JPH06126636A - パウダービーム加工機 - Google Patents
パウダービーム加工機Info
- Publication number
- JPH06126636A JPH06126636A JP4306446A JP30644692A JPH06126636A JP H06126636 A JPH06126636 A JP H06126636A JP 4306446 A JP4306446 A JP 4306446A JP 30644692 A JP30644692 A JP 30644692A JP H06126636 A JPH06126636 A JP H06126636A
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- Japan
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- outer cylinder
- powder beam
- cylinder
- fine particles
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24C—ABRASIVE OR RELATED BLASTING WITH PARTICULATE MATERIAL
- B24C9/00—Appurtenances of abrasive blasting machines or devices, e.g. working chambers, arrangements for handling used abrasive material
- B24C9/003—Removing abrasive powder out of the blasting machine
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24C—ABRASIVE OR RELATED BLASTING WITH PARTICULATE MATERIAL
- B24C3/00—Abrasive blasting machines or devices; Plants
- B24C3/32—Abrasive blasting machines or devices; Plants designed for abrasive blasting of particular work, e.g. the internal surfaces of cylinder blocks
- B24C3/322—Abrasive blasting machines or devices; Plants designed for abrasive blasting of particular work, e.g. the internal surfaces of cylinder blocks for electrical components
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 パウダービーム加工機の加工室内の微粒子の
吹き溜まりの発生や外部へのもれの発生を防止し、加工
室内でワークの洗浄を行えるようにする。 【構成】 加工室１４を外筒１及び内筒８の二重構造と
し、蓋部２の内面に内筒８に対向して椀状の天蓋１１を
設け、ノズル１０から噴出する微粒子を含む気体の流れ
を内筒８内に変化させて吸引口９に導く。
吹き溜まりの発生や外部へのもれの発生を防止し、加工
室内でワークの洗浄を行えるようにする。 【構成】 加工室１４を外筒１及び内筒８の二重構造と
し、蓋部２の内面に内筒８に対向して椀状の天蓋１１を
設け、ノズル１０から噴出する微粒子を含む気体の流れ
を内筒８内に変化させて吸引口９に導く。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、微粒子を含む気体をワ
ークに噴射して加工を行うパウダービーム加工機に関す
る。
ークに噴射して加工を行うパウダービーム加工機に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来のパウダービーム加工機の一例の構
成を図３に示す。図３において、ほぼ密閉円筒状の加工
室２１内には、図示しない支持部材によって加工室２１
に固定されたワーク取付台としての基板取付台２２が設
けられており、基板取付台２２上にはワークとしての基
板２３が取り付けられている。また、加工室２１の上壁
２１ａの中心には、ノズル２４が軸方向に貫通して設け
られており、ノズル２４の下端は基板２３の上面に対向
している。また、上壁２１ａには、基板２３の挿入及び
取り出しを行うための開口部２１ｂが設けられており、
開口部２１ｂは上部蓋２５によってスライド自在に被覆
されている。さらに加工室２１の底部には、微粒子を回
収する吸引口２６が設けられている。
成を図３に示す。図３において、ほぼ密閉円筒状の加工
室２１内には、図示しない支持部材によって加工室２１
に固定されたワーク取付台としての基板取付台２２が設
けられており、基板取付台２２上にはワークとしての基
板２３が取り付けられている。また、加工室２１の上壁
２１ａの中心には、ノズル２４が軸方向に貫通して設け
られており、ノズル２４の下端は基板２３の上面に対向
している。また、上壁２１ａには、基板２３の挿入及び
取り出しを行うための開口部２１ｂが設けられており、
開口部２１ｂは上部蓋２５によってスライド自在に被覆
されている。さらに加工室２１の底部には、微粒子を回
収する吸引口２６が設けられている。
【０００３】上記のように構成されたパウダービーム加
工機において、ノズル２４から基板２３上に空気ととも
に噴射された微粒子により、基板２３の表面のエッチン
グ加工などの加工が行われる。
工機において、ノズル２４から基板２３上に空気ととも
に噴射された微粒子により、基板２３の表面のエッチン
グ加工などの加工が行われる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら図３に示
す従来のパウダービーム加工機によると、基板２３上に
噴射された微粒子は衝突後横に流れ、次に加工室２１の
内周面に衝突して、その一部は上方に舞い上る。この結
果、加工室２１の内周面、上壁２１ａ及び上部蓋２５の
内面にそれぞれ多量の微粒子が付着したり、流れの滞る
加工室２１内の隅部に微粒子２７の吹き溜りが生じたり
する問題があった。このため加工中に上部蓋２５と上壁
２１ａとの間の隙間から微粒子が外部にもれたり、上部
蓋２５を開閉するときに微粒子が外部にこぼれたりし
て、環境を汚染するという問題があった。
す従来のパウダービーム加工機によると、基板２３上に
噴射された微粒子は衝突後横に流れ、次に加工室２１の
内周面に衝突して、その一部は上方に舞い上る。この結
果、加工室２１の内周面、上壁２１ａ及び上部蓋２５の
内面にそれぞれ多量の微粒子が付着したり、流れの滞る
加工室２１内の隅部に微粒子２７の吹き溜りが生じたり
する問題があった。このため加工中に上部蓋２５と上壁
２１ａとの間の隙間から微粒子が外部にもれたり、上部
蓋２５を開閉するときに微粒子が外部にこぼれたりし
て、環境を汚染するという問題があった。
【０００５】上部蓋２５を上壁２１ａに対してシール材
を介して強固にねじ止めすれば上記の問題は解決する
が、基板２３の交換の都度ねじの着脱を行わなければな
らず、作業性が低下する。また、加工後に圧縮空気を基
板２３上に吹き付けて洗浄を行うとき、圧縮空気の流れ
により加工室２１内に付着、堆積した微粒子２７が再度
飛散し、基板２３上に降り積ってしまうため、加工室内
での基板２３の洗浄は事実上不可能であった。このため
従来は加工室以外に洗浄室を設け、加工後の基板２３を
ロボットアームなどで洗浄室に運搬し、洗浄室内におい
て基板２３の両面の洗浄を行なっていた。この結果、ア
ームによる運搬機構、洗浄室内の圧縮空気吹き付け機
構、排風機構などの各種の機構が必要となり、装置が大
型化しコストが増大するという問題があった。
を介して強固にねじ止めすれば上記の問題は解決する
が、基板２３の交換の都度ねじの着脱を行わなければな
らず、作業性が低下する。また、加工後に圧縮空気を基
板２３上に吹き付けて洗浄を行うとき、圧縮空気の流れ
により加工室２１内に付着、堆積した微粒子２７が再度
飛散し、基板２３上に降り積ってしまうため、加工室内
での基板２３の洗浄は事実上不可能であった。このため
従来は加工室以外に洗浄室を設け、加工後の基板２３を
ロボットアームなどで洗浄室に運搬し、洗浄室内におい
て基板２３の両面の洗浄を行なっていた。この結果、ア
ームによる運搬機構、洗浄室内の圧縮空気吹き付け機
構、排風機構などの各種の機構が必要となり、装置が大
型化しコストが増大するという問題があった。
【０００６】一方、微粒子の種類を変えて加工を行う場
合、加工室２１内に前回使用した別種の微粒子が残って
いると、異種の微粒子が混在して加工に不具合を生じる
という問題もあった。
合、加工室２１内に前回使用した別種の微粒子が残って
いると、異種の微粒子が混在して加工に不具合を生じる
という問題もあった。
【０００７】本発明はこのような状況を鑑みてなされた
もので、加工室内の微粒子の吹き溜りの発生や外部への
もれ発生を防止し、加工室内でワークの洗浄を行うこと
ができる、小型で作業性のよいパウダービーム加工機を
提供することを目的とする。
もので、加工室内の微粒子の吹き溜りの発生や外部への
もれ発生を防止し、加工室内でワークの洗浄を行うこと
ができる、小型で作業性のよいパウダービーム加工機を
提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】請求項１に記載のパウダ
ービーム加工機は、加工室１４内に保持されたワークと
しての基板１２に微粒子を含む気体を噴射して加工を行
うパウダービーム加工機において、上端に蓋部２が開閉
可能に設けられ、下端近傍に外気と連通する開口部１ａ
を有する外筒１と、外筒１内にほぼ同心状に取り付けら
れ、外筒１底面１ｂから突出する下端に吸引口９が設け
られた内筒８と、蓋部２内面に内筒８の上端開口部８ｂ
に対向して取り付けられ、下面中心にワーク取付台とし
ての基板取付台１３を有する椀状の天蓋１１と、内筒８
の中心に軸方向に貫通して設けられ、微粒子を含む気体
を基板取付台１３に取り付けられた基板１２に対して噴
射するノズル１０とを備え、外筒１及び内筒８の二重構
造で加工室１４を構成することを特徴とする。
ービーム加工機は、加工室１４内に保持されたワークと
しての基板１２に微粒子を含む気体を噴射して加工を行
うパウダービーム加工機において、上端に蓋部２が開閉
可能に設けられ、下端近傍に外気と連通する開口部１ａ
を有する外筒１と、外筒１内にほぼ同心状に取り付けら
れ、外筒１底面１ｂから突出する下端に吸引口９が設け
られた内筒８と、蓋部２内面に内筒８の上端開口部８ｂ
に対向して取り付けられ、下面中心にワーク取付台とし
ての基板取付台１３を有する椀状の天蓋１１と、内筒８
の中心に軸方向に貫通して設けられ、微粒子を含む気体
を基板取付台１３に取り付けられた基板１２に対して噴
射するノズル１０とを備え、外筒１及び内筒８の二重構
造で加工室１４を構成することを特徴とする。
【０００９】請求項２に記載のパウダービーム加工機
は、内筒８は下方に向かって縮径する円錐状に形成され
たことを特徴とする。
は、内筒８は下方に向かって縮径する円錐状に形成され
たことを特徴とする。
【００１０】請求項３に記載のパウダービーム加工機
は、ノズル１０は天蓋１１内周と基板１２外周との間に
圧縮空気を噴射することを特徴とする。
は、ノズル１０は天蓋１１内周と基板１２外周との間に
圧縮空気を噴射することを特徴とする。
【００１１】請求項４に記載のパウダービーム加工機
は、外筒１の開口部１ａから外筒１内に圧縮空気を送給
することを特徴とする。
は、外筒１の開口部１ａから外筒１内に圧縮空気を送給
することを特徴とする。
【００１２】
【作用】請求項１に記載のパウダービーム加工機におい
ては、ノズル１０から噴射された微粒子は基板１２に衝
突して基板１２に平行な流れとなり、次に天蓋１１内周
に衝突して下向きの流れとなって吸引口９へ向う。この
とき吸引口９よりの吸引力を充分大きくすることによ
り、外筒１の開口部１ａから流れ込む気流が内筒８の内
周面と天蓋１１の外周面との間に流れ込み、微粒子を吸
引口９へ円滑に運ぶ。この結果、加工室１４内には微粒
子がほとんど溜ることなく加工を行うことができる。
ては、ノズル１０から噴射された微粒子は基板１２に衝
突して基板１２に平行な流れとなり、次に天蓋１１内周
に衝突して下向きの流れとなって吸引口９へ向う。この
とき吸引口９よりの吸引力を充分大きくすることによ
り、外筒１の開口部１ａから流れ込む気流が内筒８の内
周面と天蓋１１の外周面との間に流れ込み、微粒子を吸
引口９へ円滑に運ぶ。この結果、加工室１４内には微粒
子がほとんど溜ることなく加工を行うことができる。
【００１３】請求項２に記載のパウダービーム加工機に
おいては、内筒８が下方に向かって縮径する円錐状に形
成されているので、天蓋１１から落下する微粒子を円滑
に吸引口９へ送ることができる。
おいては、内筒８が下方に向かって縮径する円錐状に形
成されているので、天蓋１１から落下する微粒子を円滑
に吸引口９へ送ることができる。
【００１４】請求項３に記載のパウダービーム加工機に
おいては、ノズル１０から圧縮空気を天蓋１１内周と基
板１２外周との間に噴射することにより、基板１２の裏
面に付着した微粒子を吹き飛ばすことができる。
おいては、ノズル１０から圧縮空気を天蓋１１内周と基
板１２外周との間に噴射することにより、基板１２の裏
面に付着した微粒子を吹き飛ばすことができる。
【００１５】請求項４に記載のパウダービーム加工機に
おいては、外筒１の開口部１ａから外筒１内に圧縮空気
を噴射することにより、微粒子を確実に吸引口９へ送る
ことができる。
おいては、外筒１の開口部１ａから外筒１内に圧縮空気
を噴射することにより、微粒子を確実に吸引口９へ送る
ことができる。
【００１６】
【実施例】以下、本発明のパウダービーム加工機の一実
施例を図面を参照して説明する。
施例を図面を参照して説明する。
【００１７】図１に本発明の一実施例の構成を示す。図
１において、外筒１の上部端面には蓋部２が開閉自在に
設けられている。蓋部２の一端は加工機に設けられた支
持部材３の上端に軸４を介して回動可能に連結されてお
り、蓋部２の他端は外筒１の外周上部に軸５を介して回
動可能に設けられたロック部材６により係止されるよう
になっている。また、蓋部２の下面の外筒１の上端面に
対向する位置にはＯリング７が取り付けられており、蓋
部２を閉じた時の外筒１の内外を気密にシールしてい
る。
１において、外筒１の上部端面には蓋部２が開閉自在に
設けられている。蓋部２の一端は加工機に設けられた支
持部材３の上端に軸４を介して回動可能に連結されてお
り、蓋部２の他端は外筒１の外周上部に軸５を介して回
動可能に設けられたロック部材６により係止されるよう
になっている。また、蓋部２の下面の外筒１の上端面に
対向する位置にはＯリング７が取り付けられており、蓋
部２を閉じた時の外筒１の内外を気密にシールしてい
る。
【００１８】外筒１の下端近傍には外気と連通する開口
部１ａが設けられており、外筒１内には内筒８が同心状
に固定されている。内筒８は下方に向かって縮径する円
錐状に形成されており、内筒８の下端は外筒１の底部１
ｂから突出して吸引口９が接続されている。また、内筒
８の中心には軸方向にノズル１０が設けられており、ノ
ズル１０は内筒８の底面８ａから下方に突出している。
さらに蓋部２の内面中心には、椀状の天蓋１１が下向き
に固定されており、天蓋１１の内面中心には基板１２を
取り付ける基板取付台１３が設けられている。そして、
基板取付台１３に取り付けられた基板１２にノズル１０
の上端が対向し、天蓋１１の下端が内筒８の上端の開口
部８ｂ内に僅かに挿入された状態となっている。また、
外筒１と内筒８の二重構造で加工室１４を構成してい
る。
部１ａが設けられており、外筒１内には内筒８が同心状
に固定されている。内筒８は下方に向かって縮径する円
錐状に形成されており、内筒８の下端は外筒１の底部１
ｂから突出して吸引口９が接続されている。また、内筒
８の中心には軸方向にノズル１０が設けられており、ノ
ズル１０は内筒８の底面８ａから下方に突出している。
さらに蓋部２の内面中心には、椀状の天蓋１１が下向き
に固定されており、天蓋１１の内面中心には基板１２を
取り付ける基板取付台１３が設けられている。そして、
基板取付台１３に取り付けられた基板１２にノズル１０
の上端が対向し、天蓋１１の下端が内筒８の上端の開口
部８ｂ内に僅かに挿入された状態となっている。また、
外筒１と内筒８の二重構造で加工室１４を構成してい
る。
【００１９】次に本実施例の作用を説明する。ロック部
材６を矢印Ａ方向に回動し、蓋部２を矢印Ｂ方向に回動
すると、基板取付台１３も同方向に一体に回動して上方
向に向くので、基板１２を容易に着脱することができ
る。基板１２を基板取付台１３に取り付けて蓋部２を矢
印Ｃ方向に回動し、ロック部材６でロックすると、Ｏリ
ング７により外筒１は密閉される。次に、ノズル１０か
ら微粒子を含む空気流（固気二相流）を噴射させ、基板
１２の表面を加工するとき、二相流は基板１２に衝突し
て基板１２に平行な矢印Ｄで示す流れとなる。次に、こ
の二相流は天蓋１１の内周面に衝突して、矢印Ｅで示す
ように下向きの流れとなり、内筒８の内周面に案内され
て矢印Ｆで示すように吸引口９に導かれる。
材６を矢印Ａ方向に回動し、蓋部２を矢印Ｂ方向に回動
すると、基板取付台１３も同方向に一体に回動して上方
向に向くので、基板１２を容易に着脱することができ
る。基板１２を基板取付台１３に取り付けて蓋部２を矢
印Ｃ方向に回動し、ロック部材６でロックすると、Ｏリ
ング７により外筒１は密閉される。次に、ノズル１０か
ら微粒子を含む空気流（固気二相流）を噴射させ、基板
１２の表面を加工するとき、二相流は基板１２に衝突し
て基板１２に平行な矢印Ｄで示す流れとなる。次に、こ
の二相流は天蓋１１の内周面に衝突して、矢印Ｅで示す
ように下向きの流れとなり、内筒８の内周面に案内され
て矢印Ｆで示すように吸引口９に導かれる。
【００２０】このとき吸引口９より二相流を吸引する力
を充分に大きくすることにより、外筒１の開口部１ａか
ら内筒８の内周面と天蓋１１の外周面との間に気流が流
れ込み、二相流は吸引口９に円滑に運ばれる。この場
合、開口部１ａから圧縮空気を外筒１内に強制的に流入
することにより、さらに二相流の流れを円滑にすること
ができる。この結果、加工室１４内に微粒子が溜まるこ
となく加工を行うことができる。また、微粒子の種類を
変更する場合に、加工室１４内に前回使用した種類の微
粒子に残っていないので異種類の微粒子が混合されるこ
となく、加工の不具合が生じることはない。さらに、天
蓋１１により微粒子が蓋部２に付着することを防止で
き、加工時に強力なシールする必要はない。
を充分に大きくすることにより、外筒１の開口部１ａか
ら内筒８の内周面と天蓋１１の外周面との間に気流が流
れ込み、二相流は吸引口９に円滑に運ばれる。この場
合、開口部１ａから圧縮空気を外筒１内に強制的に流入
することにより、さらに二相流の流れを円滑にすること
ができる。この結果、加工室１４内に微粒子が溜まるこ
となく加工を行うことができる。また、微粒子の種類を
変更する場合に、加工室１４内に前回使用した種類の微
粒子に残っていないので異種類の微粒子が混合されるこ
となく、加工の不具合が生じることはない。さらに、天
蓋１１により微粒子が蓋部２に付着することを防止で
き、加工時に強力なシールする必要はない。
【００２１】なお、加工後ノズル１０より圧縮空気のみ
を基板１２の表面に吹き付けることにより、基板１２の
加工面に付着した微粒子を落とすことができる。また、
図２に示すように天蓋１１とノズル１０との相対位置を
移動し、ノズル１０の先端を天蓋１１の内周と基板１２
の外周との間に対向させて、ノズル１０から圧縮空気を
噴出させることにより、基板１２の裏面に付着した微粒
子も吹き飛ばすことができる。なお、天蓋１１と基板取
付台１３との間に圧縮空気の吹出し口を設け、この吹出
し口から圧縮空気を吹き出すと同時にノズル１０から微
粒子を噴出させることにより、洗浄に要する時間を短縮
することができる。
を基板１２の表面に吹き付けることにより、基板１２の
加工面に付着した微粒子を落とすことができる。また、
図２に示すように天蓋１１とノズル１０との相対位置を
移動し、ノズル１０の先端を天蓋１１の内周と基板１２
の外周との間に対向させて、ノズル１０から圧縮空気を
噴出させることにより、基板１２の裏面に付着した微粒
子も吹き飛ばすことができる。なお、天蓋１１と基板取
付台１３との間に圧縮空気の吹出し口を設け、この吹出
し口から圧縮空気を吹き出すと同時にノズル１０から微
粒子を噴出させることにより、洗浄に要する時間を短縮
することができる。
【００２２】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のパウダー
ビーム加工機によれば、蓋部に天蓋を設けてノズルより
噴射された微粒子を含む気体の流れを吸引口方向に変え
るようにしたので、加工室内に微粒子がたまることを防
止でき、加工室内へ圧縮空気を吹き付けることにより基
板の洗浄を行うことができる。この結果、微粒子が装置
外部へもれることを防止でき、環境汚染の発生を抑える
ことができる。また、微粒子の種類の変更が容易とな
る。さらに、洗浄室を必要としないため、装置の小型化
と加工コストの低減を図ることができ、加工室のシール
が簡便ですみ基板の着脱の作業性も向上する。
ビーム加工機によれば、蓋部に天蓋を設けてノズルより
噴射された微粒子を含む気体の流れを吸引口方向に変え
るようにしたので、加工室内に微粒子がたまることを防
止でき、加工室内へ圧縮空気を吹き付けることにより基
板の洗浄を行うことができる。この結果、微粒子が装置
外部へもれることを防止でき、環境汚染の発生を抑える
ことができる。また、微粒子の種類の変更が容易とな
る。さらに、洗浄室を必要としないため、装置の小型化
と加工コストの低減を図ることができ、加工室のシール
が簡便ですみ基板の着脱の作業性も向上する。
【図１】本発明のパウダービーム加工機の一実施例の構
成を示す縦断面図である。
成を示す縦断面図である。
【図２】本発明の他の実施例による天蓋とノズルの位置
を示す説明図である。
を示す説明図である。
【図３】従来のパウダービーム加工機の一例の構成を示
す説明断面図である。
す説明断面図である。
１ 外筒 １ａ 開口部 １ｂ 底面 ２ 蓋部 ８ 内筒 ８ｂ 開口部 ９ 吸引口 １０ ノズル １１ 天蓋 １２ 基板（ワーク） １３ 基板取付台（ワーク取付台） １４ 加工室
Claims (4)
- 【請求項１】 加工室内に保持されたワークに微粒子を
含む気体を噴射して加工を行うパウダービーム加工機に
おいて、 上端に蓋部が開閉可能に設けられ、下端近傍に外気と連
通する開口部を有する外筒と、 前記外筒内にほぼ同心状に取り付けられ、前記外筒底面
から突出する下端に吸引口が設けられた内筒と、 前記蓋部内面に前記円筒の上端開口部に対向して取り付
けられ、下面中心にワーク取付台を有する椀状の天蓋
と、 前記内筒の中心に軸方向に貫通して設けられ、前記微粒
子を含む気体を前記ワーク取付台に取り付けられたワー
クに対して噴射するノズルとを備え、前記外筒及び内筒
の二重構造で前記加工室を構成することを特徴とするパ
ウダービーム加工機。 - 【請求項２】 前記内筒は下方に向かって縮径する円錐
状に形成されたことを特徴とする請求項１記載のパウダ
ービーム加工機。 - 【請求項３】 前記ノズルは前記天蓋内周と前記ワーク
外周との間に圧縮空気を噴射することを特徴とする請求
項１または２のパウダービーム加工機。 - 【請求項４】 前記外筒の開口部から前記外筒内に圧縮
空気を送給することを特徴とする請求項１または２また
は３記載のパウダービーム加工機。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30644692A JP3173190B2 (ja) | 1992-10-20 | 1992-10-20 | パウダービーム加工機 |
| US08/134,675 US5397421A (en) | 1992-10-20 | 1993-10-12 | Powder beam etching machine |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30644692A JP3173190B2 (ja) | 1992-10-20 | 1992-10-20 | パウダービーム加工機 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06126636A true JPH06126636A (ja) | 1994-05-10 |
| JP3173190B2 JP3173190B2 (ja) | 2001-06-04 |
Family
ID=17957104
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30644692A Expired - Fee Related JP3173190B2 (ja) | 1992-10-20 | 1992-10-20 | パウダービーム加工機 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5397421A (ja) |
| JP (1) | JP3173190B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07276240A (ja) * | 1994-04-06 | 1995-10-24 | Alps Eng:Kk | ブラスト加工装置 |
| WO2014024572A1 (ja) * | 2012-08-06 | 2014-02-13 | 新東工業株式会社 | ショット処理装置 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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