JPH048763A - ポリアミド―ポリエーテルスルホン組成物の製造方法 - Google Patents
ポリアミド―ポリエーテルスルホン組成物の製造方法Info
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- JPH048763A JPH048763A JP11235390A JP11235390A JPH048763A JP H048763 A JPH048763 A JP H048763A JP 11235390 A JP11235390 A JP 11235390A JP 11235390 A JP11235390 A JP 11235390A JP H048763 A JPH048763 A JP H048763A
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は、ポリアミド−ポリエーテルスルホン組成物の
製造方法に関する。
製造方法に関する。
[従来の技術〕
現在、ハンダ耐熱性を有するフレキシブルプリント基板
のベースフィルムとして、無水ピロメリット酸と4.4
′−ジアミノジフェニルエーテルとから得られたポリイ
ミドや、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物と4,4
′−ジアミノジフェニルエーテル又はp−フェニレンジ
アミンとから得られたポリイミドが広く用いられている
が、これらのポリイミドは融点が高いため成形加工性が
悪く、適用し得る成形加工手段も限定されるという欠点
があるだけでなく、高価であり、特殊な用途にしか使用
できないという欠点がある。
のベースフィルムとして、無水ピロメリット酸と4.4
′−ジアミノジフェニルエーテルとから得られたポリイ
ミドや、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物と4,4
′−ジアミノジフェニルエーテル又はp−フェニレンジ
アミンとから得られたポリイミドが広く用いられている
が、これらのポリイミドは融点が高いため成形加工性が
悪く、適用し得る成形加工手段も限定されるという欠点
があるだけでなく、高価であり、特殊な用途にしか使用
できないという欠点がある。
そこで前記ポリイミドフィルムに代る高耐熱性フィルム
を得るために、予め合成したポリアミドを有機溶媒(例
えばジメチルアセトアミドなど)に溶解した溶液と、ポ
リエーテルスルホンを有機溶媒(例えばジメチルアセト
アミドなど)に溶解した溶液とを混合、攪拌してポリア
ミド−ポリエーテルスルホン組成物を得、このポリアミ
ド−ポリエーテルスルホン組成物をキャスト成形して高
耐熱性フィルムを得る方法が実用化されている( ff
1lえば“Polymer Reprints。
を得るために、予め合成したポリアミドを有機溶媒(例
えばジメチルアセトアミドなど)に溶解した溶液と、ポ
リエーテルスルホンを有機溶媒(例えばジメチルアセト
アミドなど)に溶解した溶液とを混合、攪拌してポリア
ミド−ポリエーテルスルホン組成物を得、このポリアミ
ド−ポリエーテルスルホン組成物をキャスト成形して高
耐熱性フィルムを得る方法が実用化されている( ff
1lえば“Polymer Reprints。
Japan″Vo1.38.No、12.4149 (
1989)およびVol、38.No、12゜4152
(1989)並びに“PolymerJournal
” Vol、22.No、1.80(1990)参照)
。溶液ブレンド法と呼ばれるこの方法によれば、ポリア
ミド−ポリエーテルスルホン組成物のキャスト成形によ
り所望の性質を有する高耐熱性フィルムを得ることがで
き、また得られた高耐熱性フィルムがポリイミドフィル
ムよりも安価であり、汎用性を有するという利点がある
。
1989)およびVol、38.No、12゜4152
(1989)並びに“PolymerJournal
” Vol、22.No、1.80(1990)参照)
。溶液ブレンド法と呼ばれるこの方法によれば、ポリア
ミド−ポリエーテルスルホン組成物のキャスト成形によ
り所望の性質を有する高耐熱性フィルムを得ることがで
き、また得られた高耐熱性フィルムがポリイミドフィル
ムよりも安価であり、汎用性を有するという利点がある
。
しかしながら例えば対数粘度η1...hが1.6d
1 / g以上の高分子量のポリアミドのある種のもの
は、ポリアミドを溶解するために最も好ましい溶媒であ
るジメチルアセトアミドを用いても、溶解することがで
きないので、ジメチルアセトアミドに不溶の高分子量の
ポリアミドを上記溶液ブレンド法に用いることができな
い。また比較的に低分子量のポリアミドは、ジメチルア
セトアミドに可溶であるが、このような低分子量のポリ
アミドは市販されていないため1、芳香族ジカルボン酸
誘導体と芳香族ジアミンとから別途製造する必要がある
。このため重合容器、ろ過器、乾燥器、溶媒回収装置等
が必要となり、さらに得られたポリアミドをジメチルア
セトアミドに溶解する必要があるので、製造工程が複雑
になり、製造時間も長くなり、製造コストも高くなる。
1 / g以上の高分子量のポリアミドのある種のもの
は、ポリアミドを溶解するために最も好ましい溶媒であ
るジメチルアセトアミドを用いても、溶解することがで
きないので、ジメチルアセトアミドに不溶の高分子量の
ポリアミドを上記溶液ブレンド法に用いることができな
い。また比較的に低分子量のポリアミドは、ジメチルア
セトアミドに可溶であるが、このような低分子量のポリ
アミドは市販されていないため1、芳香族ジカルボン酸
誘導体と芳香族ジアミンとから別途製造する必要がある
。このため重合容器、ろ過器、乾燥器、溶媒回収装置等
が必要となり、さらに得られたポリアミドをジメチルア
セトアミドに溶解する必要があるので、製造工程が複雑
になり、製造時間も長くなり、製造コストも高くなる。
[発明の目的コ
従って本発明の目的は、上記従来技術、特にポリアミド
溶液とポリエーテルスルホン溶液とを用いる溶液ブレン
ド法の欠点を解消し、ポリアミド−ポリエーテルスルホ
ン組成物を簡単な製造操作で短時間に安価に製造するこ
とができる方法を提供することにある。
溶液とポリエーテルスルホン溶液とを用いる溶液ブレン
ド法の欠点を解消し、ポリアミド−ポリエーテルスルホ
ン組成物を簡単な製造操作で短時間に安価に製造するこ
とができる方法を提供することにある。
[目的を達成するための手段]
本発明の目的は、下記のポリアミド−ポリエーテルスル
ホ2組成物の製造方法(I)および(II)によって達
成された。
ホ2組成物の製造方法(I)および(II)によって達
成された。
方法(1)
ポリエーテルスルホンの有機系極性溶媒溶液中で、芳香
族ジカルボン酸ジハライドと芳香族ジアミン又はその誘
導体との重縮合反応を行うことを特徴とするポリアミド
−ポリエーテルスルホン組成物の製造方法。
族ジカルボン酸ジハライドと芳香族ジアミン又はその誘
導体との重縮合反応を行うことを特徴とするポリアミド
−ポリエーテルスルホン組成物の製造方法。
方法(n)
有機系極性溶媒中で、芳香族ジカルボン酸ジハライドと
芳香族ジアミン又はその誘導体との重縮合反応を行ない
、重縮合反応が完結する前にポリエーテルスルホンを添
加し、混合することを特徴とするポリアミド−ポリエー
テルスルホン組成物の製造方法。
芳香族ジアミン又はその誘導体との重縮合反応を行ない
、重縮合反応が完結する前にポリエーテルスルホンを添
加し、混合することを特徴とするポリアミド−ポリエー
テルスルホン組成物の製造方法。
先ずポリアミド−ポリエーテルスルホン組成物の製造方
法(1)について説明する。
法(1)について説明する。
この方法(I)において用いられるポリエーテルスルホ
ンは、その繰り返し単位にエーテル結合とスルホン基を
有する重合体であり、その代表例として以下のものが挙
げられる。
ンは、その繰り返し単位にエーテル結合とスルホン基を
有する重合体であり、その代表例として以下のものが挙
げられる。
ICI社製
ヴイクトレックス(Victrex)
アモコ社製ニーデル(Udel)
アモコ社製し−デル(Radel)
特に好ましいポリエーテルスルホンは上記(イ)の構造
を有するものである。
を有するものである。
ポリエーテルスルホンの分子量は、対数粘度ηInhが
0.1〜2.0d1/g (測定条件:溶媒・・・N−
メチル−2−ピロリドン、濃度・・・0.5g/di、
温度・・・30°C)の範囲となる分子量範囲が好まし
い。その理由はηinhが0.ld1/g未満であると
、得られるポリアミド−ポリエーテルスルホン組成物に
おいてポリアミドとポリエーテルスルホンが相分離する
可能性があり、一方η1..hが2.0d1/gを超え
ると、得られるポリアミド−ポリエーテルスルホン組成
物を成形して得られた成形物を熱処理した場合、ポリア
ミドが結晶化しにくくなり、耐熱性のある成形品が得ら
れない可能性があるからである。特に好ましいη1fl
hは0.3〜0.6dfl/gである。ポリエーテルス
ルホンは1種又は2種以上用いられる。
0.1〜2.0d1/g (測定条件:溶媒・・・N−
メチル−2−ピロリドン、濃度・・・0.5g/di、
温度・・・30°C)の範囲となる分子量範囲が好まし
い。その理由はηinhが0.ld1/g未満であると
、得られるポリアミド−ポリエーテルスルホン組成物に
おいてポリアミドとポリエーテルスルホンが相分離する
可能性があり、一方η1..hが2.0d1/gを超え
ると、得られるポリアミド−ポリエーテルスルホン組成
物を成形して得られた成形物を熱処理した場合、ポリア
ミドが結晶化しにくくなり、耐熱性のある成形品が得ら
れない可能性があるからである。特に好ましいη1fl
hは0.3〜0.6dfl/gである。ポリエーテルス
ルホンは1種又は2種以上用いられる。
この方法(I)においては、上記のポリエーテルスルホ
ンを有機系極性溶媒に溶解する。有機系極性溶媒を用い
る理由は、この溶媒がポリエーテルスルホンを溶解する
たけでなく、ポリアミドをも溶解するからである。好ま
しい有機系極性溶媒としては、N、N−ジメチルアセト
アミド(DMAc) 、N−メチル−2−ピロリドン、
N。
ンを有機系極性溶媒に溶解する。有機系極性溶媒を用い
る理由は、この溶媒がポリエーテルスルホンを溶解する
たけでなく、ポリアミドをも溶解するからである。好ま
しい有機系極性溶媒としては、N、N−ジメチルアセト
アミド(DMAc) 、N−メチル−2−ピロリドン、
N。
N′−ジメチルイミダゾリジノン、ヘキサメチルホスホ
ルトリアミドなどが挙げられ、これらは単独でまたは混
合して用いられる。
ルトリアミドなどが挙げられ、これらは単独でまたは混
合して用いられる。
ポリエーテルスルホンを有機系極性溶媒に溶解するに際
し、温度は特に制限がないが、−30℃〜165℃であ
るのが好ましい。その理由は、−30℃未満であると、
ポリエーテルスルホンが析出したりあるいは溶液が凍結
する可能性があり、一方165°Cを超えると、ポリエ
ーテルスルホンが溶媒により劣化又は分解する可能性が
あるからである。特に好ましい温度は室温である。
し、温度は特に制限がないが、−30℃〜165℃であ
るのが好ましい。その理由は、−30℃未満であると、
ポリエーテルスルホンが析出したりあるいは溶液が凍結
する可能性があり、一方165°Cを超えると、ポリエ
ーテルスルホンが溶媒により劣化又は分解する可能性が
あるからである。特に好ましい温度は室温である。
また溶解時間も特に制限がないが、数分〜24時間であ
るのが好ましい。その理由は数分未満であるとポリエー
テルスルホンの溶解が不十分となり、一方24時間を超
えるとポリエーテルスルホンが劣化または分解して着色
する可能性があるからである。特に好ましい溶解時間は
数分〜2時間である。
るのが好ましい。その理由は数分未満であるとポリエー
テルスルホンの溶解が不十分となり、一方24時間を超
えるとポリエーテルスルホンが劣化または分解して着色
する可能性があるからである。特に好ましい溶解時間は
数分〜2時間である。
有機系極性溶媒中のポリエーテルスルホンの濃度(%)
は、式 %式% により計算したときに、その値が0.1〜50%となる
範囲が好ましい。その理由は、0.1%未満では、ポリ
エーテルスルホン溶解後に重縮合反応によりポリアミド
を製造する際のモノマー濃度が低くなり、生成するポリ
アミドの分子量が著しく低くなる可能性があり、一方5
0%を超えると、ポリエーテルスルホンが完全には溶解
しないからである。特に好ましい濃度は3〜20%であ
る。
は、式 %式% により計算したときに、その値が0.1〜50%となる
範囲が好ましい。その理由は、0.1%未満では、ポリ
エーテルスルホン溶解後に重縮合反応によりポリアミド
を製造する際のモノマー濃度が低くなり、生成するポリ
アミドの分子量が著しく低くなる可能性があり、一方5
0%を超えると、ポリエーテルスルホンが完全には溶解
しないからである。特に好ましい濃度は3〜20%であ
る。
方法(I)においては、上記の如くポリエーテルスルホ
ンを有機系極性溶媒中に溶解して得られたポリエーテル
スルホンの有機系極性溶媒溶液中で、芳香族ジカルボン
酸ジハライドと芳香族ジアミン又はその誘導体との重縮
合反応を行う。この重縮合反応に用いる芳香族ジカルボ
ン酸ジハライドとして、テレフタル酸ジクロリド、イソ
フタル酸ジクロリド、3−クロロイソフタル酸ジクロリ
ド、3−メトキシイソフタル酸ジクロリド、2゜5−ジ
クロロテレフタル酸ジクロリド、トリクロロテレフタル
酸ジクロリド、テトラクロロテレフタル酸ジクロリド、
1.4−ナフタレンジカルボン酸ジクロリド、2,6−
ナフタレンジカルボン酸ジクロリド、3.3’ −ビフ
ェニルジカルボン酸ジクロリド、4,4′ −ビフェニ
ルジカルボン酸ジクロリド、ビス(4−クロロホルミル
フェニル)エーテル、ビス(4−クロロホルミルフェニ
ル)スルホン、ビス(4−クロロホルミルフェニル)エ
チレンなどを挙げることができる。これらは単独または
混合して用いられる。好ましくは、テレフタル酸ジクロ
リド、イソフタル酸ジクロリドである。
ンを有機系極性溶媒中に溶解して得られたポリエーテル
スルホンの有機系極性溶媒溶液中で、芳香族ジカルボン
酸ジハライドと芳香族ジアミン又はその誘導体との重縮
合反応を行う。この重縮合反応に用いる芳香族ジカルボ
ン酸ジハライドとして、テレフタル酸ジクロリド、イソ
フタル酸ジクロリド、3−クロロイソフタル酸ジクロリ
ド、3−メトキシイソフタル酸ジクロリド、2゜5−ジ
クロロテレフタル酸ジクロリド、トリクロロテレフタル
酸ジクロリド、テトラクロロテレフタル酸ジクロリド、
1.4−ナフタレンジカルボン酸ジクロリド、2,6−
ナフタレンジカルボン酸ジクロリド、3.3’ −ビフ
ェニルジカルボン酸ジクロリド、4,4′ −ビフェニ
ルジカルボン酸ジクロリド、ビス(4−クロロホルミル
フェニル)エーテル、ビス(4−クロロホルミルフェニ
ル)スルホン、ビス(4−クロロホルミルフェニル)エ
チレンなどを挙げることができる。これらは単独または
混合して用いられる。好ましくは、テレフタル酸ジクロ
リド、イソフタル酸ジクロリドである。
また芳香族ジアミンとしては、p−フェニレンジアミン
、m−フェニレンジアミン、4.4’ジアミノビフエニ
ル、3.4′ −ジアミノビフェニル、3.3′−ジア
ミノビフェニル、4,4′−ジアミノジフェニルエーテ
ル、3.4’ −ジアミノジフェニルエーテル、3.3
’ −ジアミノジフェニルエーテル、4,4′−ジアミ
ノジフェニルスルホン、3.4’ −ジアミノジフェニ
ルスルホン、3,3′ −ジアミノジフェニルスルホン
、4.4′−ジアミノジフェニルケトン、3,4′−ジ
アミノジフェニルケトン、3,3′ −ジアミノジフェ
ニルケトン、4,4′ −ジアミノジフェニルメタン、
3.4′ −ジアミノジフェニルメタン、3,3′−ジ
アミノジフェニルメタン、4゜4′−ジアミノジフェニ
ルスルフィド、3,4′−ジアミノジフェニルスルフィ
ド、3,3′ −ジアミノジフェニルスルフィド、2,
4−ジアミノトルエン、2,4−ジアミノクロロベンゼ
ン、4゜4′−ジアミノベンズアニリド、3.4′ −
ジアミノベンズアニリド、3′、4−ジアミノベンズア
ニリド、3.3′ −ジアミノベンズアニリド、4.4
′−ジアミノフェニルベンゾエート、3′4−ジアミノ
フェニルベンゾエートなどが挙げられ、これらは単独又
は混合して用いても良い。好ましくは、p−フ二二レン
ジアミン、m−フ二二レンジアミン、4.4′−ジアミ
ノジフェニルエーテル、3.4’ −ジアミノジフェニ
ルエーテルが用いられ、特に好ましくは、4,4′−ジ
アミノジフェニルエーテルが用いられる。
、m−フェニレンジアミン、4.4’ジアミノビフエニ
ル、3.4′ −ジアミノビフェニル、3.3′−ジア
ミノビフェニル、4,4′−ジアミノジフェニルエーテ
ル、3.4’ −ジアミノジフェニルエーテル、3.3
’ −ジアミノジフェニルエーテル、4,4′−ジアミ
ノジフェニルスルホン、3.4’ −ジアミノジフェニ
ルスルホン、3,3′ −ジアミノジフェニルスルホン
、4.4′−ジアミノジフェニルケトン、3,4′−ジ
アミノジフェニルケトン、3,3′ −ジアミノジフェ
ニルケトン、4,4′ −ジアミノジフェニルメタン、
3.4′ −ジアミノジフェニルメタン、3,3′−ジ
アミノジフェニルメタン、4゜4′−ジアミノジフェニ
ルスルフィド、3,4′−ジアミノジフェニルスルフィ
ド、3,3′ −ジアミノジフェニルスルフィド、2,
4−ジアミノトルエン、2,4−ジアミノクロロベンゼ
ン、4゜4′−ジアミノベンズアニリド、3.4′ −
ジアミノベンズアニリド、3′、4−ジアミノベンズア
ニリド、3.3′ −ジアミノベンズアニリド、4.4
′−ジアミノフェニルベンゾエート、3′4−ジアミノ
フェニルベンゾエートなどが挙げられ、これらは単独又
は混合して用いても良い。好ましくは、p−フ二二レン
ジアミン、m−フ二二レンジアミン、4.4′−ジアミ
ノジフェニルエーテル、3.4’ −ジアミノジフェニ
ルエーテルが用いられ、特に好ましくは、4,4′−ジ
アミノジフェニルエーテルが用いられる。
また芳香族ジアミン誘導体としては、前記の芳香族ジア
ミンの2個のアミノ基をそれぞれトリアルキルシリル化
して得られる、式 %式% (式中、Arは芳香族環を含む基であり、Rはメチル基
、エチル基などのアルキル基である)で示される、芳香
族ジアミンのN−1リアルキルシリル化誘導体が好まし
く用いられ、その具体例としては、p−フ二二レンジア
ミン、m−フ二二レンジアミン、4.4′−ジアミノジ
フェニルエーテル、3,4′ −ジアミノジフェニルエ
ーテルのN−1リメチルシリル化誘導体が挙げられる。
ミンの2個のアミノ基をそれぞれトリアルキルシリル化
して得られる、式 %式% (式中、Arは芳香族環を含む基であり、Rはメチル基
、エチル基などのアルキル基である)で示される、芳香
族ジアミンのN−1リアルキルシリル化誘導体が好まし
く用いられ、その具体例としては、p−フ二二レンジア
ミン、m−フ二二レンジアミン、4.4′−ジアミノジ
フェニルエーテル、3,4′ −ジアミノジフェニルエ
ーテルのN−1リメチルシリル化誘導体が挙げられる。
特に好ましいものは4.4′−ジアミノジフェニルエー
テルのN−トリメチルシリル化誘導体である。
テルのN−トリメチルシリル化誘導体である。
なお、ジアミン成分として芳香族ジアミンを用いる場合
、芳香族ジカルボン酸ジノ1ライドとの重縮合反応にお
いて副生ずるハロゲン化水素酸(HX)を受容(捕捉)
するために酸受容剤を用いるのが好ましく、このような
酸受容剤としては、エチレンオキシド、プロピレンオキ
シド、ブチレンオキシドなどのエポキシ化合物の1種ま
たは2種以上が用いられる。このエポキシ化合物はノ1
0ゲン化水素酸(HX)を受容することによりクロルヒ
ドリンになるが、このクロルヒドリンは低沸点であるた
め、簡単な減圧操作で除去でき、重合体中に残存するこ
とがない。
、芳香族ジカルボン酸ジノ1ライドとの重縮合反応にお
いて副生ずるハロゲン化水素酸(HX)を受容(捕捉)
するために酸受容剤を用いるのが好ましく、このような
酸受容剤としては、エチレンオキシド、プロピレンオキ
シド、ブチレンオキシドなどのエポキシ化合物の1種ま
たは2種以上が用いられる。このエポキシ化合物はノ1
0ゲン化水素酸(HX)を受容することによりクロルヒ
ドリンになるが、このクロルヒドリンは低沸点であるた
め、簡単な減圧操作で除去でき、重合体中に残存するこ
とがない。
ジアミン成分として、芳香族ジアミンのN−トリアルキ
ルシリル化誘導体を用いる場合、重縮合反応によりトリ
アルキルシリルハライド(R3S L X)が生じ、ハ
ロゲン化水素酸(HX)は副生じないので、上記の酸受
容剤を用いる必要はない。上記トリアルキルシリルハラ
イドも低沸点であるため簡単な減圧操作で除去でき、重
合体中に残存することがない。
ルシリル化誘導体を用いる場合、重縮合反応によりトリ
アルキルシリルハライド(R3S L X)が生じ、ハ
ロゲン化水素酸(HX)は副生じないので、上記の酸受
容剤を用いる必要はない。上記トリアルキルシリルハラ
イドも低沸点であるため簡単な減圧操作で除去でき、重
合体中に残存することがない。
次に芳香族ジカルボン酸ハライドと芳香族ジアミン又は
その誘導体との重縮合反応の条件について述べる。
その誘導体との重縮合反応の条件について述べる。
芳香族ジカルボン酸ジハライド[1コと芳香族ジアミン
[2a]又は芳香族ジアミン誘導体[2b]とのモル比
([1] / [2a]又は[2b])は110.9〜
1/1.1の範囲とするのが好ましい。その理由はこの
範囲以外であると、生成するポリアミドの分子量が低く
なるからである。特に好ましいモル比は110.98〜
1/1.02である。
[2a]又は芳香族ジアミン誘導体[2b]とのモル比
([1] / [2a]又は[2b])は110.9〜
1/1.1の範囲とするのが好ましい。その理由はこの
範囲以外であると、生成するポリアミドの分子量が低く
なるからである。特に好ましいモル比は110.98〜
1/1.02である。
芳香族ジカルボン酸ジハライドと芳香族ジアミン又は芳
香族ジアミン誘導体との仕込み量は、下式を満たすよう
に定められる。
香族ジアミン誘導体との仕込み量は、下式を満たすよう
に定められる。
WPA/ WPES = 1 / 99〜99/1(こ
こにW、Aは、芳香族ジカルボン酸ハライドと芳香族ジ
アミン又は芳香族ジアミン誘導体から100%の収率で
生成するポリアミドの重量(g)を示し、W、E5は仕
込まれたポリエーテルスルホンの重量(g)を示す) その理由は、WP A / W p = sが上記範囲
外となると、重縮合反応後に得られるポリアミド−ポリ
エーテルスルホン組成物を成形して得られた成形物を熱
処理しても好ましい耐熱性を示さないからである。特に
好ましいWPA/WPESは80/20〜50150で
ある。
こにW、Aは、芳香族ジカルボン酸ハライドと芳香族ジ
アミン又は芳香族ジアミン誘導体から100%の収率で
生成するポリアミドの重量(g)を示し、W、E5は仕
込まれたポリエーテルスルホンの重量(g)を示す) その理由は、WP A / W p = sが上記範囲
外となると、重縮合反応後に得られるポリアミド−ポリ
エーテルスルホン組成物を成形して得られた成形物を熱
処理しても好ましい耐熱性を示さないからである。特に
好ましいWPA/WPESは80/20〜50150で
ある。
またジアミン成分として、芳香族ジアミン[2a]を用
いた場合、酸受容体[3コの仕込み量は、 [3コ/[
2a]のモル比が2/1〜20/lとなる量が好ましい
。その理由は、モル比が2/1未満であると重縮合反応
により副生ずるハロゲン化水素酸(HX’)が重合体に
残存することがあり、これが重合体の性質に悪影響を及
ぼす可能性があり、一方20/1を超えると、酸受容剤
の量が多くなり、これが重合体の貧溶媒として作用し、
均一に重縮合反応が進行しない可能性があるからである
。特に好ましいモル比は10/1またはその近傍である
。
いた場合、酸受容体[3コの仕込み量は、 [3コ/[
2a]のモル比が2/1〜20/lとなる量が好ましい
。その理由は、モル比が2/1未満であると重縮合反応
により副生ずるハロゲン化水素酸(HX’)が重合体に
残存することがあり、これが重合体の性質に悪影響を及
ぼす可能性があり、一方20/1を超えると、酸受容剤
の量が多くなり、これが重合体の貧溶媒として作用し、
均一に重縮合反応が進行しない可能性があるからである
。特に好ましいモル比は10/1またはその近傍である
。
重縮合温度は、ジアミン成分として芳香族ジアミンを用
い、酸受容剤を用いる場合と、ジアミン成分として芳香
族ジアミン誘導体を用いる場合とて異なる。すなわち、
前者の場合は、−30〜30℃の温度範囲で重縮合反応
を行うのが好ましい。その理由は、−30℃未満である
と、重合体が析出したりあるいは溶媒が凍結する可能性
かあり、一方、30℃を超えると、低沸点の酸受容剤が
蒸発する可能性があるからである。特に好ましくは、−
10〜20°Cである。後者の場合は、30〜165℃
の温度範囲で重縮合反応を行うのか好ましい。その理由
は、−30℃未満であると、重合体が析出したりあるい
は溶媒が凍結する可能性があり、一方、165℃を超え
ると、重合体が溶媒により劣化あるいは分解される可能
性があるからである。特に好ましくは、−10〜50℃
である。
い、酸受容剤を用いる場合と、ジアミン成分として芳香
族ジアミン誘導体を用いる場合とて異なる。すなわち、
前者の場合は、−30〜30℃の温度範囲で重縮合反応
を行うのが好ましい。その理由は、−30℃未満である
と、重合体が析出したりあるいは溶媒が凍結する可能性
かあり、一方、30℃を超えると、低沸点の酸受容剤が
蒸発する可能性があるからである。特に好ましくは、−
10〜20°Cである。後者の場合は、30〜165℃
の温度範囲で重縮合反応を行うのか好ましい。その理由
は、−30℃未満であると、重合体が析出したりあるい
は溶媒が凍結する可能性があり、一方、165℃を超え
ると、重合体が溶媒により劣化あるいは分解される可能
性があるからである。特に好ましくは、−10〜50℃
である。
重縮合反応は、窒素雰囲気などの不活性ガス雰囲気にし
て常圧又は加圧下に行うのが好ましく、特に常圧で行う
のが好ましい。ジアミン成分として芳香族ジアミンを用
い、酸受容剤を用いる場合には、減圧にすると低沸点の
酸受容剤が揮散する可能性があるので、減圧下に重縮合
反応を行うことは避けるべきであるが、ジアミン成分と
して芳香族ジアミン誘導体を用い、酸受容体を用いない
場合は、減圧下に重縮合反応を行うこともできる。
て常圧又は加圧下に行うのが好ましく、特に常圧で行う
のが好ましい。ジアミン成分として芳香族ジアミンを用
い、酸受容剤を用いる場合には、減圧にすると低沸点の
酸受容剤が揮散する可能性があるので、減圧下に重縮合
反応を行うことは避けるべきであるが、ジアミン成分と
して芳香族ジアミン誘導体を用い、酸受容体を用いない
場合は、減圧下に重縮合反応を行うこともできる。
この減圧下の重縮合反応における真空度は0.01mm
Hg以上とするのが好ましい。その理由は0.01mm
Hg未満の真空にするのは、実際上困難であるからであ
る。
Hg以上とするのが好ましい。その理由は0.01mm
Hg未満の真空にするのは、実際上困難であるからであ
る。
重縮合時間は数分〜100時間以内とするのが好ましい
。その理由は通常100時間以内で重合は完結するから
である。特に好ましい重合時間は数分〜24時間である
。
。その理由は通常100時間以内で重合は完結するから
である。特に好ましい重合時間は数分〜24時間である
。
次に方法(1)における重縮合反応操作法の一例ついて
述べる。
述べる。
先ず、ポリエーテルスルホンの有機系極性溶媒溶液に芳
香族ジアミン又はその誘導体を添加し、室温で溶解する
。次に、得られた溶液を一10℃に冷却する。ジアミン
成分として芳香族ジアミンを用いた場合は酸受容剤を添
加する。次に芳香族ジカルホン酸ジハライドを添加し、
上述の重縮合条件て重縮合反応を行う。反応終了後、反
応溶液をそのままキャスト成形してポリアミド−ポリエ
ーテルスルホン組成物からなるフィルムなどを成形する
ことができる。また反応終了後、反応溶液を大過剰のメ
タノール中に注ぎ、生成重合体を沈殿させ、沈殿物を濾
取、乾燥して粉末を得ることもてきる。この粉末のIR
スペクトルにより、アミド基の存在が認められることか
ら、ポリアミドの生成が確認される。またIRスペクト
ルによればスルホン基の存在も認められるので、この粉
末はポリアミド−ポリエーテルスルホン組成物であるこ
とが明らかである。粉末状のポリアミド−ポリエーテル
スルホン組成物の収率はほぼ100%である。
香族ジアミン又はその誘導体を添加し、室温で溶解する
。次に、得られた溶液を一10℃に冷却する。ジアミン
成分として芳香族ジアミンを用いた場合は酸受容剤を添
加する。次に芳香族ジカルホン酸ジハライドを添加し、
上述の重縮合条件て重縮合反応を行う。反応終了後、反
応溶液をそのままキャスト成形してポリアミド−ポリエ
ーテルスルホン組成物からなるフィルムなどを成形する
ことができる。また反応終了後、反応溶液を大過剰のメ
タノール中に注ぎ、生成重合体を沈殿させ、沈殿物を濾
取、乾燥して粉末を得ることもてきる。この粉末のIR
スペクトルにより、アミド基の存在が認められることか
ら、ポリアミドの生成が確認される。またIRスペクト
ルによればスルホン基の存在も認められるので、この粉
末はポリアミド−ポリエーテルスルホン組成物であるこ
とが明らかである。粉末状のポリアミド−ポリエーテル
スルホン組成物の収率はほぼ100%である。
上述したように、この方法(I)によれば、ポリエーテ
ルスルホンの有機系極性溶媒溶液中で、芳香族ジカルボ
ン酸ジハライドと芳香族ジアミン又はその誘導体との重
縮合反応を行い、ポリアミドをその場で生成させるので
、予めポリアミドを製造する必要がない。従って予めポ
リアミドを製造する場合に必要な、反応後の濾過、乾燥
などの工程を行う必要がないので、操作が極めて簡便で
あるという利点がある。また操作が極めて簡便であるこ
とから、得られるポリアミド−ポリエーテルスルホン組
成物の収率が極めて高いという利点もある。
ルスルホンの有機系極性溶媒溶液中で、芳香族ジカルボ
ン酸ジハライドと芳香族ジアミン又はその誘導体との重
縮合反応を行い、ポリアミドをその場で生成させるので
、予めポリアミドを製造する必要がない。従って予めポ
リアミドを製造する場合に必要な、反応後の濾過、乾燥
などの工程を行う必要がないので、操作が極めて簡便で
あるという利点がある。また操作が極めて簡便であるこ
とから、得られるポリアミド−ポリエーテルスルホン組
成物の収率が極めて高いという利点もある。
また、ここで得られるポリアミド−ポリエーテルスルホ
ン組成物中のポリアミド成分は、その分子量が対数粘度
η1oゎにおいて1.6dj2/gを超えるものも生成
し得るので、従来の溶液ブレンド法では得られなかった
高分子量ポリアミド成分を含むポリアミド−ポリエーテ
ルスルホン組成物を得ることができる。
ン組成物中のポリアミド成分は、その分子量が対数粘度
η1oゎにおいて1.6dj2/gを超えるものも生成
し得るので、従来の溶液ブレンド法では得られなかった
高分子量ポリアミド成分を含むポリアミド−ポリエーテ
ルスルホン組成物を得ることができる。
次に方法(II)について説明する。この方法(II)
は、有機系極性溶媒中で、芳香族ジカルボン酸ジハライ
ドと芳香族ジアミン又はその誘導体との重縮合反応を行
い、重縮合反応が完結する前にポリエーテルスルホンを
添加し、混合することを特徴とするものであり、用いら
れる芳香族ジカルボン酸ジハライド、芳香族ジアミン又
はその誘導体、有機系極性溶媒およびポリエーテルスル
ホンは、方法(I)で用いられたものがそのまま使用さ
れるので、これらの説明は省略する。またジアミン成分
として芳香族ジアミンを用いる場合に、酸受容剤を用い
るのが好ましいことも方法(I)の場合と同様である。
は、有機系極性溶媒中で、芳香族ジカルボン酸ジハライ
ドと芳香族ジアミン又はその誘導体との重縮合反応を行
い、重縮合反応が完結する前にポリエーテルスルホンを
添加し、混合することを特徴とするものであり、用いら
れる芳香族ジカルボン酸ジハライド、芳香族ジアミン又
はその誘導体、有機系極性溶媒およびポリエーテルスル
ホンは、方法(I)で用いられたものがそのまま使用さ
れるので、これらの説明は省略する。またジアミン成分
として芳香族ジアミンを用いる場合に、酸受容剤を用い
るのが好ましいことも方法(I)の場合と同様である。
方法(II)における重縮合反応の条件も基本的に方法
(I)の場合と同様であるので、下記の相違点(イ)お
よび(ロ)のみについて説明する。
(I)の場合と同様であるので、下記の相違点(イ)お
よび(ロ)のみについて説明する。
(イ)方法(II)においては芳香族ジカルボン酸ジハ
ライドと芳香族ジアミン又はその誘導体とを有機系極性
溶媒中に添加して混合するが、有機系極性溶媒中の芳香
族ジカルボン酸ハライドと芳香族ジアミン又はその誘導
体の濃度(%)は、式 %式% (ここにW、Aは、芳香族ジカルボン酸ハライドと芳香
族ジアミン又はその誘導体から100%の収率て生成す
るポリアミドの重量(g)を示し、■、。LVは溶媒の
容量(!R1)を示す)により計算したときに、その値
が0.1〜50%となる範囲が好ましい。その理由は、
0.1%未満てはモノマー濃度が低くなり、生成するポ
リアミドの分子量が低くなる可能性があり、一方50%
を超えると重縮合反応中に重合体が沈殿する可能性があ
るからである。特に好ましい範囲は3〜15%である。
ライドと芳香族ジアミン又はその誘導体とを有機系極性
溶媒中に添加して混合するが、有機系極性溶媒中の芳香
族ジカルボン酸ハライドと芳香族ジアミン又はその誘導
体の濃度(%)は、式 %式% (ここにW、Aは、芳香族ジカルボン酸ハライドと芳香
族ジアミン又はその誘導体から100%の収率て生成す
るポリアミドの重量(g)を示し、■、。LVは溶媒の
容量(!R1)を示す)により計算したときに、その値
が0.1〜50%となる範囲が好ましい。その理由は、
0.1%未満てはモノマー濃度が低くなり、生成するポ
リアミドの分子量が低くなる可能性があり、一方50%
を超えると重縮合反応中に重合体が沈殿する可能性があ
るからである。特に好ましい範囲は3〜15%である。
(ロ)重合操作法の一例について述べると以下の通りで
ある。すなわち、先ず芳香族ジアミン又はその誘導体を
室温で有機系極性溶媒中に溶解する。次に、溶液を一1
0℃に冷却する。ジアミン成分として芳香族ジカルボン
酸を用いた場合には、酸受容剤を添加す、る。その後、
芳香族ジカルボン酸ジハライドを添加して、上述の条件
下に重縮合反応を行う。
ある。すなわち、先ず芳香族ジアミン又はその誘導体を
室温で有機系極性溶媒中に溶解する。次に、溶液を一1
0℃に冷却する。ジアミン成分として芳香族ジカルボン
酸を用いた場合には、酸受容剤を添加す、る。その後、
芳香族ジカルボン酸ジハライドを添加して、上述の条件
下に重縮合反応を行う。
この方法(II)においては、前記の如く、先ず芳香族
ジカルボン酸ジハライドと芳香族ジアミン又はその誘導
体との重縮合反応を行うが、重縮合反応が完結する前に
ポリエーテルスルホンを添加し、混合する。ポリエーテ
ルスルホンはそのまま又は有機系極性溶媒に溶解して添
加される。ポリエーテルスルホンの添加量は、式 %式% (ここにWPAは、芳香族ジカルボン酸ジハライドと芳
香族ジアミン又はその誘導体から100%の収率で生成
するポリアミドの重量(g)を示し、WPEsは、仕込
まれるポリエーテルスルホンの重量(g)を示す) により計算したときに、その値が1/99〜99/1と
なるような範囲が好ましい。その理由は、上記の範囲以
外であると、得られるポリアミド−ポリエーテルスルホ
ン組成物を成形して得られる成形物を熱処理しても好ま
しい耐熱性を示さないからである。特に好ましい範囲は
80/20〜50150である。
ジカルボン酸ジハライドと芳香族ジアミン又はその誘導
体との重縮合反応を行うが、重縮合反応が完結する前に
ポリエーテルスルホンを添加し、混合する。ポリエーテ
ルスルホンはそのまま又は有機系極性溶媒に溶解して添
加される。ポリエーテルスルホンの添加量は、式 %式% (ここにWPAは、芳香族ジカルボン酸ジハライドと芳
香族ジアミン又はその誘導体から100%の収率で生成
するポリアミドの重量(g)を示し、WPEsは、仕込
まれるポリエーテルスルホンの重量(g)を示す) により計算したときに、その値が1/99〜99/1と
なるような範囲が好ましい。その理由は、上記の範囲以
外であると、得られるポリアミド−ポリエーテルスルホ
ン組成物を成形して得られる成形物を熱処理しても好ま
しい耐熱性を示さないからである。特に好ましい範囲は
80/20〜50150である。
ポリエーテルスルホンを添加後に得られる反応溶液をそ
のままキャスト成形してポリアミドーポリエーテルスル
ホン組成物からなるフィルム等を成形することができる
。また反応溶液を大過剰のメタノール中に注ぎ、生成重
合体を沈殿させ、沈殿物を濾取、乾燥して粉末を得るこ
ともできる。
のままキャスト成形してポリアミドーポリエーテルスル
ホン組成物からなるフィルム等を成形することができる
。また反応溶液を大過剰のメタノール中に注ぎ、生成重
合体を沈殿させ、沈殿物を濾取、乾燥して粉末を得るこ
ともできる。
この粉末のIRスペクトルにより、アミド基の存在が認
められることから、ポリアミドの生成が確認される。ま
たIRスペクトルによればスルホン基の存在も認められ
るので、この粉末はポリアミド−ポリエーテルスルホン
組成物であることが明らかである。粉末状のポリアミド
−ポリエーテルスルホン組成物の収率はほぼ100%で
ある。
められることから、ポリアミドの生成が確認される。ま
たIRスペクトルによればスルホン基の存在も認められ
るので、この粉末はポリアミド−ポリエーテルスルホン
組成物であることが明らかである。粉末状のポリアミド
−ポリエーテルスルホン組成物の収率はほぼ100%で
ある。
上述したように、この方法(II)によれば、有機系極
性溶媒溶液中で、芳香族ジカルボン酸ジハライドと芳香
族ジアミン又はその誘導体との重縮合反応を行い、その
後ポリエーテルスルホンを添加するので、予めポリアミ
ドを製造する必要がない。従って予めポリアミドを製造
する場合に必要な、濾過、乾燥などの工程を行う必要が
ないので、操作が極めて簡便であるという利点がある。
性溶媒溶液中で、芳香族ジカルボン酸ジハライドと芳香
族ジアミン又はその誘導体との重縮合反応を行い、その
後ポリエーテルスルホンを添加するので、予めポリアミ
ドを製造する必要がない。従って予めポリアミドを製造
する場合に必要な、濾過、乾燥などの工程を行う必要が
ないので、操作が極めて簡便であるという利点がある。
また操作が極めて簡便であることから、得られるポリア
ミド−ポリエーテルスルホン組成物の収率が極めて高い
という利点もある。
ミド−ポリエーテルスルホン組成物の収率が極めて高い
という利点もある。
さらに、この場合にも対数粘度η、。、において1.6
dl/gを超える高分子量のポリアミドが生成するので
、機械的性質にすぐれたポリアミドポリエーテルスルホ
ン組成物を得ることができるという利点がある。
dl/gを超える高分子量のポリアミドが生成するので
、機械的性質にすぐれたポリアミドポリエーテルスルホ
ン組成物を得ることができるという利点がある。
[実施例]
以下実施例により本発明をさらに説明するが、本発明は
これらの実施例に限定されるものでない。
これらの実施例に限定されるものでない。
実施例1(本発明の方法(1))
窒素ガス雰囲気下で0.7074gのポリエーテルスル
ホン(ICI社製ヴイクトレックス、η+oh =0.
52dj!/g)を10威のN、 N−ジメチルアセ
トアミド(DMAc)に溶解させた。
ホン(ICI社製ヴイクトレックス、η+oh =0.
52dj!/g)を10威のN、 N−ジメチルアセ
トアミド(DMAc)に溶解させた。
完全溶解後、1.723g (5mmoi)のN。
N′−ビス(トリメチルシリル)−p、p’ −ジアミ
ノジフェニルエーテルを加えて、溶解させた。
ノジフェニルエーテルを加えて、溶解させた。
溶解後、溶液を20℃に保ち、続いてイソフタル酸クロ
リド1.015g (5mmolを固形のまま一度に加
え、20℃で20分間攪拌して重縮合反応を行った。反
応後、重合液を、DMAcを加えて希釈した後、500
成のメタノールに注ぎ、白色の組成物を沈殿させた。濾
別後、この組成物をメタノール中で還流下に約1時間処
理し、80℃で1昼夜減圧乾燥した。得られた組成物の
収量は2. 36g (収率99%)であった。
リド1.015g (5mmolを固形のまま一度に加
え、20℃で20分間攪拌して重縮合反応を行った。反
応後、重合液を、DMAcを加えて希釈した後、500
成のメタノールに注ぎ、白色の組成物を沈殿させた。濾
別後、この組成物をメタノール中で還流下に約1時間処
理し、80℃で1昼夜減圧乾燥した。得られた組成物の
収量は2. 36g (収率99%)であった。
また、ここで得られた組成物中のポリアミドの対数粘度
ηlnhは、得られた組成物の対数粘度(測定条件:溶
媒・・・N−メチル−2−ピロリドン、濃度・・・0.
5g/dj2、温度・・・30℃)と原料のポリエーテ
ルスルホンの対数粘度(測定条件は、組成物の対数粘度
を測定する場合と同じである。)から補外して求とめた
ところ、1.2di/gであった。
ηlnhは、得られた組成物の対数粘度(測定条件:溶
媒・・・N−メチル−2−ピロリドン、濃度・・・0.
5g/dj2、温度・・・30℃)と原料のポリエーテ
ルスルホンの対数粘度(測定条件は、組成物の対数粘度
を測定する場合と同じである。)から補外して求とめた
ところ、1.2di/gであった。
得られた組成物のIRスペクトルを第1図に示す。IR
スペクトルより1650cm−1にアミドのC=0伸縮
振動が認められ、ポリアミドが生成していることが明ら
かである。また1160cm−1に対称SO2伸縮振動
が認められ、ポリエーテルスルホンが含まれていること
も明らかである。元素分析結果を以下に示す。
スペクトルより1650cm−1にアミドのC=0伸縮
振動が認められ、ポリアミドが生成していることが明ら
かである。また1160cm−1に対称SO2伸縮振動
が認められ、ポリエーテルスルホンが含まれていること
も明らかである。元素分析結果を以下に示す。
CHNS
計算値(%) 70,25 4,09 6.52 3
.20実測値(%) 68.82 4.09 5.9
4 4.311Rスペクトル及び元素分析結果から、得
られたポリアミド−ポリエーテルスルホン組成物は下記
構造を有することが確認された。
.20実測値(%) 68.82 4.09 5.9
4 4.311Rスペクトル及び元素分析結果から、得
られたポリアミド−ポリエーテルスルホン組成物は下記
構造を有することが確認された。
ポリアミド(P A)
ポリエーテルスルホン(PES)
PA/PE5=70/30 (wt/wt)実施例2
(本発明の方法(I)) 窒素ガス雰囲気下で0.7074gのポリエーテルスル
ホン(ICI社製ヴイクトレックス、η+、、h =
0. 52 d fl/ g)を10厩のN、N−ジメ
チルアセトアミド(DMA c )に溶解させた。完全
溶解後、1.723g (5mmoi)のN、N’−ビ
ス(トリメチルシリル)−p、p−ジアミノジフェニル
エーテルを加えて、溶解させた。溶解後、溶液を塩−氷
浴で冷却して一10℃にした後、続いて、イソフタル酸
クロリド1.025g (5,05mmoj2)を固形
のまま一度に加え、−10℃で3時間攪拌して重縮合反
応を行った。反応後、重合液を、DMAcを加えて希釈
した後、500厩のメタノールに注ぎ、白色の組成物を
沈殿させた。濾別後、組成物をメタノール中で還流下に
約1時間処理し、80℃で1昼夜減圧乾燥した。得られ
た組成物の収量は、2、 36g (収率99%)であ
り、この組成物中のポリアミドのη1..hは1.4d
1/gであった。
(本発明の方法(I)) 窒素ガス雰囲気下で0.7074gのポリエーテルスル
ホン(ICI社製ヴイクトレックス、η+、、h =
0. 52 d fl/ g)を10厩のN、N−ジメ
チルアセトアミド(DMA c )に溶解させた。完全
溶解後、1.723g (5mmoi)のN、N’−ビ
ス(トリメチルシリル)−p、p−ジアミノジフェニル
エーテルを加えて、溶解させた。溶解後、溶液を塩−氷
浴で冷却して一10℃にした後、続いて、イソフタル酸
クロリド1.025g (5,05mmoj2)を固形
のまま一度に加え、−10℃で3時間攪拌して重縮合反
応を行った。反応後、重合液を、DMAcを加えて希釈
した後、500厩のメタノールに注ぎ、白色の組成物を
沈殿させた。濾別後、組成物をメタノール中で還流下に
約1時間処理し、80℃で1昼夜減圧乾燥した。得られ
た組成物の収量は、2、 36g (収率99%)であ
り、この組成物中のポリアミドのη1..hは1.4d
1/gであった。
IRスペクトル分析結果および次の元素分析結果より、
この組成物は実施例1と同じ化学構造および組成を有す
るものであると認められた。
この組成物は実施例1と同じ化学構造および組成を有す
るものであると認められた。
CHNS
計算値(%) 70,25 4.09 6.52 3
.20実測値(%) 67.82 4,27 5,8
4 4.20実施例3(本発明の方法(■)) 窒素ガス雰囲気下で0.7074gのポリエーテルスル
ホン(ICI社製ヴイクトレックス、η+nh =0.
52 d 1/ g)を10戒のN、N−ジメチルア
セトアミド(DMA c )に溶解させた。完全溶解後
、1.7230g (5mmoA)のN、N’−ビス(
トリメチルシリル) −pp′−ジアミノジフェニルエ
ーテルを加えて、溶解させた。溶解後、溶液を塩−氷浴
で一10℃に冷却し、続いて、イソフタル酸クロリド1
.0350g (5,1mmoj2)を固形のまま一度
に加え、−10℃で3時間攪拌して重縮合反応を行った
。反応後、重合液を、DMAcを加えて希釈した後、5
00彪のメタノールに注ぎ、白色の組成物を沈殿させた
。濾別後、組成物をメタノール中で還流下に約1時間処
理し、80℃で1昼夜減圧乾燥した。得られた組成物の
収量は、2. 36g(収率99%)であり、この組成
物中のポリアミドのηinhは2.3di/gであった
。
.20実測値(%) 67.82 4,27 5,8
4 4.20実施例3(本発明の方法(■)) 窒素ガス雰囲気下で0.7074gのポリエーテルスル
ホン(ICI社製ヴイクトレックス、η+nh =0.
52 d 1/ g)を10戒のN、N−ジメチルア
セトアミド(DMA c )に溶解させた。完全溶解後
、1.7230g (5mmoA)のN、N’−ビス(
トリメチルシリル) −pp′−ジアミノジフェニルエ
ーテルを加えて、溶解させた。溶解後、溶液を塩−氷浴
で一10℃に冷却し、続いて、イソフタル酸クロリド1
.0350g (5,1mmoj2)を固形のまま一度
に加え、−10℃で3時間攪拌して重縮合反応を行った
。反応後、重合液を、DMAcを加えて希釈した後、5
00彪のメタノールに注ぎ、白色の組成物を沈殿させた
。濾別後、組成物をメタノール中で還流下に約1時間処
理し、80℃で1昼夜減圧乾燥した。得られた組成物の
収量は、2. 36g(収率99%)であり、この組成
物中のポリアミドのηinhは2.3di/gであった
。
IRスペクトル分析結果および次の元素分析結果より、
この組成物は実施例1と同じ化学構造および組成を有す
るものであると認められた。
この組成物は実施例1と同じ化学構造および組成を有す
るものであると認められた。
CHNS
計算値(%) 70.25 4.09 B、52
3.20実測値(%) 68.32 3.98 5,
85 4.00実施例4(本発明の方法(I)) 窒素ガス雰囲気下で0.7074gのポリエーテルスル
ホン(IC1社製ヴイクトレツクス、ηInh =0.
52dl/g)を10厩のN、N−ジメチルアセトアミ
ド(DMAc)に溶解させた。完全溶解後、1.001
2g (5mmojりの4,4′−ジアミノジフェニル
エーテルを加えて、溶解させた。溶解後、溶液を塩−氷
浴で一10°Cに冷却し、続いて、3.5戒(50mm
ojりのプロピレンオキシドを加え、直ちにイソフタル
酸クロリド1.0151g (5mmou)を固形のま
ま一度に加えた。−10°Cで1時間攪拌し、続いて室
温で2時間攪拌して重縮合反応を行った。反応後、重合
液を、DMAcを加えて希釈し、500厩のメタノール
に注ぎ、白色の組成物を沈殿させた。濾別後、組成物を
メタノール中で還流下に約1時間処理し、80°Cて1
昼夜減圧乾燥した。得られた組成物の収量は2、 37
g (収率100%)であり、この組成物中のポリアミ
ドのηinhは1.8dj2/gてあった。得られた組
成物のIRスペクトルを第2図に示す。
3.20実測値(%) 68.32 3.98 5,
85 4.00実施例4(本発明の方法(I)) 窒素ガス雰囲気下で0.7074gのポリエーテルスル
ホン(IC1社製ヴイクトレツクス、ηInh =0.
52dl/g)を10厩のN、N−ジメチルアセトアミ
ド(DMAc)に溶解させた。完全溶解後、1.001
2g (5mmojりの4,4′−ジアミノジフェニル
エーテルを加えて、溶解させた。溶解後、溶液を塩−氷
浴で一10°Cに冷却し、続いて、3.5戒(50mm
ojりのプロピレンオキシドを加え、直ちにイソフタル
酸クロリド1.0151g (5mmou)を固形のま
ま一度に加えた。−10°Cで1時間攪拌し、続いて室
温で2時間攪拌して重縮合反応を行った。反応後、重合
液を、DMAcを加えて希釈し、500厩のメタノール
に注ぎ、白色の組成物を沈殿させた。濾別後、組成物を
メタノール中で還流下に約1時間処理し、80°Cて1
昼夜減圧乾燥した。得られた組成物の収量は2、 37
g (収率100%)であり、この組成物中のポリアミ
ドのηinhは1.8dj2/gてあった。得られた組
成物のIRスペクトルを第2図に示す。
第2図に示したIRスペクトルの分析結果および次の元
素分析結果より、この組成物は実施例1と同じ化学構造
および組成を有するものであると認められた。
素分析結果より、この組成物は実施例1と同じ化学構造
および組成を有するものであると認められた。
CHNS
計算値(%) 70,25 4.09 6.52 3
.20実測値(%) 68.61 3.93 5.8
3 4.09実施例5(本発明の方法(1)) 窒素ガス雰囲気下で1.1000gのポリエーテルスル
ホン(ICI社製つ゛イクトレックス、ηlnh =0
. 52dj2/g)を10厩のN、 Nジメチルア
セトアミド(DMAc)に溶解させた。完全溶解後、1
.7235g (5mmo1)のN、N’−ビス(トリ
メチルシリル)−p。
.20実測値(%) 68.61 3.93 5.8
3 4.09実施例5(本発明の方法(1)) 窒素ガス雰囲気下で1.1000gのポリエーテルスル
ホン(ICI社製つ゛イクトレックス、ηlnh =0
. 52dj2/g)を10厩のN、 Nジメチルア
セトアミド(DMAc)に溶解させた。完全溶解後、1
.7235g (5mmo1)のN、N’−ビス(トリ
メチルシリル)−p。
p −ジアミノジフェニルエーテルを加えて、溶解させ
た。溶解後、溶液を塩−氷浴で一10℃まで冷却し、続
いて、イソフタル酸クロリド1.0150g (5mm
oj2)を固形のまま一度に加え、−10℃で3時間攪
拌して重縮合反応を行った。反応後、重合液を、DMA
cを加えて希釈した後、500戒のメタノールに注ぎ、
白色の組成物を沈殿させた。濾別後、組成物をメタノー
ル中で還流下に約1時間処理し、80℃で1昼夜減圧乾
燥した。得られた組成物の収量は2.74g(収率99
%)であり、この組成物中のポリアミドのη1..hは
1.3di/gであった。IRスペクトルを第3図に示
す。
た。溶解後、溶液を塩−氷浴で一10℃まで冷却し、続
いて、イソフタル酸クロリド1.0150g (5mm
oj2)を固形のまま一度に加え、−10℃で3時間攪
拌して重縮合反応を行った。反応後、重合液を、DMA
cを加えて希釈した後、500戒のメタノールに注ぎ、
白色の組成物を沈殿させた。濾別後、組成物をメタノー
ル中で還流下に約1時間処理し、80℃で1昼夜減圧乾
燥した。得られた組成物の収量は2.74g(収率99
%)であり、この組成物中のポリアミドのη1..hは
1.3di/gであった。IRスペクトルを第3図に示
す。
第3図に示したIRスペクトルの分析結果および次の元
素分析結果より、この組成物は実施例1と同じ化学構造
を有し、PA/PES組成比が60/40 (w t
7w t )であるものと認められた。
素分析結果より、この組成物は実施例1と同じ化学構造
を有し、PA/PES組成比が60/40 (w t
7w t )であるものと認められた。
CHNS
計算値(%) 69.32 4.02 5.77 4
.41実測値(%) 67.59 4.05 5.0
2 4.92実施例6(本発明の方法(1)) 窒素ガス雰囲気下で1.1000gのポリニー7/l/
スルホン(ICI社製ヴイクトレックス、η1..h士
0.52dj2/g)を10厩のN、 Nジメチルア
セトアミド(DMA c )に溶解させた。完全溶解後
、1.0012g (5mmo1)の4,4′−ジアミ
ノジフェニルエーテルを加えて、溶解させた。溶解後、
溶液を塩−氷浴で一10℃に冷却し、続いて、3.5厩
(5mmo1)のプロピレンオキシドを加え、直ちにイ
ソフタル酸クロリド1.0150g (5mmo1)を
固形のまま一度に加えた。−10°Cで1時間攪拌し、
続いて、室温で14時間攪拌して重縮合反応を行った。
.41実測値(%) 67.59 4.05 5.0
2 4.92実施例6(本発明の方法(1)) 窒素ガス雰囲気下で1.1000gのポリニー7/l/
スルホン(ICI社製ヴイクトレックス、η1..h士
0.52dj2/g)を10厩のN、 Nジメチルア
セトアミド(DMA c )に溶解させた。完全溶解後
、1.0012g (5mmo1)の4,4′−ジアミ
ノジフェニルエーテルを加えて、溶解させた。溶解後、
溶液を塩−氷浴で一10℃に冷却し、続いて、3.5厩
(5mmo1)のプロピレンオキシドを加え、直ちにイ
ソフタル酸クロリド1.0150g (5mmo1)を
固形のまま一度に加えた。−10°Cで1時間攪拌し、
続いて、室温で14時間攪拌して重縮合反応を行った。
反応後、重合液を、DMAcを加えて希釈した後、50
0瀬のメタノールに注ぎ、白色の組成物を沈殿させた。
0瀬のメタノールに注ぎ、白色の組成物を沈殿させた。
濾別後、組成物をメタノール中で還流下に約1時間処理
し、80°Cで1昼夜減圧乾燥した。得られた組成物の
収量は2. 74g (収率99%)であり、この組成
物中のポリアミドのηlnhは1.6dj!/gであっ
た。IRスペクトルを第4図に示す。
し、80°Cで1昼夜減圧乾燥した。得られた組成物の
収量は2. 74g (収率99%)であり、この組成
物中のポリアミドのηlnhは1.6dj!/gであっ
た。IRスペクトルを第4図に示す。
第4図に示したIRスペクトルの分析結果および次の元
素分析結果より、この組成物は実施例1と同じ化学構造
を有し、PA/PES組成比が60/40 (wt/w
t)であるものと認められた。
素分析結果より、この組成物は実施例1と同じ化学構造
を有し、PA/PES組成比が60/40 (wt/w
t)であるものと認められた。
CHNS
計算値(%) 69,32 4.02 5.77 4
.41実測値(%) 67.26 3.90 5.O
L 5.35実施例7(本発明の方法(■)) 窒素ガス雰囲気下で1.0012g (5mmo1)の
4,4′−ジアミノジフェニルエーテルを10dのN、
N−ジメチルアセトアミド(DMAc)に溶解させ
た。完全溶解後、溶液を塩−氷浴で一10℃に冷却し、
3.5戴(50mmo、j)のプロピレンオキシドを加
え、直ちにイソフタル酸クロリド1.0150g (5
mmoIl)を固形のまま一度に加えた。−10°Cて
1時間攪拌し、続いて、室温で2時間攪拌して重縮合反
応を行った。
.41実測値(%) 67.26 3.90 5.O
L 5.35実施例7(本発明の方法(■)) 窒素ガス雰囲気下で1.0012g (5mmo1)の
4,4′−ジアミノジフェニルエーテルを10dのN、
N−ジメチルアセトアミド(DMAc)に溶解させ
た。完全溶解後、溶液を塩−氷浴で一10℃に冷却し、
3.5戴(50mmo、j)のプロピレンオキシドを加
え、直ちにイソフタル酸クロリド1.0150g (5
mmoIl)を固形のまま一度に加えた。−10°Cて
1時間攪拌し、続いて、室温で2時間攪拌して重縮合反
応を行った。
反応溶液に、ポリエーテルスルホン(IC1社製ヴイク
トレックス、η+oh = 0. 52 d 1/ g
)0.7074gを加え、フラスコ内壁に付着している
ポリエーテルスルホンをDMAc67でリンスした。室
温で24時間攪拌下に反応を行った。
トレックス、η+oh = 0. 52 d 1/ g
)0.7074gを加え、フラスコ内壁に付着している
ポリエーテルスルホンをDMAc67でリンスした。室
温で24時間攪拌下に反応を行った。
その後、重合液を、DMAcを加えて希釈し5゜O厩の
メタノールに注ぎ、白色の組成物を沈殿させた。濾別後
、組成物をメタノール中で還流下に約1時間処理し、8
0℃で1昼夜減圧乾燥した。
メタノールに注ぎ、白色の組成物を沈殿させた。濾別後
、組成物をメタノール中で還流下に約1時間処理し、8
0℃で1昼夜減圧乾燥した。
得られた組成物の収量は2. 36g (収率99%)
であり、この組成物中のポリアミドのηInhは2.1
d1/gであった。IRスペクトルを第5図に示す。
であり、この組成物中のポリアミドのηInhは2.1
d1/gであった。IRスペクトルを第5図に示す。
IRスペクトルより1650cm−1にアミドのC=0
伸縮振動が認められ、ポリアミドが生成していることが
明らかである。また1160cm”に対称SO2伸縮振
動が認められ、ポリエーテルスルホンが含まれているこ
とが明らかである。元素分析結果を以下に示す。
伸縮振動が認められ、ポリアミドが生成していることが
明らかである。また1160cm”に対称SO2伸縮振
動が認められ、ポリエーテルスルホンが含まれているこ
とが明らかである。元素分析結果を以下に示す。
CHNS
計算値(%) 70.25 4.09 B、52
3.20実測値(%) 68.24 3.94 5.
86 3.98IRスペクトル及び元素分析結果より、
得られたポリアミド−ポリエーテルスルホン組成物は下
記構造を有することが確認された。
3.20実測値(%) 68.24 3.94 5.
86 3.98IRスペクトル及び元素分析結果より、
得られたポリアミド−ポリエーテルスルホン組成物は下
記構造を有することが確認された。
ポリアミド(PA)
ポリエーテルスルホン(PES)
PA/PE5=70/30 (wt/wt)実施例8
(本発明の方法(■)) 窒素ガス雰囲気下で1.7230g (5mmoi)の
N、N’−ビス(トリメチルシリル)−p、 p
−ジアミノジフェニルエーテルを10厩のN、 N−ジ
メチルアセトアミド(DMAc)に加えて、溶解させた
。溶解後、溶液を20℃に保ち、続いて、イソフタル酸
クロリド1.0150g (5mmo1)を固形のまま
一度に加えた。
(本発明の方法(■)) 窒素ガス雰囲気下で1.7230g (5mmoi)の
N、N’−ビス(トリメチルシリル)−p、 p
−ジアミノジフェニルエーテルを10厩のN、 N−ジ
メチルアセトアミド(DMAc)に加えて、溶解させた
。溶解後、溶液を20℃に保ち、続いて、イソフタル酸
クロリド1.0150g (5mmo1)を固形のまま
一度に加えた。
20℃で30分間攪拌して重縮合反応を行った。
この反応溶液に、ポリエーテルスルホン(IC1社製ヴ
イクトレックス、η+−h =0.52di/g)0.
7074gを加え、フラスコ内壁に付着したポリエーテ
ルスルホンをジメチルアセトアミド6厩でリンスした。
イクトレックス、η+−h =0.52di/g)0.
7074gを加え、フラスコ内壁に付着したポリエーテ
ルスルホンをジメチルアセトアミド6厩でリンスした。
室温で24時間攪拌下に反応を行った。反応後、重合液
を、DMAcを加えて希釈し500dのメタノールに注
ぎ、白色の組成物を沈殿させた。濾別後、組成物をメタ
ノール中で還流下に約1時間処理し、80℃で1昼夜減
圧乾燥した。得られた組成物の収量は2.36g(収率
99%)であり、この組成物中のポリアミドのη1..
hは1.8dA/gであった。
を、DMAcを加えて希釈し500dのメタノールに注
ぎ、白色の組成物を沈殿させた。濾別後、組成物をメタ
ノール中で還流下に約1時間処理し、80℃で1昼夜減
圧乾燥した。得られた組成物の収量は2.36g(収率
99%)であり、この組成物中のポリアミドのη1..
hは1.8dA/gであった。
得られた組成物のIRスペクトルを第6図に示す。
このIRスペクトル分析結果および次の元素分析結果よ
り、この組成物は実施例7と同じ化学構造および組成を
有するものであると認められた。
り、この組成物は実施例7と同じ化学構造および組成を
有するものであると認められた。
HNS
計算値(%) 70.25 4.09 B、52
3.20実測値(%) 68.24 3.91 B
、01 4.08比較例1(従来の溶液ブレンド法) Polymer Journal、Vol。
3.20実測値(%) 68.24 3.91 B
、01 4.08比較例1(従来の溶液ブレンド法) Polymer Journal、Vol。
22、No、1.80 (1990)に記載された、従
来の溶液ブレンド法により、ポリアミド−ポリエーテル
スルホン組成物を製造した。
来の溶液ブレンド法により、ポリアミド−ポリエーテル
スルホン組成物を製造した。
(1)ポリアミドの製造
窒素ガス雰囲気下で1.0012g (5mmoi)の
4,4′−ジアミノジフェニルエーテルを10戒のN、
N−ジメチルアセトアミド(DMAc)に溶解させ
た。溶解後、溶液を塩−水浴で一10°Cに冷却し、イ
ソフタル酸クロリド1.0150g (5mmo1)を
固形のまま一度に加えた。−10℃で1時間攪拌し、続
いて、室温で2時間攪拌して重縮合反応を行った。反応
後、重合液を、DMAcを加えて希釈し500艷のメタ
ノールに注ぎ、白色のポリアミドを沈殿させた。濾別後
、ポリアミドをメタノール中で還流下に約1時間処理し
、80°Cで1昼夜減圧乾燥した。得られたポリアミド
の収量は1.65g (収率100%)、ηlnhは1
.4dj2/gであった。
4,4′−ジアミノジフェニルエーテルを10戒のN、
N−ジメチルアセトアミド(DMAc)に溶解させ
た。溶解後、溶液を塩−水浴で一10°Cに冷却し、イ
ソフタル酸クロリド1.0150g (5mmo1)を
固形のまま一度に加えた。−10℃で1時間攪拌し、続
いて、室温で2時間攪拌して重縮合反応を行った。反応
後、重合液を、DMAcを加えて希釈し500艷のメタ
ノールに注ぎ、白色のポリアミドを沈殿させた。濾別後
、ポリアミドをメタノール中で還流下に約1時間処理し
、80°Cで1昼夜減圧乾燥した。得られたポリアミド
の収量は1.65g (収率100%)、ηlnhは1
.4dj2/gであった。
(2)溶液ブレンド
上記(1)で得られたポリアミド045gをDMAc3
.3dに溶解した溶液とポリエーテルスルホン(ICI
社製ヴイクトレックス、ηlnh =0.52di/g
)0.15gをDMAcl、Otdに溶解した溶液とを
混合し、24時間攪拌した。この溶液を30dのメタノ
ールに注ぎ、白色のブレンド物を沈殿させた。
.3dに溶解した溶液とポリエーテルスルホン(ICI
社製ヴイクトレックス、ηlnh =0.52di/g
)0.15gをDMAcl、Otdに溶解した溶液とを
混合し、24時間攪拌した。この溶液を30dのメタノ
ールに注ぎ、白色のブレンド物を沈殿させた。
濾別後、ブレンド物をメタノール中で還流下に約1時間
処理し、80℃で1昼夜減圧乾燥した。
処理し、80℃で1昼夜減圧乾燥した。
得られたブレンド物の収量は0. 65g (収率10
0%)であった。
0%)であった。
以上実施例1〜8および比較例1より明らかなように、
実施例1〜8ては、重縮合反応を行ってポリアミドを製
造しつつポリアミド−ポリエーテルスルホン組成物を得
るので、重縮合反応を行ってポリアミドを製造した後に
ポリアミド−ポリエーテルスルホン組成物を得る比較例
1に比べ、目的物を得るために要する時間を約1/2〜
3/4に減少させることができた。
実施例1〜8ては、重縮合反応を行ってポリアミドを製
造しつつポリアミド−ポリエーテルスルホン組成物を得
るので、重縮合反応を行ってポリアミドを製造した後に
ポリアミド−ポリエーテルスルホン組成物を得る比較例
1に比べ、目的物を得るために要する時間を約1/2〜
3/4に減少させることができた。
[発明の効果コ
以上のように、本発明によれば、ポリアミド−ポリエー
テルスルホン組成物を簡単な製造操作で短時間で安価に
製造することができる方法が提供された。
テルスルホン組成物を簡単な製造操作で短時間で安価に
製造することができる方法が提供された。
また、本発明によれば、従来の溶液ブレンド法では得ら
れなかった対数粘度η1oて1. 6d1/gを超える
高分子量ポリアミドを含む機械的性質のすぐれたポリア
ミド−ポリエーテルスルホン組成物を製造することので
きる方法が提供された。
れなかった対数粘度η1oて1. 6d1/gを超える
高分子量ポリアミドを含む機械的性質のすぐれたポリア
ミド−ポリエーテルスルホン組成物を製造することので
きる方法が提供された。
第1図、第2図、第3図、第4図、第5図及び第6図は
、本発明の実施例で得られたポリアミド−ポリエーテル
スルホン組成物のIRスペクトル図である。
、本発明の実施例で得られたポリアミド−ポリエーテル
スルホン組成物のIRスペクトル図である。
Claims (4)
- (1)ポリエーテルスルホンの有機系極性溶媒溶液中で
、芳香族ジカルボン酸ジハライドと芳香族ジアミン又は
その誘導体との重縮合反応を行うことを特徴とするポリ
アミド−ポリエーテルスルホン組成物の製造方法。 - (2)有機系極性溶媒中で、芳香族ジカルボン酸ジハラ
イドと芳香族ジアミン又はその誘導体との重縮合反応を
行い、重縮合反応が完結する前にポリエーテルスルホン
を添加し、混合することを特徴とするポリアミド−ポリ
エーテルスルホン組成物の製造方法。 - (3)前記重縮合反応において、芳香族ジアミンを用い
た場合に酸受容剤として、エポキシ化合物を用いる、請
求項(1)又は(2)に記載の方法。 - (4)ポリアミド/ポリエーテルスルホンの重量比率が
80/20〜50/50である請求項(1)又は(2)
に記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11235390A JPH048763A (ja) | 1990-04-27 | 1990-04-27 | ポリアミド―ポリエーテルスルホン組成物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11235390A JPH048763A (ja) | 1990-04-27 | 1990-04-27 | ポリアミド―ポリエーテルスルホン組成物の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH048763A true JPH048763A (ja) | 1992-01-13 |
Family
ID=14584573
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11235390A Pending JPH048763A (ja) | 1990-04-27 | 1990-04-27 | ポリアミド―ポリエーテルスルホン組成物の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH048763A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0641432A (ja) * | 1992-07-24 | 1994-02-15 | Ube Ind Ltd | 熱可塑性樹脂組成物 |
US6358619B1 (en) * | 1997-10-22 | 2002-03-19 | Toray Industries, Inc. | Aromatic polyamide film and magnetic recording medium using it |
KR100349851B1 (ko) * | 1999-12-06 | 2002-08-22 | 현대자동차주식회사 | 배기가스 저감을 위한 인젝터 |
US8484898B2 (en) | 2007-05-18 | 2013-07-16 | Oiles Corporation | Natural ventilator apparatus |
CN113736250A (zh) * | 2021-03-29 | 2021-12-03 | 深圳市晋源塑胶原料有限公司 | 一种pes滤材回料与尼龙66的合金及其制备方法 |
-
1990
- 1990-04-27 JP JP11235390A patent/JPH048763A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0641432A (ja) * | 1992-07-24 | 1994-02-15 | Ube Ind Ltd | 熱可塑性樹脂組成物 |
US6358619B1 (en) * | 1997-10-22 | 2002-03-19 | Toray Industries, Inc. | Aromatic polyamide film and magnetic recording medium using it |
KR100349851B1 (ko) * | 1999-12-06 | 2002-08-22 | 현대자동차주식회사 | 배기가스 저감을 위한 인젝터 |
US8484898B2 (en) | 2007-05-18 | 2013-07-16 | Oiles Corporation | Natural ventilator apparatus |
CN113736250A (zh) * | 2021-03-29 | 2021-12-03 | 深圳市晋源塑胶原料有限公司 | 一种pes滤材回料与尼龙66的合金及其制备方法 |
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