JPH0557209B2 - - Google Patents
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- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 102
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 102
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 claims description 73
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 70
- 239000013522 chelant Substances 0.000 claims description 64
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 30
- -1 polyethylene Polymers 0.000 claims description 27
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 25
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 20
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 16
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 13
- 239000000779 smoke Substances 0.000 claims description 11
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 11
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 10
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 8
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 7
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 claims description 6
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 claims description 6
- 238000003723 Smelting Methods 0.000 claims description 5
- 239000003245 coal Substances 0.000 claims description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 3
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 claims description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 2
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims 1
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N Hydroxylamine Chemical compound ON AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 14
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 10
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N divinylbenzene Substances C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 7
- 229960001755 resorcinol Drugs 0.000 description 7
- CUYKNJBYIJFRCU-UHFFFAOYSA-N 3-aminopyridine Chemical compound NC1=CC=CN=C1 CUYKNJBYIJFRCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical group OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000002443 hydroxylamines Chemical class 0.000 description 5
- 125000001841 imino group Chemical group [H]N=* 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 5
- WTDHULULXKLSOZ-UHFFFAOYSA-N Hydroxylamine hydrochloride Chemical compound Cl.ON WTDHULULXKLSOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N Phosgene Chemical group ClC(Cl)=O YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 4
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 4
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 4
- SFZULDYEOVSIKM-UHFFFAOYSA-N chembl321317 Chemical group C1=CC(C(=N)NO)=CC=C1C1=CC=C(C=2C=CC(=CC=2)C(=N)NO)O1 SFZULDYEOVSIKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920006026 co-polymeric resin Polymers 0.000 description 4
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 4
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 4
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FCYVWWWTHPPJII-UHFFFAOYSA-N 2-methylidenepropanedinitrile Chemical compound N#CC(=C)C#N FCYVWWWTHPPJII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QGJOPFRUJISHPQ-UHFFFAOYSA-N Carbon disulfide Chemical compound S=C=S QGJOPFRUJISHPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003172 aldehyde group Chemical group 0.000 description 3
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 3
- 229920001429 chelating resin Polymers 0.000 description 3
- 150000002291 germanium compounds Chemical class 0.000 description 3
- YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N germanium oxide Inorganic materials O=[Ge]=O YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PVADDRMAFCOOPC-UHFFFAOYSA-N oxogermanium Chemical compound [Ge]=O PVADDRMAFCOOPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005011 phenolic resin Chemical group 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- FZENGILVLUJGJX-NSCUHMNNSA-N (E)-acetaldehyde oxime Chemical compound C\C=N\O FZENGILVLUJGJX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 2
- DPZSNGJNFHWQDC-ARJAWSKDSA-N (z)-2,3-diaminobut-2-enedinitrile Chemical group N#CC(/N)=C(/N)C#N DPZSNGJNFHWQDC-ARJAWSKDSA-N 0.000 description 2
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JIYRBTHORWEQJM-UHFFFAOYSA-N 2-(1,2-benzoxazol-3-yl)-n'-hydroxyethanimidamide Chemical compound C1=CC=C2C(CC(N)=NO)=NOC2=C1 JIYRBTHORWEQJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WMMHFIUCQUNBOY-UHFFFAOYSA-N 2-(5-fluoro-1,2-benzoxazol-3-yl)-n'-hydroxyethanimidamide Chemical compound C1=C(F)C=C2C(CC(N)=NO)=NOC2=C1 WMMHFIUCQUNBOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OYUNTGBISCIYPW-UHFFFAOYSA-N 2-chloroprop-2-enenitrile Chemical compound ClC(=C)C#N OYUNTGBISCIYPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HVBSAKJJOYLTQU-UHFFFAOYSA-N 4-aminobenzenesulfonic acid Chemical compound NC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 HVBSAKJJOYLTQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NUKYPUAOHBNCPY-UHFFFAOYSA-N 4-aminopyridine Chemical compound NC1=CC=NC=C1 NUKYPUAOHBNCPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002126 Acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 2
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N Diethylenetriamine Chemical compound NCCNCCN RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N benzaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1 HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MXOQNVMDKHLYCZ-UHFFFAOYSA-N benzamidoxime Chemical compound ON=C(N)C1=CC=CC=C1 MXOQNVMDKHLYCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VDEUYMSGMPQMIK-UHFFFAOYSA-N benzhydroxamic acid Chemical compound ONC(=O)C1=CC=CC=C1 VDEUYMSGMPQMIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 description 2
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 2
- GKIPXFAANLTWBM-UHFFFAOYSA-N epibromohydrin Chemical compound BrCC1CO1 GKIPXFAANLTWBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 229960004979 fampridine Drugs 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- BSRDNMMLQYNQQD-UHFFFAOYSA-N iminodiacetonitrile Chemical group N#CCNCC#N BSRDNMMLQYNQQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 2
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 2
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 229950000244 sulfanilic acid Drugs 0.000 description 2
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 2
- YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N sulfuryl dichloride Chemical group ClS(Cl)(=O)=O YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IEXRMSFAVATTJX-UHFFFAOYSA-N tetrachlorogermane Chemical compound Cl[Ge](Cl)(Cl)Cl IEXRMSFAVATTJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 2
- LNOLJFCCYQZFBQ-BUHFOSPRSA-N (ne)-n-[(4-nitrophenyl)-phenylmethylidene]hydroxylamine Chemical compound C=1C=C([N+]([O-])=O)C=CC=1C(=N/O)/C1=CC=CC=C1 LNOLJFCCYQZFBQ-BUHFOSPRSA-N 0.000 description 1
- VTWKXBJHBHYJBI-SOFGYWHQSA-N (ne)-n-benzylidenehydroxylamine Chemical compound O\N=C\C1=CC=CC=C1 VTWKXBJHBHYJBI-SOFGYWHQSA-N 0.000 description 1
- TXDYWJDYXZCRAN-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C TXDYWJDYXZCRAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CHRJZRDFSQHIFI-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;styrene Chemical class C=CC1=CC=CC=C1.C=CC1=CC=CC=C1C=C CHRJZRDFSQHIFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IDSKMUOSMAUASS-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichloro-1,2-difluoroethane Chemical compound FC(Cl)C(F)Cl IDSKMUOSMAUASS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XGCQIOZCTFISMT-UHFFFAOYSA-N 2-(1,2-benzoxazol-3-yl)-n-hydroxyacetamide Chemical compound C1=CC=C2C(CC(=O)NO)=NOC2=C1 XGCQIOZCTFISMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RJRFWWMJLFAKEK-UHFFFAOYSA-N 2-(1h-benzimidazol-2-ylsulfanyl)-n'-hydroxyethanimidamide Chemical compound C1=CC=C2NC(SCC(/N)=N/O)=NC2=C1 RJRFWWMJLFAKEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMFIBMMXVGITIG-UHFFFAOYSA-N 2-(3-chlorophenyl)sulfinyl-n'-hydroxyethanimidamide Chemical compound O\N=C(/N)CS(=O)C1=CC=CC(Cl)=C1 KMFIBMMXVGITIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNTWMFCMRPNQIZ-UHFFFAOYSA-N 2-amino-2-hydroxybutanedinitrile Chemical group N#CC(O)(N)CC#N DNTWMFCMRPNQIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TZWFTFOOLZXSGS-UHFFFAOYSA-N 2-amino-n'-hydroxyethanimidamide Chemical compound NCC(N)=NO TZWFTFOOLZXSGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMKPDXOZTSISIW-UHFFFAOYSA-N 2-aminobenzenecarbohydroxamic acid Chemical compound NC1=CC=CC=C1C(=O)NO VMKPDXOZTSISIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYNRBWZUEXGYBG-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl 2-methylprop-2-enoate;prop-2-enenitrile Chemical compound C=CC#N.CC(=C)C(=O)OCCO XYNRBWZUEXGYBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAJAQTYSTDTMCU-UHFFFAOYSA-N 3-aminobenzenesulfonic acid Chemical compound NC1=CC=CC(S(O)(=O)=O)=C1 ZAJAQTYSTDTMCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNBNBTIDJSKEAM-UHFFFAOYSA-N 4-[7-hydroxy-2-[5-[5-[6-hydroxy-6-(hydroxymethyl)-3,5-dimethyloxan-2-yl]-3-methyloxolan-2-yl]-5-methyloxolan-2-yl]-2,8-dimethyl-1,10-dioxaspiro[4.5]decan-9-yl]-2-methyl-3-propanoyloxypentanoic acid Chemical compound C1C(O)C(C)C(C(C)C(OC(=O)CC)C(C)C(O)=O)OC11OC(C)(C2OC(C)(CC2)C2C(CC(O2)C2C(CC(C)C(O)(CO)O2)C)C)CC1 ZNBNBTIDJSKEAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALYNCZNDIQEVRV-UHFFFAOYSA-N 4-aminobenzoic acid Chemical compound NC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 ALYNCZNDIQEVRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBAZINRZQSAIAY-UHFFFAOYSA-N 4-aminobenzonitrile Chemical compound NC1=CC=C(C#N)C=C1 YBAZINRZQSAIAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XGYKKVTZDQDYJQ-UHFFFAOYSA-N 4-aminobutanenitrile Chemical compound NCCCC#N XGYKKVTZDQDYJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBKITFRBWXXMJG-UHFFFAOYSA-N C(=C)C1=C(C=CC=C1)C=C.C(=C)S(=O)(=O)O Chemical compound C(=C)C1=C(C=CC=C1)C=C.C(=C)S(=O)(=O)O FBKITFRBWXXMJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKHTYDDOWPMFOD-UHFFFAOYSA-N C(C(=C)C)(=O)OCCOC(C(=C)C)=O.C(C=C)#N Chemical compound C(C(=C)C)(=O)OCCOC(C(=C)C)=O.C(C=C)#N RKHTYDDOWPMFOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROLJEIZLYNCGRM-UHFFFAOYSA-N C(C(=C)C)(=O)OCCOCCOCCOCCOC(C(=C)C)=O.C(C=C)#N Chemical compound C(C(=C)C)(=O)OCCOCCOCCOCCOC(C(=C)C)=O.C(C=C)#N ROLJEIZLYNCGRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MZCRZGUYRIGTIV-UHFFFAOYSA-N C(C)=NO.O1N=CC2=C1C=CC=C2 Chemical compound C(C)=NO.O1N=CC2=C1C=CC=C2 MZCRZGUYRIGTIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIBWGGKDGCBPTA-UHFFFAOYSA-N C=CC1=CC=CC=C1.C=CC1=CC=CC=C1 Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.C=CC1=CC=CC=C1 HIBWGGKDGCBPTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMDMNCQQHABVLE-UHFFFAOYSA-N N-[2-(benzenesulfinyl)ethylidene]hydroxylamine Chemical compound C1(=CC=CC=C1)S(=O)CC=NO XMDMNCQQHABVLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008360 acrylonitriles Chemical class 0.000 description 1
- 238000012644 addition polymerization Methods 0.000 description 1
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- DFNYGALUNNFWKJ-UHFFFAOYSA-N aminoacetonitrile Chemical group NCC#N DFNYGALUNNFWKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960004050 aminobenzoic acid Drugs 0.000 description 1
- RWZYAGGXGHYGMB-UHFFFAOYSA-N anthranilic acid Chemical compound NC1=CC=CC=C1C(O)=O RWZYAGGXGHYGMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AGSPXMVUFBBBMO-UHFFFAOYSA-N beta-aminopropionitrile Chemical group NCCC#N AGSPXMVUFBBBMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000001728 carbonyl compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N chloroacetic acid Chemical compound OC(=O)CCl FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N dicyandiamide Chemical group NC(N)=NC#N QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- WREDNSAXDZCLCP-UHFFFAOYSA-N dithiocarboxylic acid group Chemical group C(=S)S WREDNSAXDZCLCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- JOXWSDNHLSQKCC-UHFFFAOYSA-N ethenesulfonamide Chemical compound NS(=O)(=O)C=C JOXWSDNHLSQKCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- BEBCJVAWIBVWNZ-UHFFFAOYSA-N glycinamide Chemical compound NCC(N)=O BEBCJVAWIBVWNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002140 halogenating effect Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000378 hydroxylammonium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- NBZBKCUXIYYUSX-UHFFFAOYSA-N iminodiacetic acid Chemical compound OC(=O)CNCC(O)=O NBZBKCUXIYYUSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000468 ketone group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000000896 monocarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- SHVJOFYRFYDESS-UHFFFAOYSA-N n-[(2-aminophenyl)methylidene]hydroxylamine Chemical group NC1=CC=CC=C1C=NO SHVJOFYRFYDESS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCWHFEMBXBNVJQ-UHFFFAOYSA-N n-[2-(2-hydroxyiminoethylamino)ethylidene]hydroxylamine Chemical group ON=CCNCC=NO UCWHFEMBXBNVJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFFFVXTUOQMWLG-UHFFFAOYSA-N n-[[2-(aminomethyl)phenyl]methylidene]hydroxylamine Chemical compound NCC1=CC=CC=C1C=NO CFFFVXTUOQMWLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N para-ethylbenzaldehyde Natural products CCC1=CC=C(C=O)C=C1 QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 238000012643 polycondensation polymerization Methods 0.000 description 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- OVZQVGZERAFSPI-UHFFFAOYSA-N quinoline-8-carbaldehyde Chemical compound C1=CN=C2C(C=O)=CC=CC2=C1 OVZQVGZERAFSPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052979 sodium sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- GRVFOGOEDUUMBP-UHFFFAOYSA-N sodium sulfide (anhydrous) Chemical compound [Na+].[Na+].[S-2] GRVFOGOEDUUMBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPACBEVZENYWOL-XFULWGLBSA-M sodium;(2r)-2-[6-(4-chlorophenoxy)hexyl]oxirane-2-carboxylate Chemical compound [Na+].C=1C=C(Cl)C=CC=1OCCCCCC[C@]1(C(=O)[O-])CO1 RPACBEVZENYWOL-XFULWGLBSA-M 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
Description
本発明はゲルマニウム含有溶液からゲルマニウ
ムを回収する方法に関する。 ゲルマニウムを多く含む鉱物としてはアージド
ロ鉱、ゲルマン鉱、レニエライト鉱、シユトツト
鉱、フライシヤ石、イトウ石などが知られている
が、これらは産出量も少なく、ゲルマニウムの商
業的生産には、銅および亜鉛鉱の精錬煙灰がゲル
マニウム原料として主に用いられている。 かかるゲルマニウム原料からゲルマニウムを回
収する方法としては、該ゲルマニウム原料を硫酸
等により浸出処理し、浸出液中に大量に含まれる
砒素、銅、亜鉛などを薬剤処理により沈殿除去
し、酸化マグネシウム等を加えてゲルマニウム化
合物を水酸化物として沈降させ、ろ過処理して得
られるゲルマニウム化合物のケーキを乾燥、焙焼
してゲルマニウムを10重量%程度含む焼成物とな
し、これを塩化水素等により塩素化処理したのち
蒸留して塩化ゲルマニウムとして回収し、次い
で、加水分解、過、乾燥等の処理を経て、粗酸
化ゲルマニウムとして回収する方法が知られてい
る。粗酸化ゲルマニウムは必要に応じてさらに精
製処理したのち、水素還元、電解等の方法により
金属ゲルマニウムとして回収される。 かかる公知方法において、ゲルマニウム原料の
硫酸浸出液中には、ゲルマニウム以外の銅、亜
鉛、鉛、砒素、鉄等の金属元素が通常ゲルマニウ
ムの1000〜10000倍も存在するため、該硫酸浸出
液からゲルマニウムと他金属元素とを分離するた
めにアルカリ、硫化物等による薬剤処理を行い、
ゲルマニウム化合物と他金属化合物との溶解度の
差を利用し、ゲルマニウム分を分離濃縮処理をし
ているが該分離濃縮の単一処理だけでは、ゲルマ
ニウムと他金属元素の効率的分離は出来ず、さら
に繰り返し分離濃縮の処理に附さなければ精製が
出来ないという問題がある。さらに、該分離濃縮
操作によりゲルマニウムの他金属元素側への同伴
ロスは、避けることができないため、商業的生産
に用いられるゲルマニウム原料は、前記硫酸浸出
液中にゲルマニウムが少なくとも数百mg/以上
含むものでないと使用出来ないという欠点があ
る。 このようなことから、本発明者らは上記問題を
解決し、銅および亜鉛鉱の精錬煙灰の硫酸等によ
る浸出液などのように、ゲルマニウム以外の他金
属を大量に含むゲルマニウム含有溶液から、ゲル
マニウム濃度の影響を受けることなく、簡単な操
作で、効率的にゲルマニウムを回収すべく検討の
結果、特定の官能基を有する特殊のキレート樹脂
が溶液中のゲルマニウムを高選択的に吸着し、ゲ
ルマニウム含有溶液をかかる樹脂と接触処理する
ことにより、ゲルマニウムが効率よく吸着、回収
されることを見出し、本発明を完成するに至つ
た。 すなわち本発明は、ゲルマニウム含有溶液を、
分子中に=NOH(官能基A)および該基とゲル
マニウムを介してキレート結合を形成し得る官能
基(官能基B)を有するキレート樹脂または前記
官能基の金属塩を有するキレート樹脂と接触させ
て、該樹脂にゲルマニウムを吸着せしめることを
特徴とするゲルマニウム含有溶液からのゲルマニ
ウムの回収方法を提供するものである。 本発明において使用されるキレート樹脂は、分
子中に=NOH基を必須官能基として有し、該基
とゲルマニウムを介してキレート結合を形成し得
る官能基を有するキレート樹脂または前記官能基
の金属塩を有するキレート樹脂である。 ここで、=NOH基とゲルマニウムを介してキ
レート結合を形成し得る官能基(官能基B)とし
ては、たとえば =N−R1、≡N、−OH、−SH、=NOH、>C=
O、−NHOH、−NH−NH2、−CS2H、−COOH、
−SO3H9、>C=S、−CHO、−O−、−S−、−P
(OR)2、−PO(OR)2、−PH(OR)3〔上式中、R1お
よびR2は水素原子または有機基(通常アルキル
基、アリール基またはR1とR2が結合したアルキ
レン基であり、特に炭素数1〜20のアルキル基で
ある)を、Rは水素原子、アリール基、アルキル
基またはアミノ基を示す。〕およびポリエチレン
ポリアミノ基を挙げることができるが、とりわけ =N−R1、≡N、−OH、−CS2H、>C=O、=
NOH、ポリエチレンポリアミノ基が好適であ
る。 本発明のキレート樹脂において、上記官能基A
およびBが同一炭素と結合してなるキレート樹脂
がゲルマニウムの吸着性の点から特に好ましく用
いられる。 また、本発明の官能基の金属塩を有するキレー
ト樹脂において、金属塩とは官能基(A)および/ま
たは(B)の金属塩あるいは官能基(A)と(B)との間のキ
レート結合による金属塩であつて、これら塩形成
の金属塩の結合力が前記官能基(A)および(B)とゲル
マニウムとの結合力より弱ければ特に制限される
ものではない。このような金属塩の金属としては
一般にはナトリウム、カリウム、カルシウム、マ
グネシウム等のアルカリ金属、アルカリ土類金属
が使用される。 このようなキレート樹脂としては、アクリロニ
トリル、α−クロルアクリロニトリル、シアン化
ビニリデン、メタアクリロニトリル等のシアン化
ビニル系単量体の重合体若しくはシアン化ビニル
系単量体と共重合が可能な他のエチレン系不飽和
単量体との共重合体に、ヒドロキシルアミン又は
ヒドロキシルアミンの誘導体を反応させアミドオ
キシム基を有せしめた樹脂;アクリロニトリル、
α−クロルアクリロニトリル、シアン化ビニリデ
ン、メタアクリロニトリル等のシアン化ビニル系
単量体にヒドロキシルアミン又はヒドロキシルア
ミン誘導体を反応させたシアン化ビニル系誘導体
を単独重合又は共重合可能な他のエチレン系不飽
和単量体と重合させた樹脂;クロルメチル基、ス
ルホニルクロリド基、カルボニルクロリド基、イ
ソシアナート基、エポキシ基、アルデヒド基等ア
ミン反応性基を有したスチレン−ジビニルベンゼ
ン共重合体、フエノール樹脂、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリ塩化ビニル等の重合体(以下
アミン反応性基を有した樹脂と称す)にアミノア
セトニトリル、アミノマロンニトリル、ジアミノ
マレオニトリル、ジシアンジアミド、イミノジア
セトニトリル、1−アミノ−2−シアノエタン、
4−アミノベンゾニトリル、1−アミノ−3−シ
アノプロパン等アミノ基、イミノ基を有したニト
リル化合物を反応させ次いで、ヒドロキシルアミ
ン又はヒドロキシルアミン誘導体を反応させた樹
脂;前記アミノ基、イミノ基を有したニトリル化
合物とヒドロキシルアミン又はヒドロキシルアミ
ン誘導体との反応により得られる生成物を前記ア
ミン反応性基を有した樹脂に反応させた樹脂;ス
ルホン酸基、カルボン酸基、燐酸基、ジチオカル
ボン酸基、アルキルアミノ基等を有したスチレン
−ジビニルベンゼン共重合体、フエノール樹脂等
の樹脂をハロゲン化処理したものに前記アミノ
基、イミノ基を有したニトリル化合物とヒドロキ
シルアミン又はヒドロキシルアミン誘導体との反
応により得られる生成物を反応させた樹脂;ベン
ズアミドキシム、ベンジルアミノ−N−メタンジ
アミドジオキシム、ベンジルアミノ−N−エタン
ジアミドジオキシム、(2−ベンゾイミダゾリル
チオ)アセトアミドキシム、(2−ベンゾイミダ
ゾリルチオ)エチルアミドキシム、(2−ベンゾ
イミダゾリルチオ)プロピルアミドキシム、1,
2−ベンズイソキサゾール−3−アセトアミドキ
シム、5−フルオロ−1,2−ベンズイソキサゾ
ール−3−アセトアミドキシム、フエニルスルフ
イニルアセトアミドキシム、(3−クロルフエニ
ルスルフイニル)−アセトアミドキシム等の少く
とも分子中に1つのアミドキシム基を有した化合
物、前記化合物の混合物又は前記化合物とアニリ
ン、レゾルシン、3−アミノピリジン、4−アミ
ノピリジン、4−アミノベンゼンスルホン酸、4
−アミノベンゼンカルボン酸との混合物とホルマ
リン、エピクロルヒドリン、エピブロムヒドリン
等との縮重合又は付加重合反応樹脂;アルデヒド
基、ケトン基を有したスチレン−ジビニルベンゼ
ン共重合体、フエノール樹脂、ポリエチレン、ポ
リプロピレン等の重合体にヒドロキシルアミンを
反応させた樹脂;クロルメチル基、スルホニルク
ロリド基、カルボニルクロリド基、イソシアナー
ト基、エポキシ基、アルデヒド基等アミン反応性
基を有したスチレン−ジビニルベンゼン共重合
体、フエノール樹脂、ポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリ塩化ビニル等の重合体(以下、アミン
反応性基を有した樹脂と称す。)にアミノアセト
アルドキシム、イミノジアセトアルドキシム、ア
ミノベンズアルドキシム、アミノアルキルベンズ
アルドキシム、アミノベンズヒドロキサム酸、ア
ミノアルキルベンズヒドロキサム酸、等アミノ
基、イミノ基と少くとも分子中に1つの=NOH
基を有した化合物、前記化合物の混合物を反応さ
せた樹脂;アルキルアミノベンズアルドキシム、
ホルミルベンズアルドキシム、ベンズアルドキシ
ム、ベンズヒドロキサム酸、アルキルアミノベン
ズアルドキシム、アルキルアミノベンズヒドロキ
サム酸、アルキルアミノメタンベンズアルドキシ
ム、アルキルアミノメタンベンズヒドロキサム
酸、アルキルアミノエタンベンズアルドキシム、
アルキルアミノエタンベンズヒドロキサム酸、ホ
ルミルベンズアルドキシム、ホルミルベンズアセ
トルドキシム、ベンズイソキサゾールアセトアル
ドキシム、ベンズイソキサゾールアセトヒドロキ
サム酸オキシム、ベンズイソキサゾールアセトヒ
ドロキサム酸、フエニルスルフイニルアセトアル
ドキシム、アルキルアミノフエニルスルフイニル
アセトアルドオキシム、アルキルアミノフエニル
メチルスルフイニルアセトアルドキシム、アルキ
ルアミノフエニルエチルスルフイニルアセトアル
ドキシム、アルキルアミノフエニルカルボニルア
セトアルドキシム、アルキルアミノメチルフエニ
ルカルボニルアセトアルドキシム、ベンジルジオ
キシム、ベンジルオキシム、ベンズイミダゾイル
チオアセトイルドキシム、等の少くとも分子中に
1つの=NOH基を有した化合物、前記化合物の
混合物又は前記化合物とアニリン、レゾルシン、
3−アミノピリジン、4−アミノピリジン、4−
アミノベンゼンスルホン酸、4−アミノベンゼン
カルボン酸との混合物とホルマリン、エピクロル
ヒドリン、エピブロムヒドリン等との縮合反応樹
脂;およびこれらの樹脂のナトリウム、カリウ
ム、カルシウム、マグネシウム等のアルカリ金
属、アルカリ土類金属塩等が挙げられる。 本発明方法の実施にあたり、上記キレート樹脂
と接触させるゲルマニウム含有溶液としては、通
常、塩基性(好ましくはPH7.5以上)または酸性
(好ましくはPH1〜3)のゲルマニウム含有水溶
液が適用されるが、他のゲルマニウム含有溶液で
あつても適用することができる。 かかるゲルマニウム含有溶液としては、具体的
には銅および亜鉛鉱の精錬煙灰、石炭煙灰または
ゲルマニウム含有スクラツプを、1〜3mol/
濃度の硫酸、塩酸、燐酸、硝酸等の鉱酸水溶液ま
たはアンモニア、ジエチルアミン、エチレンジア
ミン、ジエチレントリアミン等のアミン水溶液と
室温〜100℃で、常圧または加圧下に接触処理を
行い、ゲルマニウム等金属元素を溶出させた浸出
液が一般的に適用されるが、ゲルマニウムを含有
する水溶液であれば特に制限されない。 特に、キレート樹脂へのゲルマニウムの吸着回
収量が大きくなるPH7.5以上の塩基性水溶液が好
適である。 本発明方法の実施に当り、上記キレート樹脂と
ゲルマニウムを含有する溶液との接触方法は特に
制限されるものではなく、例えばゲルマニウムを
含有する溶液中へキレート樹脂を浸漬する方法、
キレート樹脂を充填した塔中へゲルマニウム含有
溶液を通す方法等が一般に採用されるが、処理操
作の点からキレート樹脂を充填した塔中へゲルマ
ニウム含有溶液を通す方法が好ましい。 キレート樹脂の使用量は特に制限されるもので
はなく、処理対象とするゲルマニウム含有溶液中
のゲルマニウム濃度、用いるキレート樹脂の種類
等によつても変わるが、これは適宜予備実験を行
なうことにより設定することができる。 キレート樹脂とゲルマニウム含有溶液の接触温
度は特に制限されるものではないが、通常10〜
100℃の温度で実施される。また接触時間も特に
制限されるものではなく、それぞれの条件に応じ
て適宜決定される。 かくして、本発明の方法によれば、ゲルマニウ
ム含有溶液からゲルマニウムが効率よくキレート
樹脂に吸着されるが、特に、銅および亜鉛鉱の製
錬煙灰や石炭煙灰の酸またはアルカリによる浸出
液のようなゲルマニウム以外に銅、亜鉛、カドミ
ウム、鉄等の不純物を大量に含有する水溶液から
キレート樹脂によりゲルマニウムが高選択的に吸
着回収されるということは従来全く知られておら
ず、本発明に特定するキレート樹脂が上記煙灰浸
出液等の不純物元素を大量に含有する水溶液から
のゲルマニウムの回収に極めて有効であることは
全く予期し難いことであつた。 尚、本発明方法によつてゲルマニウムを吸着捕
集したキレート樹脂は、次いで塩酸、硫酸、硝
酸、燐酸、硫化ソーダ、イミノジ酢酸、エチレン
ジアミン、四酢酸等によりゲルマニウムを溶離す
るとか、加熱分離することにより、ゲルマニウム
をキレート樹脂から分離することができる。 以上のようにして、分離、回収されたゲルマニ
ウムは中和、乾燥し、酸化ゲルマニウムとして回
収し、更に必要に応じて還元処理に付してゲルマ
ニウム金属として、あるいは塩酸又は塩素化処理
に付して塩化ゲルマニウムとして回収することが
できる。 かくして、本発明の方法によれば公知方法に比
べて複雑な処理を行うことなく、簡単な操作でゲ
ルマニウムを効率よく回収することができ、その
工業的価値は非常に大きい。 以下に、本発明を実施例によつて説明するが、
本発明はその要旨を越えない限り、以下の実施例
によつて限定されるものではない。 実施例 1 ポリアクリロニトリルフアイバーと塩酸ヒドロ
キシルアミンと水酸化ナトリウム水溶液との反応
により得られるビニルアミドキシム重合体(以下
本重合体をキレート樹脂Aと称す。)0.5gを、
Ge12ppm、Zn71000ppmおよびFe107ppmを含む
PH1.8に調整した亜鉛鉱製錬煙灰の硫酸浸出液50
mlに添加し、3時間振盪、接触処理を行い、処理
液のGe、Zn、Feの分析を行つたところ、第1表
に示す結果が得られた。
ムを回収する方法に関する。 ゲルマニウムを多く含む鉱物としてはアージド
ロ鉱、ゲルマン鉱、レニエライト鉱、シユトツト
鉱、フライシヤ石、イトウ石などが知られている
が、これらは産出量も少なく、ゲルマニウムの商
業的生産には、銅および亜鉛鉱の精錬煙灰がゲル
マニウム原料として主に用いられている。 かかるゲルマニウム原料からゲルマニウムを回
収する方法としては、該ゲルマニウム原料を硫酸
等により浸出処理し、浸出液中に大量に含まれる
砒素、銅、亜鉛などを薬剤処理により沈殿除去
し、酸化マグネシウム等を加えてゲルマニウム化
合物を水酸化物として沈降させ、ろ過処理して得
られるゲルマニウム化合物のケーキを乾燥、焙焼
してゲルマニウムを10重量%程度含む焼成物とな
し、これを塩化水素等により塩素化処理したのち
蒸留して塩化ゲルマニウムとして回収し、次い
で、加水分解、過、乾燥等の処理を経て、粗酸
化ゲルマニウムとして回収する方法が知られてい
る。粗酸化ゲルマニウムは必要に応じてさらに精
製処理したのち、水素還元、電解等の方法により
金属ゲルマニウムとして回収される。 かかる公知方法において、ゲルマニウム原料の
硫酸浸出液中には、ゲルマニウム以外の銅、亜
鉛、鉛、砒素、鉄等の金属元素が通常ゲルマニウ
ムの1000〜10000倍も存在するため、該硫酸浸出
液からゲルマニウムと他金属元素とを分離するた
めにアルカリ、硫化物等による薬剤処理を行い、
ゲルマニウム化合物と他金属化合物との溶解度の
差を利用し、ゲルマニウム分を分離濃縮処理をし
ているが該分離濃縮の単一処理だけでは、ゲルマ
ニウムと他金属元素の効率的分離は出来ず、さら
に繰り返し分離濃縮の処理に附さなければ精製が
出来ないという問題がある。さらに、該分離濃縮
操作によりゲルマニウムの他金属元素側への同伴
ロスは、避けることができないため、商業的生産
に用いられるゲルマニウム原料は、前記硫酸浸出
液中にゲルマニウムが少なくとも数百mg/以上
含むものでないと使用出来ないという欠点があ
る。 このようなことから、本発明者らは上記問題を
解決し、銅および亜鉛鉱の精錬煙灰の硫酸等によ
る浸出液などのように、ゲルマニウム以外の他金
属を大量に含むゲルマニウム含有溶液から、ゲル
マニウム濃度の影響を受けることなく、簡単な操
作で、効率的にゲルマニウムを回収すべく検討の
結果、特定の官能基を有する特殊のキレート樹脂
が溶液中のゲルマニウムを高選択的に吸着し、ゲ
ルマニウム含有溶液をかかる樹脂と接触処理する
ことにより、ゲルマニウムが効率よく吸着、回収
されることを見出し、本発明を完成するに至つ
た。 すなわち本発明は、ゲルマニウム含有溶液を、
分子中に=NOH(官能基A)および該基とゲル
マニウムを介してキレート結合を形成し得る官能
基(官能基B)を有するキレート樹脂または前記
官能基の金属塩を有するキレート樹脂と接触させ
て、該樹脂にゲルマニウムを吸着せしめることを
特徴とするゲルマニウム含有溶液からのゲルマニ
ウムの回収方法を提供するものである。 本発明において使用されるキレート樹脂は、分
子中に=NOH基を必須官能基として有し、該基
とゲルマニウムを介してキレート結合を形成し得
る官能基を有するキレート樹脂または前記官能基
の金属塩を有するキレート樹脂である。 ここで、=NOH基とゲルマニウムを介してキ
レート結合を形成し得る官能基(官能基B)とし
ては、たとえば =N−R1、≡N、−OH、−SH、=NOH、>C=
O、−NHOH、−NH−NH2、−CS2H、−COOH、
−SO3H9、>C=S、−CHO、−O−、−S−、−P
(OR)2、−PO(OR)2、−PH(OR)3〔上式中、R1お
よびR2は水素原子または有機基(通常アルキル
基、アリール基またはR1とR2が結合したアルキ
レン基であり、特に炭素数1〜20のアルキル基で
ある)を、Rは水素原子、アリール基、アルキル
基またはアミノ基を示す。〕およびポリエチレン
ポリアミノ基を挙げることができるが、とりわけ =N−R1、≡N、−OH、−CS2H、>C=O、=
NOH、ポリエチレンポリアミノ基が好適であ
る。 本発明のキレート樹脂において、上記官能基A
およびBが同一炭素と結合してなるキレート樹脂
がゲルマニウムの吸着性の点から特に好ましく用
いられる。 また、本発明の官能基の金属塩を有するキレー
ト樹脂において、金属塩とは官能基(A)および/ま
たは(B)の金属塩あるいは官能基(A)と(B)との間のキ
レート結合による金属塩であつて、これら塩形成
の金属塩の結合力が前記官能基(A)および(B)とゲル
マニウムとの結合力より弱ければ特に制限される
ものではない。このような金属塩の金属としては
一般にはナトリウム、カリウム、カルシウム、マ
グネシウム等のアルカリ金属、アルカリ土類金属
が使用される。 このようなキレート樹脂としては、アクリロニ
トリル、α−クロルアクリロニトリル、シアン化
ビニリデン、メタアクリロニトリル等のシアン化
ビニル系単量体の重合体若しくはシアン化ビニル
系単量体と共重合が可能な他のエチレン系不飽和
単量体との共重合体に、ヒドロキシルアミン又は
ヒドロキシルアミンの誘導体を反応させアミドオ
キシム基を有せしめた樹脂;アクリロニトリル、
α−クロルアクリロニトリル、シアン化ビニリデ
ン、メタアクリロニトリル等のシアン化ビニル系
単量体にヒドロキシルアミン又はヒドロキシルア
ミン誘導体を反応させたシアン化ビニル系誘導体
を単独重合又は共重合可能な他のエチレン系不飽
和単量体と重合させた樹脂;クロルメチル基、ス
ルホニルクロリド基、カルボニルクロリド基、イ
ソシアナート基、エポキシ基、アルデヒド基等ア
ミン反応性基を有したスチレン−ジビニルベンゼ
ン共重合体、フエノール樹脂、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリ塩化ビニル等の重合体(以下
アミン反応性基を有した樹脂と称す)にアミノア
セトニトリル、アミノマロンニトリル、ジアミノ
マレオニトリル、ジシアンジアミド、イミノジア
セトニトリル、1−アミノ−2−シアノエタン、
4−アミノベンゾニトリル、1−アミノ−3−シ
アノプロパン等アミノ基、イミノ基を有したニト
リル化合物を反応させ次いで、ヒドロキシルアミ
ン又はヒドロキシルアミン誘導体を反応させた樹
脂;前記アミノ基、イミノ基を有したニトリル化
合物とヒドロキシルアミン又はヒドロキシルアミ
ン誘導体との反応により得られる生成物を前記ア
ミン反応性基を有した樹脂に反応させた樹脂;ス
ルホン酸基、カルボン酸基、燐酸基、ジチオカル
ボン酸基、アルキルアミノ基等を有したスチレン
−ジビニルベンゼン共重合体、フエノール樹脂等
の樹脂をハロゲン化処理したものに前記アミノ
基、イミノ基を有したニトリル化合物とヒドロキ
シルアミン又はヒドロキシルアミン誘導体との反
応により得られる生成物を反応させた樹脂;ベン
ズアミドキシム、ベンジルアミノ−N−メタンジ
アミドジオキシム、ベンジルアミノ−N−エタン
ジアミドジオキシム、(2−ベンゾイミダゾリル
チオ)アセトアミドキシム、(2−ベンゾイミダ
ゾリルチオ)エチルアミドキシム、(2−ベンゾ
イミダゾリルチオ)プロピルアミドキシム、1,
2−ベンズイソキサゾール−3−アセトアミドキ
シム、5−フルオロ−1,2−ベンズイソキサゾ
ール−3−アセトアミドキシム、フエニルスルフ
イニルアセトアミドキシム、(3−クロルフエニ
ルスルフイニル)−アセトアミドキシム等の少く
とも分子中に1つのアミドキシム基を有した化合
物、前記化合物の混合物又は前記化合物とアニリ
ン、レゾルシン、3−アミノピリジン、4−アミ
ノピリジン、4−アミノベンゼンスルホン酸、4
−アミノベンゼンカルボン酸との混合物とホルマ
リン、エピクロルヒドリン、エピブロムヒドリン
等との縮重合又は付加重合反応樹脂;アルデヒド
基、ケトン基を有したスチレン−ジビニルベンゼ
ン共重合体、フエノール樹脂、ポリエチレン、ポ
リプロピレン等の重合体にヒドロキシルアミンを
反応させた樹脂;クロルメチル基、スルホニルク
ロリド基、カルボニルクロリド基、イソシアナー
ト基、エポキシ基、アルデヒド基等アミン反応性
基を有したスチレン−ジビニルベンゼン共重合
体、フエノール樹脂、ポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリ塩化ビニル等の重合体(以下、アミン
反応性基を有した樹脂と称す。)にアミノアセト
アルドキシム、イミノジアセトアルドキシム、ア
ミノベンズアルドキシム、アミノアルキルベンズ
アルドキシム、アミノベンズヒドロキサム酸、ア
ミノアルキルベンズヒドロキサム酸、等アミノ
基、イミノ基と少くとも分子中に1つの=NOH
基を有した化合物、前記化合物の混合物を反応さ
せた樹脂;アルキルアミノベンズアルドキシム、
ホルミルベンズアルドキシム、ベンズアルドキシ
ム、ベンズヒドロキサム酸、アルキルアミノベン
ズアルドキシム、アルキルアミノベンズヒドロキ
サム酸、アルキルアミノメタンベンズアルドキシ
ム、アルキルアミノメタンベンズヒドロキサム
酸、アルキルアミノエタンベンズアルドキシム、
アルキルアミノエタンベンズヒドロキサム酸、ホ
ルミルベンズアルドキシム、ホルミルベンズアセ
トルドキシム、ベンズイソキサゾールアセトアル
ドキシム、ベンズイソキサゾールアセトヒドロキ
サム酸オキシム、ベンズイソキサゾールアセトヒ
ドロキサム酸、フエニルスルフイニルアセトアル
ドキシム、アルキルアミノフエニルスルフイニル
アセトアルドオキシム、アルキルアミノフエニル
メチルスルフイニルアセトアルドキシム、アルキ
ルアミノフエニルエチルスルフイニルアセトアル
ドキシム、アルキルアミノフエニルカルボニルア
セトアルドキシム、アルキルアミノメチルフエニ
ルカルボニルアセトアルドキシム、ベンジルジオ
キシム、ベンジルオキシム、ベンズイミダゾイル
チオアセトイルドキシム、等の少くとも分子中に
1つの=NOH基を有した化合物、前記化合物の
混合物又は前記化合物とアニリン、レゾルシン、
3−アミノピリジン、4−アミノピリジン、4−
アミノベンゼンスルホン酸、4−アミノベンゼン
カルボン酸との混合物とホルマリン、エピクロル
ヒドリン、エピブロムヒドリン等との縮合反応樹
脂;およびこれらの樹脂のナトリウム、カリウ
ム、カルシウム、マグネシウム等のアルカリ金
属、アルカリ土類金属塩等が挙げられる。 本発明方法の実施にあたり、上記キレート樹脂
と接触させるゲルマニウム含有溶液としては、通
常、塩基性(好ましくはPH7.5以上)または酸性
(好ましくはPH1〜3)のゲルマニウム含有水溶
液が適用されるが、他のゲルマニウム含有溶液で
あつても適用することができる。 かかるゲルマニウム含有溶液としては、具体的
には銅および亜鉛鉱の精錬煙灰、石炭煙灰または
ゲルマニウム含有スクラツプを、1〜3mol/
濃度の硫酸、塩酸、燐酸、硝酸等の鉱酸水溶液ま
たはアンモニア、ジエチルアミン、エチレンジア
ミン、ジエチレントリアミン等のアミン水溶液と
室温〜100℃で、常圧または加圧下に接触処理を
行い、ゲルマニウム等金属元素を溶出させた浸出
液が一般的に適用されるが、ゲルマニウムを含有
する水溶液であれば特に制限されない。 特に、キレート樹脂へのゲルマニウムの吸着回
収量が大きくなるPH7.5以上の塩基性水溶液が好
適である。 本発明方法の実施に当り、上記キレート樹脂と
ゲルマニウムを含有する溶液との接触方法は特に
制限されるものではなく、例えばゲルマニウムを
含有する溶液中へキレート樹脂を浸漬する方法、
キレート樹脂を充填した塔中へゲルマニウム含有
溶液を通す方法等が一般に採用されるが、処理操
作の点からキレート樹脂を充填した塔中へゲルマ
ニウム含有溶液を通す方法が好ましい。 キレート樹脂の使用量は特に制限されるもので
はなく、処理対象とするゲルマニウム含有溶液中
のゲルマニウム濃度、用いるキレート樹脂の種類
等によつても変わるが、これは適宜予備実験を行
なうことにより設定することができる。 キレート樹脂とゲルマニウム含有溶液の接触温
度は特に制限されるものではないが、通常10〜
100℃の温度で実施される。また接触時間も特に
制限されるものではなく、それぞれの条件に応じ
て適宜決定される。 かくして、本発明の方法によれば、ゲルマニウ
ム含有溶液からゲルマニウムが効率よくキレート
樹脂に吸着されるが、特に、銅および亜鉛鉱の製
錬煙灰や石炭煙灰の酸またはアルカリによる浸出
液のようなゲルマニウム以外に銅、亜鉛、カドミ
ウム、鉄等の不純物を大量に含有する水溶液から
キレート樹脂によりゲルマニウムが高選択的に吸
着回収されるということは従来全く知られておら
ず、本発明に特定するキレート樹脂が上記煙灰浸
出液等の不純物元素を大量に含有する水溶液から
のゲルマニウムの回収に極めて有効であることは
全く予期し難いことであつた。 尚、本発明方法によつてゲルマニウムを吸着捕
集したキレート樹脂は、次いで塩酸、硫酸、硝
酸、燐酸、硫化ソーダ、イミノジ酢酸、エチレン
ジアミン、四酢酸等によりゲルマニウムを溶離す
るとか、加熱分離することにより、ゲルマニウム
をキレート樹脂から分離することができる。 以上のようにして、分離、回収されたゲルマニ
ウムは中和、乾燥し、酸化ゲルマニウムとして回
収し、更に必要に応じて還元処理に付してゲルマ
ニウム金属として、あるいは塩酸又は塩素化処理
に付して塩化ゲルマニウムとして回収することが
できる。 かくして、本発明の方法によれば公知方法に比
べて複雑な処理を行うことなく、簡単な操作でゲ
ルマニウムを効率よく回収することができ、その
工業的価値は非常に大きい。 以下に、本発明を実施例によつて説明するが、
本発明はその要旨を越えない限り、以下の実施例
によつて限定されるものではない。 実施例 1 ポリアクリロニトリルフアイバーと塩酸ヒドロ
キシルアミンと水酸化ナトリウム水溶液との反応
により得られるビニルアミドキシム重合体(以下
本重合体をキレート樹脂Aと称す。)0.5gを、
Ge12ppm、Zn71000ppmおよびFe107ppmを含む
PH1.8に調整した亜鉛鉱製錬煙灰の硫酸浸出液50
mlに添加し、3時間振盪、接触処理を行い、処理
液のGe、Zn、Feの分析を行つたところ、第1表
に示す結果が得られた。
【表】
実施例 2〜13
キレート樹脂B;
ビニルスルホン酸ジビニルベンゼン共重合樹脂
を四塩化炭素溶媒と硫黄の存在下に塩素化処理
し、次いでアミノマロンニトリルを反応させた
後、ヒドロキシルアミンを反応させて得たビニル
スルホンアミドメタンジアミドオキシム樹脂。 キレート樹脂C; アクリル酸−ジビニルベンゼン共重合樹脂を
N,N−ジメチルホルムアミド溶媒下、ホスゲン
によりハロゲン化し、次いでアミノアセトアミド
キシムを反応させて得たビニルカルボン酸アミド
アセトアミドキシム−ジビニルベンゼン共重合樹
脂。 キレート樹脂D; ベンズアミドキシムとレゾルシンとホルマリン
を反応させて得た=NOH基、−NH2基および−
OH基を有した樹脂。 キレート樹脂E; アクリロニトリルとジビニルベンゼン共重合体
にヒドロキシルアミンを反応させて得たビニルア
ミドキシム−ジビニルベンゼン共重合樹脂。 キレート樹脂F; シアン化ビニリデンとジビニルベンゼンとアク
リル酸メチルとの共重合体をヒドロキシルアミン
と反応させて得たビニルジアミドジオキシム−ジ
ビニルベンゼン−アクリル酸共重合樹脂。 キレート樹脂G; アクリロニトリルとヒドロキシルアミンとの反
応物をアクリル酸エチルと共重合させた後、加水
分解処理して得たビニルアミドキシム−アクリル
酸共重合樹脂。 キレート樹脂H; クロルメチル化スチレンジビニルベンゼン樹脂
にジアミノマレオニトリルを反応させさらにヒド
ロキシルアミンを反応させて得た樹脂。 キレート樹脂I; 強塩基性イオン交換樹脂デユオライトA−161
(ダイヤモンドシヤムロツク社製)を1,2−ジ
クロル−1,2−ジフルオロエタン溶媒下塩素化
し、次いでイミノジアセトニトリルを反応させ、
さらにヒドロキシルアミンを反応させて得た樹
脂。 キレート樹脂J; スルホン酸基を有したスチレンビニルベンゼン
樹脂〔デユオライトC−26(ダイヤモンドシヤム
ロツク社製)〕をN,N−ジメチルホルムアミド
溶媒下、ホスゲンと塩素化反応を行わせしめ、さ
らにアミノアセトアミドキシムを反応させて得た
樹脂。 キレート樹脂K; 1,2−ベンズイソキサゾール−3−アセトア
ミドキシムとレゾルシンとホルマリンを反応させ
て得た樹脂。 キレート樹脂L; 5−フルオロ−1,2−ベンゾイソキサゾール
−3−アセトアミドキシムとフエノールとホルマ
リンを反応させて得た樹脂。 キレート樹脂M; アミドキシム基を有する市販のキレート樹脂
〔デユオライトCS−346(ダイヤモンドシヤムロツ
ク社製)〕。 キレート樹脂N; アクリロニトリル−テトラエチレングリコール
ジメタクリレート(モル比1:0.2)樹脂をトル
エン溶媒下、ヒドロキシルアミンを反応させて得
た樹脂を水酸化ナトリウム水溶液でアルカリ処理
したアミドキシム基のNa塩を有した樹脂。 キレート樹脂O; アクリロニトリル−エチレングリコールジメタ
クリレート(モル比1:0.15)樹脂を四塩化炭素
溶媒下ヒドロキシルアミンを反応させて得た樹
脂。 キレート樹脂P; アクリロニトリル−エチレングリコールモノメ
タクリレート(モル比1:0.25)樹脂をキシレン
溶媒下ヒドロキシルアミンを反応させて得た樹
脂。 以上のキレート樹脂をそれぞれ用い、実施例1
と同様にして亜鉛鉱製錬煙灰の硫酸浸出液と接触
処理を行い、処理液のGe、Zn、Feの分析をした
ところ第2表に示すような結果が得られた。
を四塩化炭素溶媒と硫黄の存在下に塩素化処理
し、次いでアミノマロンニトリルを反応させた
後、ヒドロキシルアミンを反応させて得たビニル
スルホンアミドメタンジアミドオキシム樹脂。 キレート樹脂C; アクリル酸−ジビニルベンゼン共重合樹脂を
N,N−ジメチルホルムアミド溶媒下、ホスゲン
によりハロゲン化し、次いでアミノアセトアミド
キシムを反応させて得たビニルカルボン酸アミド
アセトアミドキシム−ジビニルベンゼン共重合樹
脂。 キレート樹脂D; ベンズアミドキシムとレゾルシンとホルマリン
を反応させて得た=NOH基、−NH2基および−
OH基を有した樹脂。 キレート樹脂E; アクリロニトリルとジビニルベンゼン共重合体
にヒドロキシルアミンを反応させて得たビニルア
ミドキシム−ジビニルベンゼン共重合樹脂。 キレート樹脂F; シアン化ビニリデンとジビニルベンゼンとアク
リル酸メチルとの共重合体をヒドロキシルアミン
と反応させて得たビニルジアミドジオキシム−ジ
ビニルベンゼン−アクリル酸共重合樹脂。 キレート樹脂G; アクリロニトリルとヒドロキシルアミンとの反
応物をアクリル酸エチルと共重合させた後、加水
分解処理して得たビニルアミドキシム−アクリル
酸共重合樹脂。 キレート樹脂H; クロルメチル化スチレンジビニルベンゼン樹脂
にジアミノマレオニトリルを反応させさらにヒド
ロキシルアミンを反応させて得た樹脂。 キレート樹脂I; 強塩基性イオン交換樹脂デユオライトA−161
(ダイヤモンドシヤムロツク社製)を1,2−ジ
クロル−1,2−ジフルオロエタン溶媒下塩素化
し、次いでイミノジアセトニトリルを反応させ、
さらにヒドロキシルアミンを反応させて得た樹
脂。 キレート樹脂J; スルホン酸基を有したスチレンビニルベンゼン
樹脂〔デユオライトC−26(ダイヤモンドシヤム
ロツク社製)〕をN,N−ジメチルホルムアミド
溶媒下、ホスゲンと塩素化反応を行わせしめ、さ
らにアミノアセトアミドキシムを反応させて得た
樹脂。 キレート樹脂K; 1,2−ベンズイソキサゾール−3−アセトア
ミドキシムとレゾルシンとホルマリンを反応させ
て得た樹脂。 キレート樹脂L; 5−フルオロ−1,2−ベンゾイソキサゾール
−3−アセトアミドキシムとフエノールとホルマ
リンを反応させて得た樹脂。 キレート樹脂M; アミドキシム基を有する市販のキレート樹脂
〔デユオライトCS−346(ダイヤモンドシヤムロツ
ク社製)〕。 キレート樹脂N; アクリロニトリル−テトラエチレングリコール
ジメタクリレート(モル比1:0.2)樹脂をトル
エン溶媒下、ヒドロキシルアミンを反応させて得
た樹脂を水酸化ナトリウム水溶液でアルカリ処理
したアミドキシム基のNa塩を有した樹脂。 キレート樹脂O; アクリロニトリル−エチレングリコールジメタ
クリレート(モル比1:0.15)樹脂を四塩化炭素
溶媒下ヒドロキシルアミンを反応させて得た樹
脂。 キレート樹脂P; アクリロニトリル−エチレングリコールモノメ
タクリレート(モル比1:0.25)樹脂をキシレン
溶媒下ヒドロキシルアミンを反応させて得た樹
脂。 以上のキレート樹脂をそれぞれ用い、実施例1
と同様にして亜鉛鉱製錬煙灰の硫酸浸出液と接触
処理を行い、処理液のGe、Zn、Feの分析をした
ところ第2表に示すような結果が得られた。
【表】
実施例 17
実施例1で用いたキレート樹脂A0.1gを、石
炭煙灰の硫酸浸出液をアンモニアでPH9にした
Ge17ppmおよびAs670ppmを含む液50mlに添加
し、3時間振盪、接触処理を行い、処理液のGe、
Asの分析を行つたところ、第3表に示すような
結果が得られた。
炭煙灰の硫酸浸出液をアンモニアでPH9にした
Ge17ppmおよびAs670ppmを含む液50mlに添加
し、3時間振盪、接触処理を行い、処理液のGe、
Asの分析を行つたところ、第3表に示すような
結果が得られた。
【表】
実施例 18〜22
キレート樹脂Q
2−アミノメチルベンズアルドキシムとレゾル
シンとホルマリンを反応させて得た=NOH基、
−NH2基および−OH基を有した樹脂 キレート樹脂R; 1,2−ベンズイソキサゾール−3−アセトヒ
ドロキサム酸オキシムとレゾルシンとホルマリン
と反応させて得た=NOH基、−NHOH基、≡N
基および−OH基を有した樹脂。 キレート樹脂S; 5−フルオロ−1,2−ベンゾイソキサゾール
−3−アセトヒドロキサム酸オキシムとフエノー
ルとホルマリンとを反応させて得た=NOH基、
−NHOH基、≡N基および−OH基を有した樹
脂。 キレート樹脂T; ビニルアミドキシム−ジビニルベンゼン共重合
体に二硫化炭素とを反応させ次いで水酸化ナトリ
ウム水溶液にてアルカリ処理して得た=NOH基
と−CS2H基のNa金属塩を有した樹脂。 キレート樹脂U; ベンゾイルイミノ−エタンジアミドジオキシム
とアニリンとホルマリンとの縮重合樹脂にモノク
ロル酢酸を反応させ、次いで水酸化カルシウム水
溶液にてアルカリ処理を行ない=NOH基と−
COOH基のCa金属塩を有した樹脂。 以上のキレート樹脂をそれぞれ用い、実施例17
と同様にして、石炭煙灰の硫酸浸出液をアンモニ
アでPH9にした液と接触処理を行い、処理液の
Ge、Asの分析をしたところ、第4表に示すよう
な結果が得られた。
シンとホルマリンを反応させて得た=NOH基、
−NH2基および−OH基を有した樹脂 キレート樹脂R; 1,2−ベンズイソキサゾール−3−アセトヒ
ドロキサム酸オキシムとレゾルシンとホルマリン
と反応させて得た=NOH基、−NHOH基、≡N
基および−OH基を有した樹脂。 キレート樹脂S; 5−フルオロ−1,2−ベンゾイソキサゾール
−3−アセトヒドロキサム酸オキシムとフエノー
ルとホルマリンとを反応させて得た=NOH基、
−NHOH基、≡N基および−OH基を有した樹
脂。 キレート樹脂T; ビニルアミドキシム−ジビニルベンゼン共重合
体に二硫化炭素とを反応させ次いで水酸化ナトリ
ウム水溶液にてアルカリ処理して得た=NOH基
と−CS2H基のNa金属塩を有した樹脂。 キレート樹脂U; ベンゾイルイミノ−エタンジアミドジオキシム
とアニリンとホルマリンとの縮重合樹脂にモノク
ロル酢酸を反応させ、次いで水酸化カルシウム水
溶液にてアルカリ処理を行ない=NOH基と−
COOH基のCa金属塩を有した樹脂。 以上のキレート樹脂をそれぞれ用い、実施例17
と同様にして、石炭煙灰の硫酸浸出液をアンモニ
アでPH9にした液と接触処理を行い、処理液の
Ge、Asの分析をしたところ、第4表に示すよう
な結果が得られた。
【表】
実施例 23
実施例1で用いたキレート樹脂A0.1gを
Ge67ppm、F-3220ppm含むPH8の半導体工場排
水50mlに添加し、3時間振盪、接触処理を行い、
処理液のGeの分析を行つたところ7.3ppmであ
り、単位樹脂当りのGeの吸着量は、30mg−Ge/
g−樹脂であつた。 実施例 24〜28 キレート樹脂V; 1,2−ベンズイソキサゾール−3−アセトヒ
ドロキサム酸と3−アミノピリジンとレゾルシン
とホルマリンを反応させて得た=NOH基、−
NH2基、≡N基および−OH基を有した樹脂。 キレート樹脂W; 8−ホルミルキノリンとベンズアルデヒドとホ
ルマリンを反応させ樹脂化させた後、ヒドロキシ
ルアミンを反応させて得た=NOH基と〓N基を
有する樹脂。 キレート樹脂X; 2−ヒドロキシベンズアルドキシムとレゾルシ
ンとホルマリンを反応させて得た=NOH基と−
OH基を有する樹脂。 キレート樹脂Y; アクリロニトリルとジビニルベンゼンの共重合
体に硫酸ヒドロキシルアミンとヒドラジン水溶液
を反応させて得た=NOH基、=NH基、−NH2基
および−NHNH2基を有する樹脂。 キレート樹脂Z; アクリロニトリルとジビニルベンゼンの共重合
体に塩酸ヒドロキシルアミンとジエチレントリア
ミン水溶液を反応させて得た=NOH基、=NH
基、−NH2基および−
NHCH2CH2NHCH2CH2NH2基を有する樹脂。 以上のキレート樹脂をそれぞれ用い、実施例23
と同様にして半導体工場排水と接触処理を行い処
理液のGeの分析を行つたところ、第5表に示す
ような結果が得られた。
Ge67ppm、F-3220ppm含むPH8の半導体工場排
水50mlに添加し、3時間振盪、接触処理を行い、
処理液のGeの分析を行つたところ7.3ppmであ
り、単位樹脂当りのGeの吸着量は、30mg−Ge/
g−樹脂であつた。 実施例 24〜28 キレート樹脂V; 1,2−ベンズイソキサゾール−3−アセトヒ
ドロキサム酸と3−アミノピリジンとレゾルシン
とホルマリンを反応させて得た=NOH基、−
NH2基、≡N基および−OH基を有した樹脂。 キレート樹脂W; 8−ホルミルキノリンとベンズアルデヒドとホ
ルマリンを反応させ樹脂化させた後、ヒドロキシ
ルアミンを反応させて得た=NOH基と〓N基を
有する樹脂。 キレート樹脂X; 2−ヒドロキシベンズアルドキシムとレゾルシ
ンとホルマリンを反応させて得た=NOH基と−
OH基を有する樹脂。 キレート樹脂Y; アクリロニトリルとジビニルベンゼンの共重合
体に硫酸ヒドロキシルアミンとヒドラジン水溶液
を反応させて得た=NOH基、=NH基、−NH2基
および−NHNH2基を有する樹脂。 キレート樹脂Z; アクリロニトリルとジビニルベンゼンの共重合
体に塩酸ヒドロキシルアミンとジエチレントリア
ミン水溶液を反応させて得た=NOH基、=NH
基、−NH2基および−
NHCH2CH2NHCH2CH2NH2基を有する樹脂。 以上のキレート樹脂をそれぞれ用い、実施例23
と同様にして半導体工場排水と接触処理を行い処
理液のGeの分析を行つたところ、第5表に示す
ような結果が得られた。
【表】
比較例 1〜3
実施例1の方法において用いられているキレー
ト樹脂Aの代わりに、キレート樹脂Aを合成する
ために用いたポリアクリロニトリル、強塩基性イ
オン交換樹脂デユオライトA−161(ダイヤモンド
シヤムロツク社製)およびジオチカルバミン酸型
キレート樹脂スミキレート−Q−10(住友化学社
製)をそれぞれ用いて実施例23〜28と同様にして
ゲルマニウムの吸着処理を行つた。その結果を第
6表に示す。
ト樹脂Aの代わりに、キレート樹脂Aを合成する
ために用いたポリアクリロニトリル、強塩基性イ
オン交換樹脂デユオライトA−161(ダイヤモンド
シヤムロツク社製)およびジオチカルバミン酸型
キレート樹脂スミキレート−Q−10(住友化学社
製)をそれぞれ用いて実施例23〜28と同様にして
ゲルマニウムの吸着処理を行つた。その結果を第
6表に示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 ゲルマニウム含有溶液を、分子中に=NOH
(官能基A)および該基とゲルマニウムを介して
キレート結合を形成し得る官能基(官能基B)を
有するキレート樹脂または前記官能基の金属塩を
有するキレート樹脂と接触させて、該樹脂にゲル
マニウムを吸着せしめることを特徴とするゲルマ
ニウム含有溶液からのゲルマニウムの回収方法。 2 官能基Bが =N−R1、≡N、−OH、=NOH、>C=O、−
NHOH、−NH−NH2、−CS2H、−COOH、−
SO3H1>C=S(上式中、R1およびR2は水素原子
または有機基を示す。)またはポリエチレンポリ
アミノ基である特許請求の範囲第1項に記載の方
法。 3 官能基AおよびBが同一炭素原子に結合して
なるキレート樹脂である特許請求の範囲第1項ま
たは第2項に記載の方法。 4 ゲルマニウム含有溶液がPH7.5以上の塩基性
またはPH1〜3の酸性の水溶液である特許請求の
範囲第1項に記載の方法。 5 ゲルマニウム含有溶液が銅および亜鉛鉱の製
錬煙灰、石炭煙灰またはゲルマニウムスクラツプ
の酸または塩基浸出液である特許請求の範囲第1
項または第4項に記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11482584A JPS60260423A (ja) | 1984-06-04 | 1984-06-04 | ゲルマニウムの回収方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11482584A JPS60260423A (ja) | 1984-06-04 | 1984-06-04 | ゲルマニウムの回収方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60260423A JPS60260423A (ja) | 1985-12-23 |
JPH0557209B2 true JPH0557209B2 (ja) | 1993-08-23 |
Family
ID=14647626
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11482584A Granted JPS60260423A (ja) | 1984-06-04 | 1984-06-04 | ゲルマニウムの回収方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60260423A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000067905A1 (fr) * | 1999-05-07 | 2000-11-16 | Asai Germanium Research Institute Co., Ltd. | Membrane a fibre creuse poreuse de formation de chelate et procede de recuperation d'oxyde de germanium a l'aide de cette membrane |
JP2007181816A (ja) * | 2006-12-04 | 2007-07-19 | Asai Germanium Research Inst | 錯体形成基を有する多孔性中空糸膜及び該多孔性中空糸膜による酸化ゲルマニウムの回収方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105331814B (zh) * | 2015-11-28 | 2017-09-29 | 贵州宏达环保科技有限公司 | 一种高含Cu、Ge原料中Cu、Ge分离方法 |
-
1984
- 1984-06-04 JP JP11482584A patent/JPS60260423A/ja active Granted
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000067905A1 (fr) * | 1999-05-07 | 2000-11-16 | Asai Germanium Research Institute Co., Ltd. | Membrane a fibre creuse poreuse de formation de chelate et procede de recuperation d'oxyde de germanium a l'aide de cette membrane |
US6787117B1 (en) | 1999-05-07 | 2004-09-07 | Asai Germanium Research Institute Co., Ltd. | Porous hollow fiber membrane having chelate formability and method for recovery of germanium oxide using the porous hollow fiber membrane |
JP2007181816A (ja) * | 2006-12-04 | 2007-07-19 | Asai Germanium Research Inst | 錯体形成基を有する多孔性中空糸膜及び該多孔性中空糸膜による酸化ゲルマニウムの回収方法 |
JP4499704B2 (ja) * | 2006-12-04 | 2010-07-07 | 株式会社浅井ゲルマニウム研究所 | 錯体形成基を有する多孔性中空糸膜よりなる水溶液用吸着回収材及び該水溶液用吸着回収材による酸化ゲルマニウムの回収方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS60260423A (ja) | 1985-12-23 |
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