JP2977440B2 - 吸引チャック式基板回転処理装置 - Google Patents
吸引チャック式基板回転処理装置Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体ウェハ、フォト
マスク用のガラス基板、液晶表示装置用のガラス基板な
どを回転させつつ所望の処理を行なう基板回転処理装置
に係り、特に基板をスピンチャックに載置し、基板の下
面を吸引することによって保持する吸引チャック式基板
回転処理装置に関する。
マスク用のガラス基板、液晶表示装置用のガラス基板な
どを回転させつつ所望の処理を行なう基板回転処理装置
に係り、特に基板をスピンチャックに載置し、基板の下
面を吸引することによって保持する吸引チャック式基板
回転処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のこの種の装置として、例えば、感
光性材料であるフォトレジスト液を基板表面に塗布して
回転処理することにより所望の厚さの薄膜を形成する基
板回転塗布装置（いわゆるスピンコータ）がある。この
基板回転塗布装置の要部の一部断面図を図３に示し、以
下に説明する。
光性材料であるフォトレジスト液を基板表面に塗布して
回転処理することにより所望の厚さの薄膜を形成する基
板回転塗布装置（いわゆるスピンコータ）がある。この
基板回転塗布装置の要部の一部断面図を図３に示し、以
下に説明する。
【０００３】図中、符号１は、基板Ｗが載置されるスピ
ンチャックであり、回転中心部分には吸着孔２が形成さ
れている。吸着孔２の下部には、スピンモータ２０の出
力軸である中空回転軸１０が連通接続されている。中空
回転軸１０の下部は、その周面に沿う環状のフッ化樹脂
製の環状接触部材３０1 と、この環状接触部材３０1が
固着されたゴム製のベース部材３０2 とからなるバキュ
ームシール３０によって回転自在に、かつ、吸引漏れの
ないように支持されている。
ンチャックであり、回転中心部分には吸着孔２が形成さ
れている。吸着孔２の下部には、スピンモータ２０の出
力軸である中空回転軸１０が連通接続されている。中空
回転軸１０の下部は、その周面に沿う環状のフッ化樹脂
製の環状接触部材３０1 と、この環状接触部材３０1が
固着されたゴム製のベース部材３０2 とからなるバキュ
ームシール３０によって回転自在に、かつ、吸引漏れの
ないように支持されている。
【０００４】前記バキュームシール３０は、止め輪３１
によって筒状のバキュームスリーブ３２の内周面に係止
されている。バキュームスリーブ３２の底面には、ここ
から突出している中空回転軸１０の下端部と干渉しない
ように形成された吸引室３３1 とこれに通じる吸引通路
３３2 を有するバキュームスリーブ蓋３３がネジ止め固
定されている。吸引通路３３2 には、９０°の屈曲部を
有するねじ込み式管継手３５がねじ込み固定されてい
る。前記バキュームスリーブ蓋３３と前記バキュームス
リーブ３２は、シールハウジング３４を構成している。
によって筒状のバキュームスリーブ３２の内周面に係止
されている。バキュームスリーブ３２の底面には、ここ
から突出している中空回転軸１０の下端部と干渉しない
ように形成された吸引室３３1 とこれに通じる吸引通路
３３2 を有するバキュームスリーブ蓋３３がネジ止め固
定されている。吸引通路３３2 には、９０°の屈曲部を
有するねじ込み式管継手３５がねじ込み固定されてい
る。前記バキュームスリーブ蓋３３と前記バキュームス
リーブ３２は、シールハウジング３４を構成している。
【０００５】ねじ込み式管継手３５の配管部には、エア
フィルタ３７を介して電磁開閉式の三方弁３９が接続さ
れ、基板Ｗを吸引してスピンチャック１に吸着するため
の吸引手段である真空ポンプと、スピンチャック１に吸
着された基板Ｗを開放するための吸引解除手段である常
圧大気とが各々に連通されている。
フィルタ３７を介して電磁開閉式の三方弁３９が接続さ
れ、基板Ｗを吸引してスピンチャック１に吸着するため
の吸引手段である真空ポンプと、スピンチャック１に吸
着された基板Ｗを開放するための吸引解除手段である常
圧大気とが各々に連通されている。
【０００６】上記のように構成された基板回転塗布装置
では、基板Ｗがスピンチャック１に載置された後、余剰
フォトレジスト液の装置内での飛散を防止するための図
示しないカップがスピンチャック１の周囲を囲う位置に
上昇移動する。そして、図示しないフォトレジスト液の
吐出ノズルが基板Ｗの回転中心の上方に移動する。
では、基板Ｗがスピンチャック１に載置された後、余剰
フォトレジスト液の装置内での飛散を防止するための図
示しないカップがスピンチャック１の周囲を囲う位置に
上昇移動する。そして、図示しないフォトレジスト液の
吐出ノズルが基板Ｗの回転中心の上方に移動する。
【０００７】まず、三方弁３９が真空ポンプ側に切り換
えられ、基板Ｗがスピンチャック１に吸着される。そし
て、スピンモータ２０が回転駆動されることによって中
空回転軸１０の外周面がバキュームシール３０の環状接
触部材３０1 に摺動しながら、基板Ｗが所定速度で回転
され、所定量のフォトレジスト液が吐出ノズルから基板
Ｗの表面に吐出される。その後、所定時間の回転処理を
行なって基板Ｗの表面の余剰フォトレジスト液を飛散さ
せることにより、基板Ｗの表面には、薄膜が形成され
る。所定時間後、スピンモータ２０を停止させ、三方弁
３９を大気側に切り換えて、基板Ｗをスピンチャック１
から開放する。
えられ、基板Ｗがスピンチャック１に吸着される。そし
て、スピンモータ２０が回転駆動されることによって中
空回転軸１０の外周面がバキュームシール３０の環状接
触部材３０1 に摺動しながら、基板Ｗが所定速度で回転
され、所定量のフォトレジスト液が吐出ノズルから基板
Ｗの表面に吐出される。その後、所定時間の回転処理を
行なって基板Ｗの表面の余剰フォトレジスト液を飛散さ
せることにより、基板Ｗの表面には、薄膜が形成され
る。所定時間後、スピンモータ２０を停止させ、三方弁
３９を大気側に切り換えて、基板Ｗをスピンチャック１
から開放する。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成を有する従来例の場合には、次のような問題が
ある。すなわち、スピンモータ２０の中空回転軸１０
は、バキュームシール３０によって回転自在に支持され
ているので、スピンモータ２０によって高速回転駆動さ
れる中空回転軸１０の周面が環状接触部材３０1 に接触
し、その面からフッ化樹脂やゴムなどの塵埃が発生す
る。また、摺動面には、通常、グリスや表面活性剤など
の潤滑剤が塗布されているので、前記塵埃に潤滑剤も混
入する。回転処理中に発生した前記塵埃は、吸引によっ
て引かれてシールハウジング３４内の吸引室３３1 や吸
引通路３３2 に付着する。そして、かかる塵埃は、吸引
解除のために電磁弁３９が大気側に切替えられたとき
に、負圧となっている中空回転軸１０内に吸引通路３３
2 と吸引室３３1 を経て流入する空気に巻き上げられて
基板Ｗの下面に到達し、基板Ｗを汚染するという問題点
がある。
うな構成を有する従来例の場合には、次のような問題が
ある。すなわち、スピンモータ２０の中空回転軸１０
は、バキュームシール３０によって回転自在に支持され
ているので、スピンモータ２０によって高速回転駆動さ
れる中空回転軸１０の周面が環状接触部材３０1 に接触
し、その面からフッ化樹脂やゴムなどの塵埃が発生す
る。また、摺動面には、通常、グリスや表面活性剤など
の潤滑剤が塗布されているので、前記塵埃に潤滑剤も混
入する。回転処理中に発生した前記塵埃は、吸引によっ
て引かれてシールハウジング３４内の吸引室３３1 や吸
引通路３３2 に付着する。そして、かかる塵埃は、吸引
解除のために電磁弁３９が大気側に切替えられたとき
に、負圧となっている中空回転軸１０内に吸引通路３３
2 と吸引室３３1 を経て流入する空気に巻き上げられて
基板Ｗの下面に到達し、基板Ｗを汚染するという問題点
がある。
【０００９】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、吸引解除時の基板下面の汚染が防止で
きる吸引チャック式基板回転処理装置を提供することを
目的とする。
たものであって、吸引解除時の基板下面の汚染が防止で
きる吸引チャック式基板回転処理装置を提供することを
目的とする。
【００１０】また本発明は、さらに、塗布や洗浄のよう
に液を使用する処理を行う場合において、シール部材の
液による腐食やそれに起因する発塵を防止できる吸引チ
ャック式基板回転処理装置を提供することを目的とす
る。
に液を使用する処理を行う場合において、シール部材の
液による腐食やそれに起因する発塵を防止できる吸引チ
ャック式基板回転処理装置を提供することを目的とす
る。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、本発明に係る吸引チャック式基板回転処理装置は、
スピンチャックの吸着孔に連通接続された中空回転軸を
バキュームシールを介して回動自在に支持し、かつ、吸
引手段に連通しているシールハウジングを吸引手段で吸
引することにより前記スピンチャックに載置された基板
を吸引支持し、この状態で前記中空回転軸を回転駆動し
つつ基板に対して所望の処理を行ない、シールハウジン
グの吸引を吸引解除手段で解除することによって前記基
板を開放する吸引チャック式基板回転処理装置におい
て、前記シールハウジングには、前記中空回転軸の下端
部に一端部が近接して対向する吸引通路を形成し、か
つ、その一端部の開口径を前記中空回転軸の下端部の外
径よりも小さく形成し、かつ、その他端部を前記吸引手
段と前記吸引解除手段に切り換え可能に連通し、前記吸
引通路の一端部の水平方向の周囲には、前記一端部より
下方に底面が位置するようにリング状のトラップ空間を
設け、かつ、その天井面を前記バキュームシールと前記
中空回転軸の周面との接触部位に向って先細りに形成し
ていることを特徴とするものである。
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、本発明に係る吸引チャック式基板回転処理装置は、
スピンチャックの吸着孔に連通接続された中空回転軸を
バキュームシールを介して回動自在に支持し、かつ、吸
引手段に連通しているシールハウジングを吸引手段で吸
引することにより前記スピンチャックに載置された基板
を吸引支持し、この状態で前記中空回転軸を回転駆動し
つつ基板に対して所望の処理を行ない、シールハウジン
グの吸引を吸引解除手段で解除することによって前記基
板を開放する吸引チャック式基板回転処理装置におい
て、前記シールハウジングには、前記中空回転軸の下端
部に一端部が近接して対向する吸引通路を形成し、か
つ、その一端部の開口径を前記中空回転軸の下端部の外
径よりも小さく形成し、かつ、その他端部を前記吸引手
段と前記吸引解除手段に切り換え可能に連通し、前記吸
引通路の一端部の水平方向の周囲には、前記一端部より
下方に底面が位置するようにリング状のトラップ空間を
設け、かつ、その天井面を前記バキュームシールと前記
中空回転軸の周面との接触部位に向って先細りに形成し
ていることを特徴とするものである。
【００１２】また本発明は、さらに、前記吸引通路の下
部に液だめ空間を形成したことを特徴とするものであ
る。
部に液だめ空間を形成したことを特徴とするものであ
る。
【００１３】
【作用】本発明の作用は次のとおりである。すなわち、
中空回転軸の下端部に近接して形成された吸引通路の水
平方向の周囲には、リング状のトラップ空間を設け、か
つ、その天井面を前記中空回転軸とバキュームシールと
の接触部位に向かって先細りに形成しているので、吸引
通路の吸引時に接触部位から発生した塵埃の落下経路は
下方ほど広くなっており、塵埃は落下時に急激に速度を
失い、また、前記吸引通路の開口径は、中空回転軸の下
端部の外径よりも小さく形成されているので、塵埃は吸
引通路に入り込むことなくトラップ空間の底面に堆積す
る。前記トラップ空間の底面は、吸引通路の一端部より
下方に設けられているので、吸引解除時に前記吸引通路
から流入する空気は、前記塵埃を巻き込むことなく中空
回転軸に流入する。そして、吸引通路に入り込んだ処理
液は、吸引通路の下部に形成された液だめ空間に貯留さ
れる。
中空回転軸の下端部に近接して形成された吸引通路の水
平方向の周囲には、リング状のトラップ空間を設け、か
つ、その天井面を前記中空回転軸とバキュームシールと
の接触部位に向かって先細りに形成しているので、吸引
通路の吸引時に接触部位から発生した塵埃の落下経路は
下方ほど広くなっており、塵埃は落下時に急激に速度を
失い、また、前記吸引通路の開口径は、中空回転軸の下
端部の外径よりも小さく形成されているので、塵埃は吸
引通路に入り込むことなくトラップ空間の底面に堆積す
る。前記トラップ空間の底面は、吸引通路の一端部より
下方に設けられているので、吸引解除時に前記吸引通路
から流入する空気は、前記塵埃を巻き込むことなく中空
回転軸に流入する。そして、吸引通路に入り込んだ処理
液は、吸引通路の下部に形成された液だめ空間に貯留さ
れる。
【００１４】
【実施例】以下、図面を参照して本発明の一実施例を説
明する。図１は、本発明に係る吸引チャック式基板回転
処理装置の要部を示す一部断面図である。
明する。図１は、本発明に係る吸引チャック式基板回転
処理装置の要部を示す一部断面図である。
【００１５】図中、符号１は、平面視円形のスピンチャ
ックであり、回転中心部には、吸着孔２が貫通形成さ
れ、上面には、吸着孔２に連通する細溝１ａが形成され
ている。スピンチャック１の回転中心の下面には、スピ
ンモータ２０の出力軸である中空回転軸１０が接続さ
れ、中空回転軸１０の中空部１０ａはスピンチャック１
の吸着孔２と連通している。
ックであり、回転中心部には、吸着孔２が貫通形成さ
れ、上面には、吸着孔２に連通する細溝１ａが形成され
ている。スピンチャック１の回転中心の下面には、スピ
ンモータ２０の出力軸である中空回転軸１０が接続さ
れ、中空回転軸１０の中空部１０ａはスピンチャック１
の吸着孔２と連通している。
【００１６】中空回転軸１０の下部は、その外径と略同
径の内径を有し、フッ化樹脂で環状に形成された環状接
触部材３０1 と、この環状接触部材３０1 の周面を固着
されたゴム製のベース部材３０2 とからなるバキューム
シール３０によって回転自在に、かつ、吸引漏れのない
ように支持されている。このバキュームシール３０は、
止め輪３１によって筒状のバキュームスリーブ３２の内
周面に係止されている。さらにバキュームスリーブ３２
の底面には、Ｏリングを介して上部スリーブ蓋３３１と
下部スリーブ蓋３３２とがネジ止め固定されている。こ
れら上部スリーブ蓋３３１と下部スリーブ蓋３３２とは
バキュームスリーブ蓋３３０を形成し、バキュームスリ
ーブ蓋３３０とバキュームスリーブ３２とはシールハウ
ジング３４０を形成している。
径の内径を有し、フッ化樹脂で環状に形成された環状接
触部材３０1 と、この環状接触部材３０1 の周面を固着
されたゴム製のベース部材３０2 とからなるバキューム
シール３０によって回転自在に、かつ、吸引漏れのない
ように支持されている。このバキュームシール３０は、
止め輪３１によって筒状のバキュームスリーブ３２の内
周面に係止されている。さらにバキュームスリーブ３２
の底面には、Ｏリングを介して上部スリーブ蓋３３１と
下部スリーブ蓋３３２とがネジ止め固定されている。こ
れら上部スリーブ蓋３３１と下部スリーブ蓋３３２とは
バキュームスリーブ蓋３３０を形成し、バキュームスリ
ーブ蓋３３０とバキュームスリーブ３２とはシールハウ
ジング３４０を形成している。
【００１７】上部スリーブ蓋３３１には、その上面に形
成した凹部１０１の底面から上方に向けて筒体２０１が
突設されている。筒体２０１の内部は、上部スリーブ蓋
３３１の下側にまで連通しており、筒体２０１は、その
上端部が中空回転軸１０の下端部に近接して対向し、そ
の内側に吸引通路２００を形成している。筒体２０１
は、その上端部の開口内径を中空回転軸１０の下端部の
外径より小さくなるように形成してある。なお、中空回
転軸１０の下端部と筒体２０１の上端部との間隙は、１
ｍｍ程度が好ましい。さらに、筒体２０１の上端部の水
平方向の周囲には、その上端部より下方に底面が位置す
るようにリング状のトラップ空間１００を設けている。
このトラップ空間１００は、凹部１０１により形成さ
れ、その天井面は、バキュームスリーブ３２の底面開口
部に相当し、この底面開口部は、バキュームシール３０
の環状接触部材３０1 と中空回転軸１０との接触部位に
向かって先細りに形成されている。
成した凹部１０１の底面から上方に向けて筒体２０１が
突設されている。筒体２０１の内部は、上部スリーブ蓋
３３１の下側にまで連通しており、筒体２０１は、その
上端部が中空回転軸１０の下端部に近接して対向し、そ
の内側に吸引通路２００を形成している。筒体２０１
は、その上端部の開口内径を中空回転軸１０の下端部の
外径より小さくなるように形成してある。なお、中空回
転軸１０の下端部と筒体２０１の上端部との間隙は、１
ｍｍ程度が好ましい。さらに、筒体２０１の上端部の水
平方向の周囲には、その上端部より下方に底面が位置す
るようにリング状のトラップ空間１００を設けている。
このトラップ空間１００は、凹部１０１により形成さ
れ、その天井面は、バキュームスリーブ３２の底面開口
部に相当し、この底面開口部は、バキュームシール３０
の環状接触部材３０1 と中空回転軸１０との接触部位に
向かって先細りに形成されている。
【００１８】上部スリーブ蓋３３１の下部から下部スリ
ーブ蓋３３２の上部にわたって、吸引通路２００に連通
する液だめ空間１５０が形成されている。液だめ空間１
５０の底部には、滞留した溶剤などを排出するための孔
が形成され、ドレインボルト１５１がねじ込み閉塞され
ている。この液だめ空間１５０は、装置のオペレーショ
ンミスなどによりスピンチャック１の吸着孔２から侵入
した溶剤などが、吸引解除時に基板Ｗの裏面やバキュー
ムシール３０に吹き上げられないように滞留させておく
ための空間である。この液だめ空間１５０を設けたこと
により、ゴム製のベース部材３０2 等の腐食を防止する
ことができ、結果、バキュームシール３０からの発塵量
を押さえるとともにバキュームシール３０の寿命を延ば
すことができる。
ーブ蓋３３２の上部にわたって、吸引通路２００に連通
する液だめ空間１５０が形成されている。液だめ空間１
５０の底部には、滞留した溶剤などを排出するための孔
が形成され、ドレインボルト１５１がねじ込み閉塞され
ている。この液だめ空間１５０は、装置のオペレーショ
ンミスなどによりスピンチャック１の吸着孔２から侵入
した溶剤などが、吸引解除時に基板Ｗの裏面やバキュー
ムシール３０に吹き上げられないように滞留させておく
ための空間である。この液だめ空間１５０を設けたこと
により、ゴム製のベース部材３０2 等の腐食を防止する
ことができ、結果、バキュームシール３０からの発塵量
を押さえるとともにバキュームシール３０の寿命を延ば
すことができる。
【００１９】吸引通路２００の下端部は、液だめ空間１
５０の上部に連通し、さらに上部スリーブ蓋３３１の側
面にねじ込み固定された９０°の屈曲部を有するねじ込
み式管継手３５に連通している。ねじ込み式管継手３５
の配管部には、空気中の塵埃を除去するエアフィルタ３
７を介して電磁開閉式の三方弁３９が接続されている。
この三方弁３０の各々には、吸引手段である真空ポンプ
と吸引解除手段である常圧の大気とが連通接続されてい
る。
５０の上部に連通し、さらに上部スリーブ蓋３３１の側
面にねじ込み固定された９０°の屈曲部を有するねじ込
み式管継手３５に連通している。ねじ込み式管継手３５
の配管部には、空気中の塵埃を除去するエアフィルタ３
７を介して電磁開閉式の三方弁３９が接続されている。
この三方弁３０の各々には、吸引手段である真空ポンプ
と吸引解除手段である常圧の大気とが連通接続されてい
る。
【００２０】次に、上記のように構成された吸引チャッ
ク式基板回転塗布装置による基板表面への回転塗布処理
について説明する。
ク式基板回転塗布装置による基板表面への回転塗布処理
について説明する。
【００２１】まず三方弁３９が大気側に連通した状態
で、図示しない搬送機構によって基板Ｗがスピンチャッ
ク１に載置される。搬送機構が退避した後、三方弁３９
が真空ポンプ側に切り換えられ、真空ポンプの吸引によ
り基板Ｗがスピンチャック１に吸着される。また、同時
に、フォトレジスト液の余剰分が装置内で飛散して装置
を汚染するのを防止するために、図示しないカップがス
ピンチャック１の周囲を囲うように上昇移動する。そし
て、フォトレジスト液の吐出ノズルが基板Ｗの回転中心
の上方に移動する。
で、図示しない搬送機構によって基板Ｗがスピンチャッ
ク１に載置される。搬送機構が退避した後、三方弁３９
が真空ポンプ側に切り換えられ、真空ポンプの吸引によ
り基板Ｗがスピンチャック１に吸着される。また、同時
に、フォトレジスト液の余剰分が装置内で飛散して装置
を汚染するのを防止するために、図示しないカップがス
ピンチャック１の周囲を囲うように上昇移動する。そし
て、フォトレジスト液の吐出ノズルが基板Ｗの回転中心
の上方に移動する。
【００２２】そして、スピンモータ２０が回転駆動され
ると、中空回転軸１０の周面がバキュームシール３０の
環状接触部材３０1 に摺動しつつ、中空回転軸１０が回
転してスピンチャック１に載置された基板Ｗが回転す
る。所定速度に達した時点で、吐出ノズルから所定量の
フォトレジスト液が基板Ｗの表面に吐出される。この状
態で基板Ｗを所定時間だけ回転させて余剰フォトレジス
ト液を飛散させることにより、表面に薄膜が形成され
る。この回転処理中には、バキュームシール３０から、
特に中空回転軸１０の周面に接触している環状接触部材
３０1 や中空回転軸１０の回転振動によって弾性変形を
繰り返しているベース部材３０2 から、その材料である
フッ化樹脂やゴムおよび潤滑剤などの塵埃が発生する。
ると、中空回転軸１０の周面がバキュームシール３０の
環状接触部材３０1 に摺動しつつ、中空回転軸１０が回
転してスピンチャック１に載置された基板Ｗが回転す
る。所定速度に達した時点で、吐出ノズルから所定量の
フォトレジスト液が基板Ｗの表面に吐出される。この状
態で基板Ｗを所定時間だけ回転させて余剰フォトレジス
ト液を飛散させることにより、表面に薄膜が形成され
る。この回転処理中には、バキュームシール３０から、
特に中空回転軸１０の周面に接触している環状接触部材
３０1 や中空回転軸１０の回転振動によって弾性変形を
繰り返しているベース部材３０2 から、その材料である
フッ化樹脂やゴムおよび潤滑剤などの塵埃が発生する。
【００２３】発生した塵埃は、中空回転軸１０の遠心力
によって軸回り方向に飛散するが、トラップ空間１００
の天井面は、バキュームシール３０と中空回転軸１０の
環状接触部剤３０1 との接触部位に向かって先細り形状
に形成されているので、落下時に急激に速度を失いトラ
ップ空間１００に堆積する。また、吸引通路２００の一
端部の開口径は、中空回転軸１０の下端部の外径よりも
小さく形成されているので、塵埃は吸引通路２００に入
り込むことがない。なお、バキュームシール３０部分に
おいてエアがリークし、塵埃がそのリークしたエアに乗
ってトラップ空間１００へ流入する場合もあるが、トラ
ップ空間１００の天井面の形状により、その流入経路は
下方ほど広くなっているので、リークしたエアの流速は
トラップ空間１００へ入ると急激に低下し、塵埃はトラ
ップ空間１００に落下する。リークしたエアは吸引通路
２００へ入って排出される。
によって軸回り方向に飛散するが、トラップ空間１００
の天井面は、バキュームシール３０と中空回転軸１０の
環状接触部剤３０1 との接触部位に向かって先細り形状
に形成されているので、落下時に急激に速度を失いトラ
ップ空間１００に堆積する。また、吸引通路２００の一
端部の開口径は、中空回転軸１０の下端部の外径よりも
小さく形成されているので、塵埃は吸引通路２００に入
り込むことがない。なお、バキュームシール３０部分に
おいてエアがリークし、塵埃がそのリークしたエアに乗
ってトラップ空間１００へ流入する場合もあるが、トラ
ップ空間１００の天井面の形状により、その流入経路は
下方ほど広くなっているので、リークしたエアの流速は
トラップ空間１００へ入ると急激に低下し、塵埃はトラ
ップ空間１００に落下する。リークしたエアは吸引通路
２００へ入って排出される。
【００２４】所定時間の回転処理後、スピンモータ２０
の回転駆動が停止されて基板Ｗの回転が停止する。そし
て、三方弁３９が大気側に連通される。これにより、ス
ピンチャック１に吸着されていた基板Ｗは、大気からエ
アフィルタ３７を経て塵埃が除去された空気の流入によ
って開放される。回転処理時に集塵したトラップ空間１
００は、その底面が吸引通路２００の一端部より下方に
位置するように形成されているので、吸引解除時に吸引
通路２００から流入した空気の流れは、トラップ空間１
００内に堆積した塵埃を巻き込むことなく中空回転軸１
０内に流入する。したがって、吸引解除時に基板Ｗが汚
染されることがない。
の回転駆動が停止されて基板Ｗの回転が停止する。そし
て、三方弁３９が大気側に連通される。これにより、ス
ピンチャック１に吸着されていた基板Ｗは、大気からエ
アフィルタ３７を経て塵埃が除去された空気の流入によ
って開放される。回転処理時に集塵したトラップ空間１
００は、その底面が吸引通路２００の一端部より下方に
位置するように形成されているので、吸引解除時に吸引
通路２００から流入した空気の流れは、トラップ空間１
００内に堆積した塵埃を巻き込むことなく中空回転軸１
０内に流入する。したがって、吸引解除時に基板Ｗが汚
染されることがない。
【００２５】なお、中空回転軸１０の下端部と筒体２０
１の上端部は、図２の一部断面図に示すように、中空回
転軸１０の下端部を内部に向けてテーパー状に没入形成
し、筒体２０１の上端部を中空回転軸１０のテーパー状
部に沿うように先細り状に形成することにより、吸引時
の塵埃の吸引通路２００内への侵入を効果的に防止する
ことができる。
１の上端部は、図２の一部断面図に示すように、中空回
転軸１０の下端部を内部に向けてテーパー状に没入形成
し、筒体２０１の上端部を中空回転軸１０のテーパー状
部に沿うように先細り状に形成することにより、吸引時
の塵埃の吸引通路２００内への侵入を効果的に防止する
ことができる。
【００２６】また、本実施例では、基板回転塗布装置を
例にとって説明したが、本発明はこれに限定されるもの
ではなく、吸引チャック式の基板回転処理装置であれば
種々の装置においても実施が可能である。例えば、基板
回転洗浄装置や基板回転現像装置などにおいても実施可
能である。
例にとって説明したが、本発明はこれに限定されるもの
ではなく、吸引チャック式の基板回転処理装置であれば
種々の装置においても実施が可能である。例えば、基板
回転洗浄装置や基板回転現像装置などにおいても実施可
能である。
【００２７】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、中空回転軸の下端部に近接して形成された吸
引通路の水平方向の周囲には、リング状のトラップ空間
を設けているので、吸引時に発生した塵埃をトラップ空
間に集めることができる。また、トラップ空間の底面
は、吸引通路の一端部より下方に位置するように設けら
れているので、吸引解除時に吸引通路から中空回転軸に
流入する空気は、塵埃を巻き込むことがない。したがっ
て、基板下面の汚染が防止できる。
によれば、中空回転軸の下端部に近接して形成された吸
引通路の水平方向の周囲には、リング状のトラップ空間
を設けているので、吸引時に発生した塵埃をトラップ空
間に集めることができる。また、トラップ空間の底面
は、吸引通路の一端部より下方に位置するように設けら
れているので、吸引解除時に吸引通路から中空回転軸に
流入する空気は、塵埃を巻き込むことがない。したがっ
て、基板下面の汚染が防止できる。
【００２８】また、本発明によれば、塗布や洗浄のよう
に液を使用する処理を行う場合においても、シール部材
の液による腐食やそれに起因する発塵を防止できる。
に液を使用する処理を行う場合においても、シール部材
の液による腐食やそれに起因する発塵を防止できる。
【図１】実施例に係る吸引チャック式基板回転塗布装置
の要部を示す一部断面図である。
の要部を示す一部断面図である。
【図２】中空回転軸と吸引通路の変形例を示す一部断面
図である。
図である。
【図３】従来の吸引チャック式基板回転塗布装置の要部
を示す一部断面図である。
を示す一部断面図である。
１ … スピンチャック １０ … 中空回転軸 ２０ … スピンモータ ３０ … バキュームシール ３０1 … 環状接触部材 ３０2 … ベース部材 ３１ … 止め輪 ３２ … バキュームスリーブ １００ … トラップ空間 １５０ … 液だめ空間 ２００ … 吸引通路 ３３０ … バキュームスリーブ蓋 ３３１ … 上部スリーブ蓋 ３３２ … 下部スリーブ蓋 ３４０ … シールハウジング
フロントページの続き (72)発明者 福▲富▼ 義光 京都府京都市伏見区羽束師古川町322 大日本スクリーン製造株式会社 洛西工 場内 (56)参考文献 特開 平７−263324（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) H01L 21/027
Claims (2)
- 【請求項１】 スピンチャックの吸着孔に連通接続され
た中空回転軸をバキュームシールを介して回動自在に支
持し、かつ、吸引手段に連通しているシールハウジング
を吸引手段で吸引することにより前記スピンチャックに
載置された基板を吸引支持し、この状態で前記中空回転
軸を回転駆動しつつ基板に対して所望の処理を行ない、
シールハウジングの吸引を吸引解除手段で解除すること
によって前記基板を開放する吸引チャック式基板回転処
理装置において、 前記シールハウジングには、前記中空回転軸の下端部に
一端部が近接して対向する吸引通路を形成し、かつ、そ
の一端部の開口径を前記中空回転軸の下端部の外径より
も小さく形成し、かつ、その他端部を前記吸引手段と前
記吸引解除手段に切り換え可能に連通し、 前記吸引通路の一端部の水平方向の周囲には、前記一端
部より下方に底面が位置するようにリング状のトラップ
空間を設け、かつ、その天井面を前記バキュームシール
と前記中空回転軸の周面との接触部位に向って先細りに
形成していることを特徴とする吸引チャック式基板回転
処理装置。 - 【請求項２】 前記吸引通路の下部に液だめ空間を形成
したことを特徴とする請求項１に記載の吸引チャック式
基板回転処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7444994A JP2977440B2 (ja) | 1994-03-17 | 1994-03-17 | 吸引チャック式基板回転処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7444994A JP2977440B2 (ja) | 1994-03-17 | 1994-03-17 | 吸引チャック式基板回転処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07263325A JPH07263325A (ja) | 1995-10-13 |
| JP2977440B2 true JP2977440B2 (ja) | 1999-11-15 |
Family
ID=13547565
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7444994A Expired - Fee Related JP2977440B2 (ja) | 1994-03-17 | 1994-03-17 | 吸引チャック式基板回転処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2977440B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106853432A (zh) * | 2016-11-24 | 2017-06-16 | 重庆市永川区锐峰玻璃制品有限公司 | 旋转涂胶台 |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4577100A (en) * | 1983-12-27 | 1986-03-18 | United Technologies Corporation | Temperature compensated optical pressure sensor |
| JP2007253017A (ja) * | 2006-03-22 | 2007-10-04 | Dainippon Printing Co Ltd | 塗工装置及び基材支持台 |
| US20090165721A1 (en) * | 2007-12-27 | 2009-07-02 | Memc Electronic Materials, Inc. | Susceptor with Support Bosses |
| JP5179928B2 (ja) * | 2008-04-11 | 2013-04-10 | 株式会社ディスコ | ウエーハの搬出方法 |
| KR101073546B1 (ko) | 2009-08-13 | 2011-10-17 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 스토커 |
| JP5291039B2 (ja) * | 2010-03-31 | 2013-09-18 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板保持回転装置および基板処理装置 |
| JP2015170617A (ja) * | 2014-03-04 | 2015-09-28 | 東京エレクトロン株式会社 | 液処理装置 |
-
1994
- 1994-03-17 JP JP7444994A patent/JP2977440B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106853432A (zh) * | 2016-11-24 | 2017-06-16 | 重庆市永川区锐峰玻璃制品有限公司 | 旋转涂胶台 |
| CN106853432B (zh) * | 2016-11-24 | 2019-04-16 | 重庆市永川区锐峰玻璃制品有限公司 | 旋转涂胶台 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07263325A (ja) | 1995-10-13 |
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