JPH0548190Y2 - - Google Patents

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JPH0548190Y2
JPH0548190Y2 JP1982095830U JP9583082U JPH0548190Y2 JP H0548190 Y2 JPH0548190 Y2 JP H0548190Y2 JP 1982095830 U JP1982095830 U JP 1982095830U JP 9583082 U JP9583082 U JP 9583082U JP H0548190 Y2 JPH0548190 Y2 JP H0548190Y2
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JP
Japan
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lever
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accumulating member
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JP1982095830U
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JPS591041U (ja
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  • Details Of Cameras Including Film Mechanisms (AREA)
  • Shutters For Cameras (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 この考案はカメラのレリーズ機構に関し、特に
電磁レリーズのように小さい力とストロークでレ
リーズしなければならないカメラに最適なレリー
ズ機構に関する。
カメラのレリーズ機構において、指によるレリ
ーズボタン押圧力により、機械的にシヤツタ又は
ミラー作動部材をレリーズする場合には、レリー
ズ時のカメラブレを防止するためにレリーズボタ
ン押圧力及びストロークを可能な限り小さくする
ことが望ましい。
また、ムービングコイルやソレノイド等の電磁
装置により電気的にレリーズする場合には、前記
電磁装置による僅かな力とストロークで強大な蓄
勢力をレリーズする必要がある。
特に、後者においては、カメラの小型化に伴つ
て電磁装置の大きさも自づから制約を受け、さら
に供給可能な電流値の大きさも限られるので、そ
の力も極めて弱いものとなりストロークも大きく
することはできない。
このように、何れの場合もレリーズ力及びスト
ロークを小さくする必要がある。
第1図は、一眼レフカメラのミラーを駆動する
蓄勢部材をレリーズする従来のレリーズ機構の1
例を示すもので、図示しないミラー枠と軸1を介
して一体をなす扇形歯車2は、巻上げによつて蓄
勢されるミラー上げばね3によつて時計方向に付
勢され、この扇形歯車2には固定部に回動自在に
装着された小歯車4が噛み合つており、扇形歯車
2の45度回転により1回転以下回転する。そし
て、この小歯車4には、段部5aを有する円板5
が一体的に固定されている。
一方、一端6aが蓄勢部材である円板5の段部
5aに係合してその回転を係止する係止レバー6
が軸7によつて固定部に枢着され、ばね8により
図で右旋習性を有し、他端折曲部6bがムービン
グコイル等の電磁装置9の可動部材10に係合し
得る位置にある。
このような構成で、図示しないレリーズボタン
が押圧されると、電磁装置9に通電され、その可
動部材10が突出して折曲部6bを駆動して係止
レバー6をばね8に抗して左旋し、円板5の拘束
を解く。それにより、小歯車4及び扇形歯車2が
ミラー上げばね3により夫々反時計方向及び時計
方向に回転し、扇形歯車2と一体をなす図示しな
いミラー枠が跳上げられ、ミラー枠上昇時に該ミ
ラー枠に駆動されてシヤツタが作動する。
しかしながら、このような従来のカメラのレリ
ーズ機構において、電磁装置9を力の弱いもので
足りるようにするには、扇形歯車2の径を大きく
し、小歯車4の径を小さくして円板5の径を大き
くし、係止レバー6の折曲部6bから軸7までの
長さと軸7から一端6aまでの長さの比を大きく
とらなければならない。
ここで、係止レバー6の2辺の長さの比を大き
くとることは、電磁装置9の可動部材10のスト
ロークが限られている以上、円板5の係止部のか
かりが浅くなつて係止が不安定になるため実施困
難であり、小歯車4の径を小さくするにも限度が
あるので、結局扇形歯車2及び円板5の径を著し
く大きくしなければならず、カメラ本体の限られ
たスペース内に収めることが極めて困難となる。
このような問題点を解決するため、一眼レフカ
メラのミラー及びシヤツタを駆動するシヤツタ駆
動レバーと、このシヤツタ駆動レバの蓄勢状態を
解除するレリーズレバーと、レリーズレバーを駆
動するレリーズ補助レバーと、レリーズ補助レバ
ーを蓄勢状態に係止するレリーズフツクレバーと
を設けた電磁レリーズ機構が提案されている(実
開昭50−46111号公報参照)。
この考案においては、上記レリーズ補助レバー
を回動軸から充分長い先端部においえ上記レリー
ズフツクレバーに係止させることにより、レリー
ズフツクレバーを電磁マグネツトの弱い力で駆動
してレリーズ補助レバーの蓄勢状態を解除し得る
ようにすると共に、レリーズ補助レバーが係止さ
れた状態でレリーズレバーとの間に間隙を設ける
ことにより、レリーズ補助レバーの運動エネルギ
を最大限に利用して、比較的弱い力でレリーズレ
バーを駆動してシヤツタ駆動レバーの蓄勢状態を
解除し得るようにしている。
しかしながら、このような電磁レリーズ機構に
あつては、レリーズ補助レバーの運動エネルギは
カメラの撮影時の姿勢によつて変化するので、充
分な効果を期待することは困難であり、大部分の
効果はレリーズ補助レバーのレバー比に負う結果
となり、第1図に示した従来衿と同様の問題点を
残している。
この考案は上記の点に鑑みてなされたもので、
超小型の電磁装置の可動部材等のように極めて弱
い力で且つ小さいストロークでもレリーズするこ
とができ、しかも小さいスペース内に収め得るカ
メラのレリーズ機構を提供することを目的とする
ものである。
上記の目的を達成するため、この考案によるカ
メラのレリーズ機構は、巻上げにより蓄勢されレ
リーズ操作により釈放されてミラー、シヤツタ等
を作動させる蓄勢部材と、常時自己の付勢力によ
り上記蓄勢部材に係合し、この蓄勢部材により駆
動されその付勢力に抗する回動習性を与えられた
中間レバーと、この中間レバーの回動を係止可能
な係止レバーとを設け、上記中間レバーの付勢力
を、上記蓄勢部材により上記中間レバーを駆動す
る駆動力より僅かに小さくしたものである。
以下、添付図面の第2図を参照してこの考案の
実施例を説明するが、第1図と同様の機能を有す
る部分には同一の符号を付してその部分の説明を
省略する。
第2図において、支軸11により中間レバー1
2を枢着してばね13により図で左旋習性を与
え、この中間レバー12の支軸11に近接して突
起12aを設け、この突起12aを蓄勢部材であ
る円板5の段部5aに係合させ、この係合部の形
状を適当に選ぶことにより中間レバー12が円板
5に駆動されてばね13に抗して回動するように
し、中間レバー12の先端部12bを係止レバー
6の一端6aにより係止し、この中間レバー12
の支軸11から先端部12bまでの長さと、突起
12aまでの長さの比を1より大きい所定の値よ
り大きくして、円板5を蓄勢状態に保持する。
このような構成によれば、円板5の回動力は、
その一部の分力が段部5aから中間レバー12の
突起12aに伝えられることになり、中間レバー
12の先端部12bにあつては、その支軸11か
ら突起12aまでの長さの先端部12bまでの長
さの比を比例して減少するだけでなく、ばね13
がその回動力を打消す方向に働くため、ばね13
の強さを、円板5が中間レバー12を駆動する力
より僅かに小さくすることにより、円板5による
回動力を極めて小さいものとすることができ、係
止レバー6は電磁装置9の可動部材10による僅
かな力で回動させることができる。
この実施例では、円板5の段部5aと中間レバ
ー12の突起12aとの係合部の形状を選当に選
ぶことにより円板5の回動力の一部を分力のみが
中間レバー12に伝えられるようにすると共に、
中間レバー12の支軸11から先端部12bまで
の長さと突起12aまでの長さの比を1より大き
くするようにしたが、これはばね13の付勢力を
可能な限り弱いものですませるためであつて必ず
しも必要ではなく、ばね13の強さのみを加減す
るようにしても差支えない。
また、円板5の回動中、中間レバー12はその
外周部に摺接してその回転に若干のブレーキをか
けるが、両者の摩擦抵抗はその回動力に比して小
さいのでその影響は殆んど無視し得る程度にすぎ
ない。
なお、上記実施例では係止部材6を電磁装置9
の可動部材10で駆動してレリーズする場合につ
いて説明したが、可動部材をレリーズボタンに連
結するようにすれば、機械的にレリーズすること
ができ、この場合もそのレリーズ力は極めて小さ
く、そのストロークも短かいのでカメラブレが有
効に防止される。
さらに、この考案は一眼レフカメラのミラーを
駆動する蓄勢部材のレリーズ機構に限るものでは
なく、シヤツタのレリーズ機構にも適用し得るこ
とはいうまでもない。
以上述べたように、この考案によれば、蓄勢部
材に係合し、この蓄勢部材により駆動されて回動
習性を与えられた中間レバーの付勢力を、上記蓄
勢部材により中間レバーを駆動する駆動力より僅
かに小さくしたので、中間レバーを係止する係止
レバーにかかる力が極めて弱くなり、簡単な構成
におり僅かな力とストロークで蓄勢部材の係止を
解除することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、従来のカメラのレリーズ機構の1例
を示す説明図である。第2図は、この考案の実施
例を示す説明図である。 2……扇形歯車、3……ミラー上げばね、4…
…小歯車、5……円板(蓄勢部材)、6……係止
レバー、9……電磁装置、10……可動部材、1
1……支軸、12……中間レバー、13……ば
ね。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 巻上げにより蓄勢されレリーズ操作により釈放
    されてミラー、シヤツタ等を作動させる蓄勢部材
    と、常時自己の付勢力により上記蓄勢部材に係合
    し、該蓄勢部材により駆動されその付勢力に抗す
    る回動習性を与えられた中間レバーと、該中間レ
    バーの回動を係止可能な係止レバーとを設け、上
    記中間レバーの付勢力を、上記蓄勢部材により上
    記中間レバーを駆動する駆動力より僅かに小さく
    したことを特徴とするカメラのレリーズ機構。
JP9583082U 1982-06-28 1982-06-28 カメラのレリ−ズ機構 Granted JPS591041U (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9583082U JPS591041U (ja) 1982-06-28 1982-06-28 カメラのレリ−ズ機構

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9583082U JPS591041U (ja) 1982-06-28 1982-06-28 カメラのレリ−ズ機構

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS591041U JPS591041U (ja) 1984-01-06
JPH0548190Y2 true JPH0548190Y2 (ja) 1993-12-21

Family

ID=30228664

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9583082U Granted JPS591041U (ja) 1982-06-28 1982-06-28 カメラのレリ−ズ機構

Country Status (1)

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JP (1) JPS591041U (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8859436B2 (en) 1996-05-28 2014-10-14 The Trustees Of Columbia University In The City Of New York Uniform large-grained and grain boundary location manipulated polycrystalline thin film semiconductors formed using sequential lateral solidification and devices formed thereon
US9466402B2 (en) 2003-09-16 2016-10-11 The Trustees Of Columbia University In The City Of New York Processes and systems for laser crystallization processing of film regions on a substrate utilizing a line-type beam, and structures of such film regions

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58170Y2 (ja) * 1973-08-24 1983-01-05 京セラ株式会社 デンジレリ−ズキコウ

Cited By (2)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8859436B2 (en) 1996-05-28 2014-10-14 The Trustees Of Columbia University In The City Of New York Uniform large-grained and grain boundary location manipulated polycrystalline thin film semiconductors formed using sequential lateral solidification and devices formed thereon
US9466402B2 (en) 2003-09-16 2016-10-11 The Trustees Of Columbia University In The City Of New York Processes and systems for laser crystallization processing of film regions on a substrate utilizing a line-type beam, and structures of such film regions

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Publication number Publication date
JPS591041U (ja) 1984-01-06

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