JPH10199853A - スピン処理装置およびスピン処理方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 この発明はカップ体内で発生するミストが半
導体ウエハに付着するのを防止できるようにしたスピン
処理装置を提供することを目的とする。 【解決手段】 半導体ウエハ２１を回転させて処理する
スピン処理装置において、下カップ７５およびこの下カ
ップに対し所定の隙間を介して上下動自在に設けられた
上カップ７６とを有するカップ体８０と、このカップ体
内に設けられ上記半導体ウエハを保持する回転体９と、
この回転体を回転駆動する駆動手段と、上記下カップの
底部に接続され上記カップ体内の排気を行う排気管７７
と、上記上カップの内周面に設けられ上記回転体に保持
される上記半導体ウエハの周囲を覆う飛散防止カバ−８
１とを具備したことを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は被処理物を回転さ
せながら洗浄処理し、ついで乾燥処理するスピン処理装
置およびスピン処理方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】たとえば液晶製造装置や半導体製造装置
においては、液晶用ガラス基板や半導体ウエハなどの被
処理物を高い清浄度で洗浄して乾燥させるということが
要求される工程がある。上記被処理物を洗浄して乾燥さ
せるためには、この被処理物を回転させながら純水など
の処理液を噴射して洗浄し、ついで処理液を噴射させず
に回転させることで乾燥させるということが行われる。

【０００３】このような処理を行うためにスピン処理装
置が用いられている。スピン処理装置はカップ体を有す
る。このカップ体の内部には回転駆動機構によって回転
駆動される回転体が設けられている。この回転体の上面
側には上記被処理物が保持されている。上記カップ体の
上方には上記被処理物に向けて処理液を噴射するノズル
体が設けられている。

【０００４】したがって、上記ノズル体から処理液を上
記被処理物に向けて噴射させることで、この被処理物の
上面全体を洗浄処理することができる。たとえば、被処
理物を薬液で洗浄処理する場合、その薬液による洗浄
後、同じく処理液としての純水を噴射してリンス処理
し、ついで処理液を供給しない状態で上記被処理物を回
転させることで、リンス処理された被処理物を乾燥処理
するということが行われる。

【０００５】上記カップ体の内部には、回転する回転体
や被処理物に処理液が噴射されることでミストが発生
し、そのミストが洗浄処理や乾燥処理された被処理物に
再付着し、その被処理物を汚染させるということがあ
る。

【０００６】そこで、上記カップ体の底部に排気管を接
続し、カップ体内に浮遊するミストをカップ体内の気体
とともに吸引排出することで、上記ミストが被処理物に
再付着するのを防止するということが行われている。

【０００７】ところで、回転する被処理物からは、ミス
トが径方向外方へ向かって高速度で飛散し、カップ体の
内周面に衝突して反射する。カップ体の内周面で反射し
たミストは上記排気管に吸引されてカップ体内から排出
される。

【０００８】しかしながら、カップ体の内周面で反射し
たミストはその反射方向が一定になりにくいから、その
一部は、カップ体内における、上記排気管で発生する吸
引作用が及ばない箇所に散乱する。そのため、ミストの
一部は上記排気管の吸引力によってカップ体内に生じる
気流に乗らずに、被処理物に再付着するということがあ
る。

【０００９】上記カップ体は下カップと、この下カップ
に上下動自在に設けられた上カップとから構成されてい
る。そして、上記被処理物を上記回転体に対して着脱す
る際には、上記上カップを下降させて回転体を露出さ
せ、たとえばロボットによって着脱するようにしてい
る。

【００１０】このような構成のカップ体によると、上カ
ップを上下動自在な構成とするためには、下カップと上
カップとの間に隙間を設けなければならない。そのた
め、カップ体内の気体を排出するために排気管に吸引力
を発生させると、その吸引力によって外気が下カップと
上カップとの隙間から吸引されるということがある。下
カップと上カップとの隙間を通過した外気には塵埃が含
まれていることがあるから、それによって被処理物が汚
染されるということがある。

【００１１】なお、下カップと上カップとの間に隙間を
設けずに、上カップを上下動させると、これらの摺動に
よって塵埃が発生して被処理物に付着することが避けら
れないから、その点では隙間を設けた方がよいことにな
る。

【００１２】さらに、排気管によってカップ体内の気体
を吸引排出する際、カップ体内で生じる気流の方向と排
気管によってカップ体内で生じる吸引方向とが異なる
と、カップ体内のミストが上記排気管へ円滑に流れにく
いということがある。その結果、カップ体内にミストが
浮遊し、そのミストが被処理物に付着するということが
ある。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】このように従来は、カ
ップ体内で発生するミストや被処理物が汚染されたり、
カップ体内に侵入する外気によって被処理物が汚染され
るということがあった。この発明の目的は、カップ体内
で発生するミストによって被処理物が汚染されたり、カ
ップ体内に侵入する外気によって被処理物が汚染される
などのことがないようにしたスピン処理装置およびスピ
ン処理方法を提供することにある。

【００１４】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、被処
理物を回転させて処理するスピン処理装置において、下
カップおよびこの下カップに対し所定の隙間を介して上
下動自在に設けられた上カップとを有するカップ体と、
このカップ体内に設けられ上記被処理物を保持する回転
体と、この回転体を回転駆動する駆動手段と、上記下カ
ップの底部に接続され上記カップ体内の排気を行う排気
管と、上記上カップの内周面に設けられ上記回転体に保
持される上記被処理物の周囲を覆う飛散防止カバ−とを
具備したことを特徴とする。

【００１５】請求項２の発明は、被処理物を回転させて
処理するスピン処理装置において、下カップおよびこの
下カップに対し所定の隙間を介して上下動自在に設けら
れた上カップとを有するカップ体と、このカップ体内に
設けられ上記被処理物を保持するための回転体と、この
回転体を回転駆動する駆動手段と、上記下カップの底部
に接続され上記カップ体内の排気を行う排気管と、上記
上カップと下カップとの上記隙間を覆う外気侵入防止カ
バ−とを具備したことを特徴とする。

【００１６】請求項３の発明は、被処理物を回転させて
処理するスピン処理装置において、下カップおよびこの
下カップに対し所定の隙間を介して上下動自在に設けら
れた上カップとを有するカップ体と、このカップ体内に
設けられ上記被処理物を保持する回転体と、この回転体
を回転駆動する駆動手段と、上記下カップの底部に接続
され上記カップ体内の排気を行う排気管と、上記カップ
体の内底部に設けられこのカップ体内の気体を上記排気
管へガイドするガイド部材とを具備したことを特徴とす
る。

【００１７】請求項４の発明は、被処理物を回転させて
処理するスピン処理装置において、下カップおよびこの
下カップに対し所定の隙間を介して上下動自在に設けら
れた上カップとを有するカップ体と、このカップ体内に
設けられ上記被処理物を保持する回転体と、この回転体
を回転駆動する駆動手段と、上記下カップの底部に接続
され上記カップ体内の排気を行う排気管と、上記上カッ
プの内周面に設けられ上記回転体に保持される上記被処
理物の周囲を覆う飛散防止カバ−と、上記上カップと下
カップとの上記隙間を覆う外気侵入防止カバ−とを具備
したことを特徴とする。

【００１８】請求項５の発明は、被処理物を回転させて
処理するスピン処理装置において、下カップおよびこの
下カップに対し所定の隙間を介して上下動自在に設けら
れた上カップとを有するカップ体と、このカップ体内に
設けられ上記被処理物を保持する回転体と、この回転体
を回転駆動する駆動手段と、上記下カップの底部に接続
され上記カップ体内の排気を行う排気管と、上記上カッ
プの内周面に設けられ上記回転体に保持される上記被処
理物の周囲を覆う飛散防止カバ−と、上記カップ体の内
底部に設けられこのカップ体内の気体を上記排気管へガ
イドするガイド部材とを具備したことを特徴とする。

【００１９】請求項６の発明は、被処理物を回転させて
処理するスピン処理装置において、下カップおよびこの
下カップに対し所定の隙間を介して上下動自在に設けら
れた上カップとを有するカップ体と、このカップ体内に
設けられ上記被処理物を保持する回転体と、この回転体
を回転駆動する駆動手段と、上記下カップの底部に接続
され上記カップ体内の排気を行う排気管と、上記上カッ
プの内周面に設けられ上記回転体に保持される上記被処
理物の周囲を覆う飛散防止カバ−と、上記上カップと下
カップとの上記隙間を覆う外気侵入防止カバ−と、上記
カップ体の内底部に設けられこのカップ体内の気体を上
記排気管へガイドするガイド部材とを具備したことを特
徴とする。

【００２０】請求項７の発明は、被処理物を回転させて
処理するスピン処理装置において、下カップおよびこの
下カップに対し所定の隙間を介して上下動自在に設けら
れた上カップとを有するカップ体と、このカップ体内に
設けられ上記被処理物を保持する回転体と、この回転体
を回転駆動する駆動手段と、上記下カップの底部に接続
され上記カップ体内の排気を行う排気管と、上記上カッ
プと下カップとの上記隙間を覆う外気侵入防止カバ−
と、上記カップ体の内底部に設けられこのカップ体内の
気体を上記排気管へガイドするガイド部材とを具備した
ことを特徴とする。

【００２１】請求項８の発明は、請求項１乃至請求項７
のいずれかに記載された発明において、上記上カップの
内周面は凹状の円弧面であることを特徴とする。請求項
９の発明は、請求項１、４、５、６および請求項８のい
ずれかに記載の発明において、上記飛散防止カバ−はリ
ング状をなしていて、その下端は上記回転体に保持され
る被処理物の上面よりも上方に位置するように設定され
ていることを特徴とする。

【００２２】請求項１０の発明は、請求項１、４、５、
６、８および請求項９のいずれかに記載の発明におい
て、上記飛散防止カバ−の下端部は、径方向外方に向か
って屈曲されていることを特徴とする。

【００２３】請求項１１の発明は、請求項２、４、６お
よび請求項７のいずれかに記載の発明において、上記外
気侵入防止カバ−は筒状に形成され上端が上記上カップ
の外周面に取付けられ、上記下カップの周壁には上端に
開放した収納溝が形成されていて、上記外気侵入防止カ
バ−は、上記収納溝にスライド自在に収納されていると
ともに上記上カップが上昇した状態において下端部が上
記収納溝内に位置する長さに設定されていることを特徴
とする。

【００２４】請求項１２の発明は、請求項２、４、６、
７および請求項１１のいずれかに記載の発明において、
上記外気侵入防止カバ−は、伸縮自在な蛇腹状に形成さ
れていて、一端が上記下カップの外周面に取付けられ、
他端が上記上カップの外周面に取付けられていることを
特徴とする。

【００２５】請求項１３の発明は、請求項３、５、６お
よび請求項７のいずれかに記載の発明において、上記ガ
イド部材は、周壁が上端から下端にゆくにつれて径方向
外方に向かって傾斜した筒状をなしていて、その下端は
上記排気管の径方向中途部に配置されていることを特徴
とする。

【００２６】請求項１４の発明は、カップ体内に設けら
れた回転体によって被処理物を回転させて処理するスピ
ン処理方法において、上記カップ体は下カップおよびこ
の下カップに対して所定の隙間を介して上下動自在に設
けられた上カップを有するとともに上記隙間は外気侵入
防止カバ−によって覆われており、上記上カップを下降
させて上記回転体に被処理物を供給する工程と、上記回
転体に被処理物を供給したのち上記上カップを上昇させ
てこの被処理物の周囲を覆う工程と、上記カップ体内を
排気しながら上記回転体を回転させて上記被処理物を処
理する工程と、上記被処理物を処理したのち上記上カッ
プを下降させて上記回転体から上記被処理物を取り出す
工程とを具備したことを特徴とする。

【００２７】請求項１の発明によれば、回転体に保持さ
れた被処理物の周囲を覆う飛散防止カバ−が設けられて
いることで、被処理物から飛散して上カップの内周面で
反射したミストは上記飛散防止カバ−の外周面に衝突し
て上記被処理物へ戻りにくいから、被処理物が汚染され
にくくなる。

【００２８】請求項２の発明によれば、上カップと下カ
ップとの隙間が外気侵入防止カバ−によって覆われてい
ることで、その隙間から外気が侵入して被処理物を汚染
するということが防止される。

【００２９】請求項３の発明によれば、カップ体の内底
部にカップ体内の気体を排気管へガイドするガイド部材
を設けたことで、カップ体内のミストが円滑に排出さ
れ、被処理物が汚染されにくくなる。

【００３０】請求項４の発明によれば、飛散防止カバ−
によって被処理物がミストによって汚染されるのが防止
されるとともに、外気侵入防止カバ−によって上カップ
と下カップとの隙間から外気が侵入して被処理物を汚染
するということが防止される。

【００３１】請求項５の発明によれば、飛散防止カバ−
によって被処理物がミストにより汚染されるのが防止さ
れるとともに、ガイド部材によってカップ体内のミスト
が円滑に排出されるから、被処理物が汚染されにくくな
る。

【００３２】請求項６の発明によれば、飛散防止カバ−
によって被処理物がミストによって汚染されるのが防止
され、外気侵入防止カバ−によって上カップと下カップ
との隙間から外気が侵入して被処理物を汚染するのが防
止され、さらにガイド部材によってカップ体内のミスト
が円滑に排出されるから、被処理物が汚染されにくくな
る。

【００３３】請求項７の発明によれば、外気侵入防止カ
バ−によって上カップと下カップとの隙間から外気が侵
入して被処理物を汚染するのが防止されるとともに、ガ
イド部材によってカップ体内のミストが円滑に排出され
るから、被処理物が汚染されにくくなる。

【００３４】請求項８の発明によれば、上カップの内周
面が凹状の円弧面であるため、この円弧面で反射したミ
ストは下方へ向かい排出され、被処理物の方向へ戻りに
くいから、被処理物が汚染されにくくなる。

【００３５】請求項９の発明によれば、飛散防止カバ−
の下端が回転体に保持される被処理物の上面よりも上方
に位置していることで、被処理物の上面から飛散するミ
ストは飛散防止カバ−の内周面にほとんど衝突すること
なく、下端側を通過して上カップの内周面で反射し、つ
いで外周面に衝突して排出されるから、ミストによる被
処理物の汚染が良好に防止される。

【００３６】請求項１０の発明によれば、飛散防止カバ
−の下端部が径方向外方に向かって屈曲されていること
で、被処理物からのミストが飛散防止カバ−の下端部内
周面に衝突しても、そのミストは下方に向かって反射す
るから、被処理物に付着するのが防止される。

【００３７】請求項１１の発明によれば、上端が上カッ
プの外周面に取付けられた外気侵入防止カバ−を、下カ
ップに形成された収納溝に収納してラビリンス構造とし
たことで、上カップと下カップとの隙間から外気が侵入
するのを良好に防止することができる。

【００３８】請求項１２の発明によれば、上カップと下
カップとの隙間を、一端が上カップに連結され、他端が
下カップに連結された伸縮自在な蛇腹状の外気侵入防止
カバ−で覆うようにしたから、上記隙間から外気が侵入
するのを確実に防止することができる。

【００３９】請求項１３の発明によれば、ガイド部材の
下端を排気管の径方向中途部に位置させたことで、この
ガイド部材の外周面側と内周面側の両方に上記排気管で
発生する吸引力が作用するから、ガイド部材の外周面側
に浮遊するミストだけでなく、内周面側に入り込んだミ
ストも排出することができるばかりか、下カップの底部
に形成された通孔から内部に侵入する外気を被処理物に
接触させることなく排出させることもできる。請求項１
４の発明によれば、下カップと上カップとの隙間から外
気が侵入するのを防止しながら被処理物を洗浄処理や乾
燥処理することができる。

【００４０】

【発明の実施の形態】以下、この発明の一実施形態を図
面を参照して説明する。図１に示すこの発明のスピン乾
燥処理装置は本体ベ−ス１を有する。この本体ベ−ス１
には円筒状の支持体２が上下方向に貫通して設けられて
いる。この支持体２には同じく円筒状の回転軸３が中途
部を軸受４によって回転自在に支持されて設けられてい
る。

【００４１】上記回転軸３の下端部は上記支持体２から
突出し、その下端部には従動プ−リ５が設けられてい
る。この従動プ−リ５の近傍にはステップモ−タ６が配
設されている。このステップモ−タ６の回転軸６ａには
駆動プ−リ７が嵌着され、この駆動プ−リ７と上記従動
プ−リ５とにはベルト８が張設されている。したがっ
て、上記ステップモ−タ６が作動すれば、上記回転軸３
が回転駆動されるようになっている。

【００４２】上記回転軸３の上端には上面にダイ１０が
接合された回転体９が一体的に取り付けられている。こ
の回転体９には周方向に９０度間隔で４本の保持部材１
１がブッシュ１２を介して回転自在に立設されている。
上記保持部材１１は図２に示すように円筒部１３を有す
る。この円筒部１３は上端が閉塞され、下端が開口して
いる。円筒部１３の下端からは支軸１４が垂設されてい
る。この支軸１４は上記ブッシュ１２（図１に示す）に
回転自在に支持されている。

【００４３】上記円筒部１３の上面には断面が流線形状
に形成された支持部１５が一体的に設けられている。こ
の支持部１５の上面には支持ピン１６と、この支持ピン
１６に比べて背の高いロックピン１７とが立設されてい
る。支持ピン１６は上記支軸１４と軸中心をほぼ一致さ
せており、ロックピン１７は上記支軸１４の軸線に対し
て所定寸法偏心して設けられている。

【００４４】上記構成の４本の保持部材１１には図１に
示すように被処理物としての半導体ウエハ２１が保持さ
れる。つまり、半導体ウエハ２１はその周辺部の下面が
上記支持ピン１６に支持されて設けられる。半導体ウエ
ハ２１が支持ピン１６に支持された状態で、上記保持部
材１１は後述するごとく回転される。それによって、上
記保持部材１１に設けられたロックピン１７が偏心回転
して上記半導体ウエハ２１の外周面に当接するから、半
導体ウエハ２１は径方向にずれ動くことなく保持される
ことになる。

【００４５】上記回転体９とダイ１０との中心部分には
図１に示すように通孔２５が形成されている。この通孔
２５にはノズル体２６が非接触状態で嵌挿されている。
このノズル体２６は円錐形状をなしていて、その上面に
はノズル孔２７が一端を開放して形成されている。

【００４６】上記ノズル体２６の下端面には支持軸２８
の上端が連結されている。この支持軸２８の上部はブラ
ケット３１に保持されている。このブラケット３１は上
記回転軸３に軸受２９によって回転自在に支持されてい
る。つまり、上記ノズル体２６は支持軸２８を介してブ
ラケット３１に保持されている。

【００４７】上記回転軸３の内部の上記ブラケット３１
の下方にはハウジング３３が挿入されている。このハウ
ジング３３の上端はブラケット３１に結合され、下端部
は軸受３３ａによって上記回転軸３に回転自在に支持さ
れている。

【００４８】上記ハウジング３３には上記支持軸２８が
挿通される第１の貫通孔３４と、上記ノズル孔２７に一
端を接続した供給チュ−ブ３５が挿通された第２の貫通
孔３６とが穿設されている。上記供給チュ−ブ３５の他
端は図示しない薬液やリンス液などの処理液の供給部に
連通している。したがって、上記ノズル孔２７から半導
体ウエハ２１の下面に処理液を噴射できるようになって
いる。

【００４９】上記回転体９に保持される半導体ウエハ２
１の上方にはノズル体３０が配置されている。このノズ
ル体３０は図示しない薬液やリンス液などの処理液の供
給部に連通していて、上記半導体ウエハ２１の上面に向
けて処理液を噴射できるようになっている。

【００５０】したがって、上記保持部材１１に保持され
た半導体ウエハ２１には上面と下面とに処理液を噴射す
ることができるようになっている。つまり、半導体ウエ
ハ２１を乾燥処理する前にその上面と下面を洗浄処理や
リンス処理できるようになっている。

【００５１】なお、上記ノズル体２６は上記支持軸２８
によって保持され、上記回転体９とは非接触状態となっ
ているから、この回転体９が回転軸３と一体に回転して
も、回転しないようになっている。

【００５２】上記回転体９の下面側で、上記回転軸３の
上部外周面には円筒状のロック筒体４１が回転自在に設
けられている。このロック筒体４１の上端には、図３に
示すようにフランジ４２が設けられ、このフランジ４２
の上面には周方向に９０度間隔で４本の係止ピン４３が
突設されている。

【００５３】上記係止ピン４３は図２に示すようにレバ
−４４の一端に開放して形成された係合溝４５に係合し
ている。このレバ−４４の他端は上記保持部材１１の支
軸１４の下端部に取付けられている。したがって、上記
ロック筒体４１を図３と図４に矢印で示す反時計方向に
回転させ、係止ピン４３によりレバ−４４を同方向に回
動させれば、このレバ−４４が連結された上記支軸１４
を支点として上記保持部材１１を図２に矢印で示す時計
方向に回動させることができる。

【００５４】それによって、ロックピン１７が偏心回転
するから、支持ピン１６に支持された半導体ウエハ２１
の外周面に上記ロックピン１７を当接させ、半導体ウエ
ハ２１の支持状態をロックできる。つまり、支持ピン１
６に支持された半導体ウエハ２１が径方向にずれ動くの
を阻止する。上記ロック筒体４１を時計方向に回動させ
れば、上記ロックピン１７による半導体ウエハ２１のロ
ック状態を解除することができる。

【００５５】上記ロックピン１７による半導体ウエハ２
１のロックおよびロックの解除、つまりロック筒体４１
の回動は解除機構５１によって行われる。この解除機構
５１は図３と図４に示すように上記回転軸３の外周面に
設けられ上記ロック筒体４１に形成された切欠溝４１ａ
内に位置する第１の係止片５２と、上記ロック筒体４１
の外周面に設けられた第２の係止片５３とを有する。

【００５６】第１の係止片５２と第２の係止片５３との
間にはばね５４が張設されている。このばね５４は上記
第２の係止片５３を介してロック筒体４１を第１の係止
片５２の方向に付勢している。つまり、ロック筒体４１
は図３に矢印で示す反時計方向に付勢されている。

【００５７】それによって、ロック筒体４１は、ばね５
４の付勢力によって常時、反時計方向に回動付勢されて
いるので、係止ピン４３およびレバ−４４を介して保持
部材１１が時計方向に回動させられ、ロックピン１７が
半導体ウエハ２１の外周面に当接するロック状態となっ
ている。

【００５８】上記ロックピン１７による半導体ウエハ２
１のロック状態の解除は、上記ステップモ−タ６の近傍
に配置された上記解除機構５１を構成する第１のシリン
ダ６１と、第２のシリンダ６２とによって行われる。

【００５９】すなわち、図４に示すように第１のシリン
ダ６１の側方には第１のリニアガイド６３によって第１
の可動体６４が矢印方向にスライド自在に支持されてい
る。この第１の可動体６４は上記第１のシリンダ６１の
ロッド６１ａに連結されている。それによって、第１の
可動体６４は、上記第１のシリンダ６１が作動すること
で、上記第１のリニアガイド６３に沿って往復駆動され
るようになっている。

【００６０】上記第１の可動体６４の上面先端部には一
対の挟持ロ−ラ６５が所定の間隔で設けられている。第
１の可動体６４が前進方向に駆動されると、これら挟持
ロ−ラ６５は図４に鎖線で示すように回転軸３の第１の
係止片５２を挟持する。それによって、上記回転軸３が
回転するのを阻止する。

【００６１】上記第２のシリンダ６２の側方には第２の
リニアガイド６７によって第２の可動体６８が矢印方向
にスライド自在に設けられている。第２の可動体６８の
上面先端部には押圧ロ−ラ６９が回転自在に設けられて
いる。したがって、上記押圧ロ−ラ６９は第２のシリン
ダ６２によって進退駆動される。

【００６２】上記第１の係止片５２が上記一対の挟持ロ
−ラ６５によって挟持された状態で、上記第２のシリン
ダ６２が作動して第２の可動体６８が前進方向に駆動さ
れると、図４に鎖線で示すようにその先端部に設けられ
た押圧ロ−ラ６９が上記ロック筒体４１に設けられた第
２の係止片５３を押圧する。

【００６３】それによって、上記ロック筒体４１は、ば
ね５４の付勢力に抗して回転させられるから、係止ピン
４３およびレバ−４４を介して保持部材１１がロック時
とは逆方向に回転させられる。したがって、ロックピン
１７が反時計方向に偏心回転して半導体ウエハ２１のロ
ック状態を解除するようになっている。

【００６４】図１に示すように上記回転軸３の下端部外
周面にはドグ７１が設けられ、このドグ７１はマイクロ
フォトセンサ７２によって検知される。このマイクロフ
ォトセンサ７２の検知信号で上記ステップモ−タ６によ
る回転軸３の回転角度が制御される。つまり、半導体ウ
エハ２１のロック状態を解除するときには、上記解除機
構５１の第１、第２のシリンダ６１、６２に対して第１
の係止片５２と第２の係止片５３とが所定の位置になる
よう回転軸３の回転角度が制御されるようになってい
る。

【００６５】上記本体ベ−ス１の上面側にはカップ体８
０が設けられている。このカップ体８０は、底部に上記
回転軸３が挿通される通孔７５ａが形成された有底状の
下カップ７５と、この下カップ７５の内周面に対して外
周面が所定の隙間７９を有するリング状の上カップ７６
とからなる。上カップ７６には図示しない上下駆動シリ
ンダのロッド７８が連結され、このシリンダが作動する
ことで上カップ７６が上下駆動されるようになってい
る。

【００６６】上記上カップ７６は、上昇位置で上記保持
部材１１に保持された半導体ウエハ２１の外周面を覆
い、図１に鎖線で示す下降位置で上端が上記半導体ウエ
ハ２１の上面よりも低い位置になるよう上下動のストロ
−クが設定されている。

【００６７】したがって、上カップ７６を図１に鎖線で
示す位置まで下降させた状態において、図示しないロボ
ットによって上記回転体９に設けられた保持部材１１へ
未処理の半導体ウエハ２１を供給したり、処理液で処理
されてから乾燥処理された半導体ウエハ２１を取り出す
ことができるようになっている。

【００６８】さらに、下カップ７５の底部には周方向に
所定間隔、たとえば９０度間隔で複数の排気管７７が接
続されている。各排気管７７は図示しない処理液と気体
を分離する気水分離器を介して吸引ポンプ９０に連通し
ている。したがって、上記排気管７７に連通する吸引ポ
ンプ９０の吸引力で、上記カップ体８０内の処理液、ミ
スト、気体などを吸引排出できるようになっている。

【００６９】上記上カップ７６の内周面は凹状の円弧面
７６ａに形成され、この円弧面７６ａの上部には、上記
保持部材１１に保持される半導体ウエハ２１の上面より
わずかに上方の外周部を覆う円筒状の飛散防止カバ−８
１が設けられている。この飛散防止カバ−８１は下端が
半導体ウエハ２１の上面よりもわずかに上方、たとえば
数mm〜数十mm程度、好ましくは10mm程度上方に位置して
いる。

【００７０】上記飛散防止カバ−８１は弗素樹脂などの
耐蝕性に優れた合成樹脂によって筒状に形成されてい
る。この飛散防止カバ−８１の上端には上部折曲部８１
ａが形成され、この上部折曲部８１ａは上記上カップ７
６の円弧面７６ａに接着あるいはねじなどによって固定
されている。さらに、飛散防止カバ−８１の下端部には
径方向外方に向かって折曲された下部折曲部８１ｂが形
成されている。

【００７１】上記回転体９が回転駆動されて保持部材１
１に保持された半導体ウエハ２１が一体的に回転するこ
とで、この半導体ウエハ２１から処理液が飛散してミス
トが発生すると、そのミストは上カップ７６の円弧面７
６ａで反射する。

【００７２】円弧面７６ａに衝突したミストは、その円
弧面７６ａが凹状であることで、大半が下方に向かって
反射するが、一部が上方に向かって反射することがあ
る。上記円弧面７６ａで上方に向かって反射したミスト
は上記飛散防止カバ−８１の外周面に衝突するから、そ
のミストが保持部材１１に保持された半導体ウエハ２１
に付着するのが防止される。

【００７３】しかも、上記飛散防止カバ−８１の下端部
は径方向外方に向かって折曲された下部折曲部８１ｂが
形成されている。そのため、半導体ウエハ２１から飛散
するミストの一部は上記下部折曲部８１ｂの内周面に衝
突するが、その内周面に衝突したミストは下方に向かっ
て反射する。そのため、飛散防止カバ−８１を設けて
も、ミストがその内周面で反射して半導体ウエハ２１へ
戻るのが上記下部折曲部８１ｂによって防止される。

【００７４】つまり、飛散防止カバ−８１の下端と半導
体ウエハ２１の上面との間隔を狭くしたことで、上カッ
プ７６の円弧面７６ａで反射したミストが半導体ウエハ
２１の上面へ再付着するのを防止できる反面、ミストの
一部が上記飛散防止カバ−８１の下端部に衝突する。し
かしながら、飛散防止カバ−８１の下端部は下部折曲部
８１ｂに形成されているから、そこに衝突したミストは
下方に反射するため、半導体ウエハ２１に付着するのが
防止されることになる。

【００７５】上記上カップ７６の外周面には外気侵入防
止カバ−８２が取付けられている。この外気侵入防止カ
バ−８２は、上記飛散防止カバ−８１と同様、弗素樹脂
などの耐蝕性に優れた合成樹脂によって筒状に形成され
ている。この外気侵入防止カバ−８２の上端にはＬ字状
の折曲部８２ａが形成され、この折曲部８２ａは上記上
カップ７６の外周面上部の取付部７６ｂに取付け固定さ
れている。

【００７６】上記下カップ７５の周壁には、その上端に
開放した収納溝８３が全周にわたって形成されている。
上記上カップ７６が上昇した状態において、上記外気侵
入防止カバ−８２の下端部は上記収納溝８３内に位置し
ている。それによって、上記下カップ７５の上端部分、
つまり下カップ７５と上カップ７６との隙間７９を介し
て重合した部分の外周は、上記外気侵入防止カバ−８２
の下端部によって覆われている。

【００７７】上記外気侵入カバ−８２によって上記隙間
７９が覆われることで、その隙間７９から外気がカップ
体８０内に侵入するのが防止される。上記外気侵入防止
カバ−８２を収納溝８３に挿入したことで、この外気侵
入防止カバ−８２と下カップ７５の周壁の収納溝８３が
形成された部分とでラビリンス構造をなしている。その
ため、外気侵入防止カバ−８２を収納溝８３に挿入した
ことで、上記隙間７９からの外気侵入を良好に阻止する
ことができる。

【００７８】上記収納溝８３に液体を入れ、この液体に
上記外気侵入防止カバ−８２の下端部を浸漬させれば、
上記外気侵入防止カバ−８２と下カップ７５との間が気
密になるから、上記隙間７９から外気が侵入するのを確
実に防止することができる。

【００７９】上記上カップ７６の上面が開口しているこ
とで、その開口からカップ体８０内には外気が侵入す
る。しかしながら、スピン処理装置は、通常クリ−ンル
−ム（図示せず）内に設置されている。クリ−ンル−ム
では、パ−ティクルを含まない清浄空気が天井から床面
に向けて流れている。そのため、上記カップ体８０の内
部には、上記上カップ７６の上面開口から清浄空気が流
入するため、その空気によって半導体ウエハ２１が汚染
されることはほとんどない。

【００８０】なお、図６に示すように外気侵入防止カバ
−８２Ａを伸縮可能なゴムや合成樹脂によって蛇腹状の
円筒体とし、下端を下カップ７５の上端に連結し、上端
を上カップ７６の取付部７６ｂに連結するようにしても
よい。

【００８１】上記下カップ７５の内底部には、弗素樹脂
などの耐蝕性に優れた合成樹脂によって上端が開放した
傘状に形成されたガイド部材８５が設けられている。つ
まり、このガイド部材８５は上端面が下端面よりも小径
で、周壁が上端から下端にゆくにつれて径方向外方に向
かって傾斜した筒状に形成されている。

【００８２】上記ガイド部材８５は、上端内周面が上記
回転体９の外周面に接近し、下端は下カップ７５の底部
に接続された排気管７７の開口の径方向中途部に位置し
ている。

【００８３】上記吸引ポンプ９０の吸引力がカップ体８
０内に作用することで、カップ体８０内のミストと気体
は上記ガイド部材８５の傾斜した外周面にガイドされて
上記排気管７７へ円滑に排出される。しかも、ガイド部
材８５の下端が排気管７７の径方向中途部に位置してい
ることで、上記ガイド部材８５の外周面側と内周面側と
の両方に、上記排気管７７を介して吸引ポンプ９０の吸
引力が作用する。そのため、上記ガイド部材８５の外周
面側だけでなく、内周面側に入り込んだミストや下カッ
プ７５の通孔７５ａから内周面側に入り込んだ気体も上
記排気管７７から良好に排出されることになる。

【００８４】このように構成されたスピン乾燥処理装置
によって半導体ウエハ２１を洗浄処理してから乾燥処理
する場合には、まず、上カップ７６を下降させて半導体
ウエハ２１を回転体９（保持部材１１）に供給する。つ
いで、上カップ７６を上昇させ、回転体９に保持された
半導体ウエハ２１の周辺部を覆い、カップ体８０内を吸
引ポンプ９０によって吸引しながら回転体９を回転さ
せ、半導体ウエハ２１の上面と下面とに処理液を供給す
る。それによって、上記半導体ウエハ２１は上面と下面
とが上記処理液によってたとえば洗浄処理されることに
なる。

【００８５】洗浄処理を行ったのち、処理液の供給を停
止して回転体９を高速で回転して半導体ウエハ２１に付
着した処理液を飛散させることで、上記半導体ウエハ２
１が乾燥処理されることになる。

【００８６】回転する半導体ウエハ２１に処理液が噴射
されたり、半導体ウエハ２１が乾燥処理されることで、
その処理液がミストとなって周囲に飛散して上カップ７
６の円弧面７６ａに衝突する。この円弧面７６ａは凹状
であるから、半導体ウエハ２１から飛散して上記円弧面
７６ａに衝突したミストのほとんどは下方に向かって反
射する。そのため、吸引ポンプ９０の吸引力によってガ
イド部材８５の外周面に沿って流れ、上記排気管７７へ
円滑に排出される。

【００８７】上カップ７６の円弧面７６ａで反射したミ
ストの一部は、その円弧面７６ａへの入射角度によって
は上方に向かって反射する。しかしながら、上方に向か
って反射したミストは、上カップ７６の上部に設けられ
た飛散防止カバ−８１の外周面に衝突する。そのため、
上カップ７６の円弧面７６ａで上方に向かって反射した
ミストが半導体ウエハ２１に付着するのも防止される。

【００８８】上記飛散防止カバ−８１の下端部は径方向
外方に向かって折曲された下部折曲部８１ｂに形成され
ている。そのため、半導体ウエハ２１の上面からわずか
に上方に向かって飛散して上記下部折曲部８１ｂの内周
面に衝突したミストは下方へ向かって反射する。そし
て、そのミストはガイド部材８５の外周面にガイドされ
て排気管７７へ排出されるため、半導体ウエハ２１に付
着することがない。

【００８９】このように、回転する半導体ウエハ２１か
ら飛散するミストは、上カップ７６の内周面が凹状の円
弧面７６ａであることや上カップ７６に飛散防止カバ−
８１を設けたことによって、上記上カップ７６の内周面
で反射して半導体ウエハ２１に付着するのを良好に防止
することができる。

【００９０】しかも、カップ体８０内から排気管７７へ
排出されるミストはガイド部材８５の傾斜した周壁の外
周面によって円滑にガイドされるから、そのことによっ
てもミストがカップ体８０内から排出され易くなる。

【００９１】上記飛散防止カバ−８１とガイド部材８５
とによって洗浄処理時に発生したミストがカップ体８０
内から円滑かつ確実に排出されることで、乾燥処理時に
上記カップ体８０内にはミストがほとんど残留すること
がない。したがって、洗浄に続いて乾燥処理を終えた半
導体ウエハ２１が、ミストによって汚染されるのが防止
される。

【００９２】上記カップ体８０は、上カップ７６を下降
させて半導体ウエハ２１を回転体９から着脱する構成で
あるため、上記下カップ７５と上カップ７６との間に隙
間７９が確保されるが、その隙間７９、つまり下カップ
７５と上カップ７６との重合部分からパ−ティクルを含
む外気がカップ体８０の内部へ侵入する虞がある。

【００９３】しかしながら、上記各カップ７５、７６の
重合部分は外気侵入防止カバ−８２によって覆われてい
る。そのため、上記重合部分の隙間７９から外気がカッ
プ体８０内へ侵入するのが防止されるから、外気に含ま
れるパ−ティクルが半導体ウエハ２１に付着するという
こともない。

【００９４】さらに、下カップ７５の内底部に設けられ
たガイド部材８５は、下端が排気管７７の径方向中途部
に位置するように設けられている。そのため、排気管７
７を介してカップ体８０内に作用する吸引ポンプ９０の
吸引力は、上記ガイド部材８５の外周面側だけでなく内
周面側にも作用する。

【００９５】上記ガイド部材８５の内周面側に作用する
吸引力は、下カップ７５の通孔７５ａからカップ体８０
内に侵入する外気を、カップ体８０内に散乱させること
なく排気管７７へ吸引するから、上記通孔７５ａから侵
入する外気に含まれるパ−ティクルが半導体ウエハ２１
に付着するのが防止される。

【００９６】図５は回転体９に保持された半導体ウエハ
２１の上面におけるパ−ティクルをパ−ティクルカウン
タによって計測した結果を示す。同図中曲線Ａは飛散防
止カバ−８１と外気侵入防止カバ−８２とが設けられて
いない場合で、その場合には回転体９の回転数が６００
rpm に上昇するとパ−ティクル数が増加し始め、１５０
０rpm では所定の単位面積当たりのパ−ティクル数が約
５１００個に急増した。

【００９７】曲線Ｂは飛散防止カバ−８１だけを設けた
場合で、この場合は曲線Ａに比べて回転体９の回転数の
増加に対してパ−ティクルの増加割合が低く、回転数が
１５００rpm のときには所定の単位面積当たりのパ−テ
ィクル数が約３５００個であった。つまり、飛散防止カ
バ−８１を設けることで、ミストが上カップ７６で反射
して半導体ウエハ２１へ付着するのが抑制できると考え
られる。

【００９８】曲線Ｃは飛散防止カバ−８１と外気侵入防
止カバ−８２とを設けた場合で、この場合には回転体９
の回転数が１５００rpmnとなっても、上記半導体ウエハ
２１の上面ではパ−ティクルがほとんど検出されなかっ
た。つまり、飛散防止カバ−８１と外気侵入防止カバ−
８２とを設けることで、飛散防止カバ−８１による上述
した効果と、外気侵入防止カバ−８２による外気の侵入
防止効果によって半導体ウエハ２１の汚染が低減される
ものと考えられる。

【００９９】なお、この発明は上記一実施形態に限定さ
れず、種々変形可能である。たとえば、上記一実施形態
では被処理物として半導体ウエハを挙げたが、半導体ウ
エハに代わり、液晶表示装置に用いられる矩形状のガラ
ス基板であっても、この発明の装置で処理する際の汚染
を防止することができる。

【０１００】

【発明の効果】請求項１の発明によれば、回転体に保持
された被処理物の周囲を覆う飛散防止カバ−を設けるよ
うにした。そのため、被処理物から飛散して上カップの
内周面で反射したミストは上記飛散防止カバ−の外周面
に衝突して上記被処理物へ戻りにくいから、被処理物が
ミストによって汚染されにくくなる。

【０１０１】請求項２の発明によれば、上カップと下カ
ップとの隙間を外気侵入防止カバ−によって覆うように
した。そのため、上記隙間から外気が侵入して被処理物
が汚染されるのを防止することができる。

【０１０２】請求項３の発明によれば、カップ体の内底
部にカップ体内の気体を排気管へガイドするガイド部材
を設けるようにした。そのため、カップ体内のミストが
円滑に排出されるから、被処理物がミストによって汚染
されにくくなる。

【０１０３】請求項４の発明によれば、飛散防止カバ−
を設けたことで被処理物がミストによって汚染されるの
が防止されるとともに、外気侵入防止カバ−を設けたこ
とで上カップと下カップとの隙間から外気が侵入して被
処理物を汚染するということが防止される。

【０１０４】請求項５の発明によれば、飛散防止カバ−
を設けたことで被処理物がミストにより汚染されるのが
防止されるとともに、ガイド部材を設けたことでカップ
体内のミストが円滑に排出されるから、被処理物が汚染
されにくくなる。

【０１０５】請求項６の発明によれば、飛散防止カバ−
を設けたことで被処理物がミストによって汚染されるの
が防止され、外気侵入防止カバ−を設けたことで上カッ
プと下カップとの隙間から外気が侵入して被処理物を汚
染されるのが防止され、さらにガイド部材を設けたこと
でカップ体内のミストが円滑に排出されるから、被処理
物が汚染されにくくなる。

【０１０６】請求項７の発明によれば、外気侵入防止カ
バ−を設けたことで上カップと下カップとの隙間から外
気が侵入して被処理物が汚染されるのが防止されるとと
もに、ガイド部材を設けたことでカップ体内のミストが
円滑に排出されるから、被処理物が汚染されにくくな
る。

【０１０７】請求項８の発明によれば、上カップの内周
面を凹状の円弧面に形成した。そのため、この円弧面で
反射したミストは下方へ向かい排出され、被処理物の方
向へ戻りにくいから、被処理物が汚染されにくくなる。

【０１０８】請求項９の発明によれば、飛散防止カバ−
の下端を回転体に保持される被処理物の上面よりも上方
に位置させるようにした。そのため、被処理物の上面か
ら飛散するミストは飛散防止カバ−の内周面にほとんど
衝突することなく、下端側を通過して上カップの内周面
で反射し、ついで外周面に衝突して排出されるから、ミ
ストによる被処理物の汚染が良好に防止される。

【０１０９】請求項１０の発明によれば、飛散防止カバ
−の下端部を径方向外方に向かって屈曲するようにし
た。そのため、被処理物からのミストが飛散防止カバ−
の下端部内周面に衝突しても、そのミストは下方に向か
って反射するから、被処理物に付着するのが防止され
る。

【０１１０】請求項１１の発明によれば、上端が上カッ
プの外周面に取付けられた外気侵入防止カバ−を、下カ
ップに形成された収納溝に収納してラビリンス構造とし
た。そのため、上カップと下カップとの隙間から外気が
侵入するのを良好に防止することができる。

【０１１１】請求項１２の発明によれば、上カップと下
カップとの隙間を、一端が上カップに連結され、他端が
下カップに連結された伸縮自在な蛇腹状の外気侵入防止
カバ−で覆うようにした。

【０１１２】そのため、上記隙間から外気が侵入するの
を確実に防止することができる。請求項１３の発明によ
れば、ガイド部材の下端を排気管の径方向中途部に位置
させるようにした。

【０１１３】そのため、このガイド部材の外周面側と内
周面側の両方に上記排気管で発生する吸引力が作用する
から、ガイド部材の外周面側に浮遊するミストだけでな
く、内周面側に入り込んだミストも排出することができ
るばかりか、下カップの底部に形成された通孔から内部
に侵入する外気を被処理物に接触させることなく排出さ
せることもできる。請求項１４の発明によれば、下カッ
プと上カップとの隙間から外気が侵入するのを防止しな
がら被処理物を洗浄処理や乾燥処理することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の一実施形態を示す装置全体の概略的
構成の断面図。

【図２】同じく保持部材の斜視図。

【図３】同じく回転軸とロック筒体との関係を示す斜視
図。

【図４】同じく解除機構の平面図。

【図５】同じく実験結果を示すグラフ。

【図６】外気侵入防止カバ−の変形例を示す一部分の断
面図。

【符号の説明】

６…ステップモ−タ ９…回転体 ２１…半導体ウエハ（被処理物） ７５…下カップ ７６…上カップ ７７…排気管 ７９…隙間 ８０…カップ体 ８１…飛散防止カバ− ８２…外気侵入防止カバ− ８３…収納溝 ８５…ガイド部材 ９０…吸引ポンプ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 桜井 直明 神奈川県横浜市磯子区新磯子町33番地 株 式会社東芝生産技術研究所内

Claims (14)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被処理物を回転させて処理するスピン処
   理装置において、 下カップおよびこの下カップに対し所定の隙間を介して
   上下動自在に設けられた上カップとを有するカップ体
   と、 このカップ体内に設けられ上記被処理物を保持する回転
   体と、 この回転体を回転駆動する駆動手段と、 上記下カップの底部に接続され上記カップ体内の排気を
   行う排気管と、 上記上カップの内周面に設けられ上記回転体に保持され
   る上記被処理物の周囲を覆う飛散防止カバ−とを具備し
   たことを特徴とするスピン処理装置。
2. 【請求項２】 被処理物を回転させて処理するスピン処
   理装置において、 下カップおよびこの下カップに対し所定の隙間を介して
   上下動自在に設けられた上カップとを有するカップ体
   と、 このカップ体内に設けられ上記被処理物を保持するため
   の回転体と、 この回転体を回転駆動する駆動手段と、 上記下カップの底部に接続され上記カップ体内の排気を
   行う排気管と、 上記上カップと下カップとの上記隙間を覆う外気侵入防
   止カバ−とを具備したことを特徴とするスピン処理装
   置。
3. 【請求項３】 被処理物を回転させて処理するスピン処
   理装置において、 下カップおよびこの下カップに対し所定の隙間を介して
   上下動自在に設けられた上カップとを有するカップ体
   と、 このカップ体内に設けられ上記被処理物を保持する回転
   体と、 この回転体を回転駆動する駆動手段と、 上記下カップの底部に接続され上記カップ体内の排気を
   行う排気管と、 上記カップ体の内底部に設けられこのカップ体内の気体
   を上記排気管へガイドするガイド部材とを具備したこと
   を特徴とするスピン処理装置。
4. 【請求項４】 被処理物を回転させて処理するスピン処
   理装置において、 下カップおよびこの下カップに対し所定の隙間を介して
   上下動自在に設けられた上カップとを有するカップ体
   と、 このカップ体内に設けられ上記被処理物を保持する回転
   体と、 この回転体を回転駆動する駆動手段と、 上記下カップの底部に接続され上記カップ体内の排気を
   行う排気管と、 上記上カップの内周面に設けられ上記回転体に保持され
   る上記被処理物の周囲を覆う飛散防止カバ−と、 上記上カップと下カップとの上記隙間を覆う外気侵入防
   止カバ−とを具備したことを特徴とするスピン処理装
   置。
5. 【請求項５】 被処理物を回転させて処理するスピン処
   理装置において、 下カップおよびこの下カップに対し所定の隙間を介して
   上下動自在に設けられた上カップとを有するカップ体
   と、 このカップ体内に設けられ上記被処理物を保持する回転
   体と、 この回転体を回転駆動する駆動手段と、 上記下カップの底部に接続され上記カップ体内の排気を
   行う排気管と、 上記上カップの内周面に設けられ上記回転体に保持され
   る上記被処理物の周囲を覆う飛散防止カバ−と、 上記カップ体の内底部に設けられこのカップ体内の気体
   を上記排気管へガイドするガイド部材とを具備したこと
   を特徴とするスピン処理装置。
6. 【請求項６】 被処理物を回転させて処理するスピン処
   理装置において、 下カップおよびこの下カップに対し所定の隙間を介して
   上下動自在に設けられた上カップとを有するカップ体
   と、 このカップ体内に設けられ上記被処理物を保持する回転
   体と、 この回転体を回転駆動する駆動手段と、 上記下カップの底部に接続され上記カップ体内の排気を
   行う排気管と、 上記上カップの内周面に設けられ上記回転体に保持され
   る上記被処理物の周囲を覆う飛散防止カバ−と、 上記上カップと下カップとの上記隙間を覆う外気侵入防
   止カバ−と、 上記カップ体の内底部に設けられこのカップ体内の気体
   を上記排気管へガイドするガイド部材とを具備したこと
   を特徴とするスピン処理装置。
7. 【請求項７】 被処理物を回転させて処理するスピン処
   理装置において、 下カップおよびこの下カップに対し所定の隙間を介して
   上下動自在に設けられた上カップとを有するカップ体
   と、 このカップ体内に設けられ上記被処理物を保持する回転
   体と、 この回転体を回転駆動する駆動手段と、 上記下カップの底部に接続され上記カップ体内の排気を
   行う排気管と、 上記上カップと下カップとの上記隙間を覆う外気侵入防
   止カバ−と、 上記カップ体の内底部に設けられこのカップ体内の気体
   を上記排気管へガイドするガイド部材とを具備したこと
   を特徴とするスピン処理装置。
8. 【請求項８】 上記上カップの内周面は凹状の円弧面で
   あることを特徴とする請求項１乃至請求項７のいずれか
   に記載のスピン処理装置。
9. 【請求項９】 上記飛散防止カバ−はリング状をなして
   いて、その下端は上記回転体に保持される被処理物の上
   面よりも上方に位置するように設定されていることを特
   徴とする請求項１、４、５、６および請求項８のいずれ
   かに記載のスピン処理装置。
10. 【請求項１０】 上記飛散防止カバ−の下端部は、径方
    向外方に向かって屈曲されていることを特徴とする請求
    項１、４、５、６、８および請求項９のいずれかに記載
    のスピン処理装置。
11. 【請求項１１】 上記外気侵入防止カバ−は筒状に形成
    され上端が上記上カップの外周面に取付けられ、上記下
    カップの周壁には上端に開放した収納溝が形成されてい
    て、上記外気侵入防止カバ−は、上記収納溝にスライド
    自在に収納されているとともに上記上カップが上昇した
    状態において下端部が上記収納溝内に位置する長さに設
    定されていることを特徴とする請求項２、４、６および
    請求項７のいずれかに記載のスピン処理装置。
12. 【請求項１２】 上記外気侵入防止カバ−は、伸縮自在
    な蛇腹状に形成されていて、一端が上記下カップの外周
    面に取付けられ、他端が上記上カップの外周面に取付け
    られていることを特徴とする請求項２、４、６、７およ
    び請求項１１のいずれかに記載のスピン処理装置。
13. 【請求項１３】 上記ガイド部材は、周壁が上端から下
    端にゆくにつれて径方向外方に向かって傾斜した筒状を
    なしていて、その下端は上記排気管の径方向中途部に配
    置されていることを特徴とする請求項３、５、６および
    請求項７のいずれかに記載のスピン処理装置。
14. 【請求項１４】 カップ体内に設けられた回転体によっ
    て被処理物を回転させて処理するスピン処理方法におい
    て、 上記カップ体は下カップおよびこの下カップに対して所
    定の隙間を介して上下動自在に設けられた上カップを有
    するとともに上記隙間は外気侵入防止カバ−によって覆
    われており、上記上カップを下降させて上記回転体に被
    処理物を供給する工程と、 上記回転体に被処理物を供給したのち上記上カップを上
    昇させてこの被処理物の周囲を覆う工程と、 上記カップ体内を排気しながら上記回転体を回転させて
    上記被処理物を処理する工程と、 上記被処理物を処理したのち上記上カップを下降させて
    上記回転体から上記被処理物を取り出す工程とを具備し
    たことを特徴とするスピン処理方法。