JPH0517429A - 殺微生物剤組成物 - Google Patents
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Abstract
の製造方法及び該化合物を含む殺微生物剤組成物を提供
すること。 【構成】式:AC(CN)=CH−XR1 で表され、混
合物(E,Z)又は純粋のE及びZ異性体の形態にある
2ーアリールアクリロニトリル誘導体。(式中、R1 及
びAはアルキル,シクロアルキル,アルコキシ,アリー
ル基等、XはーOSO2 ー,ーSOーまたはーSO2 ー
を表す。) 具体例:2ー(4ートリル)ー3ーフェニ
ルスルフォニルアクリロニトリル。 【効果】これらの化合物は殺微生物組成物、および植物
病原性の微生物、特に植物病原性のカビの抑制、または
植物の病気予防に使用出来る。
Description
クリロニトリル誘導体、その製造方法及び少なくとも該
化合物の1種を有効成分として含む殺微生物剤組成物に
関する。本発明は更に上述した組成物の製造方法及び有
害な微生物、特に植物病原性菌類の防除のために該新規
有効成分及び組成物を使用する方法に関する。
般式I
炭素原子数5ないし7のシクロアルキル基を表し、その
各々は未置換であるか、又はハロゲン原子又は炭素原子
数1ないし4のアルコキシ基により置換されており、又
はR1 は次式T,U,U' ,V,又はV'
数を表し,R3 はR2 又はR4 と一緒になつて基
4のアルキル基を表す。)を表し,またはR2 ないしR
6 は互いに独立して水素原子,ハロゲン原子,カルボキ
シル基,炭素原子数1ないし4のアルコキシカルボニル
基,ニトロ基,シアノ基を表すか、又は各々が未置換で
あるか又はハロゲン原子で置換された炭素原子数1ない
し4のアルキル基,フェニル基,炭素原子数1ないし4
のアルコキシ基及び炭素原子数1ないし4のアルキルチ
オ基を表し、そしてR8 はハロゲン原子又は炭素原子数
1ないし4のアルキル基を表す。〕で表される基をあら
わし,Aは次式
して水素原子,ハロゲン原子,カルボキシル基,炭素原
子数1ないし4のアルコキシカルボニル基,ニトロ基,
シアノ基,又は次式
し4のアルキル基を表す。)で表される基をあらわす
か、又は各々が未置換であるか又はハロゲン原子により
置換された炭素原子数1ないし4のアルキル基,炭素原
子数1ないし4のアルコキシ基又は炭素原子数1ないし
4のアルキルチオ基を表す。]で表される基を表すか、
または基U,U' ,V,及びV' を表し、そしてXはー
OSO2 ー,ーSOーまたはーSO2 ーを表し、Xが基
ーOSO2 ーであるとき、R14は水素原子又は塩素原子
を表し、そしてR9 ,R10,R12及びR13は水素原子を
表し、Tはpートリル基ではなく、そしてXがーSO2
ーであるときR1 はトリフルオロメチル基ではない。」
で表され、混合物(E,Z)又は純粋のE及びZ異性体
の形態にある化合物である。
ハロアルコキシ基のような他の置換基の構成成分として
のアルキルキ基は表示された炭素原子数に基づいて、例
えば次の直鎖又は分枝基:メチル,エチル,プロピル,
ブチル,ペンチル,ヘキシル及び他の異性体、例えばイ
ソロピル,イソブチル,第三ーブチル,イソアミル等を
意味するものとして理解されるべきである。
原子,臭素原子又は沃素原子である。 ハロアルコキシ
基はモノ乃至ペンタハロゲン化アルコキシ基、例えばO
CF3 ,OCHCl2 ,OCH2 F,OCCl3 ,OC
H2 Cl ,OCHF2 ,OCHFCH3 ,OCH2 C
H2 Br,OC2Cl5 ,OCH2 Br,OCHBrC
lである。炭素原子数5ないし7のシクロアルキル基は
シクロペンチル,シクロヘキシル又はシクロヘプチルか
ら選ばれる。
用語は“有機化学の命名法,Part E”〔Pure
and Appl.Chem.45,11(197
6)〕に従う。
それ等は植物病原性微生物を防除するために農業分野又
は関連分野において予防的に又治療的に使用することが
できる。本発明の式Iで表される有効成分は、広範囲の
濃度で使用して、非常に良好な殺微生物作用を有しそし
て問題なく使用することできることによつて特徴づけら
れる。
い式Iの化合物はXがーOSO2 ー基である化合物であ
る。これらの化合物は次式Ia
ち特に好ましい化合物は、R1 が炭素原子数1ないし4
のアルキル基又は炭素原子数5ないし6のシクロアルキ
ル基を表し、その各々は未置換であるか、又はハロゲン
原子により置換されており、又はR1 は次式T,U,
U' ,V,又はV'
又はR4 と一緒になつて基
たはR2ないしR6 は互に独立して水素原子,ハロゲン
原子,ニトロ基,シアノ基を表すか、又は各々が未置換
であるか又はハロゲン原子で置換された炭素原子数1な
いし4のアルキル基,フェニル基,炭素原子数1ないし
4のアルコキシ基及び炭素原子数1ないし4のアルキル
チオ基を表し、そしてR8 はハロゲン原子又は炭素原子
数1ないし4のアルキル基を表す。〕で表される基をあ
らわし,Aは次式
して水素原子,ハロゲン原子,ニトロ基,シアノ基,又
は次式
し4のアルキル基を表す。)で表される基をあらわす
か、又は各々が未置換であるか又はハロゲン原子により
置換された炭素原子数1ないし4のアルキル基,炭素原
子数1ないし4のアルコキシ基又は炭素原子数1ないし
4のアルキルチオ基を表す。]で表される基を表すか、
または基U,U' ,V,及びV' を表す化合物である。
上記化合物のうち特に好ましい個々の化合物は、E及び
Zー2ーフェニルー3ーメチルスルホニルオキシアクリ
ロニトリル、E及びZー2ー(4ークロロフェニル)ー
3ーメチルスルホニルオキシアクリロニトリル、E及び
Zー2ー(2ートリル)ー3ーメチルスルホニルオキシ
アクリロニトリル、E及びZー2ー(3ートリル)ー3
ーメチルスルホニルオキシアクリロニトリル及びZー2
ー(3ートリル)ー3ーメチルスルホニルオキシアクリ
ロニトリルである。
化合物はR1 が炭素原子数1ないし4のアルキル基又は
炭素原子数5ないし6のシクロアルキル基を表し、その
各々は未置換であるか、又はハロゲン原子により置換さ
れており、又はR1 は次式T,U,U' ,V,又はV'
はR4 と一緒になつて基
またはR2 ないしR6 は互いに独立して水素原子,ハロ
ゲン原子,ニトロ基,シアノ基を表すか、又は各々が未
置換であるか又はハロゲン原子で置換された炭素原子数
1ないし4のアルキル基,フェニル基,炭素原子数1な
いし4のアルコキシ基及び炭素原子数1ないし4のアル
キルチオ基を表し、そしてR8 はハロゲン原子又は炭素
原子数1ないし4のアルキル基を表す。〕で表される基
をあらわし,Aは次式
して水素原子,ハロゲン原子,ニトロ基,シアノ基,又
は次式
し4のアルキル基を表す。)で表される基をあらわす
か、又は各々が未置換であるか又はハロゲン原子により
置換された炭素原子数1ないし4のアルキル基,炭素原
子数1ないし4のアルコキシ基又は炭素原子数1ないし
4のアルキルチオ基を表す。]で表される基を表すか、
または基U,U' ,V,及びV' を表す。」で表される
化合物である。 これ等の化合物は次式Ib
ち特に好ましい化合物は、E及びZー2ーフェニルー3
ーフェニルスルフィニルアクリロニトリル及びE及びZ
ー2ーフェニルー3ーメチルスルフイニルアクリロニト
リルである。
される好ましい他の化合物は、Xが基ーSO2 ーである
化合物である。これ等の化合物は次式Ic
いものは、R1 が炭素原子数1ないし4のアルキル基又
は炭素原子5ないし6のシクロアルキル基を表し、その
各々は未置換であるか、又はハロゲン原子により置換さ
れており、又はR1 は次式T,U,U' ,V,又はV'
又はR4 と一緒になつて基
たはR2ないしR6 は互に独立して水素原子,ハロゲン
原子,ニトロ基,シアノ基を表すか、又は各々が未置換
であるか又はハロゲン原子で置換された炭素原子数1な
いし4のアルキル基,フェニル基,炭素原子数1ないし
4のアルコキシ基及び炭素原子数1ないし4のアルキル
チオ基を表し、そしてR8 はハロゲン原子又は炭素原子
数1ないし4のアルキル基を表す。〕で表される基をあ
らわし,Aは次式
して水素原子,ハロゲン原子,ニトロ基,シアノ基,又
は次式
し4のアルキル基を表す。)で表される基をあらわす
か、又は各々が未置換であるか又はハロゲン原子により
置換された炭素原子数1ないし4のアルキル基,炭素原
子数1ないし4のアルコキシ基又は炭素原子数1ないし
4のアルキルチオ基を表す。]で表される基を表すか、
または基U,U' ,V,及びV' を表す化合物である。
それ等の活性が故に、次の個々の化合物が此の群の化合
物としては特に重要である。E及びZー2ーフェニルー
3ーフェニルスルフォニルアクリロニトリル,E及びZ
ー2ーフェニルー3ー(4ートリル)スルホニルアクリ
ロニトリル及びZー2ーフェニルー4ー(2,4ージフ
ルオロフェニル)スルホニルアクリロニトリル。
表されるニトリルを式III で表される塩基及び式IVで表
される蟻酸エステルと反応させて式Vのエノレートを
得、後者を式VIで表されるスルフォクロライドでアシル
化するか、
し,Bは塩基M+ X- (M+ はアルカリ金属カチオン又
はアルカリ土類金属カチオンを表し、そしてX- はアル
コレートアニオン,ハイドライド アニオン又はアミン
塩基を表す)を表し、そして残りの記号は前記の定義と
同じ意味を表す。〕又は、a2) 式Vaで表される化合
物を酸結合剤の存在下、式VIで表されるスルホクロライ
ドでアシル化し、
反応生成物を単離することからなる方法により製造する
ことができる。
されるチオエーテルを当量の酸化剤で酸化し
できる。
表される化合物を次式VII で表されるスルフィン酸塩と
反応させるか、
は、c2) 式Ibで表されるスルホキサイドを式Icで
表される化合物に酸化し、そして反応生成物を単離する
ことからなる方法により製造される。
対象である。本発明の方法に於いて出発物質として使用
される式IIのニトリルは知られているか又は公知の方法
により製造することができる。式V及びVaの化合物を
導く蟻酸エステルとの反応はエステル縮合又は形成と呼
ばれ文献,(例えばBull.soc.Chim.France 1961 1144か
ら知ることができる。この反応は有機塩基、例えばNa
アルコレートの存在下、極性溶媒、好ましくはアルコー
ル中で実施される。
式Vaの遊離エノールの,式VIのスルホクロリドによ
る,式Iaのエノールスルホネートへ導くアルキル化は
一般に知られている方法であり、好ましくは塩化硫黄が
過剰に使用される。式Vaから出発して、副生成物とし
て形成される塩化水素を中和するために等量の塩基を使
用することが必要である。反応は不活性有機溶媒、例え
ばトルエン又はメチレンクロリド中で冷却下に起こる、
そして窒素塩基,例えば4ージメチルアミノピリヂンの
添加により促進される。
て使用される式VIIIのサルファイドは同様に文献から知
られ又公知の方法で製造することができる。そのような
サルファイドは、例えば、C.A.100(2)14364s, C.A.89(1
9)163199y, C.A.83(17)146732aに記載されている。それ
らはアルカリ金属メルカプチドを3ーヒドロキシアクリ
ロニトリル、例えば3ーアルコキシアクリロニトリルと
反応させることにより製造することができる(M.Cario
n,Bull.Soc.Chim. France,198ー205,1969) 。好ましい
3ーヒドロキシアクリロニトリル誘導体は式Iaの3ー
スルホキシアクリロニトリルである。
のスルホキサイドの製造は当量において使用される酸化
剤を使用しておこなはれる。好ましい酸化剤の例は過酸
化水素又は有機過酸化物、好ましくはベンゾイルパーオ
キサイドのような過酸化物である。反応は適当な溶媒、
好ましくは氷酢酸中で、このましくは冷却下又は室温に
おいて進行する。スルホキサイドの製造の詳細な記載は
Houben-Weyl: "Methoden der Organischen Chemie[ 有
機化学の方法]" Vol. E11(1985) p.704 等に見出され
る。式Icのスルホンは同様に公知の方法で製造するこ
とができる。この方法の一つは、式Iaのエノールスル
ホネートを式VII のスルフィン酸と反応させることにあ
る。反応は極性溶媒、例えばアルコール,アミド,ニト
リル又はエーテル中で進行し、クラウンエーテルにより
促進される。この方法は、式Icの化合物に於いてR1
が未置換又は置換フェニル,ナフチル又はチエニル基で
あるときに特に重要である。この反応の詳細な説明は H
ouben-Weyl: "Methoden der Organischen Chemie[ 有機
化学の方法]" Vol. E11(1985)page618 等に見出され
る。
式Ibのスルホキサイド又は式VIIIのサルファイドの酸
化にある。適当な酸化剤は同様に過酸化物である。反応
はスルホキサイドの反応と同様に進行し、強制条件下に
酸化剤を過剰に使用することが好ましい。この方法は式
Icの化合物に於いてR1 が未置換又は置換アルキル基
であるとき特に重要である。何故ならば、この場合、他
の方法がより複雑であるからである。この反応の詳細
は、 Houben-Weyl: "Methoden der OrganischenChemie
[ 有機化学の方法]" Vol. E11(1985) p. 1194 等に見出
される。
物が、有害な微生物特に植物病原性のカビと細菌に対し
て、非常に有利なそして実用的な目的のために非常に満
足できる殺生物活性のスペクトラムを持っていることが
見出された。 これら化合物は、非常に有利な治療的、
浸透的かつ特に予防的性質を持ち、そして多数の栽培植
物を防護するために使用され得る。式Iの化合物によ
り、有用植物のいろいろな作物における植物にまたは植
物の部分(果実、花、葉、茎、根茎、根)に発生する病
害菌を防除または殺滅することが可能であり、一方同時
に後に生育する植物の部分は植物病原性微生物による攻
撃から保護される。
する植物病原性のカビに対して有効である。子のう菌類
(Ascomycetes)、 例えばベンチュリア
(Venturia),ポドスファエラ(Podosp
haera),エルジフェ(Ersiphe)、モニリ
ニア(Monilinia)、フィレノホラ(Pyre
nophora)、ウンシヌラ(Uncinula):
担子菌類(Basidiomycetes)、例えばプ
ッシニア(Puccinia)、リゾクトニア(Rhi
zoctonia)、ヘミレイア(Hemilei
a):不完全菌類、例えばハイイロカビ(Botryt
is)、ヘルミントスポリウム(Helminthos
porium)、フザリウム(Fusarium)、セ
プトリア(Septoria)、セルコスポーラ(Ce
rcospora)、コレトトリキウム(Collet
otrichum)、リンコスポリウム(Rhinch
osporium)、プスドセルコスポレラ(Pseu
docercosporella)、及び卵菌類(Oo
mycetes)、例えば、フィトフトーラ(Phyt
ophthora)、プラスモパラ(Plasmopa
ra)、ピシュウム(Pythium)、ブレミア(B
remia)及びアルテルナリア(Alternari
a)。更に式Iの化合物は、浸透作用を有する。更に、
式Iの化合物は、菌の感染並びに土壌中に発生する植物
病原性の菌に対して、種子(果実、根茎、穀物)と植物
の切断部を保護するために粉衣剤(被覆剤)としても使
用できる。本発明の化合物は特に植物に対する良好な許
容性により特徴づけられる。
植物病原性の微生物、特に植物病原性のカビを抑制し、
または予防方法により植物における病気をさけるため
に、式Iにより表される化合物を使用する方法にも係わ
る。
的作物は次の種類のものである:穀物(小麦、大麦、ラ
イ麦、オート麦、イネ、サトウモロコシ及び関連作
物)、ビート(砂糖ビート及びフォダービート)、梨
果、石果及び軟性果(リンゴ、洋ナシ、プラム、桃、ア
ーモンド、サクランボ、イチゴ、ラズベリー及びブラッ
クベリー)、マメ化植物(ソラマメ、レンズマメ、エン
ドウマメ、ダイズ)、油植物(アブラナ、カラシ、ケ
シ、オリーブ、ヒマワリ、ココナッツ、ヒマ、ココアマ
メ、落花生)、ウリ科植物(ウリ、マロー、メロン)、
繊維植物(ワタ、亜麻、麻、黄麻)、柑橘果実(オレン
ジ、レモン、グレープフルーツ、マンダリン)、野菜
(ホウレンソウ、レタス、アスパラガス、キャベツ、ニ
ンジン、タマネギ、トマト、ジャガイモ、パプリカ)ク
スノキ科(アボカド、桂皮、樟脳)またはトウモロコ
シ、タバコ、ナッツ、コーヒー、サトウキビ、茶、ブド
ウ、ホップ、バナナのような植物及び天然ゴム植物並び
に観用植物。
され、処理すべき栽培地または植物に、他の有効成分と
同時にまたは続いて施用されうる。これらの他の有効成
分は肥料または微量養素または植物の成長に影響を与え
る他の製剤でありうる。それらは所望により製剤技術に
おいて慣用的に使用される担体、界面活性剤または施用
促進助剤を含む選択的除草剤、殺虫剤、殺菌剤、殺バク
テリア剤、殺線虫剤、殺軟体動物剤またはこれらの製剤
のいくつかの混合物でありうる。適する担体及び助剤は
固体または液体であることができ、製剤技術で通常使用
される物質、例えば天然または再生鉱物物質、溶媒、分
散剤、湿潤剤、粘着剤、増粘剤、結合剤または肥料であ
る。
有効成分として、或いは好ましくは製剤技術で慣用の補
助剤と共に使用され、公知の方法により例えば乳剤原
液、被覆可能のペースト剤、直接噴霧可能なまたは希釈
可能な溶液、希釈乳剤、水和剤、水溶剤、粉剤、粒剤、
および例えばポリマー物質によるカプセル化剤に製剤化
される。組成物の性質と同様適用法は、目的とする対象
および使用環境に合わせて選ばれる。有利な施用量は、
通常はヘクタール当たり50gないし5kgの有効成分
(a.i.) 、好ましくは100gないし2kgのa.i./ha、
特に150gないし800gのa.i./haである。
水素、好ましくは炭素原子数8ないし12の部分、例え
ばキシレン混合物または置換ナフタレン;ジブチルフタ
レートまたはジオクチルフタレートのようなフタレー
ト;シクロヘキサンまたはパラフィンのような脂肪族炭
化水素;エチレングリコールモノメチルのようなアルコ
ールおよびグリコール並びにそれらのエーテルおよびエ
ステル;シクロヘキサノンのようなケトン;N−メチル
−2−ピロリドン、ジメチルスルホキシドまたはジメチ
ルホルムアミドのような強極性溶媒;並びに植物油また
はエポキシ植物油または大豆油、または水。
当な表面活性化合物は良好な乳化性,分散性及び湿潤性
を有する非イオン、カチオン及び/又はアニオン性界面
活性剤である。“界面活性剤”の用語は界面活性剤の混
合物をも含むものと理解されたい。製剤技術で慣用的に
使用される界面活性剤は、特に次の文献に記載されてい
る。 “Mc Cutcheon'Detergents and Emulsifiers Annual" BC Publishing Corp.,Ringwood New Jersey,1981: Helmut Stache "Tensid-Taschenbuch" [ 界面活性剤
ガイドブック] Carl Hanser-Verlag Munich/Vienna 1981. M.andJ.Ash."Encyclopedia of Surfactants",Vol.IーI
II,Chemical Pubulishing Co.,New York, 1980-1981.
を0.1 ないし99%、特に0.1 ないし95%、固体又は液体
助剤を99.9ないし1 %、特に99.9ないし5 %、並びに界
面活性剤0ないし25%、特に0.1 ないし25%を含有す
る。市販品は濃縮物として製剤されているのが好ましい
が、末端需要者は希釈した製剤を通常使用するだろう。
ものであるが、本発明はこれに限定されるものでわな
い。温度は摂氏であたえられる。百分率及び部は重量に
もとずく。製造実施例; H1;2−ホルミル−2−(4−トリル)アクリロニト
リルのナトリウムエノレート(化合物No.1.1,表I)
の製造 .
g及びメタノール400mlの溶液に対して、メタノー
ル中30%ナトリウムメチラート溶液918gを45分
間にわたつて滴下する。添加の間に温度は約35℃に上
昇する。次いで反応混合物を12時間室温で攪拌し、粘
稠なペーストを得る。次いでこのペーストを500ml
のエーテルで希釈し、沈澱をろ過し、エーテル100m
lで2回洗浄しそして乾燥する。得られる表記の化合物
は約230℃の融点を持つ。
ルホニルオキシアクリロニトリル(化合物No.2.1
9.表2)の製造.
クロライド3.4リッットルに分散させ、分散液を−5
℃に冷却する。この温度に於いて、最初に約200mg
の4−ジメチルアミノピリジン,次いで570gのメタ
ンスルホクロライドを反応混合物に1時間にわたって添
加する。次いで、混合物を室温まで温める。その間、分
散液は14時間攪拌され次第に粘稠になる。反応混合物
を3リットルの水に注ぎ、その後形成された二つの透明
な相を分離し、そして有機相を各1.5リツトルの食塩
水で2回洗浄する。有機相を分離し、硫酸マグネシウム
上で乾燥し、減圧下にその容量の半分になるまで蒸留す
る。形成された結晶をろ過し、1リットルの水で洗浄す
る。更に純粋な結晶分は母液から得られる。融点125
−126℃の表記の生成物がえられる。この化合物は9
0%以上の割合でZ異性体を含む。
スルホニルアクリロニトリル.
(4−トリル)−3−メタンスルホニルオキシアクリロ
ニトリルを8.3gのベンゼンスルフィン酸のナトリウ
ム塩で処理する。次いで反応混合物を900mlの水及
び400mlの酢酸エチルで処理する。得られる二つの
透明な相を互いに分離する。有機相を食塩水300ml
で二回洗浄し、ついで硫酸マグネシウム上で乾燥しそし
て減圧下に蒸発させる。固体残さを酢酸エチル/ヘキサ
ンから再結晶すると融点が143−145℃の表記の生
成物が得られる。
(%は全てと重量%による)F1.溶液 a) b) c) d) 表の有効成分 80% 10% 5% 95% エチレングリコールモノメチルエーテル 20% − − − ポリエチレングリコール(分子量400) − 70% − − N−メチル−2−ピロリドン − 20% − − エポキシ化ココナッツ油 − − 1% 5% 石油エーテル(沸点範囲160 ー190 ℃) − − 94% − この溶液はマイクロドロップの形態で施用するのに適し
ている。 有効成分をメチレンクロライドに溶解し、該溶液を担
体上に噴霧し、その後、溶媒を真空下で留去する。 担体と有効成分を均一に混合することにより、そのまま
使用しうる粉剤を得る。 F4.水和剤 a) b) c) 表の有効成分 25% 50% 75% リグノスルホン酸ナトリウム 5% 5% − ラウリル硫酸ナトリウム 3% − 5% ジイソブチルナフタレンスルホン酸 − 6% 10% ナトリウム オクチルフェノールポリエチレン − 2% − グリコールエーテル (エチレンオオキサイド7〜8モル) 高分散ケイ酸 5% 10% 10% カオリン 62% 27% − 有効成分を助剤と完全に混合し、混合物を適当なミル中
で完全に摩砕して、水で希釈することにより所望の濃度
の懸濁液を得ることのできる水和剤が得られる。F5.乳剤原液 表の有効成分 10% オクチルフェノールポリエチレングリコール 3% エーテル(エチレンオキサイド4−5モル) ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム 3% ヒマシ油ポリグリコールエーテル 4% (エチレンオキシド35モル) シクロヘキサノン 30% キシレン混合物 50% これらの原液を水で希釈することにより、所望の濃度
の乳剤が得られる。 カオリンをポリエチレングリコールで湿らし、それに
微粉砕した有効成分をミキサー中で加える。非粉末性被
覆剤をこの方法により得る。
チデコラ(Cercospora arachidic
ola )に対する作用 a)残留保護作用 10ないし15cmの高さの落花生植物に有効成分の水
和剤から調製した噴霧液(有効成分200ppm)を噴
霧し、そして48時間後真菌の分生子の懸濁液でもつて
感染させる。感染させた植物は約21℃及び高湿度で7
2時間培養し、ついで典型的な葉斑が生じるまで温室に
置く。殺菌作用は感染後12日目に斑点の数と大きさに
関して評価した。b)浸透作用 有効成分の水和剤から調製した噴霧液(土壌の容量に対
して有効成分20ppm)を10ないし15cmの高さ
の落花生植物に注ぐ。48時間後、処理した植物を真菌
の分生子の懸濁液でもつて感染させ、約21℃で高湿度
下に72時間培養する。次いで植物を温室に置き、11
日後に真菌の感染を評価する。未処理で感染させた対照
植物(斑点の数と大きさ=100%)に比較して表に示
した有効成分で処理した落花生植物上のセルコスポラ菌
の感染は著しく低減した。化合物No.2.4, 2.19, 2.2
8, 4.6 及び4.26 は上記試験に於いて斑点の発生を事
実上完全に( 0ー10% )防止した。
リア イナエクアリス(Venturia inaeq
ualis)にたいする残留保護作用 長さ10ないし20cmの新鮮な若枝をもつりんごの切り
枝に有効成分の水和剤から調製した噴霧液(有効成分0.
02% )を噴霧する。処理植物を12時間後真菌の分生子
の懸濁液で感染させる。次いでその植物を5日間相対湿
度90ないし100%で培養しそして更に10日間20
ないし24℃の温室に置く。斑点病の広がりは15日目
に評価する。化合物No.2.4, 2.19, 2.28, 4.6 及び
4.26 は上記試験に於いて真菌の感染を事実上完全に
( 0.5% )防止した。未処理で感染させた若枝のベン
ツリアの感染は100%であつた。
シネレア(Botrytis cinerea)に対す
る作用 残留保護作用 約10cmの高さの豆植物に有効成分の水和剤から調製し
た噴霧液(有効成分200ppm)を噴霧する。48時
間後、処理した植物を真菌の分生子の懸濁液で感染させ
る。感染した植物を95−100%の相対湿度で21℃
にて3日間培養した後、菌の感染を評価する。未処理で
感染させた植物のボトリチスの感染は100%であつ
た。式Iの化合物の一つで処理した後の感染は20%以
下であつた。化合物No.2.28及び4.26で処理したとき
は感染はなかつた( 0-5%)。
る作用(稲植物における土壌菌)a)保護的な局所土壌
施用 有効成分の配合剤から調製した噴霧液(有効成分20p
pm)を12日令の稲植物に該植物の土壌から上の部分
に接触しないように注ぐ。処理植物を感染させるために
リゾクトニア ソラニの菌糸体と菌核の懸濁液を土壌表
面に施用する。植物を成育キャビネット中において27
℃(昼間)及び23℃(夜間)でそして相対湿度100
%(湿度チャンバ)で6日間培養した後、葉鞘、葉およ
び茎上の菌の感染を評価する。b)保護的−局所葉施用 12日令の稲植物を有効成分の配合剤から調製した噴霧
液で噴霧する。一日後に処理した植物をリゾクトニア
ソラニの菌糸体と菌核の懸濁液20ppmで感染させ
る。植物を成育キャビネット中において27℃(昼間)
及び23℃(夜間)でそして相対湿度100%(湿度チ
ャンバ)で6日間培養した後、葉鞘、葉および茎上の菌
の感染を評価する。表に示す化合物はリゾクトニアの感
染の予防に良好な活性を示す。例えば化合物2.28は菌の
感染を0ないし5%まで防止する。これに反して、未処
理で感染させた対照植物は100%であつた。
シネレア(Botrytis cinerea)に対す
る作用,残留保護作用 人の手で傷をつけたりんごに、その傷をつけた場所に有
効成分の水和剤から調製した噴霧液(有効成分0.002%)
の液滴を垂らすことにより処理する。続いて、処理した
果実を真菌の胞子懸濁液で感染させ、そして高湿度で約
20℃にて1週間培養した。評価において、腐敗をしめ
す損傷箇所を数えそして試験物質の殺菌作用をそれによ
り算定した。表2ないし4の化合物はボトリチスにたい
して良好な活性をしめす(感染:20%以下)。例え
ば、化合物No2.4, 4.6及び4.26はボトリチスの感染を
0ないし10%まで低減させる。これに対して、未処理
で感染させた対照植物のボトリチスの感染100%であ
つた。
mopara viticola)に対する作用 a)残留保護作用 4ないし5葉期のぶどうの若木に、有効成分の水和剤か
ら調製した噴霧液(有効成分200ppm)を噴霧する。24
時間後に、処理した植物を真菌の胞子の懸濁液で感染さ
せる。相対湿度95−100%および温度20℃に6日
間培養してから、真菌による感染を評価する。b)残留治療作用 4ないし5葉期のぶどうの若木を、真菌の胞子の懸濁液
で感染させる。相対湿度95−100%および温度20
℃に24時間保持してから、感染した植物を乾燥し、次
いでこの植物に試験化合物の水和剤から調製した噴霧液
(有効成分含有量:0.06%)を噴霧する。噴霧被膜
が乾燥してから、処理した植物を高湿度の室に戻す。感
染せしめてから6日後に真菌による感染度を評価する。
表2ないし4からの化合物は、ぶどう上のべと病に対し
て非常によい殺菌作用を示す。特に、化合物No.2.4,
2.19. 2.28, 4.6及び4.26は真菌による感染を完全に抑
制した(残留感染度0−5%)。
ラ(Phytophthora)に対する作用 a)トマト植物を3週間成育した後、このトマト植物
に、有効成分の水和剤から調製した噴霧液(有効成分含
有量:0.02%)を噴霧する。24時間後に、処理し
た植物を真菌の胞子の懸濁液で感染せしめる。感染した
植物を、相対湿度90−100%および温度20℃で、
5日間培養した後、真菌による感染度の評価をした。 b)3週間の期間栽培した後のトマト植物に、有効成分
の水和剤から調製した噴霧液(土壌体積に基づいて有効
成分0.002%)を注水する。この際、散布液が植物
の地上部分に接触しないように注意する。48時間後
に、処理した植物を真菌の胞子の懸濁液で感染せしめ
る。感染した植物を、相対湿度90−100%および2
0℃で、5日間保持した後、菌による感染度の評価をす
る。表2ないし4からの化合物はフィトフトーラ菌にた
いして良好な作用を示した。例えば、化合物No.2.4,
2.28, 4.6 及び4.26は菌の感染を0ないし20%に低
減した。これに対し、未処理で感染させた対照植物では
フィトフトラによる感染度は100%を示す。
デバリアナム(Pythium debaryanu
m)に対する作用 a)土壌施用 真菌を人参をきざんだ媒体で培養し、土壌/砂混合物に
加える。このようにして感染させた土壌を鉢に移し、ト
ウモロコシの種を播く。播種後直ちに水和剤として製剤
した試験調合品を水性分散液(土壌容積に基づいて有効
成分20ppm)の形態で土壌に注ぐ。次いで、鉢を温
室中に約20℃で2−3週間置く。土壌は静かに上から
注水して均一のしめりけを保つ。試験の評価は、トウモ
ロコシ植物の発芽及び健康なまた病気の植物の数を決定
することによりおこなはれる。b)種子処理の方法による施用後の作用 真菌を人参をきざんだ媒体で培養し、土壌/砂混合物に
加える。このようにして感染させた土壌を土壌皿に移
し、種子−処理粉末(有効成分0.06%)として製剤された
試験調合品で処理されたトウモロコシの種を播く。播種
した鉢を温室中に約20℃で2-3 週間置く。土壌は静かに
上から注水して均一のしめりけを保つ。評価はトウモロ
コシ植物の発芽により決定される。有効成分2.1で処理
後、試験条件a)及びb)両方とも85% 以上のトウモロ
コシ植物が発芽し健康な様子であつた。未処理の対照の
場合は発芽した植物は20%以下であり、その若干は元
気がなかつた。
Claims (24)
- 【請求項1】 次式I 【化1】 「式中、R1 は炭素原子数1ないし6のアルキル基又は
炭素原子数5ないし7のシクロアルキル基を表し、その
各々は未置換であるか、又はハロゲン原子又は炭素原子
数1ないし4のアルコキシ基により置換されており、又
はR1 は次式T,U,U' ,V,又はV' 【化2】 〔式中、mは0ないし4の数を表し,nは0ないし2の
数を表し,R3 はR2 又はR4 と一緒になつて基 【化3】 (R7 は水素原子,フッ素原子又は炭素原子数1ないし
4のアルキル基を表す。)を表し,またはR2 ないしR
6 は互いに独立して水素原子,ハロゲン原子,カルボキ
シル基,炭素原子数1ないし4のアルコキシカルボニル
基,ニトロ基,シアノ基を表すか、又は各々が未置換で
あるか又はハロゲン原子で置換された炭素原子数1ない
し4のアルキル基,フェニル基,炭素原子数1ないし4
のアルコキシ基及び炭素原子数1ないし4のアルキルチ
オ基を表し、そしてR8 はハロゲン原子又は炭素原子数
1ないし4のアルキル基を表す。〕で表される基をあら
わし,Aは次式 【化4】 〔式中、R10はR9 又R11と一緒になつて次式 【化5】 で表される基を表し、又はR9 ないしR13は互いに独立
して水素原子,ハロゲン原子,カルボキシル基,炭素原
子数1ないし4のアルコキシカルボニル基,ニトロ基,
シアノ基,又は次式 【化6】 (R14は水素原子,ハロゲン原子又は炭素原子数1ない
し4のアルキル基を表す。)で表される基をあらわす
か、又は各々が未置換であるか又はハロゲン原子により
置換された炭素原子数1ないし4のアルキル基,炭素原
子数1ないし4のアルコキシ基又は炭素原子数1ないし
4のアルキルチオ基を表す。]で表される基を表すか、
または基U,U' ,V,及びV' を表し、そしてXはー
OSO2 ー,ーSOーまたはーSO2 ーを表し、Xが基
ーOSO2 ーであるとき、R14は水素原子又は塩素原子
を表し、そしてR9 ,R10,R12及びR13は水素原子を
表し、Tはpートリル基ではなく、そしてXがーSO2
ーであるときR1 はトリフルオロメチルではない。」で
表され、混合物(E,Z)又は純粋のE及びZ異性体の
形態にある2ーアリールアクリロニトリル誘導体。 - 【請求項2】 次式Ia 【化7】 で表される請求項I記載の化合物。
- 【請求項3】 R1 は炭素原子数1ないし4のアルキ
ル基又は炭素原子数5ないし6のシクロアルキル基を表
し、その各々は未置換であるか、又はハロゲン原子によ
り置換されており、又はR1 は次式T,U,U',V,
又はV' 【化8】 〔式中、m及びnは0ないし2の数を表し,R3 はR2
又はR4 と一緒になつて基 【化9】 (R7 は水素原子又はフッ素原子を表す。)を表し,ま
たはR2ないしR6 は互に独立して水素原子,ハロゲン
原子,ニトロ基,シアノ基を表すか、又は各々が未置換
であるか又はハロゲン原子で置換された炭素原子数1な
いし4のアルキル基,フェニル基,炭素原子数1ないし
4のアルコキシ基及び炭素原子数1ないし4のアルキル
チオ基を表し、そしてR8 はハロゲン原子又は炭素原子
数1ないし4のアルキル基を表す。〕で表される基をあ
らわし,Aは次式 【化10】 〔式中、R10はR9 又R11と一緒になつて次式 【化11】 で表される基を表し、又はR9 ないしR13は互いに独立
して水素原子,ハロゲン原子,ニトロ基,シアノ基,又
は次式 【化12】 (R14は水素原子,ハロゲン原子又は炭素原子数1ない
し4のアルキル基を表す。)で表される基をあらわす
か、又は各々が未置換であるか又はハロゲン原子により
置換された炭素原子数1ないし4のアルキル基,炭素原
子数1ないし4のアルコキシ基又は炭素原子数1ないし
4のアルキルチオ基を表す。]で表される基を表すか、
または基U,U' ,V,及びV' を表す請求項2記載の
化合物。 - 【請求項4】 請求項3記載のE及びZー2ーフェニル
ー3ーメチルスルホニルオキシアクリロニトリル。 - 【請求項5】 請求項3記載のE及びZー2ー(4ーク
ロロフェニル)ー3ーメチルスルホニルオキシアクリロ
ニトリル。 - 【請求項6】 請求項3記載のE及びZー2ー(2ート
リル)ー3ーメチルスルホニルオキシアクリロニトリ
ル。 - 【請求項7】 請求項3記載のE及びZー2ー(3ート
リル)ー3ーメチルスルホニルオキシアクリロニトリ
ル。 - 【請求項8】 請求項7記載のZー2ー(3ートリル)
ー3ーメチルスルホニルオキシアクリロニトリル。 - 【請求項9】 次式Ib 【化13】 「式中、R1 は炭素原子数1ないし4のアルキル基又は
炭素原子数5ないし6のシクロアルキル基を表し、その
各々は未置換であるか、又はハロゲン原子により置換さ
れており、又はR1 は次式T,U,U' ,V,又はV' 【化14】 〔式中、m及びnは0ないし2の数を表し,R3 はR2
はR4 と一緒になつて基 【化15】 (R7 は水素原子,又はフッ素原子を表す。)を表し,
またはR2 ないしR6 は互いに独立して水素原子,ハロ
ゲン原子,ニトロ基,シアノ基を表すか、又は各々が未
置換であるか又はハロゲン原子で置換された炭素原子数
1ないし4のアルキル基,フェニル基,炭素原子数1な
いし4のアルコキシ基及び炭素原子数1ないし4のアル
キルチオ基を表し、そしてR8 はハロゲン原子又は炭素
原子数1ないし4のアルキル基を表す。〕で表される基
をあらわし,Aは次式 【化16】 〔式中、R10はR9 又R11と一緒になつて次式 【化17】 で表される基を表し、又はR9 ないしR13は互いに独立
して水素原子,ハロゲン原子,ニトロ基,シアノ基,又
は次式 【化18】 (R14は水素原子,ハロゲン原子又は炭素原子数1ない
し4のアルキル基を表す。)で表される基をあらわす
か、又は各々が未置換であるか又はハロゲン原子により
置換された炭素原子数1ないし4のアルキル基,炭素原
子数1ないし4のアルコキシ基又は炭素原子数1ないし
4のアルキルチオ基を表す。]で表される基を表すか、
または基U,U' ,V,及びV' を表す。」で表される
請求項1記載の化合物。 - 【請求項10】 請求項9記載のE及びZー2ーフェニ
ルー3ーフェニルスルフィニルアクリロニトリル。 - 【請求項11】 請求項9記載のE及びZー2ーフェニ
ルー3ーメチルスルフイニルアクリロニトリル。 - 【請求項12】 次式Ic 【化19】 で表される請求項I記載の化合物。
- 【請求項13】 R1 は炭素原子数1ないし4のアル
キル基又は炭素原子5ないし6のシクロアルキル基を表
し、その各々は未置換であるか、又はハロゲン原子によ
り置換されており、又はR1 は次式T,U,U',V,
又はV' 【化20】 〔式中、m及びnは0ないし2の数を表し,R3 はR2
又はR4 と一緒になつて基 【化21】 (R7 は水素原子又はフッ素原子を表す。)を表し,ま
たはR2ないしR6 は互に独立して水素原子,ハロゲン
原子,ニトロ基,シアノ基を表すか、又は各々が未置換
であるか又はハロゲン原子で置換された炭素原子数1な
いし4のアルキル基,フェニル基,炭素原子数1ないし
4のアルコキシ基及び炭素原子数1ないし4のアルキル
チオ基を表し、そしてR8 はハロゲン原子又は炭素原子
数1ないし4のアルキル基を表す。〕で表される基をあ
らわし,Aは次式 【化22】 〔式中、R10はR9 又R11と一緒になつて次式 【化23】 で表される基を表し、又はR9 ないしR13は互いに独立
して水素原子,ハロゲン原子,ニトロ基,シアノ基,又
は次式 【化24】 (R14は水素原子,ハロゲン原子又は炭素原子数1ない
し4のアルキル基を表す。)で表される基をあらわす
か、又は各々が未置換であるか又はハロゲン原子により
置換された炭素原子数1ないし4のアルキル基,炭素原
子数1ないし4のアルコキシ基又は炭素原子数1ないし
4のアルキルチオ基を表す。]で表される基を表すか、
または基U,U' ,V,及びV' を表す請求項12記載
の化合物。 - 【請求項14】 請求項13記載のE及びZー2ーフェ
ニルー3ーフェニルスルフォニルアクリロニトリル。 - 【請求項15】 請求項13記載のE及びZー2ーフェ
ニルー3ー(4ートリル)スルホニルアクリロニトリ
ル。 - 【請求項16】 請求項13記載のZー2ーフェニルー
4ー(2,4ージフルオロフェニル)スルホニルアクリ
ロニトリル。 - 【請求項17】 a1) 式IIで表されるニトリルを式II
I で表される塩基及び式IVで表される蟻酸エステルと反
応させて式Vのエノレートを得、後者を式VIで表される
スルフォクロライドでアシル化するか、 【化25】 〔式中、R15は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表
し,Bは塩基M+ X- (M+ はアルカリ金属カチオン又
はアルカリ土類金属カチオンを表し、そしてX- はアル
コレートアニオン,ハイドライド アニオン又はアミン
塩基を表す)を表し、そして残りの記号は請求項1に於
ける定義と同じ意味を表す。〕又は、a2) 式Vaで表
される化合物を酸結合剤の存在下、式VIで表されるスル
ホクロライドでアシル化し、 【化26】 (A及びR1 は請求項1に於ける定義と同じ意味を表
す。)そして反応生成物を単離することからなる式Ia
で表される化合物の製造方法。 - 【請求項18】 次式VIIIで表されるチオエーテルを当
量の酸化剤で酸化し、 【化27】 そして反応生成物を単離することからなる式Ibで表さ
れる化合物の製造方法。 - 【請求項19】 c1) 請求項17の式Iaで表される
化合物を次式VII で表されるスルフィン酸塩と反応させ
るか、 【化28】 (式中、M+ は請求項17の定義と同じであり,そして
R1 は請求項1の定義と同じである。)又は、c2) 請
求項18の式Ibで表されるスルホキサイドを式Icで
表される化合物に酸化し、そして反応生成物を単離する
ことからなる式Icで表される化合物の製造方法。 - 【請求項20】 少なくとも1種の有効成分として、次
式I 【化29】 「式中、R1 は炭素原子数1ないし6のアルキル基又は
炭素原子数5ないし7のシクロアルキル基を表し、その
各々は未置換であるか、又はハロゲン原子又は炭素原子
数1ないし4のアルコキシ基により置換されており、又
はR1 は次式T,U,U' ,V,又はV' 【化30】 〔式中、mは0ないし4の数を表し,nは0ないし2の
数を表し,R3 はR2 又はR4 と一緒になつて基 【化31】 (R7 は水素原子,フッ素原子又は炭素原子数1ないし
4のアルキル基を表す。)を表し,またはR2 ないしR
6 は互いに独立して水素原子,ハロゲン原子,カルボキ
シル基,炭素原子数1ないし4のアルコキシカルボニル
基,ニトロ基,シアノ基を表すか、又は各々が未置換で
あるか又はハロゲン原子で置換された炭素原子数1ない
し4のアルキル基,フェニル基,炭素原子数1ないし4
のアルコキシ基及び炭素原子数1ないし4のアルキルチ
オ基を表し、そしてR8 はハロゲン原子又は炭素原子数
1ないし4のアルキル基を表す。〕で表される基をあら
わし,Aは次式 【化32】 〔式中、R10はR9 又R11と一緒になつて次式 【化33】 で表される基を表し、又はR9 ないしR13は互いに独立
して水素原子,ハロゲン原子,カルボキシル基,炭素原
子数1ないし4のアルコキシカルボニル基,ニトロ基,
シアノ基,又は次式 【化34】 (R14は水素原子,ハロゲン原子又は炭素原子数1ない
し4のアルキル基を表す。)で表される基をあらわす
か、又は各々が未置換であるか又はハロゲン原子により
置換された炭素原子数1ないし4のアルキル基,炭素原
子数1ないし4のアルコキシ基又は炭素原子数1ないし
4のアルキルチオ基を表す。]で表される基を表すか、
または基U,U' ,V,及びV' を表し、そしてXはー
OSO2 ー,ーSOーまたはーSO2 ーを表す」で表さ
れ、混合物(E,Z)又は純粋のE及びZ異性体の形態
にある化合物を含む殺微生物剤組成物。 - 【請求項21】 有効成分として請求項1記載の式Iで
表される化合物を含む請求項20記載の組成物。 - 【請求項22】 植物病原性微生物による病気を抑制又
は予防のために、請求項20記載の式Iの化合物を使用
する方法。 - 【請求項23】 植物、植物の一部又はその成育地に対
して、式Iの化合物を適用することからなる植物病原性
微生物により生ずる植物の病気を抑制又は予防する方
法。 - 【請求項24】 植物の一部が種子である請求項23記
載の方法。
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---|---|---|---|
CH196/90-6 | 1990-01-23 | ||
CH19690 | 1990-01-23 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0517429A true JPH0517429A (ja) | 1993-01-26 |
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ID=4181448
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3022799A Pending JPH0517429A (ja) | 1990-01-23 | 1991-01-23 | 殺微生物剤組成物 |
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---|---|
EP (1) | EP0439421A1 (ja) |
JP (1) | JPH0517429A (ja) |
IE (1) | IE910214A1 (ja) |
PT (1) | PT96530A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4780885B2 (ja) * | 1999-10-12 | 2011-09-28 | テンプル・ユニバーシティ−オブ・ザ・コモンウェルス・システム・オブ・ハイアー・エデュケイション | 正常細胞を化学療法剤の細胞毒性から保護するための方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1935293A1 (de) * | 1969-07-11 | 1971-01-14 | Bayer Ag | Sulfonsaeure-cyanvinylester,Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre fungizide Verwendung |
DE3041154A1 (de) * | 1980-10-31 | 1982-06-09 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Verfahren zur herstellung von 2-halogen-3-sulfonylacrylnitrilen |
US4388249A (en) * | 1980-12-29 | 1983-06-14 | Stauffer Chemical Company | 3-(Alkoxyphenylsulfonyl)acrylonitriles |
-
1991
- 1991-01-14 EP EP91810021A patent/EP0439421A1/de not_active Withdrawn
- 1991-01-21 PT PT96530A patent/PT96530A/pt not_active Application Discontinuation
- 1991-01-22 IE IE021491A patent/IE910214A1/en unknown
- 1991-01-23 JP JP3022799A patent/JPH0517429A/ja active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4780885B2 (ja) * | 1999-10-12 | 2011-09-28 | テンプル・ユニバーシティ−オブ・ザ・コモンウェルス・システム・オブ・ハイアー・エデュケイション | 正常細胞を化学療法剤の細胞毒性から保護するための方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
PT96530A (pt) | 1991-10-15 |
IE910214A1 (en) | 1991-07-31 |
EP0439421A1 (de) | 1991-07-31 |
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