JPH05109792A - キユア装置 - Google Patents
キユア装置Info
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- JPH05109792A JPH05109792A JP3293911A JP29391191A JPH05109792A JP H05109792 A JPH05109792 A JP H05109792A JP 3293911 A JP3293911 A JP 3293911A JP 29391191 A JP29391191 A JP 29391191A JP H05109792 A JPH05109792 A JP H05109792A
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- frame
- heater block
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- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 7
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/50—Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
- H01L21/52—Mounting semiconductor bodies in containers
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27B—FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
- F27B9/00—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity
- F27B9/14—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity characterised by the path of the charge during treatment; characterised by the means by which the charge is moved during treatment
- F27B9/20—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity characterised by the path of the charge during treatment; characterised by the means by which the charge is moved during treatment the charge moving in a substantially straight path tunnel furnace
- F27B9/24—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity characterised by the path of the charge during treatment; characterised by the means by which the charge is moved during treatment the charge moving in a substantially straight path tunnel furnace being carried by a conveyor
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27D—DETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
- F27D3/00—Charging; Discharging; Manipulation of charge
- F27D3/12—Travelling or movable supports or containers for the charge
- F27D2003/121—Band, belt or mesh
- F27D2003/122—Band made from longitudinal wires or bars
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Abstract
(57)【要約】
【目的】製造原価の低減及びリードフレームの品種変更
に容易に対処できるようにする。 【構成】ヒータブロック1の上方にリードフレーム搬送
方向にフレーム支持用ワイヤ10を配設し、フレーム支
持用ワイヤ10に該フレーム支持用ワイヤ10とヒータ
ブロック1の間隔を一定に保つワイヤ弛み防止ようカラ
ー11を取り付けてなる。
に容易に対処できるようにする。 【構成】ヒータブロック1の上方にリードフレーム搬送
方向にフレーム支持用ワイヤ10を配設し、フレーム支
持用ワイヤ10に該フレーム支持用ワイヤ10とヒータ
ブロック1の間隔を一定に保つワイヤ弛み防止ようカラ
ー11を取り付けてなる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体製造装置のキュア
装置に関する。
装置に関する。
【0002】
【従来の技術】チップがペーストでダイボンデイングさ
れたリードフレームは、キュア装置で加熱して前記ペー
ストを硬化させる。かかるキュア装置では、ペーストが
加熱されると、汚染原因となるガスが発生し、このガス
はチップ周辺に漂い、これが凝固又はガス状となってチ
ップ表面に付着してチップの性能に影響を与えると共
に、ヒータブロック上に付着してリードフレームがヒー
タブロックに固着する。
れたリードフレームは、キュア装置で加熱して前記ペー
ストを硬化させる。かかるキュア装置では、ペーストが
加熱されると、汚染原因となるガスが発生し、このガス
はチップ周辺に漂い、これが凝固又はガス状となってチ
ップ表面に付着してチップの性能に影響を与えると共
に、ヒータブロック上に付着してリードフレームがヒー
タブロックに固着する。
【0003】従来、前記した汚染ガスを排除する方法と
して、例えば特開昭63ー239957号公報、特開昭
63ー316443号公報に示すように、チップの上方
から不活性ガス又は還元性ガス等を供給してチップ周辺
に流して汚染ガスを排気している。しかし、この方法の
みによっては、ヒータブロック上にリードフレームが固
着するという問題点を完全に解決することはできない。
して、例えば特開昭63ー239957号公報、特開昭
63ー316443号公報に示すように、チップの上方
から不活性ガス又は還元性ガス等を供給してチップ周辺
に流して汚染ガスを排気している。しかし、この方法の
みによっては、ヒータブロック上にリードフレームが固
着するという問題点を完全に解決することはできない。
【0004】リードフレームがヒータブロック上に固着
すのを防止したものとして、例えば実開平2ー8033
号公報に示すように、ヒータブロックの上面にリードフ
レームの搬送方向に連続する微小突起を設けることによ
り、リードフレームをヒータブロック上に常に一定間隔
を保って保持するようにしたものが提案されている。
すのを防止したものとして、例えば実開平2ー8033
号公報に示すように、ヒータブロックの上面にリードフ
レームの搬送方向に連続する微小突起を設けることによ
り、リードフレームをヒータブロック上に常に一定間隔
を保って保持するようにしたものが提案されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術は、ヒー
タブロックの上面を加工して突起を形成するので、製造
加工が困難で、高価になる。またヒータブロック自体に
突起が形成されているので、リードフレームの品種によ
って変更ができない。即ち、リードフレームに搭載され
たチップの数、位置によっては、突起がチップの真下に
くることがあり、どのチップに対してもヒータブロック
上面より熱的に一定間隔が保証されない。リードフレー
ムに搭載されたチップ部分がアイランド(下方に突出)
しているものは、チップ部分がヒータブロックの突起部
分に位置すると、リードフレームが傾き、やはりどのチ
ップに対してもヒータブロック上面より熱的に一定間隔
が保証されない。これらのことにより、リードフレーム
の品種に合わせて複数個のヒータブロックを用意しなけ
ればならなかった。またリードフレームとヒータブロッ
ク間に流れたガスは、リードフレーム搬送方向に伸びた
突起の存在により、リードフレームの搬送方向にしか流
れなく、ガスの排気効率が悪い。
タブロックの上面を加工して突起を形成するので、製造
加工が困難で、高価になる。またヒータブロック自体に
突起が形成されているので、リードフレームの品種によ
って変更ができない。即ち、リードフレームに搭載され
たチップの数、位置によっては、突起がチップの真下に
くることがあり、どのチップに対してもヒータブロック
上面より熱的に一定間隔が保証されない。リードフレー
ムに搭載されたチップ部分がアイランド(下方に突出)
しているものは、チップ部分がヒータブロックの突起部
分に位置すると、リードフレームが傾き、やはりどのチ
ップに対してもヒータブロック上面より熱的に一定間隔
が保証されない。これらのことにより、リードフレーム
の品種に合わせて複数個のヒータブロックを用意しなけ
ればならなかった。またリードフレームとヒータブロッ
ク間に流れたガスは、リードフレーム搬送方向に伸びた
突起の存在により、リードフレームの搬送方向にしか流
れなく、ガスの排気効率が悪い。
【0006】本発明の目的は、製造原価の低減が図れる
と共に、リードフレームの品種変更にも対応できるキュ
ア装置を提供することにある。
と共に、リードフレームの品種変更にも対応できるキュ
ア装置を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の第1の手段は、チップをペーストでダイボンデイング
したリードフレームを、ヒータブロック上をタクト送り
するコンベアで搬送しながら加熱して前記ペーストを硬
化させるキュア装置において、前記ヒータブロックの上
方にリードフレーム搬送方向に配設されたフレーム支持
用ワイヤと、このフレーム支持用ワイヤとヒータブロッ
クの間隔を一定にするためにフレーム支持用ワイヤに取
り付けられたワイヤ弛み防止用カラーとを備えたことを
特徴とする。
の第1の手段は、チップをペーストでダイボンデイング
したリードフレームを、ヒータブロック上をタクト送り
するコンベアで搬送しながら加熱して前記ペーストを硬
化させるキュア装置において、前記ヒータブロックの上
方にリードフレーム搬送方向に配設されたフレーム支持
用ワイヤと、このフレーム支持用ワイヤとヒータブロッ
クの間隔を一定にするためにフレーム支持用ワイヤに取
り付けられたワイヤ弛み防止用カラーとを備えたことを
特徴とする。
【0008】上記目的を達成するための第2の手段は、
第1の手段のワイヤ弛み防止用カラーが、前記フレーム
支持用ワイヤに摺動可能で、かつフリクションによって
係止されていることを特徴とする。
第1の手段のワイヤ弛み防止用カラーが、前記フレーム
支持用ワイヤに摺動可能で、かつフリクションによって
係止されていることを特徴とする。
【0009】上記目的を達成するための第3の手段は、
第1の手段のフレーム支持用ワイヤが、該フレーム支持
用ワイヤと直角に配設されたワイヤ保持用シャフトに摺
動自在に設けられたワイヤ保持用カラーに固定されてい
ることを特徴とする。
第1の手段のフレーム支持用ワイヤが、該フレーム支持
用ワイヤと直角に配設されたワイヤ保持用シャフトに摺
動自在に設けられたワイヤ保持用カラーに固定されてい
ることを特徴とする。
【0010】
【作用】第1の手段によれば、ヒータブロック上にフレ
ーム支持用ワイヤが配設されており、フレーム支持用ワ
イヤは、ワイヤ弛み防止用カラーによってヒータブロッ
ク上と一定間隔を保っている。従って、フレーム支持用
ワイヤによってリードフレームが支持された場合、ヒー
タブロックとリードフレームの間隔は常に一定となる。
このように、ヒータブロックの上方にフレーム支持用ワ
イヤを配設し、このフレーム支持用ワイヤにワイヤ弛み
防止用カラーを取り付けてヒータブロックとリードフレ
ームとの間隔を一定に保つ簡単な構造よりなるので、大
幅な製造原価の低減が図れる。また従来のようなヒータ
ブロック上に突起がないので、どのようなチップに対し
ても熱的に一定間隔が保証され、リードフレームの品種
変更にも対応できる。
ーム支持用ワイヤが配設されており、フレーム支持用ワ
イヤは、ワイヤ弛み防止用カラーによってヒータブロッ
ク上と一定間隔を保っている。従って、フレーム支持用
ワイヤによってリードフレームが支持された場合、ヒー
タブロックとリードフレームの間隔は常に一定となる。
このように、ヒータブロックの上方にフレーム支持用ワ
イヤを配設し、このフレーム支持用ワイヤにワイヤ弛み
防止用カラーを取り付けてヒータブロックとリードフレ
ームとの間隔を一定に保つ簡単な構造よりなるので、大
幅な製造原価の低減が図れる。また従来のようなヒータ
ブロック上に突起がないので、どのようなチップに対し
ても熱的に一定間隔が保証され、リードフレームの品種
変更にも対応できる。
【0011】第2の手段によれば、第1の手段のワイヤ
弛み防止用カラーをワイヤ弛み防止用カラーに沿って摺
動させて取付け位置が変更できるので、リードフレーム
のタクト送り量を変更する場合、リードフレームがワイ
ヤ弛み防止用カラー上に来ないように容易に対処でき
る。
弛み防止用カラーをワイヤ弛み防止用カラーに沿って摺
動させて取付け位置が変更できるので、リードフレーム
のタクト送り量を変更する場合、リードフレームがワイ
ヤ弛み防止用カラー上に来ないように容易に対処でき
る。
【0012】第3の手段によれば、第1の手段のフレー
ム支持用ワイヤをリードフレーム搬送方向と直角方向に
移動させて配置することができるので、品種によってチ
ップに対応したリードフレームの部分がフレーム支持用
ワイヤ上に来ないようにすることができ、常に最適な状
態にすることができる。
ム支持用ワイヤをリードフレーム搬送方向と直角方向に
移動させて配置することができるので、品種によってチ
ップに対応したリードフレームの部分がフレーム支持用
ワイヤ上に来ないようにすることができ、常に最適な状
態にすることができる。
【0013】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図1及び図2によ
り説明する。キュア装置の内部には、複数個のヒータブ
ロック1が直列に配設されており、ヒータブロック1の
上面には送りワイヤ用溝1aが形成されている。送りワ
イヤ用溝1aにはコンベア2のフレーム送り用ワイヤ3
が位置している。コンベア2は、両側のヒータブロック
1の側方に回転自在に配設されたプーリシャフト4、5
にプーリ6、7が固定され、プーリ6、7にフレーム送
り用ワイヤ3が巻回された構成となっている。ここで、
前記プーリシャフト4、5は、図示しない上下動手段で
上下動させられ、またプーリシャフト4は、図示しない
駆動手段で回転させられる。また図示しないが、ヒータ
ブロック1は全体がカバーで覆われ、ヒータブロック1
の上面には不活性又は還元性ガス等の熱ガスが吹き付け
られ、ヒータブロック1の下方より排気されるようにな
っている。
り説明する。キュア装置の内部には、複数個のヒータブ
ロック1が直列に配設されており、ヒータブロック1の
上面には送りワイヤ用溝1aが形成されている。送りワ
イヤ用溝1aにはコンベア2のフレーム送り用ワイヤ3
が位置している。コンベア2は、両側のヒータブロック
1の側方に回転自在に配設されたプーリシャフト4、5
にプーリ6、7が固定され、プーリ6、7にフレーム送
り用ワイヤ3が巻回された構成となっている。ここで、
前記プーリシャフト4、5は、図示しない上下動手段で
上下動させられ、またプーリシャフト4は、図示しない
駆動手段で回転させられる。また図示しないが、ヒータ
ブロック1は全体がカバーで覆われ、ヒータブロック1
の上面には不活性又は還元性ガス等の熱ガスが吹き付け
られ、ヒータブロック1の下方より排気されるようにな
っている。
【0014】本実施例においては、ヒータブロック1の
上方にフレーム支持用ワイヤ10が配設されており、フ
レーム支持用ワイヤ10には、複数個のワイヤ弛み防止
用カラー11がフリクションで係止するように等間隔に
取り付けられている。フレーム支持用ワイヤ10の一端
は、ワイヤ保持用シャフト12に摺動自在に設けられた
ワイヤ保持用カラー13に固定されている。フレーム支
持用ワイヤ10の他端は、テンションスプリング14を
介してワイヤ保持用カラー15に固定され、ワイヤ保持
用カラー15はワイヤ保持用シャフト16に摺動自在に
設けられている。
上方にフレーム支持用ワイヤ10が配設されており、フ
レーム支持用ワイヤ10には、複数個のワイヤ弛み防止
用カラー11がフリクションで係止するように等間隔に
取り付けられている。フレーム支持用ワイヤ10の一端
は、ワイヤ保持用シャフト12に摺動自在に設けられた
ワイヤ保持用カラー13に固定されている。フレーム支
持用ワイヤ10の他端は、テンションスプリング14を
介してワイヤ保持用カラー15に固定され、ワイヤ保持
用カラー15はワイヤ保持用シャフト16に摺動自在に
設けられている。
【0015】次に作用について説明する。図3に示すよ
うに、チップ20が銀又は半田等のペースト22により
ダイボンデイングされたリードフレーム21は、ダイボ
ンダ(図示せず)よりリードフレーム21の長手方向に
搬送されてコンベア2の一端部(右側部)上に送られ
る。この状態においては、コンベア2のフレーム送り用
ワイヤ3はフレーム支持用ワイヤ10より上方に位置し
ている。次にプーリシャフト4、5が一定量回転させら
れてフレーム送り用ワイヤ3が送られ、リードフレーム
21は90度方向を変更して一定量送られる。次にコン
ベア2が下降してリードフレーム21はフレーム支持用
ワイヤ10上に載置される。一時静止してリードフレー
ム21が加熱され、その後、コンベア2が上昇してリー
ドフレーム21はフレーム送り用ワイヤ3によってフレ
ーム支持用ワイヤ10より持ち上げられ、プーリシャフ
ト4、5が一定量回転し、その後下降する動作により次
の加熱位置に搬送される。このタクト送り動作により、
リードフレーム21は順次矢印A方向に搬送される。
うに、チップ20が銀又は半田等のペースト22により
ダイボンデイングされたリードフレーム21は、ダイボ
ンダ(図示せず)よりリードフレーム21の長手方向に
搬送されてコンベア2の一端部(右側部)上に送られ
る。この状態においては、コンベア2のフレーム送り用
ワイヤ3はフレーム支持用ワイヤ10より上方に位置し
ている。次にプーリシャフト4、5が一定量回転させら
れてフレーム送り用ワイヤ3が送られ、リードフレーム
21は90度方向を変更して一定量送られる。次にコン
ベア2が下降してリードフレーム21はフレーム支持用
ワイヤ10上に載置される。一時静止してリードフレー
ム21が加熱され、その後、コンベア2が上昇してリー
ドフレーム21はフレーム送り用ワイヤ3によってフレ
ーム支持用ワイヤ10より持ち上げられ、プーリシャフ
ト4、5が一定量回転し、その後下降する動作により次
の加熱位置に搬送される。このタクト送り動作により、
リードフレーム21は順次矢印A方向に搬送される。
【0016】このように、ヒータブロック1上にフレー
ム支持用ワイヤ10が配設され、フレーム支持用ワイヤ
10は、ワイヤ弛み防止用カラー11によってヒータブ
ロック1上と一定間隔を保っている。従って、フレーム
支持用ワイヤ10によってリードフレーム21が支持さ
れるために、ヒータブロック1とリードフレーム21の
間隔は常に一定となる。このように、ヒータブロック1
の上方にフレーム支持用ワイヤ10を配設し、このフレ
ーム支持用ワイヤ10にワイヤ弛み防止用カラー11を
取り付けてヒータブロック1とリードフレーム21との
間隔を一定に保つ簡単な構造よりなるので、大幅な製造
原価の低減が図れる。また従来のようなヒータブロック
上に突起がないので、どのチップに対しても熱的に一定
間隔が保証され、リードフレームの品種変更にも対応で
きる。またワイヤ弛み防止用カラー11の径を変えるこ
とにより、リードフレーム21とヒータブロック1間の
間隔を任意に変えることができる。またヒータブロック
上には、従来のような突起が存在しないので、リードフ
レームとヒータブロック間におけるガスの流れは制限さ
れなく、四方に流れて排気され、排気効率が極めて良
い。
ム支持用ワイヤ10が配設され、フレーム支持用ワイヤ
10は、ワイヤ弛み防止用カラー11によってヒータブ
ロック1上と一定間隔を保っている。従って、フレーム
支持用ワイヤ10によってリードフレーム21が支持さ
れるために、ヒータブロック1とリードフレーム21の
間隔は常に一定となる。このように、ヒータブロック1
の上方にフレーム支持用ワイヤ10を配設し、このフレ
ーム支持用ワイヤ10にワイヤ弛み防止用カラー11を
取り付けてヒータブロック1とリードフレーム21との
間隔を一定に保つ簡単な構造よりなるので、大幅な製造
原価の低減が図れる。また従来のようなヒータブロック
上に突起がないので、どのチップに対しても熱的に一定
間隔が保証され、リードフレームの品種変更にも対応で
きる。またワイヤ弛み防止用カラー11の径を変えるこ
とにより、リードフレーム21とヒータブロック1間の
間隔を任意に変えることができる。またヒータブロック
上には、従来のような突起が存在しないので、リードフ
レームとヒータブロック間におけるガスの流れは制限さ
れなく、四方に流れて排気され、排気効率が極めて良
い。
【0017】またワイヤ弛み防止用カラー11をフレー
ム支持用ワイヤ10に摺動可能で、かつフリクションに
よって係止された構成とすることにより、ワイヤ弛み防
止用カラー11をワイヤ支持用ワイヤ10に沿って摺動
させて取付け位置が変更できるので、リードフレーム2
1のタクト送り量を変更する場合、リードフレーム21
がワイヤ弛み防止用カラー11上に来ないように容易に
対処できる。
ム支持用ワイヤ10に摺動可能で、かつフリクションに
よって係止された構成とすることにより、ワイヤ弛み防
止用カラー11をワイヤ支持用ワイヤ10に沿って摺動
させて取付け位置が変更できるので、リードフレーム2
1のタクト送り量を変更する場合、リードフレーム21
がワイヤ弛み防止用カラー11上に来ないように容易に
対処できる。
【0018】またフレーム支持用ワイヤ10を、該フレ
ーム支持用ワイヤ10と直角に配設されたワイヤ保持用
シャフト12、16に摺動自在に設けられたワイヤ保持
用カラー13、15に固定されていることにより、フレ
ーム支持用ワイヤ10をリードフレーム搬送方向と直角
方向に移動させて配置することができるので、品種によ
ってチップ20に対応したリードフレーム21の部分が
フレーム支持用ワイヤ10上に来ないようにすることが
でき、常に最適な状態にすることができる。
ーム支持用ワイヤ10と直角に配設されたワイヤ保持用
シャフト12、16に摺動自在に設けられたワイヤ保持
用カラー13、15に固定されていることにより、フレ
ーム支持用ワイヤ10をリードフレーム搬送方向と直角
方向に移動させて配置することができるので、品種によ
ってチップ20に対応したリードフレーム21の部分が
フレーム支持用ワイヤ10上に来ないようにすることが
でき、常に最適な状態にすることができる。
【0019】
【発明の効果】本発明によれば、ヒータブロックの上方
にリードフレーム搬送方向に配設されたフレーム支持用
ワイヤと、このフレーム支持用ワイヤとヒータブロック
の間隔を一定にするためにフレーム支持用ワイヤに取り
付けられたワイヤ弛み防止用カラーとを備えた構成より
なるので、製造原価の低減が図れると共に、リードフレ
ームの品種変更にも対応できる。またガスの排気効率も
良い。
にリードフレーム搬送方向に配設されたフレーム支持用
ワイヤと、このフレーム支持用ワイヤとヒータブロック
の間隔を一定にするためにフレーム支持用ワイヤに取り
付けられたワイヤ弛み防止用カラーとを備えた構成より
なるので、製造原価の低減が図れると共に、リードフレ
ームの品種変更にも対応できる。またガスの排気効率も
良い。
【図1】本発明になるキュア装置の一実施例を示す要部
斜視図である。
斜視図である。
【図2】図1の側面図である。
【図3】チップがダイボンデイングされたリードフレー
ムの側面図である。
ムの側面図である。
1 ヒータブロック 2 コンベア 10 フレーム支持用ワイヤ 11 ワイヤ弛み防止用カラー 12 ワイヤ保持用シャフト 13 ワイヤ保持用カラー 15 ワイヤ保持用カラー 16 ワイヤ保持用シャフト 20 チップ 21 リードフレーム
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成4年10月21日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0011
【補正方法】変更
【補正内容】
【0011】第2の手段によれば、第1の手段のワイヤ
弛み防止用カラーをフレーム支持用ワイヤに沿って摺動
させて取付け位置が変更できるので、リードフレームの
タクト送り量を変更する場合、リードフレームがワイヤ
弛み防止用カラー上に来ないように容易に対処できる。
弛み防止用カラーをフレーム支持用ワイヤに沿って摺動
させて取付け位置が変更できるので、リードフレームの
タクト送り量を変更する場合、リードフレームがワイヤ
弛み防止用カラー上に来ないように容易に対処できる。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0015
【補正方法】変更
【補正内容】
【0015】次に作用について説明する。図3に示すよ
うに、チップ20が銀又は半田等のペースト22により
ダイボンデイングされたリードフレーム21は、ダイボ
ンダ(図示せず)よりリードフレーム21の長手方向に
搬送されてコンベア2の一端部(右側部)上に送られ
る。この状態においては、コンベア2のフレーム送り用
ワイヤ3はフレーム支持用ワイヤ10より上方に位置し
ている。次にプーリシャフト4、5が一定量回転させら
れてフレーム送り用ワイヤ3が送られ、リードフレーム
21は送り方向が90度方向を変更して一定量送られ
る。次にコンベア2が下降してリードフレーム21はフ
レーム支持用ワイヤ10上に載置される。一時静止して
リードフレーム21が加熱され、その後、コンベア2が
上昇してリードフレーム21はフレーム送り用ワイヤ3
によってフレーム支持用ワイヤ10より持ち上げられ、
プーリシャフト4、5が一定量回転し、その後下降する
動作により次の加熱位置に搬送される。このタクト送り
動作により、リードフレーム21は順次矢印A方向に搬
送される。
うに、チップ20が銀又は半田等のペースト22により
ダイボンデイングされたリードフレーム21は、ダイボ
ンダ(図示せず)よりリードフレーム21の長手方向に
搬送されてコンベア2の一端部(右側部)上に送られ
る。この状態においては、コンベア2のフレーム送り用
ワイヤ3はフレーム支持用ワイヤ10より上方に位置し
ている。次にプーリシャフト4、5が一定量回転させら
れてフレーム送り用ワイヤ3が送られ、リードフレーム
21は送り方向が90度方向を変更して一定量送られ
る。次にコンベア2が下降してリードフレーム21はフ
レーム支持用ワイヤ10上に載置される。一時静止して
リードフレーム21が加熱され、その後、コンベア2が
上昇してリードフレーム21はフレーム送り用ワイヤ3
によってフレーム支持用ワイヤ10より持ち上げられ、
プーリシャフト4、5が一定量回転し、その後下降する
動作により次の加熱位置に搬送される。このタクト送り
動作により、リードフレーム21は順次矢印A方向に搬
送される。
Claims (3)
- 【請求項1】 チップをペーストでダイボンデイングし
たリードフレームを、ヒータブロック上をタクト送りす
るコンベアで搬送しながら加熱して前記ペーストを硬化
させるキュア装置において、前記ヒータブロックの上方
にリードフレーム搬送方向に配設されたフレーム支持用
ワイヤと、このフレーム支持用ワイヤとヒータブロック
の間隔を一定するためにフレーム支持用ワイヤに取り付
けられたワイヤ弛み防止用カラーとを備えたことを特徴
とするキュア装置。 - 【請求項2】 請求項1において、前記ワイヤ弛み防止
用カラーは、前記フレーム支持用ワイヤに摺動可能で、
かつフリクションによって係止されていることを特徴と
するキュア装置。 - 【請求項3】 請求項1において、前記フレーム支持用
ワイヤは、該フレーム支持用ワイヤと直角に配設された
ワイヤ保持用シャフトに摺動自在に設けられたワイヤ保
持用カラーに固定されていることを特徴とするキュア装
置。
Priority Applications (3)
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-
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- 1992-10-13 US US07/959,778 patent/US5267853A/en not_active Expired - Fee Related
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