JPH05238998A - シクロブテン誘導体 - Google Patents
シクロブテン誘導体Info
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- JPH05238998A JPH05238998A JP4274763A JP27476392A JPH05238998A JP H05238998 A JPH05238998 A JP H05238998A JP 4274763 A JP4274763 A JP 4274763A JP 27476392 A JP27476392 A JP 27476392A JP H05238998 A JPH05238998 A JP H05238998A
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- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P43/00—Drugs for specific purposes, not provided for in groups A61P1/00-A61P41/00
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C225/00—Compounds containing amino groups and doubly—bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton, at least one of the doubly—bound oxygen atoms not being part of a —CHO group, e.g. amino ketones
- C07C225/20—Compounds containing amino groups and doubly—bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton, at least one of the doubly—bound oxygen atoms not being part of a —CHO group, e.g. amino ketones having amino groups bound to carbon atoms of rings other than six-membered aromatic rings of the carbon skeleton
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
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- C07D317/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms
- C07D317/08—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms having the hetero atoms in positions 1 and 3
- C07D317/10—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms having the hetero atoms in positions 1 and 3 not condensed with other rings
- C07D317/14—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms having the hetero atoms in positions 1 and 3 not condensed with other rings with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms
- C07D317/18—Radicals substituted by singly bound oxygen or sulfur atoms
- C07D317/22—Radicals substituted by singly bound oxygen or sulfur atoms etherified
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
- C07C2601/04—Systems containing only non-condensed rings with a four-membered ring
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ある種のヒスタミンＨ２−拮抗薬の製造法の
改良に有用な新規な中間体を提供する。 【構成】 「ワンポット反応」において製造規模で高収
率、高純度で容易に製造し得るシクロブテンの誘導体で
ある１−アミノ−２−ブトキシ−１−シクロブテン−
３，４−ジオン。
改良に有用な新規な中間体を提供する。 【構成】 「ワンポット反応」において製造規模で高収
率、高純度で容易に製造し得るシクロブテンの誘導体で
ある１−アミノ−２−ブトキシ−１−シクロブテン−
３，４−ジオン。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は胃潰瘍ならびに胃の酸性
によって生じる又は悪化するその他の症状の治療に有用
なある種のヒスタミンＨ２−拮抗薬の製造法の中間体と
して有用な新規中間体に関する。
によって生じる又は悪化するその他の症状の治療に有用
なある種のヒスタミンＨ２−拮抗薬の製造法の中間体と
して有用な新規中間体に関する。
【０００２】
【従来の技術】米国特許第４，３９０，７０１号（１９
８３年６月２８日発行）、同第４，３９５，５５３号
（１９８３年７月２６日発行）、同第４，５２２，９４
３号（１９８５年６月１１日発行）および同第４，５２
６，９７３号（１９８５年７月２日発行）には本発明の
最終目的化合物と実質的に同じヒスタミンＨ２−受容体
拮抗薬が記載されている。これら米国特許の発明者は我
々の同僚のエイ・エイ・アルジェリおよびアール・アー
ル・クレンショウである。
８３年６月２８日発行）、同第４，３９５，５５３号
（１９８３年７月２６日発行）、同第４，５２２，９４
３号（１９８５年６月１１日発行）および同第４，５２
６，９７３号（１９８５年７月２日発行）には本発明の
最終目的化合物と実質的に同じヒスタミンＨ２−受容体
拮抗薬が記載されている。これら米国特許の発明者は我
々の同僚のエイ・エイ・アルジェリおよびアール・アー
ル・クレンショウである。
【０００３】米国特許第４，５２１，６２５号（１９８
５年６月４日発行；発明者テー・エッチ・ブラウンおよ
びアール・シー・ヤング）には次式の中間体が記載され
ている。
５年６月４日発行；発明者テー・エッチ・ブラウンおよ
びアール・シー・ヤング）には次式の中間体が記載され
ている。
【化１】 （式中、Ｒ１は水素またはＣ１６アルキル基であり、Ｘ
はヒドロキシ基またはヒドロキシ置換性基あるいは上記
米国特許に記載されているものと実質的に同じ化合物の
製法に使用される均等の基である。）
はヒドロキシ基またはヒドロキシ置換性基あるいは上記
米国特許に記載されているものと実質的に同じ化合物の
製法に使用される均等の基である。）
【０００４】英国特許出願第２，０２３，１３３号（１
９７９年１２月２８日発行）にはとりわけて次式の中間
体が記載されている。
９７９年１２月２８日発行）にはとりわけて次式の中間
体が記載されている。
【化２】 （式中、Ｗは−ＣＨＯまたは−（ＣＨ２）ｐＣＯＮＲ１
Ｒ２を表わし、Ｑ，ｎ，Ｘ，ｍ，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ
１およびＲ２は大きな数の置換基に相当する。）
Ｒ２を表わし、Ｑ，ｎ，Ｘ，ｍ，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ
１およびＲ２は大きな数の置換基に相当する。）
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は前述のヒスタ
ミンＨ２−拮抗薬の製造法の改良に有用な新規な中間体
を提供することを目的とするものである。
ミンＨ２−拮抗薬の製造法の改良に有用な新規な中間体
を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】本発明によれば、本願発
明のシクロブテン誘導体から胃潰瘍の治療に有用な式Ｉ
ＶのヒスタミンＨ２−受容体拮抗薬
明のシクロブテン誘導体から胃潰瘍の治療に有用な式Ｉ
ＶのヒスタミンＨ２−受容体拮抗薬
【化３】 （式中、Ｒ１は水素または低級アルキルであり；Ｒ２お
よびＲ３は下記定義のとおりである）が式１の中間体を
経由する新規な方法により製造される。
よびＲ３は下記定義のとおりである）が式１の中間体を
経由する新規な方法により製造される。
【化４】 （式中、Ｒ１は水素または低級アルキルであり；Ｒは
【化５】 （Ｘは通常の離脱基であり、Ｙは低級アルキルである）
である。） 本発明は前述のある種のヒスタミンＨ２−拮抗薬の製造
に有用な新規中間体に関する。
である。） 本発明は前述のある種のヒスタミンＨ２−拮抗薬の製造
に有用な新規中間体に関する。
【０００６】本発明において、「低級アルキル」とは１
〜６個の炭素原子をもつ直鎖または枝分かれ鎖のアルキ
ルである。好ましくは低級アルキルは１〜４個の、最も
好ましくは１〜２個の炭素原子をもつ。他に特別の記載
のない限り、この明細書でいう「ブチル」および「ブト
キシ」はｎ−ブチルおよびｎ−ブトキシを意味する。然
しこれら「ブチル」および「ブトキシ」なる用語は便宜
上使用するもので本発明の範囲から他のＣ４アルキル基
を排除することを意図するものではない。
〜６個の炭素原子をもつ直鎖または枝分かれ鎖のアルキ
ルである。好ましくは低級アルキルは１〜４個の、最も
好ましくは１〜２個の炭素原子をもつ。他に特別の記載
のない限り、この明細書でいう「ブチル」および「ブト
キシ」はｎ−ブチルおよびｎ−ブトキシを意味する。然
しこれら「ブチル」および「ブトキシ」なる用語は便宜
上使用するもので本発明の範囲から他のＣ４アルキル基
を排除することを意図するものではない。
【０００７】式ＩＶの化合物は式ＩＩの化合物と式ＩＩ
Ｉの化合物との反応によって製造することができる。そ
れによってえられる式Ｉａのアセタールを加水分解して
式Ｉｂのアルデヒドとなし、次いでこれをギ酸の存在下
に第２級アミンと反応させて式ＩＶの所望のヒスタミン
Ｈ２−拮抗薬を得る。これらの反応は下記の反応式１に
示すとおりである。
Ｉの化合物との反応によって製造することができる。そ
れによってえられる式Ｉａのアセタールを加水分解して
式Ｉｂのアルデヒドとなし、次いでこれをギ酸の存在下
に第２級アミンと反応させて式ＩＶの所望のヒスタミン
Ｈ２−拮抗薬を得る。これらの反応は下記の反応式１に
示すとおりである。
【化６】 式ＩＩの化合物は本発明で述べるようにして、あるいは
英国特許出願第２，０２３，１３３号（１９７９年１２
月２８日発行）に記載されている方法によって、製造す
ることができる。
英国特許出願第２，０２３，１３３号（１９７９年１２
月２８日発行）に記載されている方法によって、製造す
ることができる。
【０００８】式ＩＩＩの化合物はアンモニアまたは第１
級低級アミンと１，２−ジアルコキシ−１−シクロブテ
ン−３，４−ジオン（Ｇ．Ｍａａｈｓ．“Ｊｎｓｔｕｓ
Ｌｉｅｂｉｇｓ Ａｎｎ．Ｃｈｅｍ，”６８６．５５
（１９６５）およびＡ．Ｈ．Ｓｃｈｍｉｄｔ，“Ｓｙｎ
ｔｈｅｓｉｓ，”８６９，（１９７８）に記載の一般法
によりスクアリン酸から製造される）との反応によって
製造しうる。式ＩＩＩの化合物はスクアリン酸から２工
程法で製造することができるが、本発明の別の面におい
て、我々はＲ１が水素であり、Ｒ５がブチルである式Ｉ
ＩＩの新規化合物すなわち本願発明の新規化合物は「ワ
ン・ポット」反応において段階的に製造しうることを発
見した。更に、我々は該新規化合物１−アミノ−２−ブ
トキシ−１−シクロブテン−３，４−ジオンがスクアリ
ン酸から「ワン・ポット」反応において製造規模で高収
率、高純度で容易に製造しうることを発見した。これは
本発明の化合物の製造およびある種のヒスタミンＨ２−
拮抗薬の製造に特に有利である。
級低級アミンと１，２−ジアルコキシ−１−シクロブテ
ン−３，４−ジオン（Ｇ．Ｍａａｈｓ．“Ｊｎｓｔｕｓ
Ｌｉｅｂｉｇｓ Ａｎｎ．Ｃｈｅｍ，”６８６．５５
（１９６５）およびＡ．Ｈ．Ｓｃｈｍｉｄｔ，“Ｓｙｎ
ｔｈｅｓｉｓ，”８６９，（１９７８）に記載の一般法
によりスクアリン酸から製造される）との反応によって
製造しうる。式ＩＩＩの化合物はスクアリン酸から２工
程法で製造することができるが、本発明の別の面におい
て、我々はＲ１が水素であり、Ｒ５がブチルである式Ｉ
ＩＩの新規化合物すなわち本願発明の新規化合物は「ワ
ン・ポット」反応において段階的に製造しうることを発
見した。更に、我々は該新規化合物１−アミノ−２−ブ
トキシ−１−シクロブテン−３，４−ジオンがスクアリ
ン酸から「ワン・ポット」反応において製造規模で高収
率、高純度で容易に製造しうることを発見した。これは
本発明の化合物の製造およびある種のヒスタミンＨ２−
拮抗薬の製造に特に有利である。
【０００９】反応式１において、Ｒ１は水素または低級
アルキルであり、好ましくは水素である。好ましくはＲ
５はシクロヘキシルまたは低級アルキル（たとえばメチ
ル、エチル、プロピル、イソブチル、ブチル、第２級ブ
チル、第３級ブチル、ネオペンチル、ペンチルなど）で
ある。式ＩＶの化合物またはその非毒性の製薬上許容し
うる塩において、Ｒ２およびＲ３は低級アルキルであ
り、あるいはＲ２とＲ３はそれらが結合している窒素と
一緒になってピロリジノ、メチルピロリジノ、ピペリジ
ノ、メチルピペリジノ、ホモピペリジノ、ヘプタメチレ
ンイミノまたはオクタメチレンイミノであってもよい。
更に好ましくはＲ２とＲ３は窒素原子と一緒になってピ
ペリジノ基を形成する。
アルキルであり、好ましくは水素である。好ましくはＲ
５はシクロヘキシルまたは低級アルキル（たとえばメチ
ル、エチル、プロピル、イソブチル、ブチル、第２級ブ
チル、第３級ブチル、ネオペンチル、ペンチルなど）で
ある。式ＩＶの化合物またはその非毒性の製薬上許容し
うる塩において、Ｒ２およびＲ３は低級アルキルであ
り、あるいはＲ２とＲ３はそれらが結合している窒素と
一緒になってピロリジノ、メチルピロリジノ、ピペリジ
ノ、メチルピペリジノ、ホモピペリジノ、ヘプタメチレ
ンイミノまたはオクタメチレンイミノであってもよい。
更に好ましくはＲ２とＲ３は窒素原子と一緒になってピ
ペリジノ基を形成する。
【００１０】式Ｉａの化合物は式ＩＩの化合物を式ＩＩ
Ｉの化合物とを非反応性溶媒（たとえばメタノール、エ
タノール、アセトニトリル、テトラヒドロフランなど）
中で約０℃から溶媒の還流温度までの温度で反応させる
ことによって製造することができる。式Ｉｂのアルデヒ
ドは式Ｉａのアセタールの酸加水分解によって製造する
ことができる。この加水分解反応は非反応性溶媒（たと
えばメタノール、エタノール、テトラヒドロフランおよ
びそれらの混合物）中、有機または無機の酸（たとえば
塩酸、硫酸、ギ酸、およびｐ−トルエンスルホン酸）の
存在下で行うことができる。
Ｉの化合物とを非反応性溶媒（たとえばメタノール、エ
タノール、アセトニトリル、テトラヒドロフランなど）
中で約０℃から溶媒の還流温度までの温度で反応させる
ことによって製造することができる。式Ｉｂのアルデヒ
ドは式Ｉａのアセタールの酸加水分解によって製造する
ことができる。この加水分解反応は非反応性溶媒（たと
えばメタノール、エタノール、テトラヒドロフランおよ
びそれらの混合物）中、有機または無機の酸（たとえば
塩酸、硫酸、ギ酸、およびｐ−トルエンスルホン酸）の
存在下で行うことができる。
【００１１】式ＩＶのヒスタミンＨ２−拮抗薬化合物は
式Ｉｂの化合物と式Ｒ２Ｒ３ＮＨの第２級アミンとを還
元剤としてのギ酸の少なくとも１当量の存在下で反応さ
せることによって製造しうる。この還元アミノ化は過剰
のギ酸中で行うことができる。この場合、ギ酸は溶媒と
しても使用される。好ましくはこの反応は非反応性溶媒
（たとえばベンゼン、トルエン、キシレンおよびｎ−プ
ロパノール）中で少なくとも１当量、好ましくは２〜３
当量のギ酸を用いて行われる。この反応によって生ずる
水を、使用する溶媒のほぼ還流温度において共沸物とし
て除去することも好ましい。
式Ｉｂの化合物と式Ｒ２Ｒ３ＮＨの第２級アミンとを還
元剤としてのギ酸の少なくとも１当量の存在下で反応さ
せることによって製造しうる。この還元アミノ化は過剰
のギ酸中で行うことができる。この場合、ギ酸は溶媒と
しても使用される。好ましくはこの反応は非反応性溶媒
（たとえばベンゼン、トルエン、キシレンおよびｎ−プ
ロパノール）中で少なくとも１当量、好ましくは２〜３
当量のギ酸を用いて行われる。この反応によって生ずる
水を、使用する溶媒のほぼ還流温度において共沸物とし
て除去することも好ましい。
【００１２】式ＩＶの化合物はまた式Ｉｂの化合物から
下記の反応式２に示すようにして製造することもでき
る。
下記の反応式２に示すようにして製造することもでき
る。
【化７】 反応式２において、式Ｉｂの化合物はＩｃのアルコール
に還元され、このアルコールは次いで通常の技術によっ
て式Ｉｄの化合物に転化せしめられる。次いでこの通常
の離脱基を式Ｒ２Ｒ３ＮＨのアミンによって置換して式
ＩＶ（Ｒ１，Ｒ２およびＲ３は前記定義のとおり）の所
望のヒスタミンＨ２−拮抗薬を得る。
に還元され、このアルコールは次いで通常の技術によっ
て式Ｉｄの化合物に転化せしめられる。次いでこの通常
の離脱基を式Ｒ２Ｒ３ＮＨのアミンによって置換して式
ＩＶ（Ｒ１，Ｒ２およびＲ３は前記定義のとおり）の所
望のヒスタミンＨ２−拮抗薬を得る。
【００１３】式Ｉｃの化合物は当業技術において周知の
方法に従い接触水素化または還元性金属水素化物により
式Ｉｂのアルデヒドから製造することができる。式Ｉｃ
中のヒドロキシ基から通常の離脱基への転化は好適なハ
ロゲン化剤またはスルホン化剤を用いて行うことができ
る。チオニルクロライドおよびチオニルブロマイドのよ
うな好適なハロゲン化剤を正味で又は非反応性溶媒中で
且つ好ましくは第３級アミン（たとえばトリエチルアミ
ン、ビリジンおよびルチジン）のような塩基の存在下で
０℃から溶媒のほぼ還流温度までの温度で使用すること
ができる。好適なスルホン化剤（たとえばメタンスルホ
ニルクロライド、ベンゼンスルホニルクロライド、ｐ−
トルエンスルホニルクロライドおよびｐ−ニトロベンゼ
ンスルホニルクロライド）を非反応性溶媒（たとえばジ
クロロメタン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、
およびジメチルホルムアミド）中で、好ましくは生成す
る酸を除くための第３級アミンまたは無機塩基の存在下
に使用することができる。
方法に従い接触水素化または還元性金属水素化物により
式Ｉｂのアルデヒドから製造することができる。式Ｉｃ
中のヒドロキシ基から通常の離脱基への転化は好適なハ
ロゲン化剤またはスルホン化剤を用いて行うことができ
る。チオニルクロライドおよびチオニルブロマイドのよ
うな好適なハロゲン化剤を正味で又は非反応性溶媒中で
且つ好ましくは第３級アミン（たとえばトリエチルアミ
ン、ビリジンおよびルチジン）のような塩基の存在下で
０℃から溶媒のほぼ還流温度までの温度で使用すること
ができる。好適なスルホン化剤（たとえばメタンスルホ
ニルクロライド、ベンゼンスルホニルクロライド、ｐ−
トルエンスルホニルクロライドおよびｐ−ニトロベンゼ
ンスルホニルクロライド）を非反応性溶媒（たとえばジ
クロロメタン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、
およびジメチルホルムアミド）中で、好ましくは生成す
る酸を除くための第３級アミンまたは無機塩基の存在下
に使用することができる。
【００１４】式ＩＶの化合物は式Ｉｄの化合物と式Ｒ２
Ｒ３ＮＨの適当なアミンと非反応性溶媒中、好ましくは
生成する酸を除くための塩基を存在下で反応させること
によって製造することができる。別の面において、本発
明は式ＩＶのヒスタミンＨ２−拮抗薬の製造法を提供す
るものであり、その方法は式Ｉ
Ｒ３ＮＨの適当なアミンと非反応性溶媒中、好ましくは
生成する酸を除くための塩基を存在下で反応させること
によって製造することができる。別の面において、本発
明は式ＩＶのヒスタミンＨ２−拮抗薬の製造法を提供す
るものであり、その方法は式Ｉ
【化８】 の化合物を式
【化９】 の化合物と少なくとも１当量のギ酸の存在下で式ＩＶの
化合物が実質的に生成するまで反応させることから成
る。なお、上記式中のＲ，Ｒ１，Ｒ２およびＲ３は前記
定義のとおりである。好ましい具体例において、この方
法は少なくとも１当量のギ酸、更に好ましくは２〜３当
量のギ酸の存在下に、非反応性溶媒中で行われる。
化合物が実質的に生成するまで反応させることから成
る。なお、上記式中のＲ，Ｒ１，Ｒ２およびＲ３は前記
定義のとおりである。好ましい具体例において、この方
法は少なくとも１当量のギ酸、更に好ましくは２〜３当
量のギ酸の存在下に、非反応性溶媒中で行われる。
【００１５】
【実施例】以下の実施例によって本発明を更に具体的に
説明する。これらの実施例において、すべての温度は℃
表示であり、融点および沸点は非補正である。すべての
溶媒蒸発は減圧下で行った。実施例中、スケリソルブＢ
は実質的にｎ−ヘキサンから成る、沸点範囲６０〜６８
℃の石油溶媒留分である。
説明する。これらの実施例において、すべての温度は℃
表示であり、融点および沸点は非補正である。すべての
溶媒蒸発は減圧下で行った。実施例中、スケリソルブＢ
は実質的にｎ−ヘキサンから成る、沸点範囲６０〜６８
℃の石油溶媒留分である。
【００１６】実施例１ １−アミノ−２−ブトキシ−１−シクロブテン−３，４
−ジオン 調製Ａ： テトラヒドロフラン４０ｍｌ中の１，２−ジ
ブトキシ−１−シクロブテン−３，４−ジオン（６．０
９ｇ，０．０２７モル）を氷水浴中で５℃に冷却し、テ
トラヒドロフラン８ｍｌとメタノール１ｍ１との混合物
中の濃ＮＨ４ＯＨ溶液１．８ｍｌを９分間にわたって滴
下状に加えて処理した。５℃で３０分間そして室温で９
０分間攪拌した後、この混合物を減圧下で濃縮してスラ
リにした。少量のスケリソルブＢを加え、０℃で１６時
間放置した後に生成物を濾過により集めて表記化合物
３．２６ｇを得た。試料（８．５４ｇ）をアセトンに部
分溶解し、濾過および冷却して精製した表記化合物４．
５１ｇを得た。融点１６５．５〜１６８℃（透明溶融
物）。分析 Ｃ８Ｈ１１ＮＯ３として： 計算値 Ｃ，５６．７９； Ｈ，６．５６； Ｎ，
８．２８ 実測値 Ｃ，５６．４６； Ｈ，６．１９； Ｎ，
８．５６。
−ジオン 調製Ａ： テトラヒドロフラン４０ｍｌ中の１，２−ジ
ブトキシ−１−シクロブテン−３，４−ジオン（６．０
９ｇ，０．０２７モル）を氷水浴中で５℃に冷却し、テ
トラヒドロフラン８ｍｌとメタノール１ｍ１との混合物
中の濃ＮＨ４ＯＨ溶液１．８ｍｌを９分間にわたって滴
下状に加えて処理した。５℃で３０分間そして室温で９
０分間攪拌した後、この混合物を減圧下で濃縮してスラ
リにした。少量のスケリソルブＢを加え、０℃で１６時
間放置した後に生成物を濾過により集めて表記化合物
３．２６ｇを得た。試料（８．５４ｇ）をアセトンに部
分溶解し、濾過および冷却して精製した表記化合物４．
５１ｇを得た。融点１６５．５〜１６８℃（透明溶融
物）。分析 Ｃ８Ｈ１１ＮＯ３として： 計算値 Ｃ，５６．７９； Ｈ，６．５６； Ｎ，
８．２８ 実測値 Ｃ，５６．４６； Ｈ，６．１９； Ｎ，
８．５６。
【００１７】調製Ｂ： テトラヒドロフラン３００ｍｌ
中の１，２−ジブトキシ−１−シクロブテン−３，４−
ジオン（３０．０ｇ，０．１２３モル，ｇｌｃ分析によ
り９２．５面積％純度）の溶液を５℃に冷却し、テトラ
ヒドロフラン４０ｍｌとメタノール５ｍｌとの混合物中
の濃ＮＨ４ＯＨ溶液（８．１８ｍｌ，０．１２３モル）
の溶液を３０分間にわたって滴下状に加えて処理した。
生成溶液を氷水浴中で３０分間攪拌し、次いで室温で
５．５時間撹拌した。曇った溶液をケイソウ土に通して
濾過して少量の淡黄色固体を除き、濾液をほぼ乾燥する
まで減圧下で濃縮した。固体残渣を少量のスケリソルブ
Ｂおよびジエチルエーテルのもとでこすり、０℃に冷却
した。混合物を濾過および乾燥して表記化合物１７．９
ｇ（８６％）を白色固体として得た。融点１６５〜１６
７．５℃（透明溶液）。
中の１，２−ジブトキシ−１−シクロブテン−３，４−
ジオン（３０．０ｇ，０．１２３モル，ｇｌｃ分析によ
り９２．５面積％純度）の溶液を５℃に冷却し、テトラ
ヒドロフラン４０ｍｌとメタノール５ｍｌとの混合物中
の濃ＮＨ４ＯＨ溶液（８．１８ｍｌ，０．１２３モル）
の溶液を３０分間にわたって滴下状に加えて処理した。
生成溶液を氷水浴中で３０分間攪拌し、次いで室温で
５．５時間撹拌した。曇った溶液をケイソウ土に通して
濾過して少量の淡黄色固体を除き、濾液をほぼ乾燥する
まで減圧下で濃縮した。固体残渣を少量のスケリソルブ
Ｂおよびジエチルエーテルのもとでこすり、０℃に冷却
した。混合物を濾過および乾燥して表記化合物１７．９
ｇ（８６％）を白色固体として得た。融点１６５〜１６
７．５℃（透明溶液）。
【００１８】調製Ｃ： 撹拌機および窒素入口／出口管
を備えた５リットルフラスコ中に１，２−ヒドロキシ−
１−シクロブテン−３，４−ジオン（４００．０ｇ，
３．５０６モル）、１−ブタノール（１．２リットル）
およびトルエン（８００ｍｌ）を入れた。この混合物を
撹拌し、ディーン・スターク・ウォーター・トラップを
用いて水の通過が停止するまで還流下で加熱した（補集
した水１３６ｍｌ、約５．５時間）。透明な反応混合物
を更に１時間還流下で加熱し、次いで窒素下で０〜５℃
に冷却した。冷却した撹拌溶液に１４Ｍ水酸化アンモニ
ウム（２４０ｍｌ，３．３７モル）、１−ブタノール
（９６０ｍｌ）およびメタノール（４０ｍｌ）を含む溶
液を反応が１０℃またはそれ以下に保たれるような速度
で滴下状に加えて処理した（２．５時間を要した）。室
温で２時間撹拌をつづけてから、混合物を０〜５℃に
１．５時間冷却して濾過した。生成物をトルエン（８０
０ｍｌ）で洗浄し、乾燥して表記化合物４９２．４ｇ
（８８．０％）を得た。融点１６５〜１６８℃。
を備えた５リットルフラスコ中に１，２−ヒドロキシ−
１−シクロブテン−３，４−ジオン（４００．０ｇ，
３．５０６モル）、１−ブタノール（１．２リットル）
およびトルエン（８００ｍｌ）を入れた。この混合物を
撹拌し、ディーン・スターク・ウォーター・トラップを
用いて水の通過が停止するまで還流下で加熱した（補集
した水１３６ｍｌ、約５．５時間）。透明な反応混合物
を更に１時間還流下で加熱し、次いで窒素下で０〜５℃
に冷却した。冷却した撹拌溶液に１４Ｍ水酸化アンモニ
ウム（２４０ｍｌ，３．３７モル）、１−ブタノール
（９６０ｍｌ）およびメタノール（４０ｍｌ）を含む溶
液を反応が１０℃またはそれ以下に保たれるような速度
で滴下状に加えて処理した（２．５時間を要した）。室
温で２時間撹拌をつづけてから、混合物を０〜５℃に
１．５時間冷却して濾過した。生成物をトルエン（８０
０ｍｌ）で洗浄し、乾燥して表記化合物４９２．４ｇ
（８８．０％）を得た。融点１６５〜１６８℃。
【００１９】参考例１Ｎ−［３−（３−ホルミルフェノキシ）プロピル］フタ
ルイミド方法Ａ： ３−ヒドロキシベンズアルデヒド
（１８３．２ｇ，１．５モル）、１−ブタモ−３−クロ
ロプロパン（１６７ｍｌ，１．５８モル）、炭酸カリウ
ム（４５０ｇ）およびアセトニトリル（２．２リット
ル）の混合物をよく撹拌しながら還流温度に加熱した。
１７時間後に、反応混合物を室温に冷却し、濾過した。
濾液を減圧下で蒸発させ、残渣を真空乾燥して１−（３
−ホルミルフェノキシ）−３−クロロプロパン２９０．
４ｇ（９７％）を得た。１−（３−ホルミルフェノキ
シ）−３−クロロプロパン（２０７．１ｇ，１．０４モ
ル）、フタルイミド（１６１．０ｇ，１．０９モル）、
テトラブチルアンモニウムブロマイド（１６．８ｇ，
０．０５２モル）および炭酸カリウム（２００ｇ，１．
４５モル）のジメチルホルムアミド（１．１リットル）
および水（１４リットル）中の混合物を徐々に６５℃に
加熱した。２４時間後に、混合物を１４リットルの水に
注入し、生成混合物を２時間撹拌し、濾過し、真空乾燥
して生成物２８５ｇを得た。２−プロパノールから再結
晶させた表記化合物２７３．７ｇ（全収率８５％）を得
た。融点１０２〜１０３℃。
ルイミド方法Ａ： ３−ヒドロキシベンズアルデヒド
（１８３．２ｇ，１．５モル）、１−ブタモ−３−クロ
ロプロパン（１６７ｍｌ，１．５８モル）、炭酸カリウ
ム（４５０ｇ）およびアセトニトリル（２．２リット
ル）の混合物をよく撹拌しながら還流温度に加熱した。
１７時間後に、反応混合物を室温に冷却し、濾過した。
濾液を減圧下で蒸発させ、残渣を真空乾燥して１−（３
−ホルミルフェノキシ）−３−クロロプロパン２９０．
４ｇ（９７％）を得た。１−（３−ホルミルフェノキ
シ）−３−クロロプロパン（２０７．１ｇ，１．０４モ
ル）、フタルイミド（１６１．０ｇ，１．０９モル）、
テトラブチルアンモニウムブロマイド（１６．８ｇ，
０．０５２モル）および炭酸カリウム（２００ｇ，１．
４５モル）のジメチルホルムアミド（１．１リットル）
および水（１４リットル）中の混合物を徐々に６５℃に
加熱した。２４時間後に、混合物を１４リットルの水に
注入し、生成混合物を２時間撹拌し、濾過し、真空乾燥
して生成物２８５ｇを得た。２−プロパノールから再結
晶させた表記化合物２７３．７ｇ（全収率８５％）を得
た。融点１０２〜１０３℃。
【００２０】方法Ｂ： ３−ヒドロキシベンズアルデヒ
ド（３２．５ｇ，２６６ミリモル）、Ｎ−（３−ブロモ
プロピル）フタルイミド（７１．５ｇ，２６７ミリモ
ル）および炭酸カリウム（４０．３８ｇ，２９３ミリモ
ル）のジメチルホルムアミド（７００ｍｌ）中の混合物
を室温で撹拌した。１８時間後に、混合物を２リットル
の水で希釈し、濾過および乾燥して表記化合物６７ｇを
得た。
ド（３２．５ｇ，２６６ミリモル）、Ｎ−（３−ブロモ
プロピル）フタルイミド（７１．５ｇ，２６７ミリモ
ル）および炭酸カリウム（４０．３８ｇ，２９３ミリモ
ル）のジメチルホルムアミド（７００ｍｌ）中の混合物
を室温で撹拌した。１８時間後に、混合物を２リットル
の水で希釈し、濾過および乾燥して表記化合物６７ｇを
得た。
【００２１】参考例２Ｎ−｛３−［３−（１，３−ジオキソラン−２−イル）
フェノキシ］プロピル｝フタルイミド Ｎ−［３−（３−ホルミルフェノキシ）プロピル］フタ
ルイミド（９２．８ｇ，０．３モル）およびエチレング
リコール（４４ｍｌ，０．８モル）のベンゼン（１．５
リットル）中の溶液に３ｇのｐ、トルエンスルホン酸を
加え、混合物をディーン・スターク・トラップのもとで
１４時間還流させた。冷却した混合物を１００ｍｌの飽
和重炭酸ナトリウム水溶液で抽出し、次いで２００ｍｌ
の飽和塩化ナトリウム水溶液で抽出した。有機相を乾燥
し減圧下で蒸発させ、放置して結晶化させて表記化合物
１１９・４ｇを得た。
フェノキシ］プロピル｝フタルイミド Ｎ−［３−（３−ホルミルフェノキシ）プロピル］フタ
ルイミド（９２．８ｇ，０．３モル）およびエチレング
リコール（４４ｍｌ，０．８モル）のベンゼン（１．５
リットル）中の溶液に３ｇのｐ、トルエンスルホン酸を
加え、混合物をディーン・スターク・トラップのもとで
１４時間還流させた。冷却した混合物を１００ｍｌの飽
和重炭酸ナトリウム水溶液で抽出し、次いで２００ｍｌ
の飽和塩化ナトリウム水溶液で抽出した。有機相を乾燥
し減圧下で蒸発させ、放置して結晶化させて表記化合物
１１９・４ｇを得た。
【００２２】参考例３３−［３−（１，３−ジオキソラン−２−イル）フェノ
キシ］プロピルアミン Ｎ−｛３−［３−（１，３−ジオキソラン−２−イル）
フェノキシ］プロピル｝フタルイミド（１１９．４ｇ，
０．３モル）およびヒドラジン水和物（７８．６ｇ，
１．６２モル）の９５％エチルアルコール（１．５リッ
トル）中の溶液を還流温度で１７．５時間加熱した。濃
白色混合物を氷水浴中で冷却し、濾過して固体を氷冷９
５％エチルアルコールで洗浄した。濾液と洗浄液を集め
て減圧下で蒸発させ、残渣を９４０ｍｌの５％ＮａＯＨ
水溶液と５００ｍｌのジクロロメタンの間で分配した。
水性相を５００ｍｌのジクロロメタンで抽出し、合計の
有機相を３００ｍｌの飽和ＮａＣｌ水溶液で抽出した。
有機相を乾燥し、減圧下で蒸発させ、残渣を高真空下で
蒸留して表記化合物４９．９ｇを得た。沸点（０．２５
ｍｍＨｇ真空下）１４３〜１４７℃。
キシ］プロピルアミン Ｎ−｛３−［３−（１，３−ジオキソラン−２−イル）
フェノキシ］プロピル｝フタルイミド（１１９．４ｇ，
０．３モル）およびヒドラジン水和物（７８．６ｇ，
１．６２モル）の９５％エチルアルコール（１．５リッ
トル）中の溶液を還流温度で１７．５時間加熱した。濃
白色混合物を氷水浴中で冷却し、濾過して固体を氷冷９
５％エチルアルコールで洗浄した。濾液と洗浄液を集め
て減圧下で蒸発させ、残渣を９４０ｍｌの５％ＮａＯＨ
水溶液と５００ｍｌのジクロロメタンの間で分配した。
水性相を５００ｍｌのジクロロメタンで抽出し、合計の
有機相を３００ｍｌの飽和ＮａＣｌ水溶液で抽出した。
有機相を乾燥し、減圧下で蒸発させ、残渣を高真空下で
蒸留して表記化合物４９．９ｇを得た。沸点（０．２５
ｍｍＨｇ真空下）１４３〜１４７℃。
【００２３】参考例４１−アミノ−２−｛３−［３−（１，３−ジオキソラン
−２−イル）フェノキシ］プロピルアミノ｝−１−シク
ロブテン−３，４−ジオン ３−［３−（１，３−ジオキソラン−２−イル）フェノ
キシ］プロピルアミン（１２．６２ｇ，５６．５ミリモ
ル）および１−アミノ−２−ブトキシ−１−シクロブテ
ン−３，４−ジオン（１０．０ｇ，５６．５ミリモル）
のメタノール２５０ｍｌ中の溶液を室温で撹拌した。２
１時間後に、濃反応混合物を濾過し、フィルタケーキを
冷メタノールで洗浄した。集めた固体を真空乾燥して表
記化合物１７．９ｇを得た。１．５ｇの試料を絶対エタ
ノールから再結晶させて精製した表記化合物１．３３ｇ
を得た。融点２０９〜２１０．５℃。分析 Ｃ１６Ｈ１８Ｎ２Ｏ５として： 計算値 Ｃ，６０．３７； Ｈ，５．７０； Ｎ，
８．８０ 実測値 Ｃ，６０．７１； Ｈ，５．７０； Ｎ，
８．６３。
−２−イル）フェノキシ］プロピルアミノ｝−１−シク
ロブテン−３，４−ジオン ３−［３−（１，３−ジオキソラン−２−イル）フェノ
キシ］プロピルアミン（１２．６２ｇ，５６．５ミリモ
ル）および１−アミノ−２−ブトキシ−１−シクロブテ
ン−３，４−ジオン（１０．０ｇ，５６．５ミリモル）
のメタノール２５０ｍｌ中の溶液を室温で撹拌した。２
１時間後に、濃反応混合物を濾過し、フィルタケーキを
冷メタノールで洗浄した。集めた固体を真空乾燥して表
記化合物１７．９ｇを得た。１．５ｇの試料を絶対エタ
ノールから再結晶させて精製した表記化合物１．３３ｇ
を得た。融点２０９〜２１０．５℃。分析 Ｃ１６Ｈ１８Ｎ２Ｏ５として： 計算値 Ｃ，６０．３７； Ｈ，５．７０； Ｎ，
８．８０ 実測値 Ｃ，６０．７１； Ｈ，５．７０； Ｎ，
８．６３。
【００２４】参考例５１−アミノ−２−［３−（３−ホルミルフェノキシ）プ
ロピルアミノ］−１−シクロブテン−３，４−ジオン １−アミノ−２−｛３−［３（１，３−ジオキソラン−
２−イル）フェノキシ］プロルアミノ｝−１−シクロブ
テン−３，４−ジオン（１１．６６ｇ，０．０３７モ
ル）を２００ｍｌの９５％エタノールと２０ｍｌの水性
２．０Ｎ−ＨＣｌの溶液中に懸濁させた。この懸濁液を
室温で２時間撹拌してから徐々に濾過し、真空乾燥して
粗製の表記化合物９．８５ｇを得た。１５０ｍｌの９５
％エタノールおよび３５ｍｌの水性１Ｎ−ＨＣｌから再
結晶させて、精製の表記化合物５． ７４ｇを得た。融点２０３〜２０６℃。分析 Ｃ１４Ｈ１４Ｎ２Ｏ４として： 計算値 Ｃ，６１．３０； Ｈ，５．１４； Ｎ，
１０．２２ 実測値 Ｃ，６１．２４； Ｈ，５．３６； Ｎ，
１０．３５。
ロピルアミノ］−１−シクロブテン−３，４−ジオン １−アミノ−２−｛３−［３（１，３−ジオキソラン−
２−イル）フェノキシ］プロルアミノ｝−１−シクロブ
テン−３，４−ジオン（１１．６６ｇ，０．０３７モ
ル）を２００ｍｌの９５％エタノールと２０ｍｌの水性
２．０Ｎ−ＨＣｌの溶液中に懸濁させた。この懸濁液を
室温で２時間撹拌してから徐々に濾過し、真空乾燥して
粗製の表記化合物９．８５ｇを得た。１５０ｍｌの９５
％エタノールおよび３５ｍｌの水性１Ｎ−ＨＣｌから再
結晶させて、精製の表記化合物５． ７４ｇを得た。融点２０３〜２０６℃。分析 Ｃ１４Ｈ１４Ｎ２Ｏ４として： 計算値 Ｃ，６１．３０； Ｈ，５．１４； Ｎ，
１０．２２ 実測値 Ｃ，６１．２４； Ｈ，５．３６； Ｎ，
１０．３５。
【００２５】参考例６１−アミノ−２−［３−（３−ヒドロキシメチルフェノ
キシ）プロピルアミノ］−１−シクロブテン−３，４−
ジオン １−アミノ−２−［３−（３−ホルミルフェノキシ）プ
ロピルアミノ］−１−シクロブテン−３，４−ジオン
（２．０９ｇ，７．２９ミリモル）、ピペリジン（０．
８ｍｌ，６９０ｍｇ，８．１ミリモル）および１０％Ｐ
ｄ／Ｃ（２００ｍｇ）の９５％エタノール（３００ｍ
ｌ）中の懸濁液をＰａｒｒ水素化反応器中で５０ｐｓｉ
で４時間振とうさせた。生成混合物を撹拌しながら、こ
れに８．３ｍｌの水性１．０Ｎ−ＨＣｌおよび２５ｍｌ
の水を加えた。反応混合物をケイソウ土に通して濾過
し、濾液を減圧下で蒸発させた。固体残渣をアセトンで
処理し、０℃で１８時間放置した。この混合物を濾過
し、固体を乾燥して少量の出発アルデヒド化合物を含む
生成物１．４３７ｇを得た。融点２０７〜２１２℃。
１．３１ｇの試料を９５％エタノール６５ｍｌからの再
結晶によって更に生成して表記化合物１．１７３ｇを得
た。分析 Ｃ１４Ｈ１６Ｎ２Ｏ４として： 計算値 Ｃ，６０．８６； Ｈ，５．８４； Ｎ，
１０．１４ 実測値 Ｃ，６０．６８； Ｈ，５．７６； Ｎ，
１０．１９。
キシ）プロピルアミノ］−１−シクロブテン−３，４−
ジオン １−アミノ−２−［３−（３−ホルミルフェノキシ）プ
ロピルアミノ］−１−シクロブテン−３，４−ジオン
（２．０９ｇ，７．２９ミリモル）、ピペリジン（０．
８ｍｌ，６９０ｍｇ，８．１ミリモル）および１０％Ｐ
ｄ／Ｃ（２００ｍｇ）の９５％エタノール（３００ｍ
ｌ）中の懸濁液をＰａｒｒ水素化反応器中で５０ｐｓｉ
で４時間振とうさせた。生成混合物を撹拌しながら、こ
れに８．３ｍｌの水性１．０Ｎ−ＨＣｌおよび２５ｍｌ
の水を加えた。反応混合物をケイソウ土に通して濾過
し、濾液を減圧下で蒸発させた。固体残渣をアセトンで
処理し、０℃で１８時間放置した。この混合物を濾過
し、固体を乾燥して少量の出発アルデヒド化合物を含む
生成物１．４３７ｇを得た。融点２０７〜２１２℃。
１．３１ｇの試料を９５％エタノール６５ｍｌからの再
結晶によって更に生成して表記化合物１．１７３ｇを得
た。分析 Ｃ１４Ｈ１６Ｎ２Ｏ４として： 計算値 Ｃ，６０．８６； Ｈ，５．８４； Ｎ，
１０．１４ 実測値 Ｃ，６０．６８； Ｈ，５．７６； Ｎ，
１０．１９。
【００２６】参考例７１−アミノ−２−［３−（３−クロロメチルフェノキ
シ）プロピルアミノ］−１−シクロブテン−３，４−ジ
オン １−アミノ−２−［３−（３−ヒドロキシメチルフェノ
キシ）プロピルアミノ］−１−シクロブテン−３，４−
ジオンを少なくとも１当量のチオニルクロライドで処理
すると表記化合物がえられる。
シ）プロピルアミノ］−１−シクロブテン−３，４−ジ
オン １−アミノ−２−［３−（３−ヒドロキシメチルフェノ
キシ）プロピルアミノ］−１−シクロブテン−３，４−
ジオンを少なくとも１当量のチオニルクロライドで処理
すると表記化合物がえられる。
【００２７】参考例８１−アミノ−２−［３−（３−ベンズスルホニルメチル
フェノキシ）プロピルアミノ］−１−シクロブテン−
３，４−ジオン １−アミノ−２−［３−（３−ヒドロキ
シメチルフェノキシ）プロピルアミノ ］−１−シクロブテン−３，４−ジオンのジメチルホル
ムアミド中の溶液を少なくとも１当量のピリジンおよび
約１当量のベンズスルホニルクロライドで処理すると表
記化合物がえられる。
フェノキシ）プロピルアミノ］−１−シクロブテン−
３，４−ジオン １−アミノ−２−［３−（３−ヒドロキ
シメチルフェノキシ）プロピルアミノ ］−１−シクロブテン−３，４−ジオンのジメチルホル
ムアミド中の溶液を少なくとも１当量のピリジンおよび
約１当量のベンズスルホニルクロライドで処理すると表
記化合物がえられる。
【００２８】参考例９１−アミノ−２−［３−（３−ピペリジノメチルフェノ
キシ）プロピルアミノ］−１−シクロブテン−３，４−
ジオン １−アミノ−２−［３−（３−ホルミルフェノキシ）プ
ロピルアミノ］−１−シクロブテン−３，４−ジオン
（６．０ｇ，２１．８ミリモル）のトルエン１５０ｍｌ
中の溶液をピペリジン（４．３ｍｌ，３．７ｇ，４３．
６ミリモル）で処理し、混合物を６５℃に加熱し、次い
で約３０℃に冷却し、ギ酸（２．５ｇのギ酸含有の９５
％水性ギ酸２．２ｍｌ，５５．４ミリモル）を加えた。
混合物を還流温度に加熱し、生成する水を共沸蒸留によ
って集めた。留出物が透明になり、ガスの発生がやんだ
とき（還流で約３０分）、混合物を冷却し、濾過によっ
て固体を集めて、トルエンおよびメタノールで洗浄し、
乾燥して表記化合物４．７ｇ（６２．８％）を得た。融
点２２３〜２２８℃。分析 Ｃ１９Ｈ２５Ｎ３Ｏ３として： 計算値 Ｃ，６６．４５； Ｈ，７．３３； Ｎ，
１２．２３ 実測値 Ｃ，６６．１８； Ｈ，７．３５； Ｎ，
１２．１７。
キシ）プロピルアミノ］−１−シクロブテン−３，４−
ジオン １−アミノ−２−［３−（３−ホルミルフェノキシ）プ
ロピルアミノ］−１−シクロブテン−３，４−ジオン
（６．０ｇ，２１．８ミリモル）のトルエン１５０ｍｌ
中の溶液をピペリジン（４．３ｍｌ，３．７ｇ，４３．
６ミリモル）で処理し、混合物を６５℃に加熱し、次い
で約３０℃に冷却し、ギ酸（２．５ｇのギ酸含有の９５
％水性ギ酸２．２ｍｌ，５５．４ミリモル）を加えた。
混合物を還流温度に加熱し、生成する水を共沸蒸留によ
って集めた。留出物が透明になり、ガスの発生がやんだ
とき（還流で約３０分）、混合物を冷却し、濾過によっ
て固体を集めて、トルエンおよびメタノールで洗浄し、
乾燥して表記化合物４．７ｇ（６２．８％）を得た。融
点２２３〜２２８℃。分析 Ｃ１９Ｈ２５Ｎ３Ｏ３として： 計算値 Ｃ，６６．４５； Ｈ，７．３３； Ｎ，
１２．２３ 実測値 Ｃ，６６．１８； Ｈ，７．３５； Ｎ，
１２．１７。
【００２９】参考例１０１−アミノ−２−｛３−（３−［１，１−ジエトキシメ
チル］フェノキシ）プロピルアミノ｝−１−シクロブテ
ン−３，４−ジオン ５００ｍｌの３つ口フラスコにＮ−［３−（３−ホルミ
ルフェノキシ）プロピル］フタルイミド（１５．４５
ｇ，０．０５モル）、塩化アンモニウム（０．５５ｇ，
０．０１モル）、トリエチルオルソホーメート（１５．
１ｇ，０．１モル，１７ｍｌ）および絶対エタノール
（１００ｍｌ）を充填した。反応混合物を還流で一夜加
熱した。約１６時間後に、反応混合物を３０〜３５℃に
冷却した。ヒドラジン水和物（１５．３ｇ，０．２６モ
ル，８５％）およびエタノール（２００ｍｌ）を加え、
反応混合物を再び加熱して還流させ、この点で６時間保
った。濃混合物を０〜５℃に冷却し、３０分間保ち、真
空濾過して沈澱副生物を除いた。フィルタケーキを絶対
エタノール（２×１００ｍｌ）で２回洗浄し、濾液を集
めた。１−アミノ−２−ブトキシ−１−シクロブテン−
３，４−ジオン（８．４６ｇ，０．０５モル）のメタノ
ール（２００ｍｌ）中の溶液を水蒸気浴で加温すること
によって製造した。この溶液を３−（３−［１，１−ジ
エトキシメチル］フェノキシ）プロピルアミンを含む上
記からの濾液に加え、この反応混合物を室温で攪拌し
た。反応中に沈澱する１−アミノ−２−｛３−（３−
［１，１−ジエトキシメチル］フェノキシ）プロピルア
ミノ｝−１−シクロブテン−３，４−ジオンを真空濾過
によって分離し、次いでエタノールで洗浄して乾燥し
た。
チル］フェノキシ）プロピルアミノ｝−１−シクロブテ
ン−３，４−ジオン ５００ｍｌの３つ口フラスコにＮ−［３−（３−ホルミ
ルフェノキシ）プロピル］フタルイミド（１５．４５
ｇ，０．０５モル）、塩化アンモニウム（０．５５ｇ，
０．０１モル）、トリエチルオルソホーメート（１５．
１ｇ，０．１モル，１７ｍｌ）および絶対エタノール
（１００ｍｌ）を充填した。反応混合物を還流で一夜加
熱した。約１６時間後に、反応混合物を３０〜３５℃に
冷却した。ヒドラジン水和物（１５．３ｇ，０．２６モ
ル，８５％）およびエタノール（２００ｍｌ）を加え、
反応混合物を再び加熱して還流させ、この点で６時間保
った。濃混合物を０〜５℃に冷却し、３０分間保ち、真
空濾過して沈澱副生物を除いた。フィルタケーキを絶対
エタノール（２×１００ｍｌ）で２回洗浄し、濾液を集
めた。１−アミノ−２−ブトキシ−１−シクロブテン−
３，４−ジオン（８．４６ｇ，０．０５モル）のメタノ
ール（２００ｍｌ）中の溶液を水蒸気浴で加温すること
によって製造した。この溶液を３−（３−［１，１−ジ
エトキシメチル］フェノキシ）プロピルアミンを含む上
記からの濾液に加え、この反応混合物を室温で攪拌し
た。反応中に沈澱する１−アミノ−２−｛３−（３−
［１，１−ジエトキシメチル］フェノキシ）プロピルア
ミノ｝−１−シクロブテン−３，４−ジオンを真空濾過
によって分離し、次いでエタノールで洗浄して乾燥し
た。
Claims (1)
- 【請求項１】 １−アミノ−２−ブトキシー１−シクロ
ブテン−３，４−ジオン。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US5045987A | 1987-05-14 | 1987-05-14 | |
| US50459 | 1988-04-11 | ||
| US07/174,444 US4927968A (en) | 1987-05-14 | 1988-04-11 | Chemical intermediates and process |
| US174444 | 1988-04-11 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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