いる
PH3とAsH3を非常に短い時間内に交替しなければな
らない。
されないので、残留する供給ガスによりInGaAsP
/In0.52Al0.48Asの界面が悪くなり、素子の性能
を低下させるという問題点があった。
め、InAlAs/InGaAs超格子構造を増幅層と
して用いたアバランシュフォトダイオードを提供するこ
とにその目的がある。
の、本発明の一特徴による超格子構造を増幅層として用
いるアバランシュフォトダイオードは、n+型InP基
板10と、前記基板10上にバッファ層として形成され
たn+型InPエピタキシャル層11と、前記エピタキ
シャル層11上に形成されたn型In1-xAlxAs層1
2と、前記In1-xAlxAs層12よりも不純物濃度を
相対的に高くして前記層12上に形成されたn+型In
1-xAlxAs層13と、前記層13上に形成されたIn
0.53Ga0.47As/In1-xAlxAsの超格子構造を有
する増幅層14と、前記増幅層14上に順次形成された
p型In1-xAlxAs層15,16と、前記層16上に
形成されたIn0.53Ga0.47Asでなる吸収層17と、
前記吸収層17上に順次形成された表面漏泄電流量減少
用p型InP層18と、オーミック接合用In0.53Ga
0.47As層19とを含む。
11は、厚さが約3μmであり、不純物濃度が約1×1
018cm-3であることを特徴とする超格子構造(sup
erlattice)の増幅層を有し、前記p型In
1-xAlxAs層15は、不純物濃度が約1×1018cm
-3であり、厚さは300Å〜400Åで構成される。
例を詳細に説明する。
ダイオードの構造を例示している。
基板である。11は、バッファ層である約1−3μm厚
さのn+型InPエピタキシャル層であり、不純物濃度
は、1×1018cm-3程度である。
n型In0.52Al0.48Asの組成から、In0.53Ga
0.47As/In1-xAlxAs超格子で用いられるIn
1-xAlxAsの組成まで、組成に変化を有する層であ
る。
純物濃度は約1×1018cm-3であり、厚さは300Å
である。前記層13は、層12より不純物濃度が相対的
に高い。
AlxAs超格子構造の増幅層である。15は、p型I
n1-xAlxAs層で、不純物濃度は約1×1018cm-3
であり、厚さは300Å〜400Åである。
In1-xAlxAsからp−In0.52Al0.48Asまで組
成の変化を有する層である。
になっている。18は、表面漏泄電流の量を最小化する
ためのp型InP層である。19は、オーミック(oh
imic)接合のためのIn0.53Ga0.47As層であ
る。
属層である。
l0.48As超格子増幅層(図1の4)の代りに、本発明
による構造においてと同様に、In0.53Ga0.47Asウ
ェルレイア(well layer)層に圧縮応力(c
ompressive stres)が印加されるIn
0.53Ga0.47AsとIn1-xAlxAs(0.48<x)
超格子構造を増幅層として利用すれば、次のような長所
を有する。
AlxAs Strained超格子構造を利用する場
合、リン(P)を含む化合物半導体を成長する必要がな
いので、既存のよく発達したMBE成長技術をそのまま
利用して、高品位のエピタキシャル層が正確な厚さと濃
度を有するように成長されることができる。
0.2Ga0.8As/In1-xAlxAs異種接合界面におい
ての不均一性および急峻性の低下を防止することができ
るので、素子の性能向上を期することができるという長
所を有する。
d)超格子構造において増幅が起るウェルレイア(we
ll layer)層であるInGaAs層に、圧縮応
力が印加されるように、In1-xAlxAsの組成を調節
して成長させて、InGaAsの有効バンドギャップが
増加することになる。
(well layer)層のバンドギャップが増加す
ることにより、トンネリングによる暗電流を減らすこと
ができるし、APDを用いた時より大きい増幅率を有す
るようにAPDを動作させることができるので、従来の
格子整合されたInGaAs(P)/InAlAs A
PDより、内部利得を大きくすることができる。
ることができる。
AlxAs strained超格子の使用時、格子不
整合によるストレインの調節のため、Alの組成xをI
nPとの格子整合条件である0.48で増加することに
より、超格子構造の障壁層として用いられたIn1-xA
lxAsの電子親和力(electron affin
ity)が減少し、かつ、InGaAs/InAlAs
の伝導帯不連続値が増加することになり、増幅層14に
おいての伝導帯不連続値により電子が得るエネルギが増
加することになり、有効イオン係数比(k=b/a)が
減少される。
受信感度が向上するという長所を有する。
ル層が正確な厚さと濃度を有するように成長されること
ができる、また、供給ガスの交替及び残留によるIn
0.2Ga0.8As/In1-xAlxAs異種接合界面におい
ての不均一性および急峻性の低下を防止することができ
るので、素子の性能向上を期することができる。
る暗電流を減らすことができ、かつ、APDを用いた時
より大きい増幅率を有するようにAPDを動作させるこ
とができるので、従来の格子整合されたInGaAs
(P)/InAlAs APDより、内部利得を大きく
することができる。
が減少し、受信感度が向上する。
格子の増幅層を有する従来のAPDの構造的断面図。
格子構造を増幅層として利用したAPDの断面図。
Claims (3)
- 【請求項1】 超格子構造を増幅層として用いるアバラ
ンシュフォトダイオードにおいて、 n+型InP基板10と、 前記基板10上にバッファ層として形成されたn+型I
nPエピタキシャル層11と、 前記エピタキシャル層11上に形成されたn型In1-x
AlxAs層12と、 前記In1-xAlxAs層12より不純物濃度を相対的に
大きくして前記層12上に形成されたn+型In1-xAl
xAs層13と、 前記層13上に形成されたIn0.53Ga0.47As/In
1-xAlxAsの超格子構造を有する増幅層14と、 前記増幅層14上に順次形成されたp型In1-xAlxA
s層15,16と、 前記層16上に形成されたIn0.53Ga0.47Asからな
る吸収層17と、 前記吸収層17上に順次形成された表面漏泄電流量減少
用p型InP層18と、 オーミック接合用In0.53Ga0.47As層19とを含む
構成を特徴とするアバランシュフォトダイオード。 - 【請求項2】 請求項1において、 前記エピタキシャル層11は、厚さが約3μmで、不純
物濃度が約1×1018cm-3であることを特徴とする超
格子構造(superlattice)の増幅層を有す
るアバランシュフォトダイオード(APD:Avala
nche Photodiode)。 - 【請求項3】 請求項1において、 前記p型In1-xAlxAs層15は、不純物濃度が約1
×1018cm-3であり、厚さは300Å〜400Åであ
ることを特徴とする超格子構造(superlatti
ce)の増幅層を有するアバランシュフォトダイオード
(APD:Avalanche Photodiod
e)。
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---|---|---|---|
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012513110A (ja) * | 2008-12-18 | 2012-06-07 | アルカテル−ルーセント | アバランシェ・フォトダイオード |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09106946A (ja) * | 1995-10-11 | 1997-04-22 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置,及び半導体レーザ,並びに高電子移動度トランジスタ装置 |
US6074892A (en) * | 1996-05-07 | 2000-06-13 | Ciena Corporation | Semiconductor hetero-interface photodetector |
US6359322B1 (en) * | 1999-04-15 | 2002-03-19 | Georgia Tech Research Corporation | Avalanche photodiode having edge breakdown suppression |
JP2001332759A (ja) * | 2000-03-16 | 2001-11-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | アバランシェフォトダイオード |
AU2002216611A1 (en) * | 2000-09-29 | 2002-04-08 | Board Of Regents, The University Of Texas System | A theory of the charge multiplication process in avalanche photodiodes |
US6794631B2 (en) * | 2002-06-07 | 2004-09-21 | Corning Lasertron, Inc. | Three-terminal avalanche photodiode |
CN112968071B (zh) * | 2021-04-15 | 2022-09-06 | 长春工业大学 | 一种雪崩二极管及其制备方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6016474A (ja) * | 1983-07-08 | 1985-01-28 | Nec Corp | ヘテロ多重接合型光検出器 |
JPH03240278A (ja) * | 1990-02-17 | 1991-10-25 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | アバランシェフォトダイオード |
JPH03248482A (ja) * | 1990-02-26 | 1991-11-06 | Nec Corp | アバランシェ・フォトダイオード |
JPH0493088A (ja) * | 1990-08-09 | 1992-03-25 | Nec Corp | アバランシェフォトダイオード |
JPH04263477A (ja) * | 1991-02-19 | 1992-09-18 | Nec Corp | 半導体受光素子 |
JPH04282874A (ja) * | 1991-03-11 | 1992-10-07 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | アバランシェフォトダイオ―ド |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02119274A (ja) * | 1988-10-28 | 1990-05-07 | Fujitsu Ltd | アバランシェフォトダイオード |
JP2700492B2 (ja) * | 1989-08-03 | 1998-01-21 | 日本電信電話株式会社 | アバランシェフォトダイオード |
JP2671569B2 (ja) * | 1990-06-22 | 1997-10-29 | 日本電気株式会社 | アバランシェフォトダイオード |
DE69229369T2 (de) * | 1991-03-28 | 2000-01-27 | Nec Corp | Halbleiterphotodetektor mit Lawinenmultiplikation |
JPH0521829A (ja) * | 1991-07-12 | 1993-01-29 | Hitachi Ltd | 半導体装置 |
-
1992
- 1992-12-22 KR KR1019920025002A patent/KR960001467B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1993
- 1993-11-10 US US08/149,775 patent/US5369292A/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-12-17 JP JP5318157A patent/JP2695112B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6016474A (ja) * | 1983-07-08 | 1985-01-28 | Nec Corp | ヘテロ多重接合型光検出器 |
JPH03240278A (ja) * | 1990-02-17 | 1991-10-25 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | アバランシェフォトダイオード |
JPH03248482A (ja) * | 1990-02-26 | 1991-11-06 | Nec Corp | アバランシェ・フォトダイオード |
JPH0493088A (ja) * | 1990-08-09 | 1992-03-25 | Nec Corp | アバランシェフォトダイオード |
JPH04263477A (ja) * | 1991-02-19 | 1992-09-18 | Nec Corp | 半導体受光素子 |
JPH04282874A (ja) * | 1991-03-11 | 1992-10-07 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | アバランシェフォトダイオ―ド |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012513110A (ja) * | 2008-12-18 | 2012-06-07 | アルカテル−ルーセント | アバランシェ・フォトダイオード |
KR101366998B1 (ko) * | 2008-12-18 | 2014-02-24 | 알까뗄 루슨트 | 애벌란시 광 다이오드 및 그 제조 방법 |
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---|---|
JP2695112B2 (ja) | 1997-12-24 |
KR940016964A (ko) | 1994-07-25 |
US5369292A (en) | 1994-11-29 |
KR960001467B1 (ko) | 1996-01-30 |
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